JPS59206431A - Production of photosensitive polyester resin - Google Patents

Production of photosensitive polyester resin

Info

Publication number
JPS59206431A
JPS59206431A JP8128283A JP8128283A JPS59206431A JP S59206431 A JPS59206431 A JP S59206431A JP 8128283 A JP8128283 A JP 8128283A JP 8128283 A JP8128283 A JP 8128283A JP S59206431 A JPS59206431 A JP S59206431A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bis
dicarboxylic acid
group
photosensitive
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8128283A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Chiaki Nakamura
中村 千明
Kouji Oe
小江 紘司
Tomonobu Muta
牟田 智信
Toshiki Sasaki
俊樹 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd filed Critical Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority to JP8128283A priority Critical patent/JPS59206431A/en
Priority to US06/574,573 priority patent/US4591545A/en
Publication of JPS59206431A publication Critical patent/JPS59206431A/en
Priority to US06/826,582 priority patent/US4684601A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the titled resin having a high MW and a small dispersion of an MW distribution, by reacting an OH-containing polyester precursor with a bis(N-acyllactam) compound or a bis(N-acylimide) compound. CONSTITUTION:A dicarboxylic acid having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus, such as a compound represented by formulas I -IV (wherein R3 and R3' are each H, a 1-4C alkyl, a 1-4C alkoxyl, a halogen, or nitro, R4 is a 2-4C alkylene, l and m are each 1-5, and n is 1- 4), or an ester derivative of this acid is reacted with a glycol (e.g., ethylene glycol) at 150-250 deg.C in a vacuum <=3mm.Hg to obtain an OH-containing polyester precursor of a weight-average MW>=5,000. This precursor is reacted with 0.1- 20wt% bis(N-acyllactam) compound of formula V or a bis(N-acylamide) compound of formula VI (wherein R1 is a 2-12C organic group, and R2 is a 1-11C aliphatic or aromatic hydrocarbyl group).

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光感度の改良された感光性樹脂の製造方法に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a photosensitive resin with improved photosensitivity.

る)は、特異な光二量化反応をするため、従来より桂皮
酸骨格を分子の側鎖ないし主鎖に導入した種々の感光性
樹脂の検討が行なわれている。例えば、側鎖に桂皮酸骨
格を有するポリビニルアルコール、ポリエピクロルヒド
リン、ポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂及び
主鎖に桂皮酸骨格を有するポリエステル、ポリアミドな
どがあり、そのいくつかは実用化されている。例えば、
ポリビニルアルコールと、桂皮酸クロライドの反応によ
り製造されるポリ桂皮酸ビニルエステル、フェニレンジ
アクリル酸ジエチルと、1,4−ジ−β−ヒドロキシエ
トキシシクロヘキサンとの縮合により製造されるポリエ
ステルがあり、これらは印刷版、LSI素子などの画像
形成材料として利用されている。
In order to perform a unique photodimerization reaction, various photosensitive resins have been studied in which a cinnamic acid skeleton is introduced into the side chain or main chain of the molecule. Examples include polyvinyl alcohol, polyepichlorohydrin, polystyrene, acrylic resins, epoxy resins, and polyesters and polyamides having a cinnamic acid skeleton in the main chain, some of which have been put into practical use. for example,
There are polycinnamic acid vinyl esters produced by the reaction of polyvinyl alcohol and cinnamic acid chloride, and polyesters produced by the condensation of diethyl phenylene diacrylate and 1,4-di-β-hydroxyethoxycyclohexane. It is used as an image forming material for printing plates, LSI devices, etc.

前記の如き元二量化型感元性樹脂の中で、フェニレンジ
アクリル酸もしくはそのアルキルエステルとグリコール
との縮合により製造された分子主鎖中に桂皮酸骨格を有
する感光性ポリエステル樹脂は、比較的高い光感度を有
すると言われているが、現在の実用的要求に対してその
感度は必ずしも光分なものとは言えない現状にある。一
方、多官能性f)桂皮酸エステルや、ビスアジド化合物
を架橋剤として使用することにより、上記感光性ポリエ
ステル樹脂を高感度化する試みが為されているが、その
ような架橋剤は一般に樹脂との相浴性が悪く、また、そ
れによる樹脂の高感度化も不十分である。
Among the above-mentioned ex-dimerized type sensitive resins, photosensitive polyester resins having a cinnamic acid skeleton in the molecular main chain produced by condensation of phenylene diacrylic acid or its alkyl ester with glycol are relatively popular. Although it is said to have high photosensitivity, the current situation is that its sensitivity cannot necessarily be said to be at the same level as the current practical requirements. On the other hand, attempts have been made to increase the sensitivity of the photosensitive polyester resin by using a polyfunctional f) cinnamic acid ester or bisazide compound as a crosslinking agent, but such crosslinking agents generally do not interact with the resin. The bath compatibility is poor, and the resulting sensitivity of the resin is also insufficient.

また、近年、網点フィルムを通した画像の焼付けではな
く、レーザー光線を用いて電気的な画像信号から直接感
光層に画像を焼付ける簡略化された製版方法が提案され
ている。しかし、現状の感光性樹脂では、光感度が不十
分なため、高出力の大型レーザーを使用せざるを得ない
のが実情である。このために一層高感度の感光性樹脂が
望まれている。
Furthermore, in recent years, a simplified plate-making method has been proposed in which an image is directly printed on a photosensitive layer from an electrical image signal using a laser beam, instead of printing the image through a halftone film. However, the current photosensitive resins have insufficient photosensitivity, so a large, high-output laser must be used. For this reason, a photosensitive resin with even higher sensitivity is desired.

感光性ポリエステル樹脂は、一般に、桂皮酸骨格を有す
る多価カルボン酸成分と、多価アルコール成分との重縮
合反応により製造され、その分子量が増加すると、その
光感度が向上することが知られている。
Photosensitive polyester resins are generally produced by a polycondensation reaction between a polyhydric carboxylic acid component having a cinnamic acid skeleton and a polyhydric alcohol component, and it is known that as the molecular weight increases, its photosensitivity improves. There is.

しかしながら、重縮合反応の場合、一般に、高分子量の
重合体が得にくく、また、高分子量化する目的で高温で
長時間に亘って重縮合反応を行うときは、桂皮酸骨格の
存在に起因する副反応として、枝分れや架橋が起こりや
すく、広い分子量分布をもった重合体が生成しやすく、
俗剤に不溶性のゲル化物が生成しやすい。これらの事実
又は現像はその樹脂を用いた感光層の現像性、解像度、
印刷特性等に悪い影響を与える。
However, in the case of polycondensation reactions, it is generally difficult to obtain polymers with high molecular weight, and when the polycondensation reaction is carried out at high temperatures for a long period of time to increase the molecular weight, due to the presence of the cinnamic acid skeleton, Branching and crosslinking are likely to occur as side reactions, and polymers with a wide molecular weight distribution are likely to be produced.
Gels that are insoluble in common drugs are likely to form. These facts or development depend on the developability, resolution, and resolution of the photosensitive layer using the resin.
It has a negative effect on printing characteristics, etc.

本発明者らは、桂皮酸骨格を有する感光性ポリエステル
樹脂の製造法において、分子量が高く且つ分子量分布分
散度の小さい樹脂を得ることを目的として鋭意研究した
結果、重縮合反応時に、ビス(N−アシルラクタム)化
合物またはビス(N−アシルイミド)化合物を、鎖伸長
剤として用いることにより、上記目的を達成しうろこと
を見出し、本発明に到達した。
The present inventors conducted extensive research aimed at obtaining a resin with high molecular weight and low molecular weight distribution dispersion in a method for producing a photosensitive polyester resin having a cinnamic acid skeleton. As a result, bis(N The inventors have discovered that the above objects can be achieved by using a (acyllactam) compound or a bis(N-acylimide) compound as a chain extender, and have thus arrived at the present invention.

即ち、本発明は、芳香核に隣接した感光性不飽和二重結
合を有するジカルボン酸(以下感光性不飽和ジカルボン
酸という)又はそのエステル誘導体を含むジカルボン酸
成分とグリコール成分を反応させてポリエステル前駆体
を製造し、次いで該前駆体に一般式(1)および(2)
0              0 (式中、R1は炭素数2〜12の有機基であり、また、
R7は炭素数1〜11の脂肪族炭化水素基または芳香族
炭化水素基である) でそれぞれ表わされるビス(N−アシルラクタム)化合
物およびビス(N−アシルイミド)化合物よりなる群よ
り選ばれた少なくとも1種の化合物を反応させることを
特長とした感光性ポリエステル樹脂の製造方法に関する
ものである。
That is, the present invention provides a polyester precursor by reacting a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus (hereinafter referred to as photosensitive unsaturated dicarboxylic acid) or an ester derivative thereof with a glycol component. The precursor is then treated with general formulas (1) and (2).
0 0 (wherein, R1 is an organic group having 2 to 12 carbon atoms, and
R7 is an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms. The present invention relates to a method for producing a photosensitive polyester resin characterized by reacting one type of compound.

本発明で使用する感光性不飽和ジカルボン酸としては、
例えば下記一般式(3)〜(9)で表わされるジカルボ
ン酸を挙げることができ、これらジカルボン酸のエステ
ル誘導体としては、これらジカルボン酸のジメチルエス
テル、ジエチルエステルの如ぎジアルキルエステル、ジ
(エチレングリコール)エステル、ジ(プロピレングリ
コール)エステルの如ぎジ(アルキレングリコール)エ
ステル等を挙げるととができる。
As the photosensitive unsaturated dicarboxylic acid used in the present invention,
For example, dicarboxylic acids represented by the following general formulas (3) to (9) can be mentioned. Examples of ester derivatives of these dicarboxylic acids include dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester of these dicarboxylic acids, di(ethylene glycol ) ester, di(alkylene glycol) ester such as di(propylene glycol) ester, etc.

・・・・・・(6) (上記一般式(31〜(9)中、&、及び縞はそれぞれ
水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4の
アルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし、
R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、lは1〜
5の整数を表わし、nは1〜4の整数を表わし、mは1
〜5の整数を表わす。) 上記のジカルボン酸又はそのエステル誘導体の好適例と
してp−フェニレンジアクリル酸、m−フェニレンジア
クリル酸、2.5−ジメトキシ−p−フェニレンジアク
リル酸、2−=)t12−p−フェニレンジアクリル酸
、α、α′−ジニ) O−p−フェニレンジアクリル酸
、α、a’−’)メfルーp−フェニレンジアクリル酸
、p−カルボキシ桂皮酸、シンナミリデンマロン酸、ビ
ス(p−a皮酸)ジエチレングリコールエーテル、ビス
(p−カルボキシベンザル)シクロヘキサノン、ビス(
p−カルボキシベンザル)シクロペンタノン、p、p’
−カルコンジカルボン酸等のジカルボン酸又はその前記
の如きジエステルを挙げることができる。
(6) (In the above general formulas (31 to (9), & and stripes are hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, alkoxyl groups having 1 to 4 carbon atoms, and halogen atoms, respectively) or represents a nitro group,
R4 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and l is 1 to 4.
represents an integer of 5, n represents an integer of 1 to 4, m represents 1
Represents an integer between ~5. ) Suitable examples of the above dicarboxylic acids or ester derivatives thereof include p-phenylene diacrylic acid, m-phenylene diacrylic acid, 2,5-dimethoxy-p-phenylene diacrylic acid, 2-=)t12-p-phenylene diacrylic acid, acrylic acid, α, α′-dini) O-p-phenylene diacrylic acid, α, a′-′) p-phenylene diacrylic acid, p-carboxycinnamic acid, cinnamylidenemalonic acid, bis( p-a acid) diethylene glycol ether, bis(p-carboxybenzal)cyclohexanone, bis(
p-carboxybenzal) cyclopentanone, p, p'
Mention may be made of dicarboxylic acids such as -chalcone dicarboxylic acid or their diesters as mentioned above.

ジカルボン酸成分としては、上記の感光性不飽和ジカル
ボン酸又はそのエステル誘導体と共に他の多価カルボン
酸又はその誘導体を併用することができ、このような化
合物として、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セ
パテン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テ
トラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブ
ロムフタル酸、テトラクロル7タル酸、マレイン酸、7
マル酸、イタコン酸、5−ナトリウムスルホイソフタル
酸等のジカルボン酸、又はその無水物又はそのエステル
誘導体を使用できる。
As the dicarboxylic acid component, other polyhydric carboxylic acids or derivatives thereof can be used in combination with the photosensitive unsaturated dicarboxylic acids or ester derivatives thereof, and examples of such compounds include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, Sepatenoic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachloroheptatalic acid, maleic acid, 7
Dicarboxylic acids such as malic acid, itaconic acid, and 5-sodium sulfoisophthalic acid, or their anhydrides or ester derivatives thereof can be used.

しかしながら、これら他のジカルボン酸又はその誘導体
の多量の使用は樹脂の光感度の低下を惹起するから避け
るべきであり、光分圧高い光感度を得るためには、感光
性不飽和ジカルボン酸またはそのエステル誘導体の使用
量をジカルボン酸成分の全体の30〜100モル%とす
ることが望ましい。
However, the use of large amounts of these other dicarboxylic acids or their derivatives should be avoided because it causes a decrease in the photosensitivity of the resin. It is desirable that the amount of the ester derivative used be 30 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid component.

一方、グリコール成分としては、特に制限なく各種のも
の7使用でき、例えばエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、1.5−フチレンゲリコール、1.6−ヘキサン
ジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2.4
−トリメチル−1,3−ベンタンジオール、1.4−ビ
ス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、シクロヘ
キサンジメタツール、トリシクロデカンジメタツール、
水添ビスフェノール、p、、水添ビスフェノールF1ビ
スフエノール人のエチレンオキ’9−イド付加体、ビス
フェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェ
ノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノール
Fのプロピレンオキサイド付加体等が使用できる。
On the other hand, as the glycol component, various types can be used without particular limitation, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, and 1,5-phthylene glycol. Recall, 1,6-hexanediol, 2-butene-1,4-diol, 2,2.4
-trimethyl-1,3-bentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexane dimetatool, tricyclodecane dimetatool,
Hydrogenated bisphenol, p, hydrogenated bisphenol F1 bisphenol ethylene oxide adduct, propylene oxide adduct of bisphenol A, ethylene oxide adduct of bisphenol F, propylene oxide adduct of bisphenol F, etc. can be used. .

前記ジカルボン酸成分とグリコール成分の反応に際して
は、分子の両末端に水酸基を有するポリエステル前駆体
が得られるように、酸成分のカルボキシル基又はエステ
ル基1当盆に対して水酸基1当量以上好適には1.1当
量以上となるように両成分の配合比を選ぶことが望まし
い。
In the reaction of the dicarboxylic acid component and the glycol component, preferably at least 1 equivalent of hydroxyl group per 1 equivalent of carboxyl group or ester group of the acid component so as to obtain a polyester precursor having hydroxyl groups at both ends of the molecule. It is desirable to select the blending ratio of both components so that the amount is 1.1 equivalent or more.

ポリエステル前駆体は、通常のポリエステル合成の分野
で知られている手段、たとえは、底置、゛講座 重合反
応論9、重縮合”緒万著、化学同人社発行、あるいは、
米特許3.(522,320号公報に記載されている方
法により容易に製造できる。すなわち;前記ジカルボン
酸成分とグリコール成分を、必要に応じて加えられる触
媒及び禁止剤の存在下で反応(エステル化反応またはエ
ステル交換)させた後、徐々に反応器内の圧力を減じて
過剰のグリコールを溝山させることにより製造できる。
The polyester precursor can be prepared using any means known in the field of ordinary polyester synthesis, such as the method used in "Lecture on Polymerization Reactions 9, Polycondensation" written by Oman, published by Kagaku Dojinsha, or
US patent 3. (It can be easily produced by the method described in Publication No. 522,320. That is, the dicarboxylic acid component and the glycol component are reacted (esterification reaction or esterification reaction) in the presence of a catalyst and an inhibitor that are added as necessary. It can be produced by gradually reducing the pressure in the reactor to drain excess glycol.

反応温度としては、150〜250Cが好ましく、減圧
は5milHg以下が好ましい。
The reaction temperature is preferably 150 to 250C, and the reduced pressure is preferably 5 milHg or less.

ポリエステル前駆体を製造する際に用いられろ触媒とし
ては、例えはジブチル錫オキサイド、ジプチル錫ラウレ
ート、ジプチル錫ジアセテート、リチウムエトキシド、
テトライソグロビルチタネート、テトラブトキシチタネ
ートの如き有機金属化合物;二酸化チタン、酢酸亜鉛、
三酸化アンチモン、酸化カルシウムの如き無機金属化合
物等を使用できる。使用量は、金属成分として、50〜
110000ppが好ましい。
Catalysts used in producing the polyester precursor include, for example, dibutyltin oxide, diptyltin laurate, diptyltin diacetate, lithium ethoxide,
Organometallic compounds such as tetraisoglovir titanate, tetrabutoxytitanate; titanium dioxide, zinc acetate,
Inorganic metal compounds such as antimony trioxide and calcium oxide can be used. The amount used is 50 to 50% as a metal component.
110000pp is preferred.

禁止剤は重縮合反応時に併発して起こりやすいエチレン
性不飽和基の架橋、枝分れをできるだけ少なく抑えるた
めに使用するものであり、例えばフェノチアジン、ノ梢
ドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2.
6−ジtert−ブチル−p−クレゾール、p−ベンゾ
キノン等を使用できる。その使用量は、50〜2000
 ppmが好ましい。
Inhibitors are used to minimize the crosslinking and branching of ethylenically unsaturated groups that tend to occur during polycondensation reactions, and include, for example, phenothiazine, chloroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2.
6-di-tert-butyl-p-cresol, p-benzoquinone, etc. can be used. The amount used is 50 to 2000
ppm is preferred.

斯くして製造されるポリエステル前駆体は、5,000
以上の重量平均分子量をもつものが好適であり、250
0以上の重量平均分子量をもつものが一層好適である。
The polyester precursor produced in this way has 5,000
Those having a weight average molecular weight of 250 or more are suitable.
Those having a weight average molecular weight of 0 or more are more preferable.

このような分子量をもつポリエステル前駆体を後述する
ビス(N−アシルラクタム)化合物および/または、ビ
ス(N−アシルイミド)化合物と反応させると、高分子
量の樹脂を製造し得るだけでなく、分子量分布分散度を
小ならしめるととができる。
When a polyester precursor having such a molecular weight is reacted with a bis(N-acyllactam) compound and/or a bis(N-acylimide) compound described below, it is possible not only to produce a high molecular weight resin but also to change the molecular weight distribution. This can be achieved by reducing the degree of dispersion.

本発明で使用するビス(N−アシルラクタム)化合物お
よびビス(N−アシルイミド)化合物の好適例としては
、テレフタロイルビス(N−カプロラクタム)、インフ
タロイルビス(N−カプロラクタム)、アジポイルビス
(N−カプロラクタム)、アジポイルビス(N−カプロ
ラクタム)、セバコイルビス(N−カプロラクタム)、
テレフタロイルビス(N−ピロリドン)、イソフタロイ
ルビス(N−ピロリドン)、アジポイルビス(N−コ/
・り酸イミド)、モノ(コイルビス(N−コハク酸イミ
ド)、インフタロイルビス(N−コハク酸イミド)、セ
バコイルビス(N−フタルイミド)Txどが挙げられる
Preferred examples of bis(N-acyllactam) compounds and bis(N-acylimide) compounds used in the present invention include terephthaloyl bis(N-caprolactam), inphthaloyl bis(N-caprolactam), adipoyl bis(N-caprolactam), and adipoyl bis(N-caprolactam). - caprolactam), adipoyl bis(N-caprolactam), sebacoyl bis(N-caprolactam),
Terephthaloyl bis(N-pyrrolidone), Isophthaloyl bis(N-pyrrolidone), Adipoyl bis(N-co/
- phosphoric acid imide), mono(coyl bis(N-succinimide), inphthaloyl bis(N-succinimide), sebacoyl bis(N-phthalimide) Tx, etc.

上記化合物は、二塩基酸クロライド化合物とラクタム化
合物あるいは、イミド化合物、場合によっては、それら
のアルカリ金属塩との脱塩酸反応、場合によっては脱塩
反応によって製造し得る。
The above compound can be produced by a dehydrochloric acid reaction, and in some cases a desalting reaction, between a dibasic acid chloride compound and a lactam compound or an imide compound, and in some cases, an alkali metal salt thereof.

かかる化合物の使用量は、ポリエステル前駆体に対して
、0.1〜20重量%が好適である。0.1重量%に満
た7jt−量では、分子量が十分上がらないし、また、
20重量%を超える場合には、それ以上の効果期待でき
なかったり、或(・は、かえって重合度が上がりにくか
ったりして好ましぐない。
The amount of such a compound used is preferably 0.1 to 20% by weight based on the polyester precursor. If the amount is less than 0.1% by weight, the molecular weight will not increase sufficiently, and
If it exceeds 20% by weight, it is not preferable because no further effect can be expected or the degree of polymerization may be difficult to increase.

ポリエステル前駆体と、ビス(N−アシルラクタム)化
合物および/またはビス(N−アシルイミド)化合物と
の反応は、済融したポリエステル前駆体に、前記化合物
の所定量を添加し、常圧または減圧下で反応を行なうか
、またはポリエステル前駆体を有機溶媒に静解し、前記
化合物の所定量を添加して反応を行なう。反応温度とし
ては、80C以上、250C以下が好ましく、反応時間
は5分以上が好ましく、10分以上か一層好ましい。
The reaction between a polyester precursor and a bis(N-acyllactam) compound and/or a bis(N-acylimide) compound is carried out by adding a predetermined amount of the compound to the melted polyester precursor, and then reacting under normal pressure or reduced pressure. Alternatively, the polyester precursor may be dissolved in an organic solvent and a predetermined amount of the compound may be added thereto to carry out the reaction. The reaction temperature is preferably 80C or more and 250C or less, and the reaction time is preferably 5 minutes or more, more preferably 10 minutes or more.

また、上記反応には、触媒として、テトラ−n−ブチル
チクネート、テトライングロビルチタネート、トリーn
 −プチルオルトバナデート、テトラインプルピルジル
コネート、トリイソプロピルアルミナートなどの遷移金
属またはAlのアルコキシドが使用できる。
In addition, in the above reaction, tetra-n-butyltichnate, tetra-inglovir titanate, tri-n-butyl titanate, tri-n-butyl titanate, and
- Alkoxides of transition metals or Al such as butyl orthovanadate, tetrapropyl zirconate, triisopropylaluminate can be used.

上記反応に使用できる有模浴媒としては、塩化メチレン
、クロロホルム、トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、モノクロルベンゼン、ジクロルベンゼン、四m化炭
L 等の塩素系酢媒:テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル糸浴媒ニゲリコールメチルエーテルアセテ
ート、グリコールエチルエーテルアセテート、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル糸爵媒;メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4−
メチル−4−メトキシ−2−ペンタノン等のケトン系溶
媒ニジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドン、ニトロベンゼン等の含窒素化合物
;ジメチルスルホキシド等があり、上記溶媒は単独、ま
たは2種以上混合して使用できる。
Typical bath media that can be used in the above reaction include chlorinated vinegar solvents such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane, trichloroethylene, monochlorobenzene, dichlorobenzene, and tetramerized carbon; ether thread bath solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; Ester media such as recall methyl ether acetate, glycol ethyl ether acetate, ethyl acetate, butyl acetate; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-
Ketone solvents such as methyl-4-methoxy-2-pentanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N
- Nitrogen-containing compounds such as methylpyrrolidone and nitrobenzene; dimethylsulfoxide, etc. The above solvents can be used alone or in a mixture of two or more.

以上に述べた本発明の方法によれは、ス500〜150
,000の重量平均分子量と、1.8〜3.8の分子量
分布分散度をもつ感光性ポリエステル樹脂を容易に製造
でき、このような分子量と分子量分布分散度をもつg光
性ポリエステル樹脂は、従来の感光性ポリエステル樹脂
よりも遥かに高い光感度をもつものである。
According to the method of the present invention described above, 500 to 150
A photosensitive polyester resin having a weight average molecular weight of ,000 and a molecular weight distribution dispersity of 1.8 to 3.8 can be easily produced. It has a much higher photosensitivity than conventional photosensitive polyester resins.

本発明方法により製造される感光性ポリエステル樹脂は
、通常、適当な溶媒に溶解した組成物として、或は更に
必要に応じて増感剤、顔料、染料、充填剤、安定剤、架
橋剤、可塑剤等の添加剤を添加した組成物として使用さ
れる。好適な溶媒は、樹脂の組成および分子蓋により異
なるが、普通、上記ポリエステル前駆体と、ビス(N−
アシルラクタム)化合物および/または、ビス(N−ア
シルイミド)化合物とのり応に使用される有機市媒:テ
トラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール
等のアルコール系済媒;グリコールモノメチルエーテル
、グリコールモノエチルエーテル等のグリコールモノア
ルキルエーテル系温媒;エチレングリコールモノフェニ
ルエーテル等が、b’)、 上記溶媒は、単独または2
種以上混合して使用される。
The photosensitive polyester resin produced by the method of the present invention is usually prepared as a composition dissolved in a suitable solvent, or if necessary, a sensitizer, pigment, dye, filler, stabilizer, crosslinking agent, plasticizer, etc. It is used as a composition containing additives such as agents. Suitable solvents will vary depending on the composition and molecular cap of the resin, but will typically combine the polyester precursor and bis(N-
Organic solvents used in the reaction with acyllactam) compounds and/or bis(N-acylimide) compounds: Alcoholic solvents such as tetrahydrofurfuryl alcohol and benzyl alcohol; Glycol monomethyl ether, glycol monoethyl ether, etc. Glycol monoalkyl ether heating medium; ethylene glycol monophenyl ether etc. b'), the above solvent may be used alone or in combination
Used as a mixture of more than one species.

増感剤としては、この分野で使用できるものが、いずれ
も使用でき、ベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン
誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾ
リン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、ケトクマリン化
合物、あるいは、ビリリウム塩、チアピリリウム塩類等
が使用できる。このような増感剤として例えば、ミヒラ
ーケトン、ジエチルアミノエチルベンゾフェノン、ベン
ズアンスロン、(6−メチル−1,3−ジアザ−1,9
−ベンズ)アンスロンピクラミド、6.11−ジクロロ
ベンズアンスロン、6−フェニル−ベンズアンスロン%
1.8−ジメトキシアントラキノン、1.2−ベンズア
ントラキノン、5−ニトロアセナフテン、2−ニトロフ
ルオレン、2,7−シニトロフルオレン、1−ニトロナ
フタレン、1,5−ジニトロナフタレン、p−ニトロジ
フェニル、2−ジインソイルメチレン−3−メチルナフ
トチアゾリン、2−ベンゾイルメチレン−1−メチルナ
フトチアゾリン、2−ビス(フロイル)メチレン−6−
メチルベンゾチアゾリン、2−ベンゾイルメチレン−6
−メチルベンゾチアゾリン、3.6−カルボニル−ビス
(7−ジニチルアミノクマリン〕、2.4゜6−ドリフ
エニルチアピリリウムパークロレート、2.6−ビス(
p−エトキシフェニル)−4−(p−n−アミロキシフ
ェニル)−チアピリリウムバークロレート等がある。
Any sensitizer that can be used in this field can be used, including benzophenone derivatives, benzanthrone derivatives, quinones, aromatic nitro compounds, naphthothiazoline derivatives, benzothiazoline derivatives, ketocoumarin compounds, or biryllium salts, Thiapyrylium salts and the like can be used. Examples of such sensitizers include Michler's ketone, diethylaminoethylbenzophenone, benzanthrone, (6-methyl-1,3-diaza-1,9
-benz) anthrone picramide, 6.11-dichlorobenzanthrone, 6-phenyl-benzanthrone %
1.8-dimethoxyanthraquinone, 1.2-benzanthraquinone, 5-nitroacenaphthene, 2-nitrofluorene, 2,7-sinitrofluorene, 1-nitronaphthalene, 1,5-dinitronaphthalene, p-nitrodiphenyl, 2-Diynsoylmethylene-3-methylnaphthothiazoline, 2-benzoylmethylene-1-methylnaphthothiazoline, 2-bis(furoyl)methylene-6-
Methylbenzothiazoline, 2-benzoylmethylene-6
-Methylbenzothiazoline, 3.6-carbonyl-bis(7-dinithylaminocoumarin), 2.4°6-dryphenylthiapyrylium perchlorate, 2.6-bis(
p-ethoxyphenyl)-4-(p-n-amyloxyphenyl)-thiapyrylium verchlorate and the like.

本発明の感光性ポリエステル樹脂を用いた感光性樹脂組
成物は、従来一般に行なわれている塗布技術に適用され
るように適度の粘度に調合され、ホワラー塗布、ディッ
プ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗布、エ
アナイフ塗布、ドクターナイフ塗布、スピナー塗布等、
周知の塗布方法によって支持体に塗布される。
The photosensitive resin composition using the photosensitive polyester resin of the present invention is formulated to have an appropriate viscosity so that it can be applied to commonly used coating techniques such as whirler coating, dip coating, curtain coating, roll coating, Spray application, air knife application, doctor knife application, spinner application, etc.
It is applied to the support by well-known coating methods.

vL塗布材料の具体例とし℃は、アルミニウム鈑、亜鉛
板、銅板、ステンレス鋼板、その他の金属板:ポリエチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、セルロース窮
導体等の合成樹脂のシート状物や板状物;合成樹脂な浴
融塗布あるいは合成樹脂浴液を塗布した紙、合成樹脂に
金属Wt@真空蒸着、ラミネートなどの技術により設け
た複合材料等が挙げられる。
Specific examples of vL coating materials include aluminum plates, zinc plates, copper plates, stainless steel plates, and other metal plates; sheets and plates of synthetic resins such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, and cellulose conductors; Examples include paper coated with bath melt coating or a synthetic resin bath liquid, and composite materials formed on synthetic resin by techniques such as metal Wt@vacuum deposition and lamination.

塗布後、周知の方法により塗布液を乾固せしめれば、支
持体上に感光層を設けた印刷原版が得られる。この印刷
原版の感光層にネガ画像による像露光を行なって感光層
の露光部分を硬化させ不溶化せしめた後、現像して未露
光部分な俗解除去すれは、支持体上に対応する画像を形
成させることができる。
After coating, the coating solution is dried and solidified by a well-known method to obtain a printing original plate having a photosensitive layer provided on the support. The photosensitive layer of this printing original plate is subjected to imagewise exposure using a negative image to harden and insolubilize the exposed areas of the photosensitive layer, and then developed to remove the unexposed areas to form a corresponding image on the support. can be done.

露光に使用される適当な光源としては、カーボンアーク
灯、水銀灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、レー
ザー等が挙げられる。
Suitable light sources used for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, lasers, and the like.

以上述べた如く、本発明の感光性樹脂は、印刷版の感光
層の形成に極めて有効なものであるが、本発明の組成物
の用途は必すしも印刷版の感光層に限定されるものでな
く、例えは各種の微細加工のだめの7オトレジストとし
ても使用し得るものである。
As mentioned above, the photosensitive resin of the present invention is extremely effective in forming the photosensitive layer of a printing plate, but the use of the composition of the present invention is necessarily limited to the photosensitive layer of a printing plate. For example, it can also be used as an otoresist for various microfabrication processes.

以下、本発明を実施例により、具体的に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定さ
れるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof.

実施例1〜5 (1)  ポリエステル前駆体の製造 第1表のA欄に記載した配合組成をもつ各混合物を触媒
(ジプチル錫オキサイド5L)、挙止剤(フェノチアジ
ン0.25Ii)と共に攪拌装置、窒素ガス導入管、温
度計及び溝山管を備えた反応器に仕込み、窒素ガス雰囲
気下で攪拌しつつ180Cに加温して反応を開始した。
Examples 1 to 5 (1) Production of polyester precursor Each mixture having the composition described in column A of Table 1 was mixed with a catalyst (5 L of diptyltin oxide) and an arrester (0.25 Ii of phenothiazine) in a stirring device, The mixture was charged into a reactor equipped with a nitrogen gas inlet tube, a thermometer, and a Mizoyama tube, and the reaction was started by heating to 180 C while stirring in a nitrogen gas atmosphere.

その後3時間に亘って加熱、攪拌を続は反応により生成
するエタノールの溝山が止った後、同温度で反応器内の
圧力を徐々に減じて1關Htとした。その後同減圧下で
4時間に亘って更に加熱攪拌を続け、過剰のエチレング
リコールの溝山が止った後に反応器内の圧力を窒素ガス
で常圧まで降下させた。
Thereafter, the mixture was heated and stirred for 3 hours, and after the ethanol produced by the reaction stopped flowing, the pressure inside the reactor was gradually reduced to 1 Ht at the same temperature. Thereafter, heating and stirring were continued for 4 hours under the same reduced pressure, and after the excess ethylene glycol had stopped forming, the pressure inside the reactor was lowered to normal pressure using nitrogen gas.

+21−1  感光性樹脂の製造(釦伸長方法:a)上
記(1)のポリエステル前駆体に、第」表B欄に記載し
た化合物を仕込み、窒素雰囲気下、再び反応器内の圧力
をlmmHgとし、この圧力の下で180Cで20分間
に亘って攪拌を続けた後に、常圧に戻し、生成樹脂を取
り出した。
+21-1 Production of photosensitive resin (button extension method: a) The compound listed in column B of Table 1 was added to the polyester precursor of (1) above, and the pressure in the reactor was set to lmmHg again under a nitrogen atmosphere. After stirring was continued for 20 minutes at 180C under this pressure, the pressure was returned to normal and the resulting resin was taken out.

f2+−2感光性樹脂浴液の製造(鍾伸長方法:b)上
記(1)のポリエステル前駆体にモノクロルベンゼンを
加えて、30重量%爵液とした。次に第1表B欄に記載
した化合物、およびテトラ−n−ブチルチタネート(ポ
リエステル前駆体に対して1重量%)を仕込み、140
Cで2時間に亘って攪拌を続けた後、器内の温度を室温
まで降下させ一生成樹脂溶液を取り出した。
Production of f2+-2 photosensitive resin bath liquid (stretching method: b) Monochlorobenzene was added to the polyester precursor of (1) above to make a 30% by weight liquid. Next, the compounds listed in column B of Table 1 and tetra-n-butyl titanate (1% by weight based on the polyester precursor) were charged, and 140
After continuing stirring at C for 2 hours, the temperature inside the vessel was lowered to room temperature, and the single-formed resin solution was taken out.

上記f21−1の樹脂または、上E(2+−2!の樹脂
溶液に、モノクロルベンゼンを追加し、4重量%浴液に
調製し、この溶液に5−ニトロアセナフテン(m脂に対
して10重量%)と、フタロシアニイ顔料(樹脂に対し
て10重蓋%)を加えた感光性組成物を調製した。この
組成物を陽極酸化したアルミニウム板にホワラーで塗布
し、これを乾燥して感光板を作製した。
Add monochlorobenzene to the resin solution of f21-1 or E(2+-2!) to prepare a 4% by weight bath solution, and add 5-nitroacenaphthene (10% to m fat) to this solution. A photosensitive composition was prepared by adding a phthalocyanin pigment (10% by weight based on the resin).This composition was applied to an anodized aluminum plate with a whiter, and it was dried to form a photosensitive plate. was created.

このようにして得られた感光板に段差0.15のステッ
プウェッジを密着させ、これから1m隣れた位置に設け
た出力1歴のメタルハライドランプを用いて上記感光板
に30秒間露光した。その後この感光板をγ−ブチロラ
クトンー85%リン酸(98/2W量比)混合液で現像
した。不俗化した段差の最高の数をもって光感度とした
A step wedge with a step height of 0.15 was brought into close contact with the thus obtained photosensitive plate, and the photosensitive plate was exposed for 30 seconds using a metal halide lamp with an output of 1 cycle installed 1 m adjacent to the step wedge. Thereafter, this photosensitive plate was developed with a mixed solution of γ-butyrolactone and 85% phosphoric acid (98/2W ratio). The highest number of profane steps was defined as the light sensitivity.

比較のために、各実施例の前記(1)のポリエステル前
駆体を反応圧力11II H# 、反応温度180Cの
条件のもとに更に、5時間反応させて比較例の樹脂を製
造し、その感度を測定した。これは、従来公知の方法で
得られる最大の分子量をもつm脂を製造する目的で行な
われた。
For comparison, a resin of a comparative example was prepared by further reacting the polyester precursor (1) of each example under conditions of a reaction pressure of 11II H# and a reaction temperature of 180C for 5 hours. was measured. This was done for the purpose of producing m-fat with the highest molecular weight obtainable by conventionally known methods.

以記の各側の内容および結果をまとめて第1衣に掲げた
The contents and results of each side listed below are summarized in the first page.

特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1.事件の表示 昭和58年特許願第81282号 2、発明の名称                  
  7゜感光性ポリエステル樹脂の製造方法 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 〒174 東京都板橋区坂下三丁目35番58号(28
8)大日本インキ化学工業株式会社代表者 用  村 
 茂  邦 4、代理人 〒103 東京都中央区日本橋三丁目7番20号大日本
インキ化学工業株式会社内 電話 東京(03) 272−4511 (大代表)願
書の発明者の欄及び 明細書の特許請求の範囲の欄 6、補正の内容 q)願書の発ワ者の住所 [東京都練馬区光が丘5−l−1−304Jの記載を r東京都練馬区光が丘5丁目6番1−、304号jに補
正する。
Kazuo Wakasugi, Commissioner of the Patent Office1. Indication of the case 1982 Patent Application No. 81282 2, Title of the invention
7゜Production method of photosensitive polyester resin 3, relationship with the amended case Patent applicant: 3-35-58 Sakashita, Itabashi-ku, Tokyo 174 (28
8) Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd. Representative Yo Mura
Kuni Shigeru 4, Agent Address: Dainippon Ink & Chemicals Co., Ltd., 3-7-20 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo 103 Phone number: Tokyo (03) 272-4511 (Main representative) Patent in the inventor's column in the application and in the specification Scope of claims column 6, content of amendment q) Address of the sender of the application [5-l-1-304J, Hikarigaoka, Nerima-ku, Tokyo r 5-6-1-304 Hikarigaoka, Nerima-ku, Tokyo Correct to j.

(2、特許請求の範囲の記載を別紙のとおり補正する。(2. The statement of the scope of claims is amended as shown in the attached sheet.

添付書類の目録 (11訂正願書     1通 (2)m渡証書     1通 (3)  住   民   票           
     1  通14ン 不在住証明書      
      1 通(5)  理   由   書  
              1  通別殊 訂正後の特許請求の範囲 「1)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有する
ジカルボン酸又はそのエステル誘導体を含むジカルボン
酸成分とグリコール成分を反応させて得られる水酸基を
含有するポリエステル前駆体に、下記一般式(11およ
び(2)でそれぞれ表わされるビス(N−アシルラクタ
ム)化合物およびビス(N−アシルイミド)化合物より
なる群より選ばれた少なくとも1種の化合物を反応させ
ることを特長とする感光性ポリエステル樹脂の製造方法
List of attached documents (11 correction application form 1 copy (2) M delivery certificate 1 copy (3) Resident card
1 copy of 14 certificate of non-residence
1 letter (5) letter of reason
1 Claims after special amendment: ``1) A hydroxyl group obtained by reacting a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus or an ester derivative thereof with a glycol component. The contained polyester precursor is reacted with at least one compound selected from the group consisting of bis(N-acyllactam) compounds and bis(N-acylimide) compounds represented by the following general formulas (11 and (2), respectively). A method for producing a photosensitive polyester resin, which is characterized by:

OO (式中、R1は炭素数2〜12の有機基であり、R2は
炭素数1〜11の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水
素基である。) 2)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体が、下記一般式(3
)〜(9)で表わされるジカルボン酸又はそのエステル
誘導体である特許請求の範囲第1項記載の方法。
OO (In the formula, R1 is an organic group having 2 to 12 carbon atoms, and R2 is an aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms.) 2) Photosensitive material adjacent to the aromatic nucleus A dicarboxylic acid or its ester derivative having an unsaturated double bond is represented by the following general formula (3
) to (9) or an ester derivative thereof.

・・・・・−・・・(6) (上記一般式(3)〜(9)中、R3およびR1はそれ
ぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜
4のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わ
し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、lは
1〜5の整数を表わし、nは1〜4の整数を表わし、m
は1〜5の整数を表わす。) 3)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体の使用量をジカルボ
ン酸成分全体の60〜100モル%とした特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の方法。
......-(6) (In the above general formulas (3) to (9), R3 and R1 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and 1 to 4 carbon atoms.
4 represents an alkoxyl group, halogen atom or nitro group, R4 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, l represents an integer of 1 to 5, n represents an integer of 1 to 4, m
represents an integer from 1 to 5. 3) Claim 1 or 2 in which the amount of dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus is 60 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid component. Method described.

4)ポリエステル前駆体が分子の両末端に水酸基を有し
且つ5.000以上の重量平均分子量を有する特許請求
の範囲第1項ないし第6項記載の方法。
4) The method according to claims 1 to 6, wherein the polyester precursor has hydroxyl groups at both ends of the molecule and has a weight average molecular weight of 5.000 or more.

5)一般式(1)および/または(2)で表わされるビ
ス(N−アシルラクタム)化合物および/またはビス(
N−アシルイぎド)化合物を、ポリエステル前駆体に対
して0.1〜20重t%反応させる特許請求の範囲第1
項ないし第4項記載の方法。            
           」以  上
5) Bis(N-acyllactam) compounds and/or bis(N-acyllactam) compounds represented by general formulas (1) and/or (2)
Claim 1: 0.1 to 20% by weight of a polyester precursor is reacted with a N-acyl(N-acyl) compound.
The method described in Items 1 to 4.
"that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体を含むジカルボン酸
成分とグリコール成分を反応させて得られる水酸基を含
有するポリエステル前駆体に、下記一般式(1)および
(2)でそれぞれ表わされるビス(N−アシルラクタム
)化合物およびビス(N−アシルイミド)化合物よりな
る群より選ばれた少なくとも1種の化合物を反応させる
ことを特長とする感光性ポリエステル樹脂の製造方法。 0             0 111 0            0 (式中、R1は炭素数2〜12の有機基であり、R2は
炭素数1〜11の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水
素基である。) 2)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体が、下記一般式(3
1〜(9)で表わされるジカルボン酸又はそのエステル
誘導体である特許請求の範囲第1項記載の方法。 (Rs)J ・・・・・・(6) (上記一般式(3)〜(9)中、B、および号はそれぞ
れ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4
のアルコキシル基、ハロゲン原子又はニトロ基を表わし
、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表わし、!は1
〜5の整数を表わし、nは1〜4の整数を表わし、mは
1〜5の整数を表わす。) 6)芳香核に隣接した感光性不飽和二重結合を有するジ
カルボン酸又はそのエステル誘導体の使用量をジカルボ
ン酸成分全体の60〜100モル%とした特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の方法。 4)ポリエステル前駆体が分子の両末端に水酸基を有し
且つ5.000以上の重量平均分子量を有する特許請求
の範囲第1項ないし第3項記載の方法。 5)一般式(1)および/または(2)で表わされるビ
ス(N−アシルラクタム)化合物および/またはビス(
N−アシルイミド)化合物を、ポリエステル前駆体に対
して0.1〜20重量%させる特許請求の範囲第1項な
いし第4項記載の方法。
[Claims] 1) A polyester precursor containing a hydroxyl group obtained by reacting a dicarboxylic acid component containing a dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus with a glycol component. , characterized by reacting at least one compound selected from the group consisting of bis(N-acyllactam) compounds and bis(N-acylimide) compounds represented by the following general formulas (1) and (2), respectively. A method for producing photosensitive polyester resin. 0 0 111 0 0 (In the formula, R1 is an organic group having 2 to 12 carbon atoms, and R2 is an aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms.) 2) In the aromatic nucleus A dicarboxylic acid or its ester derivative having adjacent photosensitive unsaturated double bonds is represented by the following general formula (3
1. The method according to claim 1, wherein the dicarboxylic acid represented by 1 to (9) or an ester derivative thereof is used. (Rs)J...(6) (In the above general formulas (3) to (9), B and number are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and 1 to 4 carbon atoms.
represents an alkoxyl group, a halogen atom or a nitro group, R4 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and ! is 1
n represents an integer of 1 to 4, and m represents an integer of 1 to 5. ) 6) Claim 1 or 2 in which the amount of dicarboxylic acid or its ester derivative having a photosensitive unsaturated double bond adjacent to an aromatic nucleus is 60 to 100 mol% of the total dicarboxylic acid component. Method described. 4) The method according to claims 1 to 3, wherein the polyester precursor has hydroxyl groups at both ends of the molecule and has a weight average molecular weight of 5.000 or more. 5) Bis(N-acyllactam) compounds and/or bis(N-acyllactam) compounds represented by general formulas (1) and/or (2)
5. The method according to claim 1, wherein the amount of the compound (N-acylimide) is 0.1 to 20% by weight based on the polyester precursor.
JP8128283A 1983-05-10 1983-05-10 Production of photosensitive polyester resin Pending JPS59206431A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8128283A JPS59206431A (en) 1983-05-10 1983-05-10 Production of photosensitive polyester resin
US06/574,573 US4591545A (en) 1983-05-10 1984-01-27 Photosensitive image-forming material having a layer of photosensitive polyester modified with chain extender
US06/826,582 US4684601A (en) 1983-05-10 1986-02-06 Photosensitive image-forming material having a layer of photosensitive polyester modified with chain extender

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8128283A JPS59206431A (en) 1983-05-10 1983-05-10 Production of photosensitive polyester resin

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59206431A true JPS59206431A (en) 1984-11-22

Family

ID=13742014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8128283A Pending JPS59206431A (en) 1983-05-10 1983-05-10 Production of photosensitive polyester resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59206431A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640887A (en) * 1984-02-09 1987-02-03 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Photosensitive image-forming material comprised of carboxyl groups developable in aqueous alkaline base solutions

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4640887A (en) * 1984-02-09 1987-02-03 Dainippon Ink And Chemicals, Inc. Photosensitive image-forming material comprised of carboxyl groups developable in aqueous alkaline base solutions

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4540650A (en) Photoresists suitable for forming relief structures of highly heat-resistant polymers
JPS62143043A (en) Photopolymerizable composition
JPS6136872B2 (en)
JPH0448211B2 (en)
JPS59206431A (en) Production of photosensitive polyester resin
US4258124A (en) Photosensitive composition
JPH0242211B2 (en)
US4684601A (en) Photosensitive image-forming material having a layer of photosensitive polyester modified with chain extender
JPS6032818A (en) Production of photo-sensitive resin
JPS60203630A (en) Production of photosensitive polyester resin
JPS59206432A (en) Production of photosensitive polyester resin
JPS6183530A (en) Photosensitive resin composition
JPS6058436A (en) Production of photosensitive resin
JPS59207928A (en) Production of photosensitive resin
US4343888A (en) Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates
US4640887A (en) Photosensitive image-forming material comprised of carboxyl groups developable in aqueous alkaline base solutions
JPH0549698B2 (en)
JPS6088938A (en) Photosensitive image forming material
JPS6155643A (en) Photosensitive image forming material developable from aqueous alkaline developer
JPS59116650A (en) Photosensitive resin composition
JPS59114534A (en) Photosensitive polyester resin composition
JPS6132842A (en) Manufacture of photosensitive resin having high sensitivity
JPS60221748A (en) Preparation of photosensitive resin
JPS59113433A (en) Photosensitive resin composition
JPS60191244A (en) Photosensitive image forming material developable with aqueous alkaline developing solution