JPH043621Y2 - - Google Patents

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JPH043621Y2
JPH043621Y2 JP5475687U JP5475687U JPH043621Y2 JP H043621 Y2 JPH043621 Y2 JP H043621Y2 JP 5475687 U JP5475687 U JP 5475687U JP 5475687 U JP5475687 U JP 5475687U JP H043621 Y2 JPH043621 Y2 JP H043621Y2
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reactor
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【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は発電用ボイラ、大型産業用ボイラ等の
燃焼設備から発生する窒素酸化物(NOx)を除
去する装置として用いられる接触還元法による脱
硝装置においてサンプル触媒をガス通過から抜き
出すための装置に関するものである。
[従来の技術] ボイラ等の燃焼設備から発生する窒素酸化物の
除去装置として、接触還元法による脱硝装置が実
用化されている。
その一例を示すと、石炭焚ボイラの場合は、第
5図乃至第7図に示す如く、ガスダクト1の途中
に、ガスGの流れ方向に対し直交するように複数
段の触媒バスケツト支持梁2を配し、該各段の触
媒バスケツト支持梁2上に、第7図の如く鋼製ケ
ース4内にハニカム形の触媒5を複数本充填させ
た構成の触媒バスケツト3を並べて触媒層6を形
成し、各段の触媒層6をガスが通過することによ
り脱硝作用が行われるようにした脱硝反応器が
使用されている。又、油焚ボイラの場合は、第8
図に示す如く、油焚の場合はガスGの流れ方向が
水平方向になるため、水平方向に延びるガスダク
ト1の途中に、ガス流れに直交するように多段に
触媒バスケツト支持フレーム7を前後に配し、こ
のフレーム7間に多数の触媒バスケツト3を支持
させて触媒層8を形成し、各段の触媒層をガスが
通過するとき脱硝作用が行われるようにした脱硝
反応器が使用されている。
上述した従来の脱硝装置では、触媒5を使用し
て窒素酸化物(NOx)を分解させるものである
が、上記触媒5は経時的に劣化するため性能が低
下してくる。
従来、上記触媒5の性能低下状態を把握するた
めに、使用中の触媒の一部をサンプルとして抜き
取り、抜き取つた触媒の性能、性状を研究室等で
分析し、触媒交換の計画を立てるという考え方が
一般に採用されている。
上記触媒のサンプルを抜き取るときは、従来の
脱硝反応器の構造ではプラント運転中にサンプル
を抜き取る構造となつていないため、プラントの
運転を停止して行う必要があつた。
[考案が解決しようとする問題点] ところが、発電用ボイラ、大型産業用ボイラ等
では、その公益性や工場生産計画性等からボイラ
を任意に停止することはできず、長期計画の中で
通常1年から1年半の間隔で計画された定期検査
のために停缶するのが一般的であり、触媒のサン
プルを取り出すときは、上記定期検査時に限られ
て来る。反面、触媒の劣化は常時進行しつつあ
り、ボイラ運転中でも触媒の性能を分析したいと
いう要求がしばしば発生している。
このような場合、従来は、ボイラの運転計画を
変更し、又、余分の費用をかけてボイラを停止さ
せ、触媒のサンプルを取り出さざるを得なかつ
た。そのために、従来、運転中でも触媒サンプル
を取り出すことができるように、第9図に示す如
く、脱硝反応器にバイパスダクト9を設け、且
つバイパスダクト9の途中にサンプル触媒10を
層状に配して反応器を構成し、ガスダクト9を
流れるガスの一部が、弁又はダンパ11の開時に
反応器を通るようにし、弁又はダンパ11の閉
時にサンプル触媒10を取り出せるようにしたも
のが提案されている。しかし、サンプル触媒10
を用いた反応器側と脱硝反応器側とを同一の
ガス流速、ダスト濃度にすることが構造上難し
く、特に、石炭焚の場合、ダストの影響を同一に
するのが困難である。
そこで、本考案は、第9図に示した従来技術の
如きバイパスラインを設けて反応器を形成させる
ことなく排ガスダクト中の脱硝反応器における一
部の触媒を、プラントの運転中でもサンプルとし
て容易に抜き取ることができるようにしようとす
るものである。
[問題点を解決するための手段] 本考案は、上記目的を達成するために、脱硝反
応器ケーシングの周辺部に位置する一部の触媒バ
スケツトの部分に、ガス流れに平行に配した仕切
板にて区画して区画室を設け、該区画室内にサン
プル触媒を入れたバスケツトを置いて、そのガス
入口部とガス出口部にガスを一時的に遮断できる
蓋を開閉自在に設け、且つサンプル触媒のバスケ
ツトが置かれた部分の反応器ケーシングに、上記
バスケツトの取出口を設けた構成とする。
[作用] サンプル触媒が入つたバスケツトを、仕切板と
反応器ケーシングとで形成される区画室に入れ、
該区画室の入口側と出口側の各蓋を開けておけ
ば、ガスは他のバスケツト内を流れると同時に一
部のガスが区画室内のバスケツトを通過し、脱硝
作用が行われる。次に、区画室の入口と出口の各
蓋を閉じると、ガスが一時的に遮断されるので、
このとき反応器ケーシングに設けた取出口からサ
ンプルのバスケツトを取り出す。これによりボイ
ラの運転中でも触媒のサンプルを抜き出すことが
できることになる。
[実施例] 以下、図面に基づき本考案の実施例を説明す
る。
第1図乃至第4図は本考案の実施例を示すもの
で、多数のハニカム状触媒を鋼製ケース内に整列
させた構成の触媒バスケツト3を多段の支持梁2
に多数並べて触媒層6を多段に形成してなる脱硝
反応器を、ガスダクト1の途中に設けた構成に
おいて、たとえば、最も劣化がはげしい最上段
(最上流)の触媒層6の周辺部に位置する触媒バ
スケツト3の一部をサンプルの触媒バスケツト1
2として他のバスケツト3と分離させる。すなわ
ち、反応器ケーシング13に接する個所に位置す
る触媒バスケツト12のうち、適宜の触媒バスケ
ツトが位置する部分に、断面コ字状の仕切板14
をガス流れと平行に設け、該仕切板14と反応器
ケーシング13の壁との間で区画室15を形成す
る。上記区画室15の上端のガス入口部と下端の
ガス出口部はそれぞれ開放して、区画室15内を
他の部分と同じガス流の条件、すなわち、同一の
ガス流速、ダスト濃度でガスを流せるようにし、
且つ上記ガス入口部及びガス出口部を、閉塞時に
区画室15へのガスの流れを一時的に遮断する蓋
16及び17をそれぞれ開閉自在に反応器ケーシ
ング13にヒンジ結合し、該反応器ケーシング1
3の外側からレバー18の操作で蓋16,17が
各々開閉動作できるようにする。
上記区画室15内の支持梁2上には、サンプル
触媒を鋼製ケース内に整列させてなるサンプル触
媒バスケツト12を他の触媒バスケツト3と分離
して収納し、蓋16,17を開けて区画室15の
入口と出口を開放することによりガスが脱硝反応
器側と同様な条件で区画室15内に入つてサン
プル触媒バスケツト12を流れるようにし、又、
上記サンプル触媒バスケツト12が接する反応器
ケーシング13には、サンプル触媒バスケツト取
出口19を設け、該取出口19に蓋20を開閉自
在に設ける。
なお、上記区画室15は反応器ケーシング13
の周辺部であればどの位置でもよく、又、何個所
に設けてもよい。
通常は区画室15の入口及び出口の各蓋16,
17を開いてガス流の妨げとならないように反応
器ケーシング13に沿わせて立てておき、サンプ
ル触媒バスケツト12を抜き出すときのみ蓋1
6,17を倒して区画室15の入口及び出口を閉
じ、区画室15内に一時的にガスが流れないよう
に遮断するようにする。
今、区画室15の入口と出口の蓋16,17を
開いて区画室15の入口と出口を開放すると、脱
硝反応器に流れるガスの一部が区画室15内を
通過するが、上記区画室15は反応器ケーシング
13で囲まれたガス通路内にあることから、区画
室15を形成する仕切板14でサンプル触媒バス
ケツト12を他の触媒バスケツト3と分離しても
ガスの流れる条件は他のバスケツト部分と同じで
ある。したがつて、触媒が経時的に劣化して行く
状態もほぼ同じであり、サンプル触媒バスケツト
12の触媒の劣化具合いを見ることにより他の触
媒バスケツト3の触媒の劣化状態を知ることがで
きる。
サンプル触媒バスケツト12をボイラ運転中に
抜き出したいときは、反応器ケーシング13に沿
い立ててあつた蓋16,17を、反応器ケーシン
グ13外の操作レバー18の操作で倒し、区画室
15の入口と出口を閉塞する。これにより脱硝反
応器内を流れるガスが区画室15に入ることが
遮断されるので、この状態でサンプル触媒バスケ
ツトの取出口19の蓋20を開け、取出口19よ
りサンプル触媒バスケツト12を反応器ケーシン
グ13から外部へ取り出す。これによりボイラ運
転中でも容易にサンプル触媒バスケツト12を脱
硝反応器内から抜き出して触媒の性能を分析す
ることができる。
なお、本考案は上記実施例に限定されるもので
はなく、たとえば、図面では石炭焚の場合の脱硝
反応器に適用した例を示したが、油焚の場合でも
同様に適用可能である。この場合、油焚の場合は
ガス流れが水平方向になるのみで、原理的には変
りはない。
[考案の効果] 以上述べた如く本考案のサンプル触媒の抜き出
し装置によれば、脱硝反応器内の周辺部に位置す
る一部の触媒バスケツトの部分にガスを平行に流
せる区画室を設け、該区画室の入口と出口に蓋を
開閉自在に設けると共に、区画室内のサンプル触
媒を入れたバスケツトが接する反応器ケーシング
の部分に取出口を設け、且つ該取出口の外側に蓋
を開閉自在に設けた構成としてあるので、次のよ
うな優れた効果を奏し得る。
() ボイラ運転中の任意の時点で、ボイラ運
転を停止することなく触媒のサンプリングがで
きるため、脱硝装置の運転管理が容易となる。
() 触媒の交換は1週間程度かかるため、一
般にボイラが長期(1〜1.5ヶ月)に停止する
定期検査時に行うが、触媒の製造も数ヶ月を要
するため、ボイラが定期検査停止に入つてから
触媒をサンプリングし性能が劣化していること
がわかつてもその定期点検期間中に触媒を交換
することができず、したがつて、従来触媒の交
換のためには前回の停止時に触媒のサンプリン
グを行い劣化していれば次期停止時前に触媒の
製造をしておく必要があつたが、本考案では触
媒の製造期間を考慮してぎりぎりの時点で触媒
のサンプリングを行えばよくなる。
() 新しい触媒、改良触媒が開発され、早急
に実際の排ガスで耐久試験をしたい場合、従来
ではボイラの定期検査まで待たなければならな
かつたが、本考案では任意の時期に試験を開始
し、終了できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す脱硝反応器の
側面図、第2図は第1図のA部の拡大図、第3図
は第2図の平面図、第4図は区画室の斜視図、第
5図は従来の石炭焚ボイラの場合の脱硝反応器の
構造を示す側面図、第6図は第5図の平面図、第
7図は触媒バスケツトの拡大図、第8図は従来の
油焚ボイラの場合の脱硝反応器の構造を示す側面
図、第9図は従来のサンプル触媒を抜き出すよう
にした例を示す概略図である。 ……脱硝反応器、1……ガスダクト、2……
触媒バスケツト支持梁、3……触媒バスケツト、
5……触媒、6,8……触媒層、12……サンプ
ル触媒バスケツト、13……反応器ケーシング、
14……仕切板、15……区画室、16,17…
…蓋、19……取出口、20……蓋。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 脱硝反応器内の触媒層を排ガスが通過するとき
    に脱硝を行うようにした脱硝装置における上記脱
    硝反応器の周辺部の適宜個所に、ガスの流れに平
    行に配した仕切板にて区画室を形成し、該区画室
    の入口と出口にガス流を遮断できる蓋を開閉自在
    に備え、且つ上記区画室に入れたサンプル触媒の
    バスケツトが接する部分の反応器ケーシングに、
    上記サンプル触媒バスケツトを取り出せる取出口
    を設け、該取出口の蓋を反応器ケーシングの外側
    に設けたことを特徴とする脱硝装置におけるサン
    プル触媒の抜き出し装置。
JP5475687U 1987-04-13 1987-04-13 Expired JPH043621Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP5475687U JPH043621Y2 (ja) 1987-04-13 1987-04-13

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JP5475687U JPH043621Y2 (ja) 1987-04-13 1987-04-13

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JPS63164930U JPS63164930U (ja) 1988-10-27
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