JPH0441176A - Micropolishing method - Google Patents

Micropolishing method

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Publication number
JPH0441176A
JPH0441176A JP2144724A JP14472490A JPH0441176A JP H0441176 A JPH0441176 A JP H0441176A JP 2144724 A JP2144724 A JP 2144724A JP 14472490 A JP14472490 A JP 14472490A JP H0441176 A JPH0441176 A JP H0441176A
Authority
JP
Japan
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polishing
magnetic
polished
actuator
work
Prior art date
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Pending
Application number
JP2144724A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Mizuguchi
水口 信一
Shuji Ueda
修治 上田
Yasushi Kato
康司 加藤
Tokuji Umehara
徳次 梅原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Priority to KR1019910008987A priority patent/KR940007405B1/en
Priority to US07/708,867 priority patent/US5185957A/en
Publication of JPH0441176A publication Critical patent/JPH0441176A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To uniformly bore the whole face of a work trace even in the case of a work diameter being enlarged, to form a smooth recessed face like work trace without a projective residual part being left at the center of the work trace and to increase the efficiency in polishing with the work diameter being enlarged, by periodically changing the phase difference in the XY direction, in the case of a polishing part being subjected to a micromotion. CONSTITUTION:A polishing part 26 is subjected to a micromotion in the XY direction parallel to a polishing face by actuators 24X, 24Y composed of electrostrictive elements in the state of a polishing material being held between the polishing part 26 of the polishing tool tip and a work W. Moreover, the work W is polished with the phase difference in the X direction micromotion and Y direction micromotion being changed periodically. Consequently, the work W shows a smooth recessed face shape at its whole face, with the work trace H obtainable of uniform and good polishing over the motion range whole body of the polishing part 26 having no projective residual part at all.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、微小研磨方法に関し、詳しくは、レンズや
光学素子等の製造分野において、超高精度な加工を行う
ために、微小な領域を精密に研磨各種の電子機器や光学
機器に組み込まれて使用される非球面レンズやX線光学
素子等は、研磨加工によって製造されているが、製品の
形状精度が0.01μm以下という極めて高精度な加工
を要求されており、このような超高精度な研磨加工を行
える加工方法が求められている。そのためには、研磨面
に対して、微小な領域に限定して精密に研磨できる研磨
方法が必要となる。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a micro-polishing method, and more specifically, in the field of manufacturing lenses, optical elements, etc., it is a method for polishing a micro-polishing area in order to perform ultra-high precision processing. Precise polishing Aspherical lenses and X-ray optical elements used in various electronic and optical devices are manufactured by polishing, but the shape accuracy of the product is extremely high precision of 0.01 μm or less. There is a need for a processing method that can perform such ultra-high precision polishing processing. For this purpose, a polishing method that can precisely polish only a minute area of the polished surface is required.

従来、高精度な研磨方法としては、ポリッシング加工や
ラッピング加工等が採用されていたが、前記した0、0
1μm以下の超高精度加工は全く不可能であったため、
近年、より高精度な加工を行える方法として、研磨材と
して磁性研磨流体を用いる磁気研磨法が注目されている
。ここに、磁性研磨流体とは、磁性流体単体またはこれ
に微粒状の研磨材を懸濁分散させてなるものを言う。
Conventionally, polishing processing, lapping processing, etc. have been adopted as high-precision polishing methods, but the above-mentioned 0, 0
Ultra-high precision machining of 1 μm or less was completely impossible, so
In recent years, a magnetic polishing method that uses a magnetic polishing fluid as an abrasive has been attracting attention as a method that can perform processing with higher precision. Here, the term "magnetic polishing fluid" refers to a magnetic fluid alone or a magnetic fluid in which fine particles of abrasive material are suspended and dispersed.

磁気研磨法では、研磨工具先端の研磨部と被研磨材の間
に、磁性研磨流体を供給するとともに磁界を印加するよ
うにする。そうすると、磁性研磨流体は、磁気的作用で
、被研磨材の研磨面を加圧した状態で研磨部と被研磨材
の間に保持される。
In the magnetic polishing method, a magnetic polishing fluid is supplied and a magnetic field is applied between a polishing part at the tip of a polishing tool and a workpiece to be polished. Then, the magnetic polishing fluid is held between the polishing section and the material to be polished while applying pressure to the polishing surface of the material to be polished by magnetic action.

この状態で、研磨工具を高速回転させると、磁性研磨流
体は研磨工具の回転に引きずられて高速回転運動させら
れて、被研磨材に対し研磨加工を行う。この際に、印加
する磁界の方向や強さを変動させることによって、磁性
研磨流体による研磨面の加圧力を変動させたり、磁性研
磨流体の運動を制御したりして、研磨性能を向上させる
ことも行われている。この磁気研磨法の具体例について
は、例えば、特開昭6(1−118466号公報、特開
昭61−244457号公報、特公昭1−16623号
公報等に開示されている。
In this state, when the polishing tool is rotated at high speed, the magnetic polishing fluid is dragged by the rotation of the polishing tool and is rotated at high speed, thereby polishing the material to be polished. At this time, by varying the direction and strength of the applied magnetic field, the force applied to the polishing surface by the magnetic polishing fluid can be varied and the movement of the magnetic polishing fluid can be controlled to improve polishing performance. is also being carried out. Specific examples of this magnetic polishing method are disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-open No. 1-118466, Japanese Patent Application Laid-open No. 61-244457, and Japanese Patent Publication No. 16623/1989.

この磁気研磨法によれば、磁気的な保持力によって研磨
面の微小な領域に研磨材を集中的に作用させることがで
きるので、従来の研磨法に比べて、高精度な研磨加工が
できるという利点がある。
According to this magnetic polishing method, the magnetic holding force allows the abrasive to act intensively on a minute area of the polishing surface, making it possible to achieve higher precision polishing compared to conventional polishing methods. There are advantages.

しかし、この磁気研磨法によってでも、0.01μm以
下の超高精度加工には未だ充分に対応することが出来な
かった。
However, even with this magnetic polishing method, it has not been possible to sufficiently cope with ultra-high precision machining of 0.01 μm or less.

すなわち、この方法では、磁性研磨流体を研磨工具の高
速回転によって高速回転させるようにするので、研磨面
の仕上がりは研磨工具の回転の状態に直接影響を受ける
ことになる。ところが、研磨工具の回転にはどうしても
回転数の変動や軸ふれ等が起き易いため、この方法では
、研磨面の仕上がりに、研磨量の変動や局部的な研磨の
偏り、研磨領域の変動が生じてしまうと言う問題があっ
たのである。回転機構等の機械的な動作機構には、各部
材がスムーズに運動できるだけの空間的余裕が必要であ
り、そのために研磨部の運動に若干のガタッキが生じる
のもやむを得ないことであり、その結果、研磨面の仕上
がりにムラや変動が生じると言う問題もあった。要する
に、研磨部を高速回転する限り、これらの問題を完全に
防止することは不可能であった。
That is, in this method, the magnetic polishing fluid is rotated at high speed by the high speed rotation of the polishing tool, so the finish of the polished surface is directly affected by the rotational state of the polishing tool. However, as the rotation of the polishing tool is prone to fluctuations in rotational speed and shaft deviation, this method results in fluctuations in the polishing amount, local polishing bias, and fluctuations in the polishing area in the finished polished surface. There was a problem that it would end up happening. Mechanical operating mechanisms such as rotating mechanisms require sufficient space to allow each member to move smoothly, and it is unavoidable that there will be some wobble in the movement of the polishing unit. There was also the problem that unevenness and fluctuations occurred in the finish of the polished surface. In short, it has been impossible to completely prevent these problems as long as the polishing section is rotated at high speed.

従来の高速回転磁気研磨法では、磁性研磨流体を研磨面
に押し付けるための加圧力は、研磨工具の回転自体によ
っては生じず、前述のように磁気の印加によって生じさ
せているので、印加する磁気を強くしないと充分な研磨
力が生じず、磁気の強さが変動すると研磨量が変わって
しまう。そのため、この高速回転磁気研磨法では、電磁
石等の磁気発生手段が大掛かりになるとともに、磁気力
の制御を厳密に行う必要があると言う問題もあった。さ
らに、この加圧力を得るための磁気回路は、被研磨材自
体がその一部を構成する必要があるため、被研磨材が磁
気的な導体すなわち磁性体でなければならないという制
約があった。もっとも、被研磨材が非磁性体であっても
、薄いものであれば、この非磁性被研磨材を通して磁気
回路を構成することもできる。しかし、この場合でも、
被研磨材の厚みの僅かな変動や磁気的性質の変動によっ
て磁性研磨流体の研磨面加圧力が変わるので、研磨量や
研磨精度等の管理が難しいという問題があった。なお、
前記したレンズや光学素子等は、非磁性体であるととも
にかなりの厚みがあるので、上記高速回転磁気研磨法を
通用することが出来ない。
In the conventional high-speed rotation magnetic polishing method, the pressure force for pressing the magnetic polishing fluid against the polishing surface is not generated by the rotation of the polishing tool itself, but by the application of magnetism as described above. If the magnetic strength is not strong enough, sufficient polishing force will not be generated, and if the magnetic strength changes, the amount of polishing will change. Therefore, this high-speed rotational magnetic polishing method requires a large-scale magnetism generating means such as an electromagnet, and also has the problem of requiring strict control of the magnetic force. Furthermore, since the material to be polished itself must constitute a part of the magnetic circuit for obtaining this pressing force, there is a restriction that the material to be polished must be a magnetic conductor, that is, a magnetic material. However, even if the material to be polished is a non-magnetic material, a magnetic circuit can be constructed through the non-magnetic material as long as it is thin. However, even in this case,
Since the pressing force of the magnetic polishing fluid on the polishing surface changes due to slight variations in the thickness or magnetic properties of the material to be polished, there has been a problem in that it is difficult to control the amount of polishing, polishing accuracy, etc. In addition,
The above-mentioned lenses, optical elements, etc. are non-magnetic and have considerable thickness, so the high-speed rotational magnetic polishing method described above cannot be applied to them.

そこで、上記従来の高速回転磁気研磨法の問題点を解消
し、より高精度な加工が可能であるとともに、被研磨材
の磁気的性質に影響を受けず、非磁性体からなる被研磨
材にも良好に通用することのできる微小研磨方法を提供
するべく、発明者らは、先に、研磨部を電歪素子すなわ
ちピエゾ素子からなるアクチュエータで研磨面に平行な
XY方向と研磨面に垂直なZ方向に微小運動させ、この
研磨部の微小運動を磁性研磨流体に伝達して被研磨材の
研磨面を研磨させるようにする微小研磨方法および微小
研磨工具を開発した。
Therefore, we have solved the problems of the conventional high-speed rotation magnetic polishing method mentioned above, and it is possible to process with higher precision. In order to provide a micro-polishing method that can be successfully applied to the polishing surface, the inventors first moved the polishing section in the XY directions parallel to the polishing surface and in the We have developed a micro-polishing method and a micro-polishing tool that make micro-movements in the Z direction and transmit the micro-movements of the polishing part to a magnetic polishing fluid to polish the polished surface of the workpiece.

この電歪素子からなるアクチュエータを用いる新規な微
小研磨方法および微小研磨工具は、@房部を高速回転す
る必要がないため、また、被研磨材自体を磁性研磨流体
保持と磁性研磨流体加圧のための磁気回路の一部にする
必要がないため、前述した従来の高速回転微小研磨法の
諸問題を完全に解消することが出来る。
This new micro-polishing method and micro-polishing tool using an actuator consisting of an electrostrictive element does not require high-speed rotation of the chamber, and also allows the workpiece to be polished to hold and pressurize the magnetic polishing fluid. Since there is no need to make it a part of the magnetic circuit for the purpose, the problems of the conventional high-speed rotation micro-polishing method described above can be completely solved.

すなわち、この新規な駆動方式による微小研磨法では、
電歪素子の働きで磁性研磨流体を被研磨材に押し付ける
とともに研磨部を研磨面に沿って微小運動させるように
し、これによって被研磨材を研磨加工するようにしてい
る。つまり、研磨部に対し電歪素子を利用するXY方向
アクチュエータまたはZ方向アクチュエータによる微小
運動を与えて、磁性研磨流体を被研磨材の研磨面に対し
て水平方向または垂直方向に微小運動させるようにし、
磁性研磨流体に対し、研磨面に対する水平方向の微小運
動によって研磨面に沿う微小の研磨運動を行わせ、研磨
面に対する垂直方向の微小運動によって研磨面に対する
加圧力を得させるようにしたものである。
In other words, in the micropolishing method using this new drive method,
The electrostrictive element forces the magnetic polishing fluid onto the workpiece and causes the polishing section to move minutely along the polishing surface, thereby polishing the workpiece. In other words, a minute movement is applied to the polishing part by an XY-direction actuator or a Z-direction actuator that uses an electrostrictive element, so that the magnetic polishing fluid is caused to make a minute movement in the horizontal or vertical direction with respect to the polishing surface of the material to be polished. ,
The magnetic polishing fluid is made to perform a minute polishing movement along the polishing surface by making a minute movement in the horizontal direction with respect to the polishing surface, and to obtain a pressing force against the polishing surface by making a minute movement in the vertical direction to the polishing surface. .

このように、この新規な駆動方式による微小研磨法では
、研磨部の回転を必要としない結果、回転ムラや軸ぶれ
等による研磨のバラツキや表面粗さムラ等が生じない。
In this way, the micro-polishing method using this novel drive method does not require rotation of the polishing section, and as a result, there are no variations in polishing or uneven surface roughness due to uneven rotation, shaft runout, or the like.

電歪素子によるアクチュエータは、機械的な摺動部分や
作動機構が全くなく、印加電圧にしたがって極めて正確
に駆動するので、磁性研磨流体の運動も安定している。
An actuator using an electrostrictive element has no mechanical sliding parts or operating mechanisms, and is driven extremely accurately according to an applied voltage, so that the movement of the magnetic polishing fluid is also stable.

このような点でも、研磨のバラツキやムラを生しさせな
い。アクチュエータによる磁性研磨流体のXY方向運動
は、従来のような回転運動に比べて遥かに微小であるた
め、被研磨材をきめ細かく研磨加工して、表面粗さの極
めて小さな超高精度な鏡面加工を可能とする。
In this respect as well, variations and unevenness in polishing are prevented. The movement of the magnetic polishing fluid in the X and Y directions by the actuator is much smaller than conventional rotational movement, so it is possible to finely polish the material to be polished and achieve ultra-high precision mirror finishing with extremely low surface roughness. possible.

また、この新規な駆動方式による微小研磨法では、磁性
研磨流体を被研磨材に押し付ける加圧力は電歪素子によ
るZ方向アクチュエータで加えるので、研磨工具の研磨
部から被研磨材につながる磁気回路を設けておく必要が
なくなり、その結果、被研磨材が非磁性体であっても何
ら差し支えなく研磨加工ができるし、被研磨材の材質や
厚みによる磁気的性質の違いに関係なく、アクチュエー
タへの印加電圧だけで被研磨材への加圧力が設定制御で
きるので、被研磨材の材質や形状による研磨能率や研磨
精度への影響を生じさせないのである。被研磨材は、従
来の高速回転磁気研磨法でも研磨できる鋼等の磁性体材
料のほか、従来の高速回転磁気研磨法では研磨出来なか
ったガラスやセラミック等の非磁性体材料も使用できる
。非研磨材の形状も、薄いものから分厚いものまで幅広
く適用でき、研磨面は平面や球面あるいは自由曲面等も
加工できる。
In addition, in the micro-polishing method using this new drive method, the pressure force for pressing the magnetic polishing fluid onto the material to be polished is applied by a Z-direction actuator using an electrostrictive element, so the magnetic circuit connecting from the polishing part of the polishing tool to the material to be polished is As a result, even if the material to be polished is non-magnetic, it can be polished without any problem, and regardless of the difference in magnetic properties due to the material and thickness of the material to be polished, the actuator can be Since the pressure applied to the material to be polished can be set and controlled using only the applied voltage, polishing efficiency and polishing accuracy are not affected by the material or shape of the material to be polished. As the material to be polished, in addition to magnetic materials such as steel that can be polished by conventional high-speed rotational magnetic polishing methods, non-magnetic materials such as glass and ceramics that cannot be polished by conventional high-speed rotational magnetic polishing methods can also be used. The non-abrasive material can be used in a wide variety of shapes, from thin to thick, and the polished surface can be flat, spherical, or free-form.

この新規な駆動方法による微小磁気研磨方法によれば、
上述のように、研磨部の微小運動は、電歪素子に電圧を
印加することによって得られる極めて微小な運動である
ので、磁性研磨流体は、研磨部周辺の極めて微小な領域
のみで被研磨材を高精度に研磨することができ、被研磨
材の表面をきめ細かく均一に研磨することができる。従
来の高速回転研磨法に比べて、はるかに均一な研磨加工
が施されるので、超高精度な鏡面加工も可能になり、形
状精度0.01μm以下の超高精度研磨加工を容易かつ
確実に実現できるのである。
According to the micro magnetic polishing method using this new driving method,
As mentioned above, the minute movement of the polishing part is an extremely small movement obtained by applying a voltage to the electrostrictive element, so the magnetic polishing fluid can only affect the material to be polished in an extremely small area around the polishing part. can be polished with high precision, and the surface of the material to be polished can be polished finely and uniformly. Compared to conventional high-speed rotation polishing methods, the polishing process is much more uniform, making it possible to perform ultra-high-precision mirror finishing, making ultra-high-precision polishing with a shape accuracy of 0.01 μm or less easier and more reliable. It can be achieved.

なお、この新規な駆動方法による微小研磨方法および微
小研磨工具は、研磨材として磁性研磨流体を用いない方
法にも利用することが出来る。
Note that the micropolishing method and micropolishing tool using this novel driving method can also be used in a method that does not use a magnetic polishing fluid as an abrasive.

〔発明が解決しようとする課題〕 しかし、その後の研究により、この新規な微小研磨方法
および微小研磨工具には、つぎのような新たな問題のあ
ることが分かった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, subsequent research has revealed that this new micro-polishing method and micro-polishing tool have the following new problems.

すなわち、この新規な駆動方式による微小研磨方法では
、加工能率を向上させること等を目的として、研磨部の
運動範囲を拡大して加工径を大きくしようとすると、加
工痕の形状が崩れ、良好な凹面状の加工痕が得られず、
加工面に凹凸が出来て平滑な仕上げ面が得られなくなる
という問題がある。
In other words, in the micro-polishing method using this new drive method, if you try to expand the range of motion of the polishing part to increase the machining diameter for the purpose of improving machining efficiency, the shape of the machining marks will collapse and it will not be possible to obtain a good machining mark. No concave machining marks were obtained,
There is a problem in that unevenness occurs on the machined surface, making it impossible to obtain a smooth finished surface.

このような問題が発生するのは、つぎのような理由であ
ると考えられる。
The reason why such a problem occurs is considered to be as follows.

前記微小研磨方法では、xy方向アクチュエータの周期
的に変動する作用力で、研磨部が、その支持個所を基点
して円弧状のりサージュ図形を描くような周期運動を行
い、この研磨部の運動軌跡に沿って加工痕が形成される
。第6図は、このような研磨部の運動軌跡Tと、被研磨
材Wに形成される加工痕H′の断面形状を模式的に示し
ている。研磨部の運動は、X方向およびY方向のアクチ
ュエータに加えられる励振周波数によって決まるので、
X方向成分X=AsinωtとY方向成分Y−Asin
(ωt+90°)とが合成された運動となり、半径Aの
円弧を描(。加工径を大きくするには、XY方向アクチ
ュエータに加える励振周波数の振幅を大きくして、運動
軌跡Tの半径Aを大きくすればよい。
In the micro-polishing method, the polishing section periodically moves in an arcuate shape based on its support point by the periodically varying acting force of the actuator in the x and y directions, and the movement trajectory of the polishing section is Machining marks are formed along. FIG. 6 schematically shows the movement locus T of such a polishing part and the cross-sectional shape of a machining mark H' formed on the material W to be polished. Since the movement of the polishing part is determined by the excitation frequency applied to the actuators in the X and Y directions,
X-direction component X = Asinωt and Y-direction component Y-Asin
(ωt+90°), and draws a circular arc with radius A (To increase the machining diameter, increase the amplitude of the excitation frequency applied to the XY direction actuator, and increase the radius A of the motion trajectory T. do it.

ところが、このような研磨部の運動に伴って研磨加工さ
れる被研磨材Wは、その時点における研磨部の位置を中
心にして球面状に掘り込まれるので、加工痕H′は、半
径Aの円周に沿って円環状の凹溝に形成される。すなわ
ち、加工痕H′の中心部分は研磨部が通過しないので、
加工痕Hの底面中央に加工されない部分Qが凸状に残っ
てしまうのである。半径Aが小さい場合には、凸状の残
存部Qも小さく目立たないが、加工痕Hの加工径が大き
くなるほど、凸状の残存部Qが大きく目立つことになり
、研磨精度に悪影響を与えるようになってしまう。
However, the workpiece W to be polished due to the movement of the polishing part is carved into a spherical shape centered on the position of the polishing part at that time, so the machining mark H' is within the radius A. An annular groove is formed along the circumference. In other words, since the polishing part does not pass through the center part of the machining mark H',
An unprocessed portion Q remains in the center of the bottom surface of the processing mark H in a convex shape. When the radius A is small, the convex remaining portion Q is also small and inconspicuous, but as the machining diameter of the machining mark H becomes larger, the convex remaining portion Q becomes more conspicuous, which may adversely affect polishing accuracy. Become.

そこで、この発明は、加工径を大きくしても、加工痕の
底部に凸状の残存部が残らず、滑らかな凹面状の加工痕
が形成され、平滑で良好な研磨加工面が得られる新規な
駆動方式による微小研磨法を提供することを課題とする
Therefore, even if the machining diameter is increased, no convex residual part remains at the bottom of the machining mark, and a smooth concave machining mark is formed, resulting in a smooth and well-polished surface. The purpose of this study is to provide a micropolishing method using a driving method.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記課題を解決するための、この発明にかかる微小研磨
方法の主要構成は、以下のとおりである研磨工具先端の
研磨部と被研磨材の間に研磨材を保持した状態で、前記
研磨部を電歪素子からなるアクチュエータで研磨面と平
行なXY力方向微小運動させ、かつ、X方向の微小運動
とY方向の微小運動の位相差を周期的に変化させて被研
磨材を研磨するようにする。
The main structure of the micro-polishing method according to the present invention for solving the above problems is as follows.The polishing part is held in the state where the polishing material is held between the polishing part at the tip of the polishing tool and the workpiece to be polished. The workpiece is polished by making small movements in the XY force directions parallel to the polishing surface using an actuator consisting of an electrostrictive element, and by periodically changing the phase difference between the small movements in the X direction and the small movements in the Y direction. do.

この発明において、研磨工具は、従来の高速回転磁気研
磨法の場合と同様、適当な支持部材に支持された状態で
、先端の研磨部を被研磨材に沿って移動させられるが、
この支持手段や移動手段は、各種の工作機械等で用いら
れている手段が採用される。
In this invention, the polishing tool is supported by a suitable support member and the polishing part at the tip is moved along the material to be polished, as in the case of the conventional high-speed rotation magnetic polishing method.
As this supporting means and moving means, means used in various machine tools and the like are employed.

研磨工具は、後述の微小駆動手段により、被研磨材の形
状や目的に応じて、その研磨部を、研磨面に水平な方向
すなわちXY力方向微小運動させ、また、必要に応じて
研磨面に垂直な方向すなわちZ方向へ微小運動させる。
The polishing tool moves its polishing part in a direction horizontal to the polishing surface, that is, in the XY force direction, by a micro-driving means described later, depending on the shape and purpose of the material to be polished, and also moves the polishing part in the XY force direction as necessary. Make a small movement in the vertical direction, that is, in the Z direction.

さらに、軸を傾ける等の動作を行わせるようにすれば、
複雑な曲面形状等の研磨加工を行うことが出来る。
Furthermore, if you make it perform actions such as tilting the axis,
It is possible to polish complex curved surfaces.

被研磨材は研磨部の表面性状に対応する性状に加工され
る。この研磨部は、Snメツキ層やポリウレタン層等で
構成することが出来る。研磨部の形状は平面でも良いが
、球面にすると、研磨部の隅角が研磨面に当たることが
容易に避けられる。
The material to be polished is processed to have properties corresponding to the surface properties of the polished portion. This polishing part can be composed of a Sn plating layer, a polyurethane layer, or the like. The shape of the polishing part may be flat, but if it is made spherical, the corners of the polishing part can easily be prevented from coming into contact with the polishing surface.

研磨部をポリウレタンで構成する場合には、研磨部のX
Y力方向微小運動の振幅がポリウレタンの気孔径よりも
大きくなるようにすると、研磨切れによる部分的研磨が
生じず、所望形状の加工痕を容易に得ることが出来る。
When the polishing part is made of polyurethane, the
When the amplitude of the micromovement in the Y force direction is made larger than the pore diameter of the polyurethane, partial polishing due to polishing breakage does not occur, and machining marks of a desired shape can be easily obtained.

球面の研磨部は、研磨工具先端に転勤自在に保持された
球体で構成すると良い。この転勤により、研磨部の偏摩
耗が防止されるからである。球体は、軸受機構の球体の
ように、機械的に保持されても良く、磁力で保持されて
も良い。また、研磨材の粘性により保持されても良い。
The spherical polishing section is preferably composed of a sphere that is movably held at the tip of the polishing tool. This is because this transfer prevents uneven wear of the polishing part. The sphere may be held mechanically, like the sphere of a bearing mechanism, or may be held magnetically. Alternatively, it may be held by the viscosity of the abrasive.

この発明に用いる研磨材は、いわゆる磁性研磨流体に限
らず、非磁性研磨流体も用いることが出来る。
The abrasive used in this invention is not limited to so-called magnetic polishing fluids, but non-magnetic polishing fluids can also be used.

磁性研磨流体は、いわゆる磁性流体としての性質と、研
磨材としての機能を備えているものであり、通常の磁気
研磨法に用いられているものと同様のものを用いること
ができる。−船釣な磁性流体は、Fe20a等からなり
粒径10nmJ22下程度の微細な磁性粉粒を水や油等
にコロイド状に分散させたものであるが、この磁性流体
を構成する磁性粉粒が、被研磨材に対する研磨性を有し
ていれば、このような磁性粉粒からなる磁性流体をその
まま用いることもできる。磁性研磨剤粉粒の具体例とし
ては、α−Fel 04  (ベンガラ)等が挙げられ
る。また、研磨性を有さない磁性粉粒からなる磁性流体
に、磁性を有さない通常の研磨材粉粒を懸濁分散させた
ものでもよい。この場合の研磨材粉粒としては、Al2
otや5in2等が用いられ、粒径1100n以下程度
のものが好ましく使用される。
The magnetic polishing fluid has properties as a so-called magnetic fluid and functions as an abrasive, and can be the same as those used in normal magnetic polishing methods. - The magnetic fluid used for boat fishing is made by dispersing fine magnetic powder particles such as Fe20a with a particle size of about 10 nm J22 or less in water or oil in a colloidal manner. A magnetic fluid made of such magnetic powder particles can be used as is, as long as it has abrasive properties for the material to be polished. Specific examples of magnetic abrasive particles include α-Fel 04 (red iron) and the like. Alternatively, ordinary abrasive particles without magnetism may be suspended and dispersed in a magnetic fluid made of magnetic particles without abrasive properties. In this case, the abrasive powder particles are Al2
ot, 5in2, etc. are used, and particles with a particle size of about 1100 nm or less are preferably used.

研磨材として磁性研磨流体を用いる場合において、研磨
工具先端の研磨部と被研磨材の間に磁性研磨流体を磁気
的に保持するには、例えば、研磨工具先端の研磨部に近
接させるように磁気ヨークを設けて磁気回路を構成すれ
ば、その磁気的作用によって研磨部の近傍に容易に磁性
研磨流体を保持しておくことができる。
When using a magnetic polishing fluid as an abrasive, in order to magnetically hold the magnetic polishing fluid between the polishing part at the tip of the polishing tool and the material to be polished, for example, the magnetic polishing fluid must be placed close to the polishing part at the tip of the polishing tool. If a magnetic circuit is configured by providing a yoke, the magnetic polishing fluid can be easily held near the polishing section by its magnetic action.

研磨部を微小運動させるアクチュエータは、電圧を印加
することによって伸縮する、ピエゾ素子とも呼ばれる電
歪素子を用いる。研磨部をこのアクチュエータに連結し
て周期的に変動する電圧をアクチュエータに印加すれば
、研磨部を微小運動させることができる。印加電圧の周
波数によってアクチュエータの微小運動の周波数が変わ
り、印加電圧の大きさによってアクチュエータの微小運
動の振幅が変わる。研磨部のこの微小運動が研磨材に伝
達されて、研磨材が研磨部と同じような微小運動を行い
、研磨材のこの微小運動で被研磨材を研磨する。
The actuator that makes minute movements of the polishing part uses an electrostrictive element, also called a piezo element, which expands and contracts by applying a voltage. By connecting the polishing section to this actuator and applying a periodically varying voltage to the actuator, the polishing section can be moved minutely. The frequency of the minute movement of the actuator changes depending on the frequency of the applied voltage, and the amplitude of the minute movement of the actuator changes depending on the magnitude of the applied voltage. This minute movement of the abrasive part is transmitted to the abrasive material, the abrasive material performs the same minute movement as the abrasive part, and the material to be polished is polished by this minute movement of the abrasive material.

X方向アクチュエータは研磨部を研磨面に水平なX方向
に微小運動させて、また、X方向アクチュエータは研磨
部を研磨面に水平で上記X方向に垂直なY方向に微小運
動させて、研磨材を被研磨材の研磨面と平行な方向に微
小運動させ被研磨材を研磨加工する。XX方向アクチュ
エータによる研磨部の動きは、X方向とY方向の運動の
位相を制御することによって、任意のりサージュ運動を
させることができる。X方向とY方向の運動の位相差を
周期的に変化させることにより、研磨部の運動軌跡すな
わちリサージュ図形は、一定の円弧図形でなく、円弧、
直線、楕円等の図形に連続的かつ周期的に変化する等、
より複雑なりサージュ図形を描かせることができる。上
記位相差は、X方向もしくはY方向の何れか一方には一
定の位相で運動させておき、他方の位相のみを変化させ
て位相差をつけてもよいし、XY両方向の位相を変化さ
せてもよい。研磨部のXY力方向運動に位相差をつける
には、XX方向アクチュエータへの印加信号に位相差を
つければよい。そのためには、XX方向アクチュエータ
の駆動回路に印加信号の位相を変化させ得る可変位相信
号発生器を接続しておけばよい。
The X-direction actuator makes a small movement of the polishing part in the X direction, which is horizontal to the polishing surface, and the X-direction actuator makes a small movement of the polishing part in the Y direction, which is horizontal to the polishing surface and perpendicular to the above-mentioned X direction. The material to be polished is polished by making small movements in a direction parallel to the polishing surface of the material to be polished. The movement of the polishing section by the XX direction actuator can be made to have an arbitrary shear surge movement by controlling the phase of the movement in the X direction and the Y direction. By periodically changing the phase difference between the motions in the
Continuously and periodically changing shapes such as straight lines and ellipses, etc.
More complex serge figures can be drawn. The above phase difference may be created by moving at a constant phase in either the X direction or the Y direction and changing only the other phase, or by changing the phase in both the X and Y directions. Good too. In order to add a phase difference to the movement of the polishing section in the XY force directions, it is sufficient to add a phase difference to the signals applied to the XX direction actuators. For this purpose, a variable phase signal generator capable of changing the phase of the applied signal may be connected to the drive circuit of the XX direction actuator.

X方向アクチュエータは、研磨面に対して垂直な方向に
研磨部を動かし、研磨材を被研磨材に垂直方向から衝突
するように運動させ、被研磨材に加圧力を与える。した
がって、X方向アクチュエータに加える電圧の大きさで
、被研磨材に加わる加圧力を制御することができる。ま
た、このX方向アクチュエータの微小運動によるボンピ
ング作用で、研磨材が研磨面に順次供給されることにな
る。
The X-direction actuator moves the polishing part in a direction perpendicular to the polishing surface, moves the abrasive so that it collides with the workpiece from the perpendicular direction, and applies pressure to the workpiece. Therefore, the pressing force applied to the material to be polished can be controlled by the magnitude of the voltage applied to the X-direction actuator. Moreover, the abrasive material is sequentially supplied to the polishing surface by the pumping effect caused by the minute movement of the X-direction actuator.

XX方向アクチュエータとX方向アクチュエータは、各
方向別々に電圧印加配線をしてお(ことにより、X方向
とY方向の場合は印加電圧の掛は方を適宜に制御するこ
とによっても、それぞれの先端をX、Y、X方向に微小
運動させる。各アクチュエータに電圧を印加する駆動配
線は、駆動アンプやファンクションジェネレータ等に接
続される。これらの駆動回路もしくは駆動機構は、通常
の機械装置における電歪素子を用いたアクチュエータの
場合と同様の構造が採用できる。
The XX-direction actuator and the X-direction actuator are wired to apply voltage in each direction separately. The drive wiring that applies voltage to each actuator is connected to a drive amplifier, function generator, etc. These drive circuits or drive mechanisms are A structure similar to that of an actuator using an element can be adopted.

X方向アクチュエータとX方向アクチュエータとX方向
アクチュエータとは、積層型の電歪素子を用いて構成す
るのが好ましい。積層型のものを用いれば、伸縮でX方
向、Y方向あるいはX方向の微小運動を行う。積層型の
電歪素子は、その両端に電圧を印加して伸縮させる。こ
のような積層型の電歪素子を用いれば、大きな変位が得
られ、かつXY力方向微小運動の変位が外力の大小で変
動しない。
It is preferable that the X-direction actuator, the X-direction actuator, and the X-direction actuator are constructed using stacked electrostrictive elements. If a laminated type is used, minute movements in the X direction, Y direction, or X direction can be made by expansion and contraction. A stacked electrostrictive element expands and contracts by applying a voltage to both ends thereof. If such a laminated electrostrictive element is used, a large displacement can be obtained, and the displacement of minute movements in the XY force directions does not vary depending on the magnitude of external force.

XX方向アクチュエータおよびX方向アクチュエータは
、通常は直接に研磨部を駆動せず、先端を研磨部とする
研磨軸に水平方向や垂直方向の微小駆動を加えるように
する等して、研磨部を駆動する。
The XX-direction actuator and the X-direction actuator usually do not directly drive the polishing section, but instead drive the polishing section by applying micro-drives in the horizontal or vertical direction to a polishing shaft whose tip is the polishing section. do.

研磨材が被研磨材に加わえる加圧力は、上述のように、
X方向アクチュエータによる加圧力で決まり、磁気的な
保持力を併用する場合はこの保持力の影響も受ける。し
かし、この加圧力は加工の進行とともに減少する。そこ
で、被研磨材に加わる加圧荷重の値を検出して、これを
2方向アクチユエータの制御にフィードバックして加圧
力制御を行うようにすることが好ましい。加圧荷重値を
検出する荷重検出手段は、被研磨材に加わる垂直方向の
荷重を検知できさえするものであれば、通常の各種機械
装置に組み込まれているものと同様の圧力センサが使用
できる。例えば、被研磨材をロードセルの上に載置した
状態で研磨加工を行えば、被研磨材に加わる加圧荷重の
大きさをロードセルで検出して、電気信号として取り出
すことが出来る。
As mentioned above, the pressure applied by the abrasive to the material to be polished is
It is determined by the pressure applied by the X-direction actuator, and when magnetic holding force is used in combination, it is also affected by this holding force. However, this pressing force decreases as processing progresses. Therefore, it is preferable to detect the value of the pressurizing load applied to the material to be polished and feed this back to the control of the two-way actuator to control the pressurizing force. As the load detection means for detecting the applied load value, pressure sensors similar to those built into various ordinary mechanical devices can be used as long as they can detect the vertical load applied to the material to be polished. . For example, if polishing is performed with the material to be polished placed on a load cell, the magnitude of the pressurized load applied to the material to be polished can be detected by the load cell and extracted as an electrical signal.

荷重検出手段で検出された加圧荷重値は、電機信号に変
換されて、アクチュエータの駆動を制御する。具体的に
は、検出信号が適当な電気回路で処理されて、アクチュ
エータに電圧を印加する駆動回路に入力され、ここで予
め設定された加圧荷重値と検出された加圧荷重値とを比
較して、X方向アクチュエータに印加する電圧を増やし
たり減らしたりする。すなわち、X方向アクチュエータ
による加圧力をフィードバンク制御するようにするので
ある。このフィードバック制御は、たとえば、X方向ア
クチュエータによる加圧力を常に所定の大きさに保った
り、加工過程の初期は大きく(荒研磨)、中期は中程度
に(中研磨)、そして終期は小さく (仕上研磨)なる
ようにして行う。
The pressurized load value detected by the load detection means is converted into an electric signal to control the drive of the actuator. Specifically, the detection signal is processed by an appropriate electric circuit and input to a drive circuit that applies voltage to the actuator, where the preset pressure load value and the detected pressure load value are compared. to increase or decrease the voltage applied to the X-direction actuator. In other words, the pressure applied by the X-direction actuator is subjected to feedbank control. This feedback control can, for example, always keep the pressure applied by the X-direction actuator at a predetermined level, or keep it large at the beginning of the machining process (rough polishing), moderate in the middle (medium polishing), and small at the end (finishing). polishing).

なお、この多段階研磨の場合でも、各過程での加圧力は
一定であるように制御するのが好ましい。
Note that even in the case of this multi-step polishing, it is preferable to control the pressing force in each step to be constant.

このように、X方向の加圧力を一定に保持する場合にお
いて、X方向アクチュエータによる加圧力に振動が加わ
るように制御すれば、この振動によるポンピング作用で
、研磨材が研磨面に順次供給され、かつ、順次排除され
るような現象が起きるようになる。
In this way, when the pressing force in the X direction is held constant, if vibration is controlled to be added to the pressing force by the X direction actuator, the pumping action of this vibration will sequentially supply the abrasive to the polishing surface. Moreover, a phenomenon in which they are gradually eliminated begins to occur.

加圧力の設定値は、被研磨材の材質や研磨精度等の条件
にしたがって、適当に決められる。
The set value of the pressing force is appropriately determined according to conditions such as the material of the workpiece to be polished and the polishing accuracy.

研磨材として磁気研磨流体を用いる場合は、研磨軸は、
その磁気保持のための磁気回路の一部としての中央ヨー
クとなるので、研磨軸は磁性体で形成される。これに対
向する対向ヨークは、中央ヨークの先端の研磨部との間
に磁気ギャップとなる隙間をあけるようにして配置され
る。例えば、断面円形の中央ヨークの周囲に間隔をあけ
て円環状の対向ヨークが囲むように配置しておく。この
ようにしておけば、中央ヨークの研磨部周辺に磁気研磨
流体を良好に保持しておける。なお、棒状あるいは板状
等の対向ヨークを、中央ヨークと並べて配置しておくこ
ともできる。対向ヨークも磁気回路の一部を構成するの
で、磁性体で形成されていることは言うまでもない。対
向ヨークのうち、中央ヨークと対向する先端部が、先細
り形状になっていれば、対向ヨークの先端部分に磁界を
集中させることができて好ましい。
When using magnetic polishing fluid as the polishing material, the polishing shaft is
The polishing shaft is made of a magnetic material because it serves as a central yoke as part of the magnetic circuit for maintaining the magnetism. The opposing yoke facing this is arranged with a gap forming a magnetic gap between it and the polishing portion at the tip of the central yoke. For example, a central yoke having a circular cross section is surrounded by annular opposing yokes at intervals. By doing so, the magnetic polishing fluid can be well maintained around the polishing portion of the central yoke. Note that a bar-shaped or plate-shaped opposing yoke may be arranged side by side with the central yoke. Since the opposing yoke also constitutes a part of the magnetic circuit, it goes without saying that it is made of a magnetic material. It is preferable that the distal end portion of the opposing yoke, which faces the central yoke, has a tapered shape so that the magnetic field can be concentrated at the distal end portion of the opposing yoke.

中央ヨークと対向ヨークを磁性発生手段で連結すること
によって、磁気回路が構成される。磁気発生手段として
は、永久磁石あるいは電磁石の何れも採用できるが、こ
の発明では、磁界の向きや大きさを変える必要がないの
で、永久磁石の方が構造が簡単で好ましい。永久磁石と
しては、SmC0磁石等からなるものが使用できる。
A magnetic circuit is constructed by connecting the central yoke and the opposing yoke with magnetism generating means. Although either a permanent magnet or an electromagnet can be used as the magnetism generating means, in this invention, since there is no need to change the direction or magnitude of the magnetic field, a permanent magnet is preferable because it has a simpler structure. As the permanent magnet, a magnet made of SmC0 magnet or the like can be used.

〔作  用〕[For production]

研磨部をX方向およびY方向に微小運動させる際に、X
Y方向の位相差により、描かれるリサージュ図形すなわ
ち運動軌跡が決まる。したがって、従来の方法のように
、XY方向とも同じ位相で運動させると、その運動軌跡
は一定の円弧図形を描くだけなので、運動軌跡の中心に
研摩部が全く通過せず、充分な研磨作用を受けられない
部分が生じ、加工痕の中心に凸状の残存部が生じてしま
うのである。
When moving the polishing part minutely in the X and Y directions,
The phase difference in the Y direction determines the drawn Lissajous figure, that is, the motion trajectory. Therefore, if the motion is made in the same phase in both the X and Y directions as in the conventional method, the locus of motion will only draw a constant circular arc, so the abrasive part will not pass through the center of the locus of motion at all, and sufficient polishing action will be achieved. This results in a portion that cannot be covered, and a convex residual portion at the center of the machining mark.

これに対し、X方向とY方向の位相差を周期的に変化さ
せると、その運動軌跡は、ある時点では円弧、別の時点
では直線、さらに別の時点では楕円などと、時間ととも
に描かれるリサージュ図形が変化することになる。すな
わち、研磨部は運動範囲の全面を余すことなく確実に通
過するように運動するのである。その結果、被研磨材は
、研磨部の運動範囲全体にわたって均一かつ良好な研磨
作用を受け、得られる加工痕は、凸状の残存部は全くな
く、全面が平滑な凹面状を示すことになる〔実 施 例
〕 ついで、この発明の実施例を、図を参照しながら、以下
に詳しく説明する。
On the other hand, when the phase difference between the X and Y directions is changed periodically, the locus of motion becomes an arc at one point, a straight line at another point, an ellipse at another point, and so on. The shape will change. In other words, the polishing section moves so as to reliably pass through the entire range of motion. As a result, the material to be polished receives a uniform and good polishing action over the entire range of motion of the polishing part, and the resulting machining marks have a smooth concave shape on the entire surface without any remaining convex parts. [Example] Next, an example of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図はこの発明にかかる微小研磨方法の実施に用いる
研磨装置の主要部たる研磨工具を示している。この研磨
工具1は、その本体部10が研磨装置本体(図示せず)
に支持軸11で支持固定されている。この支持軸11は
、水平方向および垂直方向に自由に移動できるとともに
、任意の角度で傾くことができるようにもなっている。
FIG. 1 shows a polishing tool which is the main part of a polishing apparatus used to carry out the micropolishing method according to the present invention. This polishing tool 1 has a main body 10 that is a polishing device main body (not shown).
is supported and fixed by a support shaft 11. This support shaft 11 can move freely in the horizontal and vertical directions, and can also be tilted at any angle.

支持軸11の作動機構は、通常の工作機械における加工
軸等の作動機構と同様のものである。
The operating mechanism of the support shaft 11 is similar to that of a machining shaft or the like in a normal machine tool.

工具本体部10の下面中心には図で見て鉛直方向たる2
方向のアクチュエータ20が設けられ、その下端部から
は、球対隅状の連結作用を有する連結部21を介して、
ブロック22が吊り下げられている。ここに、球対隅状
の連結作用とは、ブロック22をX方向アクチュエータ
20に対して、X方向に対して垂直のXYX方向図で見
て垂直方向)に微小運動を自在とさせなからX方向アク
チュエータ20のX方向の微小運動を確実にブロック2
2に伝える連結作用を言う。
At the center of the bottom surface of the tool body 10 is a vertical barrel 2.
A direction actuator 20 is provided, and from its lower end, via a connection part 21 having a ball-to-corner connection action,
A block 22 is suspended. Here, the sphere-to-corner connection action means that the block 22 can freely move minutely with respect to the X-direction actuator 20 in the Reliably blocks minute movements of the direction actuator 20 in the X direction 2
It refers to the connecting action that is transmitted to 2.

X方向アクチュエータ20は、連結部21のすぐ上の部
分で、XYX方向運動規制手段である規制金具80を介
して工具本体部10の構造部分に連結されている。第2
図は、規制金具80の詳しい構造を示している。規制金
具80は、X方向アクチュエータ20と連結部21の間
に挟まれて取り付けられる中央部83と、この中央部8
3からXYX方向延びる棒状の規制支持部81.82と
からなり、規制支持部81.82の先端が工具本体部1
0に固定されている。規制支持部81.82には、長さ
方向の途中に、くびれ部84が形成されていて、くびれ
部84で規制支持部81,82が屈曲変形できるように
なっている。したがって、X方向アクチュエータ20は
、規制支持部81.82の軸方向すなわちXYX方向は
移動できなくなっているが、規制支持部81.82のく
びれ部84の屈曲方向すなわちX方向には伸縮移動でき
るのである。
The X-direction actuator 20 is connected to the structural part of the tool body 10 via a restriction fitting 80, which is an XYX-direction movement restriction means, at a portion immediately above the connection portion 21. Second
The figure shows the detailed structure of the regulating fitting 80. The regulating fitting 80 includes a central portion 83 that is sandwiched and attached between the X-direction actuator 20 and the connecting portion 21;
3, and a rod-shaped regulation support part 81.82 extending in the XYX direction from the tool body part 1.
Fixed to 0. A constriction part 84 is formed in the middle of the restriction support part 81, 82 in the length direction, and the restriction support part 81, 82 can be bent and deformed at the constriction part 84. Therefore, although the X-direction actuator 20 cannot move in the axial direction of the regulation support part 81.82, that is, in the XYX direction, it can expand and contract in the bending direction of the constriction part 84 of the regulation support part 81.82, that is, in the X direction. be.

つぎに、ブロック22の下端には研磨軸たる中央ヨーク
23が一体的に連結されて垂下している。第2図では、
ブロック22と中央ヨーク23がねし連結されている。
Next, a central yoke 23 serving as a polishing shaft is integrally connected to the lower end of the block 22 and hangs down therefrom. In Figure 2,
The block 22 and the central yoke 23 are threadedly connected.

前記ブロック22の上部には、図で見て水平のX方向側
面にX方向アクチュエータ24xの先端が当接接続され
、図で見て水平で上記X方向に対し垂直のY方向側面(
第1図の向側側面)にY方向アクチュエータ24yの先
端が当接接続されている。この実施例では、X方向アク
チュエータ20とX方向アクチュエータ24xとY方向
アクチュエータ24yは、いずれも、多数の薄型エピゾ
素子を積層してなり電圧を印加することによってX方向
(中央ヨーク23の軸方向)、X方向、Y方向に伸縮し
、X方向の微小運動で研磨材を被研磨材に押しつけ、X
方向とY方向の微小運動の組み合わせで研磨材を被研磨
材の研磨面内で自由に運動させることができるようにな
っている。
At the top of the block 22, the tip of an X-direction actuator 24x is connected in contact with the side surface in the X direction that is horizontal in the figure, and the side surface in the Y direction that is horizontal in the figure and perpendicular to the X direction (
The tip of the Y-direction actuator 24y is abutted and connected to the opposite side surface in FIG. In this embodiment, the X-direction actuator 20, the X-direction actuator 24x, and the Y-direction actuator 24y are all formed by stacking a large number of thin episodic elements, and are activated in the X direction (the axial direction of the central yoke 23) by applying a voltage. , expands and contracts in the X and Y directions, presses the abrasive material against the material to be polished with minute movements in the X direction, and
The abrasive material can be freely moved within the polishing surface of the material to be polished by a combination of minute movements in the direction and the Y direction.

XYz方向アクチュエータの諸元としては、下記第1表
のようなものが使用できる。
As the specifications of the XYz direction actuator, those shown in Table 1 below can be used.

第  1  表 中央ヨーク23の先端部は次第に細くなり、先端面は球
面になっている。この球面部分が研磨部26である。こ
の研磨部26は、Snメツキ層等からなっていても良い
が、ポリウレタン層からなっているときには、このポリ
ウレタン層に含浸保持された磁性研磨流体Mが被研磨材
Wの研磨面を研磨するのである。
Table 1 The tip of the central yoke 23 is gradually tapered and has a spherical tip surface. This spherical portion is the polishing portion 26. This polishing part 26 may be made of a Sn plating layer or the like, but when it is made of a polyurethane layer, the magnetic polishing fluid M impregnated and retained in this polyurethane layer polishes the polishing surface of the material W to be polished. be.

この実施例では、第3図に詳しく示すように、研磨部2
6は、中央ヨーク23の先端に転勤自在に保持された球
体25からなり、表面がSnメツキ層で表面仕上げされ
ている。この球体25は、この実施例では、磁性研磨流
体Mの粘性で中央ヨーク23の先端に保持されて保持さ
れている。しかし、このような球体は、中央ヨーク23
の先端内部に嵌合されて機械的に保持されても良く、ま
た、磁気力によって保持されても良い。
In this embodiment, as shown in detail in FIG.
6 consists of a sphere 25 held movably at the tip of a central yoke 23, the surface of which is finished with a Sn plating layer. In this embodiment, the sphere 25 is held at the tip of the central yoke 23 by the viscosity of the magnetic polishing fluid M. However, such a sphere is
It may be held mechanically by being fitted inside the tip of the holder, or it may be held by magnetic force.

各アクチュエータ20,24x、24yの駆動配線50
は、3CHピエゾドライバアンプからなる駆動アンプ5
1に電気的接続されている。3CHピエゾドライバアン
プの具体的な仕様としては、例えば、350V、100
mA、30kHzである。駆動アンプ51には、Z方向
用の信号発生器52とXY方向用の可変位相2出力信号
発生器53が接続されている。これらの信号発生器52
53から、駆動アンプ51を介して各アクチュエータ2
0,24x、24yに所定の周波数からなる電圧を印加
して、各アクチュエータ20,24x、24yの駆動を
制御する。
Drive wiring 50 for each actuator 20, 24x, 24y
is a drive amplifier 5 consisting of a 3CH piezo driver amplifier.
1 is electrically connected to. The specific specifications of the 3CH piezo driver amplifier are, for example, 350V, 100V,
mA, 30kHz. A signal generator 52 for the Z direction and a variable phase two-output signal generator 53 for the XY directions are connected to the drive amplifier 51. These signal generators 52
53 to each actuator 2 via the drive amplifier 51.
A voltage having a predetermined frequency is applied to actuators 20, 24x, and 24y to control the driving of each actuator 20, 24x, and 24y.

工具本体10の下面には、非磁性体からなる筒状体30
が取りつけられている。筒状体30の中間部(第1図の
右側側面部)には、アクチュエータ24x、24yや各
アクチュエータの駆動配線50等を挿入する開口31が
形成されている。筒状部30の下部には、リング状の磁
性体からなる接続体32がねじ込み接続されている。接
続体32の内周部分の一部は、中央ヨーク23の外周面
に近接する位置まで延びている。接続体32には、その
外周側面から内周下面に向けて貫通する流体供給路33
が形成され、流体供給路33の外周端には流体供給パイ
プ34が接続されている。この流体供給パイプ34に磁
性研磨流体を供給すると、磁性研磨流体が流体供給路3
3から中央ヨーク23の先端外周付近に滴下し供給され
る。接続体32の下端にはリング状のS m −Co磁
石からなる永久磁石40が取り付けられている。永久磁
石40の磁力の強さは、例えば5にガウス程度である。
A cylindrical body 30 made of a non-magnetic material is provided on the lower surface of the tool body 10.
is attached. An opening 31 is formed in the middle portion of the cylindrical body 30 (the right side surface portion in FIG. 1), into which the actuators 24x, 24y, drive wiring 50 of each actuator, etc. are inserted. A connecting body 32 made of a ring-shaped magnetic material is screwed and connected to the lower part of the cylindrical portion 30 . A portion of the inner peripheral portion of the connecting body 32 extends to a position close to the outer peripheral surface of the central yoke 23. The connecting body 32 has a fluid supply path 33 penetrating from the outer circumferential side to the inner circumferential lower surface.
A fluid supply pipe 34 is connected to the outer peripheral end of the fluid supply path 33. When the magnetic polishing fluid is supplied to the fluid supply pipe 34, the magnetic polishing fluid is supplied to the fluid supply path 3.
3 to the vicinity of the outer periphery of the tip of the central yoke 23. A permanent magnet 40 made of a ring-shaped S m -Co magnet is attached to the lower end of the connecting body 32 . The strength of the magnetic force of the permanent magnet 40 is, for example, about 5 Gauss.

永久磁石40の下端には磁性体からなる対向ヨーク35
が取り付けられている。対向ヨーク35は、下端に向け
て円錐状に狭まっており、先端内周部分が先細り状に尖
っていて、この先端内周部分が、中央ヨーク23の先端
との間に一定の隙間をあけて対向配置されている。その
結果、永久磁石40から接続体32、中央ヨーク23を
経て対向ヨーク35から永久磁石40へと戻る磁気回路
が構成されるとともに、中央ヨーク23と対向ヨーク3
5の間にはドーナッツ状の磁気ギャップが構成されるこ
とになる。
At the lower end of the permanent magnet 40 is an opposing yoke 35 made of a magnetic material.
is installed. The opposing yoke 35 narrows in a conical shape toward the lower end, and has a tapered inner circumferential portion at the tip, and a certain gap is left between this inner circumferential tip and the tip of the central yoke 23. They are placed opposite each other. As a result, a magnetic circuit is formed from the permanent magnet 40, through the connecting body 32, the central yoke 23, and from the opposing yoke 35 back to the permanent magnet 40.
5, a donut-shaped magnetic gap is formed.

中央ヨーク23および対向ヨーク35の下方には、荷重
検出手段となるロードセル60が設置されており、被研
磨材Wはこのロードセル60の上に載せられた状態で研
磨加工が行われる。ロードセル60の検出出力は、コン
トローラ61を経て駆動アンプ51へと入力されるよう
になっており、Z方向アクチュエータ20から被研磨材
Wに加わる加圧力がフィー下ハック制御されるようにな
っている。
A load cell 60 serving as a load detection means is installed below the central yoke 23 and the opposing yoke 35, and the workpiece W to be polished is polished while being placed on the load cell 60. The detection output of the load cell 60 is inputted to the drive amplifier 51 via the controller 61, so that the pressing force applied from the Z-direction actuator 20 to the workpiece W to be polished is subjected to under-fee hack control. .

駆動アンプ51にはまた、Z方向アクチュエータ20の
加圧力に振動を付与するために、FCゼネレータ70か
ら振動付与信号が入力されるようになっている。
A vibration application signal is also input to the drive amplifier 51 from the FC generator 70 in order to apply vibration to the pressing force of the Z-direction actuator 20 .

このような構造の研磨装置を用いて行なう、この発明の
磁気微小研磨方法を以下に具体的に説明する。
The magnetic micropolishing method of the present invention, which is carried out using a polishing apparatus having such a structure, will be specifically described below.

被研磨材Wをロードセル60の上に載せた状態で研磨工
具1を被研磨材Wの上に配置する。流体供給パイプ34
から中央ヨーク23の先端部分に磁性研磨流体Mを供給
すると、磁性研磨流体Mは中央ヨーク23と対向ヨーク
35の間の磁気ギャップ付近に磁気的に保持される。こ
の状態では、第3図に模式的に示すように、磁性研磨流
体Mが中央ヨーク23の先端下面部分まで覆って保持さ
れることになるので、磁気的な作用で磁性研磨流体Mが
被研磨材Wの表面に押し付けられた状態になる。
The polishing tool 1 is placed on the workpiece W with the workpiece W placed on the load cell 60. Fluid supply pipe 34
When the magnetic polishing fluid M is supplied to the tip of the central yoke 23 from the central yoke 23, the magnetic polishing fluid M is magnetically held near the magnetic gap between the central yoke 23 and the opposing yoke 35. In this state, as schematically shown in FIG. 3, the magnetic polishing fluid M is held covering the lower surface of the tip of the central yoke 23, so that the magnetic polishing fluid M is held by the magnetic action. It is pressed against the surface of the material W.

つぎに、Z方向アクチュエータ20に周期的な電圧を印
加すると、Z方向アクチュエータ20が被研磨材Wの研
磨面に垂直方向(第1図で見て上下方向)に微小の伸縮
運動を起こす。それに伴って、中央ヨーク23の先端た
る研摩部26が第3図で見て上下方向(直線矢印方向)
に微小運動を行い、磁性研磨流体Mを被研磨材Wの表面
(研磨面)に押しつけ加圧する。また、XY方向アクチ
ュエータ24x、24yにも周期的な電圧が印加され、
XY方向アクチュエータ24x、24yの各先端が当接
されたブロック22が水平方向(図で見て左右方向)に
揺動する。その結果、研磨部26が球対隅状の連結部2
1を中心にして第3図に円孤形矢印で示すように大きく
揺動する。この揺動は、被研磨材Wの表面(研磨面)に
対して水平方向(XY力方向の微小運動となる。このX
Y力方向微小運動と前記X方向の微小運動が磁性研磨流
体Mに伝達されて、磁性研磨流体Mが被研磨材Wの表面
(研磨面)を研磨加工する。磁性研磨流体Mは、中央ヨ
ーク23の先端と被研磨材Wの間に挟まれた部分付近の
みで被研磨材Wを加圧して研磨作用を行うので、被研磨
材Wには、はぼ中央ヨーク23の研磨部26の運動範囲
に相当する形状および大きさの加工痕Hが形成される。
Next, when a periodic voltage is applied to the Z-direction actuator 20, the Z-direction actuator 20 causes minute expansion and contraction movements in a direction perpendicular to the polishing surface of the material W to be polished (vertical direction as seen in FIG. 1). Accordingly, the polished portion 26, which is the tip of the central yoke 23, moves in the vertical direction (in the direction of the straight arrow) as seen in FIG.
A minute movement is made to press the magnetic polishing fluid M against the surface (polishing surface) of the workpiece W to be polished. Further, a periodic voltage is also applied to the XY direction actuators 24x and 24y,
The block 22, to which the tips of the XY direction actuators 24x and 24y are abutted, swings in the horizontal direction (left and right directions as seen in the figure). As a result, the polishing portion 26 forms a ball-to-corner connecting portion 2.
1 as the center, as shown by the arc-shaped arrow in FIG. This oscillation becomes a minute movement in the horizontal direction (XY force direction) with respect to the surface (polishing surface) of the material to be polished W.
The small movement in the Y force direction and the small movement in the X direction are transmitted to the magnetic polishing fluid M, and the magnetic polishing fluid M polishes the surface (polishing surface) of the material to be polished W. The magnetic polishing fluid M performs a polishing action by pressurizing the workpiece W only in the vicinity of the portion sandwiched between the tip of the central yoke 23 and the workpiece W. A machining mark H having a shape and size corresponding to the range of motion of the polishing portion 26 of the yoke 23 is formed.

このとき、X方向アクチュエータ20に球対偶状の連結
部21を介してXY方向アクチュエータ24x、24y
を連結しているので、XY方向アクチュエータ24x、
24yの運動が自由に行えると同時に、X方向アクチュ
エータ20の加圧力が研磨部26に確実に伝達される。
At this time, the X-direction actuator 20 is connected to the X-Y-direction actuators 24x, 24y via the ball-to-even connecting portion 21.
are connected, so the XY direction actuator 24x,
24y can be freely performed, and at the same time, the pressing force of the X-direction actuator 20 is reliably transmitted to the polishing section 26.

また、規制金具80でX方向アクチュエータ20のXY
力方向の移動を規制しているので、XY方向アクチュエ
ータ24x、24yの運動支点となる連結部21または
X方向アクチュエータ20が、XY方向アクチュエータ
24x、24yの運動につられて移動してしまうことが
ない。その結果、研磨部26に所定の運動を正確を行わ
せることができ、研磨精度が向上する。
In addition, the X-Y direction actuator 20 can be
Since movement in the force direction is restricted, the connecting portion 21 or the X-direction actuator 20, which serves as a fulcrum of movement for the XY-direction actuators 24x, 24y, will not move due to the movement of the XY-direction actuators 24x, 24y. . As a result, the polishing section 26 can be made to perform a predetermined movement accurately, and polishing accuracy is improved.

そして、上記のような研磨加工の際に、XY力方向微小
運動の位相差を周期的に変化させる。研磨部26の平面
内における運動を、XY座標成分に分けると、下式で表
すことができる。
Then, during the polishing process as described above, the phase difference of the minute movements in the XY force directions is periodically changed. When the movement of the polishing section 26 in a plane is divided into XY coordinate components, it can be expressed by the following formula.

X = A sinωt      −(1)Y=A 
sin ((1) t+δ)−(2)ここで、Aは振幅
、ωは周波数、tは時間を示し、δが位相の変化分を示
しており、このδの値を周期的に増減させることによっ
て、X方向とY方向の位相差が周期的に変化する。すな
わち、この場合は、X方向には一定の周波数で振動させ
ながら、Y方向の位相を増減させて、位相差を変化させ
る。
X = A sinωt - (1) Y = A
sin ((1) t + δ) - (2) where A is the amplitude, ω is the frequency, t is the time, and δ is the change in phase, and the value of δ can be increased or decreased periodically. As a result, the phase difference between the X direction and the Y direction changes periodically. That is, in this case, while vibrating at a constant frequency in the X direction, the phase in the Y direction is increased or decreased to change the phase difference.

第4図は、前記δの値によって変化する研磨部26の運
動軌跡T−1−模式的に示している。例えば、δ−0°
では、XY座標の原点を通過する直線的な軌跡を描き、
0°くδ〈90°では、楕円状の軌跡を描き、δ=90
°では、円弧状の軌跡を描く。δが90°を超えれば、
直線や楕円の傾きが逆になる。すなわち、δがOoから
徐々に増加して360°すなわち元の状態に戻る1号イ
クルの間に、研磨部26の運動軌跡Tは、振幅Aを半径
とする円形範囲内をくまなく通過することになる。その
結果、第5図に示すように、被研磨材Wの加工痕Hは、
中心を含む半径Aの底面全体が均一に掘り込まれること
になる。
FIG. 4 schematically shows a movement trajectory T-1 of the polishing section 26 that changes depending on the value of δ. For example, δ−0°
Now, draw a linear trajectory passing through the origin of the XY coordinates,
At 0° and δ<90°, an elliptical trajectory is drawn, and δ=90
At °, it draws an arc-shaped trajectory. If δ exceeds 90°,
The slope of a straight line or ellipse is reversed. That is, during the first cycle in which δ gradually increases from Oo to 360 degrees, that is, returns to the original state, the motion trajectory T of the polishing section 26 must pass through a circular range with the radius of the amplitude A. become. As a result, as shown in FIG. 5, the machining marks H on the polished material W are
The entire bottom surface of radius A including the center is dug uniformly.

なお、研磨部26の運動は、上記したように、直線、楕
円、円弧へと連続的に変化させる方法のほか、X方向と
Y方向の運動の位相差を周期的に変化させて、一定の運
動範囲内をくまなく通過させることができれば、前記以
外の任意のりサージュ運動を行わせてもよい。
As described above, the movement of the polishing section 26 can be changed continuously into a straight line, an ellipse, or an arc, or it can be moved at a constant rate by periodically changing the phase difference between the movements in the X direction and the Y direction. Any other crimp motion other than the one described above may be performed as long as the motion can be made to pass through the entire range of motion.

このような研磨作用を行わせながら、研摩工具1全体を
所定の研磨面形状に従って水平方向あるいは三次元方向
に移動させて、上記加工痕11を被研磨材Wの研磨面全
体に広げ終えると、平面や球面あるいは自由曲面等の所
望の研磨面を自由に得ることが出来る。
While performing such a polishing action, the entire polishing tool 1 is moved horizontally or three-dimensionally according to a predetermined polishing surface shape, and when the machining marks 11 have been spread over the entire polishing surface of the material to be polished W, Desired polished surfaces such as flat, spherical, or free-form surfaces can be obtained freely.

この間、被研磨材Wを載置したロードセル60では、研
磨工具1の研磨部26が磁性研磨流体Mを介して被研磨
材Wに加える加圧力が加圧荷重値として検出されており
、この加圧荷重信号がコントローラ61を経て駆動アン
プ51にフィードバックされている。そのため、例えば
、被研磨材Wに加わる加圧力が規定の値以上になれば、
駆動アンプ51でX方向アクチュエータ20への印加電
圧を下げる等して加圧力が小さくなるように制御され、
逆に、被研磨材Wに加わる加圧力が規定の値以下になれ
ば、駆動アンプ51でX方向アクチュエータ20への印
加電圧を上げる等して加圧力が大きくなるように制御さ
れる。他方、加工痕1個の加工を行う過程においては、
加圧力が時間の経過とともに減少する傾向があるので、
ロードセル60は、この傾向も検出して検出結果を駆動
アンプ51にフィードバックすることにより、加圧力が
常に一定となるようにする。また、Z方向用の信号発生
器52は、加工痕1個の加工を行う過程において、初期
は加圧力が大きく、中期は加圧力が中程度に、そして終
期は加圧力が小さくなるように、駆動アンプ51に対し
て制御信号を発する。その間、FGゼネレータ70は、
駆動アンプ51に対してZ方向アクチュエータ20の加
圧力に振動を付与するための振動付与信号を発し続ける
During this time, in the load cell 60 on which the workpiece W is placed, the pressure applied by the polishing section 26 of the polishing tool 1 to the workpiece W through the magnetic polishing fluid M is detected as a pressure load value. The pressure load signal is fed back to the drive amplifier 51 via the controller 61. Therefore, for example, if the pressure applied to the material W to be polished exceeds a specified value,
The driving amplifier 51 is controlled to reduce the applied force by lowering the voltage applied to the X-direction actuator 20, etc.
Conversely, if the pressure applied to the material to be polished W becomes less than a specified value, the drive amplifier 51 increases the voltage applied to the X-direction actuator 20, thereby increasing the pressure. On the other hand, in the process of machining one machining mark,
Since the pressurizing force tends to decrease over time,
The load cell 60 also detects this tendency and feeds back the detection result to the drive amplifier 51, thereby ensuring that the pressing force is always constant. In addition, the signal generator 52 for the Z direction is configured such that in the process of machining one machining mark, the pressing force is large at the beginning, the pressing force is medium in the middle period, and the pressing force is small at the final stage. A control signal is issued to the drive amplifier 51. Meanwhile, the FG generator 70
A vibration imparting signal for imparting vibration to the pressing force of the Z-direction actuator 20 is continuously emitted to the drive amplifier 51.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明は、以上のように、研磨部を微小運動させる際
に、xy方向の位相差を周期的に変化させることにより
、加工径を大きくしても、加工痕の全面が均一に掘り込
まれるので、加工痕の中心に凸状の残存部が残らず、滑
らかな凹面状の加工痕が形成される。したがって、加工
径を大きくして研磨加工の能率を高めることができると
同時に、研磨精度もより高まることになる。
As described above, by periodically changing the phase difference in the x and y directions when making minute movements of the polishing part, the entire surface of the machining mark can be dug uniformly even if the machining diameter is increased. Therefore, no convex residual portion remains at the center of the machining mark, and a smooth concave machining mark is formed. Therefore, the efficiency of polishing can be increased by increasing the machining diameter, and at the same time, the polishing accuracy can be further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明にかかる微小研磨方法の実施に用いる
研磨装置の主要部たる研磨工具の断面図、第2図はアク
チュエータ部分の分解斜視図、第3図はこの発明の研磨
作用の説明図、第4図は研磨部の運動軌跡を示す説明図
、第5図は形成された加工痕の模式的断面図、第6図は
従来方法による加工痕の断面形状および研磨部の運動軌
跡を示す説明図である。 ■・・・研磨工具 24x・・・X方向アクチュエータ
24y・・・Y方向アクチュエータ 26・・・研磨部
53・・・可変位相2出力信号発生器 H・・・加工痕
M・・・磁性研磨流体 T・・・運動軌跡 W・・・被
研磨材 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名第1図 第4図 第5 図 第6図
Fig. 1 is a cross-sectional view of a polishing tool which is the main part of the polishing device used to carry out the micro-polishing method according to the present invention, Fig. 2 is an exploded perspective view of the actuator portion, and Fig. 3 is an explanatory diagram of the polishing action of the present invention. , Fig. 4 is an explanatory diagram showing the locus of movement of the polishing part, Fig. 5 is a schematic cross-sectional view of the formed machining marks, and Fig. 6 shows the cross-sectional shape of the machining marks and the locus of movement of the polishing part by the conventional method. It is an explanatory diagram. ■... Polishing tool 24x... X direction actuator 24y... Y direction actuator 26... Polishing section 53... Variable phase 2 output signal generator H... Machining mark M... Magnetic polishing fluid T...Trajectory of motion W...Name of agent for polished material Patent attorney Shigetaka Awano (1 person)Figure 1Figure 4Figure 5Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 研磨工具先端の研磨部と被研磨材の間に研磨材を保
持した状態で、前記研磨部を電歪素子からなるアクチュ
エータで研磨面と平行なXY方向に微小運動させ、かつ
、X方向の微小運動とY方向の微小運動の位相差を周期
的に変化させて被研磨材を研磨する微小研磨方法。
1. With the abrasive material held between the polishing part at the tip of the polishing tool and the workpiece to be polished, the polishing part is minutely moved in the XY directions parallel to the polishing surface by an actuator consisting of an electrostrictive element, and A micropolishing method that polishes a material to be polished by periodically changing the phase difference between the micromovement and the Y-direction micromovement.
JP2144724A 1990-06-01 1990-06-01 Micropolishing method Pending JPH0441176A (en)

Priority Applications (3)

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JP2144724A JPH0441176A (en) 1990-06-01 1990-06-01 Micropolishing method
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009255275A (en) * 2008-03-19 2009-11-05 Panasonic Corp Cutting device, machining method, and die machined by the machining method
JP2016093886A (en) * 2010-12-21 2016-05-26 エーファウ・グループ・ゲーエムベーハー System having two oscillation components for machining workpiece

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