JPH0445563A - Manufacture of semiconductor device - Google Patents

Manufacture of semiconductor device

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JPH0445563A
JPH0445563A JP15442490A JP15442490A JPH0445563A JP H0445563 A JPH0445563 A JP H0445563A JP 15442490 A JP15442490 A JP 15442490A JP 15442490 A JP15442490 A JP 15442490A JP H0445563 A JPH0445563 A JP H0445563A
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Abstract

PURPOSE:To make it hard to conduct heat by positioning a heat-conductive plate, and next positioning a lead frame apart above this heat-conductive plate, and then fastening upper and lower molds, and injecting sealing resin into the cavities. CONSTITUTION:The plate part 16a of a heat-conductive body 16 is set in the cavity 12a of a lower mold 12, and the positioning hole 16c of the positioning part 16b is set on the positioning pin 14 of the lower mold 12. Hereby, the plate part 16a is positioned in the cavity of the lower mold 12. Next, the lead frame, on which semiconductor element 1 is loaded, is placed on this heat conductor 16, and is positioned in the specified position. And the upper mold 13 is set on the lower mold 12, and those are fastened to unit the heat conductor 16 with the frame 2. After completion of fastening, the sealing member 4 in heated and fused conditions is injected into the cavities 12a and 13a, and those are sealed. Hereby, heat radiation properties can be elevated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体素子が搭載されたリードフレームに封止
樹脂をモールド成形する半導体装置の製造方法に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, which involves molding a sealing resin onto a lead frame on which a semiconductor element is mounted.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、半導体装置としては、封止樹脂がモールド成形さ
れたものがある。この種の半導体装置を第5図によって
説明する。
Conventionally, some semiconductor devices are molded with a sealing resin. This type of semiconductor device will be explained with reference to FIG.

第5図は従来の半導体装置を示す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a conventional semiconductor device.

同図において、1は半導体素子、2はこの半導体素子1
を搭載するためのリードフレームである。
In the figure, 1 is a semiconductor element, and 2 is this semiconductor element 1.
This is a lead frame for mounting.

このリードフレーム2は、半導体素子1が接合されるア
イランド2aと、半導体素子1の表面電極(図示せず)
に金属細線3を介して接続されるインナーリード2bと
、このインナーリード2bと一体的に形成されたアウタ
ーリード20等とから構成されている。4は前記半導体
素子1.金属細線3.アイランド2aおよびインナーリ
ード2b等を外部環境から保護すると共にパンケージを
構成する封止部材である。この封止部材4は、例えばエ
ポキシ樹脂等の合成樹脂がらなり、モールド金型(図示
せず)を使用して所定形状に成形される。
This lead frame 2 includes an island 2a to which the semiconductor element 1 is bonded, and a surface electrode (not shown) of the semiconductor element 1.
It is composed of an inner lead 2b connected to the inner lead 2b via a thin metal wire 3, and an outer lead 20 formed integrally with the inner lead 2b. 4 is the semiconductor element 1. Fine metal wire 3. This is a sealing member that protects the island 2a, the inner leads 2b, etc. from the external environment and constitutes a pan cage. The sealing member 4 is made of synthetic resin such as epoxy resin, and is molded into a predetermined shape using a mold (not shown).

次に、このように構成された従来の半導体装置を製造す
る方法について説明する。この半導体装置を組立てるに
は、先ず、リードフレーム2のアイランド2aに半導体
素子lを接合させ、この半導体素子lの表面電極とリー
ドフレーム2のインナーリード2bとを金属細線3によ
って接続する。
Next, a method for manufacturing the conventional semiconductor device configured as described above will be described. To assemble this semiconductor device, first, the semiconductor element 1 is joined to the island 2a of the lead frame 2, and the surface electrode of the semiconductor element 1 and the inner lead 2b of the lead frame 2 are connected by the thin metal wire 3.

このようにして半導体素子1をリードフレーム2上に搭
載した後、このリードフレーム2をモールド金型に型締
めして封止部材をモールド成形する。
After the semiconductor element 1 is mounted on the lead frame 2 in this manner, the lead frame 2 is clamped into a mold to mold a sealing member.

このモールド金型は通常は下金型と上金型とから構成さ
れている。そして、モールド成形を行なうには、リード
フレーム2を上下金型間に挟持させ、加熱溶融された状
態の封止部材4を上下金型内に注入して行なわれる。封
止部材4が硬化した後、この封止部材4をリードフレー
ム2と共に離型させて樹脂封止工程が終了する。樹脂封
止後、アウターリード2Cの先端を切断することによっ
てリードフレーム2から半導体装置を分断させ、このア
ウターリード2cを所定形状に曲げ加工して半導体装置
が完成する。
This molding die usually consists of a lower die and an upper die. Then, molding is carried out by sandwiching the lead frame 2 between upper and lower molds, and injecting the heated and melted sealing member 4 into the upper and lower molds. After the sealing member 4 is cured, the sealing member 4 is released from the mold together with the lead frame 2, and the resin sealing process is completed. After resin sealing, the semiconductor device is separated from the lead frame 2 by cutting the tips of the outer leads 2C, and the outer leads 2c are bent into a predetermined shape to complete the semiconductor device.

〔発明が解決しようとする課題〕 しかるに、このように構成された従来の半導体装置では
、半導体素子lの熱が十分に放熱されず、発熱性の高い
半導体素子には適していない構造であった。これは、樹
脂材からなる封止部材4が金属等に較べて熱を伝え難い
からである。
[Problem to be solved by the invention] However, in the conventional semiconductor device configured in this way, the heat of the semiconductor element l is not sufficiently dissipated, and the structure is not suitable for a semiconductor element that generates a lot of heat. . This is because the sealing member 4 made of a resin material conducts heat more easily than metal or the like.

〔諜a−+解決するための手段〕[Spy a-+ means to solve]

本発明に係る半導体装置の製造方法は、モールド用下金
型のキャビティ内に熱伝導率の高い材料からなる伝熱板
を位置決めし、次いで、この伝熱板の上側にリードフレ
ームを間隔をおいて位置決めし、しかる後、この下金型
を型締めしてキャビティ内に封止樹脂を注入するもので
ある。
In the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention, a heat transfer plate made of a material with high thermal conductivity is positioned in a cavity of a lower mold, and then a lead frame is placed above the heat transfer plate at a distance. After that, the lower mold is clamped and a sealing resin is injected into the cavity.

〔作 用〕[For production]

伝熱板が封止樹脂内であって半導体素子の近傍に埋設さ
れることになり、半導体素子の熱が封止樹脂内を伝わり
やすくなる。
Since the heat transfer plate is buried within the sealing resin and near the semiconductor element, the heat of the semiconductor element is easily transmitted through the sealing resin.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図および第2図によって
詳細に説明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.

第1図は本発明の半導体装置の製造方法を実施する際に
使用するモールド金型の分解斜視図、第2図は本発明の
製造方法によって製造された半導体装置の断面図である
。これらの図において前記第5図で説明したものと同一
もしくは同等部材については、同一符号を付し詳細な説
明は省略する。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a mold used in carrying out the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor device manufactured by the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention. In these figures, the same or equivalent members as those explained in FIG. 5 are given the same reference numerals and detailed explanations will be omitted.

これらの図において、11は封止部材4をモールド成形
するためのモールド金型で、このモールド金型11は成
形用下金型12と、この下金型−12上に型締めされる
成形用上金型13とからなり、上下金型12.13は駆
動装置(図示せず)に連結されて互いに接離するように
構成されている。
In these figures, 11 is a mold for molding the sealing member 4, and this mold 11 includes a lower molding mold 12 and a molding mold clamped onto the lower mold 12. The upper and lower molds 12 and 13 are connected to a drive device (not shown) and are configured to move toward and away from each other.

前記下金型12および上金型13には、封止部材4を成
形するためのキャビイ12a、13aがそれぞれ合わせ
面倒に形成されている。なお、このキャビティ12a、
13aはランナー、ゲート(図示せず)等を介して樹脂
供給装置に連通され、加熱溶融された樹脂が注入される
ように構成されている。そして、下金型12には後述す
る熱伝導体を位置決めするための位置決めビン14がキ
ャビティ12aの側方に3本立設され、上金型13には
この位置決めビン14が挿入する穴15が設けられてい
る。
Cavies 12a and 13a for molding the sealing member 4 are respectively formed in the lower mold 12 and the upper mold 13 so as to fit together. Note that this cavity 12a,
13a is connected to a resin supply device via a runner, a gate (not shown), etc., and is configured to inject heated and melted resin. The lower mold 12 has three positioning bins 14 erected on the sides of the cavity 12a for positioning a thermal conductor, which will be described later, and the upper mold 13 has holes 15 into which the positioning bins 14 are inserted. It is being

16は熱伝導体で、この熱伝導体16は熱伝導率の高い
板材(例えば鋼材等)によって形成され、前記下金型1
2のキャビイ12a内に挿入される平面視四角形状の平
板部16aと、モールド金型11に型締めされて前記平
板部16aをキ+ビティ12a内に位置決めする位置決
め部16bとが一体に形成されている。なお、この熱伝
導体16の厚み寸法はリードフレーム2の厚み寸法と略
等しい寸法に設定されている。前記位置決め部16bは
前記平板部16aの角部分から側方へ突出されており、
本実施例では3本設けられている。そして、各位置決め
部16bは、基部を曲げ加工することによって前記平板
部16aに対して上側へ偏在されている。また、この位
置決め部16bの突出端には、下金型12の位置決めビ
ン14が嵌合する位置決め穴16cが穿設されている。
Reference numeral 16 denotes a thermal conductor, and this thermal conductor 16 is formed of a plate material with high thermal conductivity (for example, steel material, etc.), and is connected to the lower mold 1.
A flat plate part 16a having a rectangular shape in plan view which is inserted into the cavity 12a of No. 2, and a positioning part 16b which is clamped to the mold die 11 and positions the flat plate part 16a inside the cavity 12a are integrally formed. ing. Note that the thickness of the thermal conductor 16 is set to be approximately equal to the thickness of the lead frame 2. The positioning portion 16b projects laterally from a corner portion of the flat plate portion 16a,
In this embodiment, three are provided. Each positioning portion 16b is unevenly distributed upward with respect to the flat plate portion 16a by bending the base portion. Furthermore, a positioning hole 16c into which the positioning pin 14 of the lower mold 12 is fitted is bored at the protruding end of the positioning portion 16b.

次に、本発明の半導体装置の製造方法について説明する
。先ず、第1図に示すように、下金型12のキャビティ
12a内に熱伝導体16の平板部16aを挿入し、位置
決め部16bの位置決め穴16cを下金型12の位置決
めビン14へ嵌合させる。これによって平板部16aは
下金型12のキャビティ12a内に位置決めされる。な
お、キャビティ12a内での平板部16aの位置は、キ
ャビティ12aの底面から所定寸法だけ離間するように
設定されている。次に、半導体素子1が搭載されたリー
ドフレーム2をこの熱伝導体16の上側に載置して所定
位置(半導体素子1がキャビティ12a内に位置づけら
れる位W)に位置決めする。この状態では、熱伝導体1
6の平板部16aが位置決め部16bに対して下側に偏
在されている関係から、平板部16aはリードフレーム
2からは離間することになる。そして、下金型12に上
金型13を合わせ、モールド金型11内に熱伝導体16
とリードフレーム2とを型締めする。
Next, a method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention will be explained. First, as shown in FIG. 1, the flat plate part 16a of the heat conductor 16 is inserted into the cavity 12a of the lower mold 12, and the positioning hole 16c of the positioning part 16b is fitted into the positioning pin 14 of the lower mold 12. let As a result, the flat plate portion 16a is positioned within the cavity 12a of the lower mold 12. Note that the position of the flat plate portion 16a within the cavity 12a is set so as to be spaced apart from the bottom surface of the cavity 12a by a predetermined distance. Next, the lead frame 2 on which the semiconductor element 1 is mounted is placed on top of the thermal conductor 16 and positioned at a predetermined position (at a position W where the semiconductor element 1 is positioned within the cavity 12a). In this state, the thermal conductor 1
Since the flat plate portion 16a of No. 6 is unevenly distributed below the positioning portion 16b, the flat plate portion 16a is spaced apart from the lead frame 2. Then, the upper mold 13 is fitted to the lower mold 12, and the thermal conductor 16 is placed inside the mold 11.
and lead frame 2 are clamped together.

この際、半導体素子1は上金型13のキャビティ13a
内に臨むことになる。型締め終了後、加熱溶融された状
態の封止部材4をキャビティ12a。
At this time, the semiconductor element 1 is inserted into the cavity 13a of the upper mold 13.
It will come within. After the mold clamping is completed, the heated and melted sealing member 4 is placed in the cavity 12a.

13a内に注入し、半導体素子1.アイランド2a、イ
ンナーリード2b、金属細線3および熱伝導体16等を
封止する。封止部材4が硬化した後、この封止部材4を
リードフレーム2と共に離型させて樹脂封止工程が終了
する。封止後には熱伝導体16の位置決め部16bが封
止部材4がら突出するが、この突出部分は、リードフレ
ーム2がら半導体装置を切り離す工程で同時に切断され
る。
13a, the semiconductor device 1. The island 2a, inner lead 2b, thin metal wire 3, thermal conductor 16, etc. are sealed. After the sealing member 4 is cured, the sealing member 4 is released from the mold together with the lead frame 2, and the resin sealing process is completed. After sealing, the positioning portion 16b of the heat conductor 16 protrudes from the sealing member 4, but this protruding portion is cut at the same time as the process of separating the semiconductor device from the lead frame 2.

この分断工程を経た後、アウターリード2cを所定形状
に曲げ加工すれば、第2図に示すようニ半導体装置が完
成する。
After this dividing step, the outer lead 2c is bent into a predetermined shape to complete a second semiconductor device as shown in FIG.

したがって、このようにして製造された半導体装置では
、熱伝導体16が封止部材4内であって半導体素子1の
近傍に埋設されることなり、半導体素子1の熱が封止部
材4内を伝わりゃすくなる。
Therefore, in the semiconductor device manufactured in this way, the heat conductor 16 is embedded in the sealing member 4 and near the semiconductor element 1, so that the heat of the semiconductor element 1 flows inside the sealing member 4. It becomes easier to convey.

なお、本実施例では熱伝導体16の厚みをリードフレー
ム2と略等しくした例を示したが、第3図および第4図
に示すように、リードフレーム2より厚い熱伝導体16
を使用することもできる。
In this embodiment, the thickness of the thermal conductor 16 is approximately equal to that of the lead frame 2, but as shown in FIGS. 3 and 4, the thickness of the thermal conductor 16 is thicker than the lead frame 2.
You can also use

第3図および第4図は他の実施例を示す図で、第3図は
リードフレームより厚い熱伝導体を使用する場合のモー
ルド金型の分解斜視図、第4図はリードフレームより厚
い熱伝導体が用いられた半導体装置の断面図である。こ
れらの図において前記第1図および第2図で説明したも
のと同一もしくは同等部材については、同一符号を付し
詳細な説明は省略する。21は熱伝導体で、この実施例
で使用する熱伝導体21は、第1図および第一2図で示
した実施例のものに較べて厚みが大きく設定され、リー
ドフレーム2より厚く形成されている。
Figures 3 and 4 are views showing other embodiments, where Figure 3 is an exploded perspective view of a mold when a thermal conductor thicker than the lead frame is used, and Figure 4 is a thermal conductor thicker than the lead frame. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device using a conductor. In these figures, the same or equivalent members as those explained in FIGS. 1 and 2 are given the same reference numerals, and detailed explanations will be omitted. 21 is a heat conductor, and the heat conductor 21 used in this embodiment is set to be thicker than that of the embodiment shown in FIGS. 1 and 12, and is formed thicker than the lead frame 2. ing.

そして、前記実施例と同様にして平板部21a。Then, the flat plate portion 21a is formed in the same manner as in the previous embodiment.

位置決め部21bおよび位置決め穴21cが形成されて
いる。22は前記熱伝導体21の位置決め部21bが挿
入される溝で、この溝22は、下金型12の合わせ面に
前記位置決め部21bが嵌合する形状をもって形成され
ている。そして、この溝22の深さ寸法は、熱伝導体2
1とリードフレーム2との板厚差分とされている。すな
わち、この溝22内に位置決め部21aを嵌合させれば
、型締め時に下金型12と上金型13との合わせ部分に
隙間が生じるようなことはなくなる。この厚みの厚い熱
伝導体21を使用して製造された半導体装置を第4図に
示す、この実施例に示したように、熱伝導体21をリー
ドフレーム2より厚く形成すると、第1図および第2図
で示した半導体装置よりさらに放熱性を高めることがで
きる。なお、溝22の底部分を昇降自在に設けたり、溝
22の底面と位置決め部21bとの間にスペーサを介装
したりすれば、熱伝導体22の厚みを容易に変更するこ
とができるようになる。すなわち、このようにすると、
使用する熱伝導体の厚みに適合するように下金型12を
複数種類形成する必要がな(なる。
A positioning portion 21b and a positioning hole 21c are formed. Reference numeral 22 denotes a groove into which the positioning portion 21b of the heat conductor 21 is inserted. The depth dimension of this groove 22 is determined by the depth of the thermal conductor 2.
This is the difference in plate thickness between lead frame 1 and lead frame 2. That is, by fitting the positioning portion 21a into the groove 22, there will be no gap between the lower mold 12 and the upper mold 13 at the time of mold clamping. A semiconductor device manufactured using this thick thermal conductor 21 is shown in FIG. 4. As shown in this embodiment, if the thermal conductor 21 is formed thicker than the lead frame 2, Heat dissipation can be further improved than that of the semiconductor device shown in FIG. Note that the thickness of the thermal conductor 22 can be easily changed by providing the bottom portion of the groove 22 so that it can be raised and lowered, or by interposing a spacer between the bottom surface of the groove 22 and the positioning portion 21b. become. In other words, if you do this,
There is no need to form a plurality of types of lower molds 12 to match the thickness of the heat conductor to be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明に係る半導体装置のIJ 遣
方法C!、モールド用下金型のキャビティ内ニ熱伝導率
の高い材料からなる伝熱板を位置決めし、次いで、この
伝熱板の上側にリードフレームを間隔をおいて位置決め
し、しかる後、この下金型を型締めしてキャビティ内に
封止樹脂を注入するため、伝熱板が封止樹脂内であって
半導体素子の近傍に埋設されることになる。したがって
、半導体素子の熱が封止樹脂内を伝わりゃすくなり放熱
性を高めることができるから、高発熱性の半導体素子を
使用しても信幀性の高い半導体装置が得られる。
As explained above, IJ application method C! of a semiconductor device according to the present invention! , position a heat transfer plate made of a material with high thermal conductivity in the cavity of the lower mold for molding, then position a lead frame at a distance above this heat transfer plate, and then Since the mold is clamped and the sealing resin is injected into the cavity, the heat transfer plate is embedded within the sealing resin and near the semiconductor element. Therefore, since the heat of the semiconductor element is less likely to be transmitted through the sealing resin and heat dissipation can be improved, a highly reliable semiconductor device can be obtained even if a highly heat-generating semiconductor element is used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の半導体装置の製造方法を実施する際に
使用するモールド金型の分解斜視図、第2図は本発明の
製造方法によって製造された半導体装置の断面図である
。第3図および第4図は他の実施例を示す図で、第3図
はリードフレームより厚い熱伝導体を使用する場合のモ
ールド金型の分解斜視図、第4図はリードフレームより
厚い熱伝導体が用いられた半導体装置の断面図である。 第5図は従来の半導体装置を示す断面図である。 1・・・・半導体素子、2・・・・リードフレーム、4
・・・・封止部材、11・・・・モールド金型、12・
・・・下金型、13・・・・上金型、12a、13a・
・・・キャビティ、16.21・・・・熱伝導体。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a mold used in carrying out the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a semiconductor device manufactured by the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention. Figures 3 and 4 are views showing other embodiments, where Figure 3 is an exploded perspective view of a mold when a thermal conductor thicker than the lead frame is used, and Figure 4 is a thermal conductor thicker than the lead frame. 1 is a cross-sectional view of a semiconductor device using a conductor. FIG. 5 is a sectional view showing a conventional semiconductor device. 1... Semiconductor element, 2... Lead frame, 4
...Sealing member, 11...Mold die, 12.
...Lower mold, 13...Upper mold, 12a, 13a.
...Cavity, 16.21...Heat conductor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  半導体素子が搭載されたリードフレームに封止樹脂を
モールド成形する半導体装置の製造方法において、モー
ルド用下金型のキャビティ内に熱伝導率の高い材料から
なる伝熱板を位置決めし、次いで、この伝熱板の上側に
前記リードフレームを間隔をおいて位置決めし、しかる
後、この下金型を型締めしてキャビティ内に封止樹脂を
注入することを特徴とする半導体装置の製造方法。
In a semiconductor device manufacturing method in which a sealing resin is molded onto a lead frame on which a semiconductor element is mounted, a heat transfer plate made of a material with high thermal conductivity is positioned in a cavity of a lower molding die, and then this A method for manufacturing a semiconductor device, comprising positioning the lead frame above a heat exchanger plate at intervals, and then clamping the lower mold and injecting a sealing resin into the cavity.
JP2154424A 1990-06-13 1990-06-13 Method for manufacturing semiconductor device Expired - Lifetime JP2604054B2 (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5384286A (en) * 1991-08-16 1995-01-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Process for encapsulating a semiconductor chip, leadframe and heatsink
JPWO2022013936A1 (en) * 2020-07-14 2022-01-20

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