JPH04356499A - 生理活性ペンタペプチドの製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、生理活性ペンタペプチ
ドの製法に係り、さらに詳しくは、アレルギー反応遮断
ポリペプチドの一つである、次式：

【０００２】

【化１４】

【０００３】で示されるペンタペプチド、すなわち、Ｌ
−アルパルチル−Ｌ−セリルーＬ−アスパルチル−Ｌ−
プロリル−Ｌ−アルギニンの新規製法に関するものであ
る。

【０００４】

【従来の技術】上記のベンタペプチドはペンチゲタイド
とも呼ばれ、ＩｇＥ−肥胖細胞（好塩基球）反応を阻害
する、有用なアレルギー反応遮断ポリペプチドの一つと
して知られている（特公昭６０−２３１８号公報、米国
特許第４，１６１，５２２号明細書）。このペンタペプ
チドの製法については、上記特公昭６０−２３１８号公
報及び米国特許第４，１６１，５２２号明細書に、固相
法による段階的合成法が開示されているにすぎない。こ
の固相法を工程図で示すと次のとおりである。

【０００５】

【化１５】

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この固
相法による方法は、工業的にかつ安価にこのペンタペプ
チドを大量に製造する方法としては、工程数、中間体の
単離のしやすさ、収率などの点から満足しうるものでは
なかった。

【０００７】本発明者らは、この従来の固相法にかわる
液相法により、工業的に有利に、しかも、安価にペンタ
ペプチドを製造する方法を見出さんと鋭意研究を行った
結果、安価に入手できるか、あるいは製造できる保護ア
ミノ酸を用いることができ、通常使用される簡便な縮合
法を適用することができ、しかも、中間体として得られ
る化合物の単離、精製が容易で、かつ、収率もよい、液
相法によるペンタペプチドの製造法を確立することに成
功した。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の製造法は、すな
わち、次式（Ｉ）：

【０００９】

【化１６】

【００１０】で示される、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
−Ｌ−プロリンを混酸無水物又は活性エステルとしたの
ち、これを、次式（ＩＩ）：

【００１１】

【化１７】

【００１２】で示される、ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギ
ニンベンジルエステルと反応せしめて、次式（ＩＩＩ）
　：

【００１３】

【化１８】

【００１４】で示される、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル
−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベン
ジルエステルとし、これを、脱保護反応に付して次式（
ＩＶ）：

【００１５】

【化１９】

【００１６】で示されるＬ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
−Ｌ−アルギニンベンジルエステルとし、これに、次式
（Ｖ）：

【００１７】

【化２０】

【００１８】で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−
β−ベンジル−Ｌ−アスパラギン酸を活性エステル又は
混酸無水物としたのち反応せしめて、次式（ＶＩ）：

【
００１９】

【化２１】

【００２０】で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−
β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ
　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルとし、こ
れを、脱保護して次式（ＶＩＩ）　：

【００２１】

【化２２】

【００２２】で示されるβ−ベンジル−Ｌ−アスパルチ
ル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベ
ンジルエステルとし、これに、次式（ＶＩＩＩ）：

【０
０２３】

【化２３】

【００２４】で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−
Ｌ−セリンを、活性エステルとしたのち反応せしめて、
次式（ＩＸ）：

【００２５】

【化２４】

【００２６】で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−
Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プ
ロリル−ＮＧ　−ニトローＬ−アルギニンベンジルエス
テルとし、これを、脱保護して、次式（Ｘ）：

【００２
７】

【化２５】

【００２８】で示されるＬ−セリル−β−ベンジル−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−ア
ルギニンベンジルエステルとし、これに、次式（ＸＩ）
：

【００２９】

【化２６】

【００３０】で示されるＮ−ベンジルオキシカルボニル
−β−ベンジルアスパラギン酸を混酸無水物又は活性エ
ステルとしたのち反応せしめて、次式（ＸＩＩ）：

【０
０３１】

【化２７】

【００３２】で示されるＮ−ベンジルオキシカルボニル
−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−β−
ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−
ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルとし、これを
脱保護することを特徴とする、次式（ＸＩＩＩ）：

【０
０３３】

【化２８】

【００３４】で示されるＬ−アスパルチル−Ｌ−セリル
−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−アルギニンの
製法である。

【００３５】本発明の製造法は、次の工程図によって示
される。なお、本明細書において、本発明を記述する便
宜上、各種アミノ酸は慣例の略号で記述した。この略号
は、本発明の技術分野においてはよく知られたものであ
るが、明確化のために、本発明に関係あるものを以下に
列記する。アミノ酸残基の旋光性は特に明示のない限り
、天然型すなわち、Ｌ−立体配置型である。ペプチド配
列は、常法によって記述したものであって、Ｎ−末端ア
ミノ酸が左側に、Ｃ−末端アミノ酸が右側にくる。

【００３６】Ａｓｐ　　　　　　　：アスパラギン酸残
基Ａｒｇ　　　　　　　：アルギニン残基Ｐｒｏ　　　
　　　　：プロリン残基 Ｓｅｒ　　　　　　　：セリン残基 Ｈ−Ａｓｐ−ＯＨ　　：アスパラギン酸Ｈ−Ｓｅｒ−Ｏ
Ｈ　　：セリン Ｈ−Ｐｒｏ−ＯＨ　　：プロリン Ｂｏｃ　　　　　　　：ｔ−ブトキシカルボニルＺ　　
　　　　　　　：ベンジルオキシカルボニルＢｚｌ　　
　　　　　：ベンジル Ｈ−Ａｒｇ（ＮＯ２）−ＯＢｚｌ　：ＮＧ　−ニトロ−
Ｌ−アルギニンベンジルエステル ＨＯＳｕ　　　　　　：Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド
ＤＣＣ　　　　　　　：ジシクロヘキシルカルボジイミ
ドＭＡ　　　　　　　　：混酸無水物法

【００３７】本発明方法の工程図

【００３８】

【化２９】

【００３９】以下、各工程につき詳細に説明する。 第１工程

【化３０】

【００４０】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリ
ン（Ｉ）を、例えば第三級アミンの存在下、適当な溶媒
中、クロロ炭酸アルキルと反応し、混酸無水物とする。 溶媒はテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ク
ロロホルム等を、第三級アミンとしてはＮ−メチルモル
ホリン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等を、ク
ロル炭酸アルキルとしては、クロロ炭酸イソブチル、ク
ロロ炭酸エチル等を用いることができる。反応は−４０
〜０℃、好ましくは−３０〜−１０℃で行う。

【００４１】次いで、得られた混酸無水物溶液とＮＧ　
−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（ＩＩ）を
反応させることにより、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−
Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジ
ルエステル（ＩＩＩ）　を製造することができる。

【００４２】本反応は−３０℃〜３０℃で好適に進行し
、収率良く目的物を与える。なお、ＮＧ　−ニトロ−Ｌ
−アルギニンベンジルエステルの酸付加塩を用いるとき
は、反応系に等モル量のＮ−メチルモルホリン、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三
級アミンの存在下に反応させるのが好ましい。

【００４３】また、本縮合反応はＮ−ｔ−ブトキシカル
ボニル−Ｌ−プロリンをＮ−ヒドロキシコハク酸イミド
、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ｐ−ニトロフェ
ール等により活性エステルに導き、これを、ＮＧ　−ニ
トロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（ＩＩ）と反応
させることによっても目的化合物（ＩＩＩ）　を得るこ
とができる。

【００４４】第２工程

【化３１】

【００４５】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリ
ル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル
（ＩＩＩ）　のアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカ
ルボニル基を、適当な溶媒中、塩酸、臭化水素酸のよう
な鉱酸あるいはトリフロロ酢酸などの酸で処理すること
により除去する。溶媒としては、ジオキサン、酢酸エチ
ル、メチレンクロリド、クロロホルム等をあげることが
できる。

【００４６】反応は０〜４０℃で容易に進行し、生成物
は、Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベ
ンジルエステル（ＩＶ）の酸付加塩として単離されるが
、アルカリで中和後、有機溶媒で抽出することにより遊
離塩基とし、そのまま、次工程に用いることもできる。

【００４７】第３工程

【化３２】

【００４８】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパラギン酸（Ｖ）を、例えばＮ−ヒドロキ
シコハク酸イミドおよびジシクロヘキシルカルボジイミ
ドにより活性エステルに導き、これを、Ｌ−プロリル−
ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（Ｉ
Ｖ）と、縮合せしめる。溶媒としてはテトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、メチレンクロリド、クロロホルム、ジ
メチルホルムアミド等を用いることができる。反応は−
２０〜４０℃、好ましくは−５〜２０℃で行う。

【００４９】Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アル
ギニンベンジルエステルをその酸付加塩として用いる場
合は、等モル量のトリエチルアミン、トリブチルアミン
、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミンの存在下に実
施する。

【００５０】得られた粗製のＮ−ｔ−ブトキシカルボニ
ル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−
ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（Ｖ
Ｉ）は、酢酸エチル、エタノール、イソプロパノール、
エーテルなどの適当な溶媒から再結晶することにより、
結晶として、単離、精製することができる。

【００５１】また、本縮合反応は、活性エステル法の他
に混酸無水物によっても目的物を与えることができる。

【００５２】第４工程

【化３３】

【００５３】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（ＶＩ）のアミノ基
の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基は、第２工程
と同様に処理して脱離され、β−ベンジル−Ｌ−アスパ
ルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニ
ンベンジルエステル（ＶＩＩ）　を与える。

【００５４】第５工程

【化３４】

【００５５】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリン
（ＶＩＩＩ）を、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ニトロフェノ
ール等とジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合剤
により活性エステルとする。溶媒はテトラヒドロフラン
、酢酸エチル、メチレンクロリド、クロロホルム等を用
いることができ、反応は−２０〜４０℃、好ましくは−
５〜２０℃で行う。

【００５６】次いで、得られた活性エステルをβ−ベン
ジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニト
ロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（ＶＩＩ）　と反
応せしめる。溶媒はテトラヒドロフラン、酢酸エチル、
ジオキサン、ジメチルホルムアミド、メチレンクロリド
、クロロホルム等を用いることができ、反応は、−２０
〜４０℃、好ましくは−５〜２５℃で好適に進行し、ｔ
−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−
アルギニンベンジルエステル（ＩＸ）を与える。本反応
においては、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステルを
用いたときが、最も副反応が少なく、高い純度の目的物
が得られる。

【００５７】また、β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−
Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジ
ルエステル（ＶＩＩ）　をその酸付加塩として用いる場
合は、等モル量のトリエチルアミン、トリブチルアミン
、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミンの存在下に反
応させる。

【００５８】第６工程

【化３５】

【００５９】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリル
−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｎ
Ｇ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（ＩＸ
）のアミノ基の保護基であるｔ−ブトキシカルボニル基
は、第２工程で述べたと同様の方法により除去され、Ｌ
−セリル−β−ベンジル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニト
ロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（Ｘ）を与える。

【００６０】第７工程

【化３６】

【００６１】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパラギン酸（ＸＩ）を、例えば、第三級
アミンの存在下、適当な溶媒中、クロロ炭酸アルキルと
反応させて、混酸無水物とする。溶媒としてはテトラヒ
ドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、メ
チレンクロリド、酢酸エチル等、第三級アミンとしては
Ｎ−メチルモルホリン、トリエチルアミン、トリブチル
アミン等を、クロロ炭酸アルキルとしては、クロロ炭酸
イソブチル、クロロ炭酸エチル等を用いることができる
。 反応は−４０〜０℃、好ましくは−３０〜−１０℃で進
行し混酸無水物を与える。

【００６２】次いで、得られた混酸無水物溶液とＬ−セ
リル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル
−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（
Ｘ）を反応せしめることにより、Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリ
ル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−
ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル（Ｘ
ＩＩ）を製造することができる。溶媒としては、テトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、
メチレンクロリド等を用いることができ、反応は−３０
〜３０℃で好適に進行する。なお、Ｌ−セリル−β−ベ
ンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニト
ロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルの酸付加塩を用い
るときは、等モル量のＮ−メチルモルホリン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミンの如き、第三級
アミンの存在下に反応させるのが好ましい。かくして得
られた粗製の保護ペンタペプチドは精製することなく、
次の脱保護工程に付しても良いが、要すれば適当な溶媒
、例えば酢酸エチル、酢酸エチルエーテル混液、エタノ
ール、イソプロパノール等から通常の晶析方法により、
精製することが可能である。

【００６３】また本反応はＮ−ベンジルオキシカルボニ
ル−β−ベンジル−アスパラギン酸（ＸＩ）を、例えば
、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドとの活性エステルとし
たのち、縮合させることによっても目的物を製造するこ
とができる。

【００６４】第８工程

【化３７】

【００６５】保護ペンタペプチドである、Ｎ−ベンジル
オキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−
Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プ
ロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエス
テル（ＸＩＩ）の保護基であるベンジルオキシカルボニ
ル基、ベンジル基およびニトロ基を、例えば、常圧ない
しは加圧下の接触還元により、除去する。接触還元に用
いる触媒としては、パラジウム黒、パラジウム炭素、水
酸化パラジウム等をあげることができる。溶媒としては
、水、メタノール、エタノール等の低級アルコール、酢
酸あるいは、それらの混液が使用できる。

【００６６】得られた粗製のペンチゲタイド、Ｌ−アス
パルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリ
ル−Ｌ−アルギニンは、触媒を除去後、溶媒を減圧留去
することにより、また、凍結乾燥することにより、粉末
として得られるが、要すれば、メタノール、エタノール
等の低級アルコール中で懸濁処理することにより、純度
をあげることができる。

【００６７】また、Ｄｏｗｅｘ　５０、　ＤＥＡＥ−Ｓ
ｅｐｈａｄｅｘ等の樹脂（イオン交換体）処理あるいは
逆相系の液体クロマトグラフィーを用いる分取により、
容易に精製することができる。

【００６８】

【実施例】

実施例１（第１工程） ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニト
ロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルの調製

【００６９
】

【化３８】

【００７０】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリ
ン４．３ｇ（２０ｍｍｏｌ）とＮ−メチルモルホリン２
．２ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２０ｍ
ｌに溶かし、−２０℃に冷却した。次いで、クロロ炭酸
イソブチル２．７３ｇ（２０ｍｍｏｌ）を−２０〜−１
５℃で滴下、５分間撹拌した。

【００７１】別に、ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベ
ンジルエステル・２−ｐ−トルエンスルホン酸塩１３．
０７ｇ（２０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド１０ｍ
ｌとテトラヒドロフラン１０ｍｌの混液に溶かし、これ
にＮ−メチルモルホリン４．５ｍｌ（４１ｍｍｏｌ）を
加え−５〜０℃に冷却した。この溶液を上記混酸無水物
溶液へ−１５℃以下で滴下し、滴下後室温で１５時間撹
拌した。

【００７２】３５℃以下で溶媒を留去し、残渣に酢酸エ
チル１５０ｍｌを加え、Ｎ−塩酸５０ｍｌ、水３０ｍｌ
、５％炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍｌ、飽和食塩水
３０ｍｌで各々３回ずつ順次洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。

【００７３】溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム（
展開溶媒：酢酸エチル）で精製し、無色飴状のｔ−ブト
キシカルボニル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−
アルギニンベンジルエステルを得た。収量８．１ｇ（８
０％）

【００７４】実施例２（第２工程） Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジ
ルエステルの調製

【００７５】

【化３９】

【００７６】ａ）Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プ
ロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエス
テル２４．２ｇ（４７．８ｍｍｏｌ）をメチレンクロリ
ド７５ｍｌに溶かし、１０℃以下に冷却後、これにトリ
フルオロ酢酸４８ｍｌを滴下した。滴下後、室温で４０
分間撹拌し、溶媒を留去、残渣にエーテルを加え、固化
させ、数回エーテルで洗浄し、Ｌ−プロリル−ＮＧ　−
ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルのトリフロロ
酢酸塩を無色粉末として得た。収量２３．６ｇ（９４．
９％）

【００７７】ｂ）Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−
Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジ
ルエステル２ｇ（３．９５ｍｍｏｌ）に１３％塩酸−ジ
オキサン溶液１０ｍｌを１０℃以下で加え、室温で１時
間撹拌した。溶媒を減圧留去、残渣にエーテルを加え、
固化させ、数回エーテルで洗浄しＬ−プロリル−ＮＧ　
−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル塩酸塩を無
色粉末として得た。収量３．３ｇ（９５．１％）

【００７８】実施例３（第３工程） Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アス
パルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギ
ニンベンジルエステルの調製

【００７９】

【化４０】

【００８０】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパラギン酸９．７ｇ（３０ｍｍｏｌ）とＮ
−ヒドロキシコハク酸イミド３．４５ｇ（３０ｍｍｏｌ
）をテトラヒドロフラン５０ｍｌに溶かし、氷水で冷却
後、ジシクロヘキシルカルボジイミド６．１９ｇ（３０
ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１５時間撹拌した。不溶物
をろ別し、溶媒を減圧留去後、残渣に酢酸エチルを加え
、３％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水、３％ク
エン酸水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、イソプロピル
エーテル−ｎ−ヘキサン混液で結晶化後、ろ取して、活
性エステルを得た。

【００８１】別に、Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ
−アルギニンベンジルエステル塩酸塩１３．２９ｇ（３
０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２００ｍｌに懸濁、
氷水で冷却後、トリエチルアミン６ｇを加え、２０分間
撹拌した。次いで、上記活性エステルを加え室温で１５
時間撹拌した。

【００８２】減圧下、溶媒を留去し、残渣に酢酸エチル
を加え、Ｎ−塩酸、水、３％炭酸水素ナトリウム、飽和
食塩水で各々３回順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。

【００８３】溶媒を減圧留去し、残渣を酢酸エチル−イ
ソプロピルエ−テル混液で結晶化後、更に酢酸エチルか
ら再結晶し、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
−Ｌ−アルギニンベンジルエステルを無色微細針状晶と
して得た。 収量１３．８８ｇ（６５％） ｍｐ１１６〜１１９℃ ［α］Ｄ　２７−６３．６°（ｃ＝１，ＣＨＣｌ３　）

【００８４】実施例４（第４工程） β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ
　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルの調製

【
００８５】

【化４１】

【００８６】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジ
ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ
−Ｌ−アルギニンベンジルエステル１５ｇ（２１．１ｍ
ｍｏｌ）をメチレンクロリド５０ｍｌに溶かし、氷水に
て冷却後、トリフルオロ酢酸３０ｍｌを滴下した。滴下
後、室温で４０分間撹拌し、減圧下、溶媒を留去した。 残渣に酢酸エチル２００ｍｌとテトラヒドロフラン１０
０ｍｌを加え有機層を分離した、次いで炭酸カリウム水
溶液を加え、水層をアルカリ性とした。水層を酢酸エチ
ル１００ｍｌで再抽出後、酢酸エチル層を分離し上記有
機層に合した。 水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留
去し、β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル
−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルを
無色油状物として得た。 収量１２．２ｇ（９４．５％）

【００８７】実施例５（第５工程） ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ
−アルギニンベンジルエステルの調製

【００８７】

【化４２】

【００８８】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリン
４．３１ｇ（２１ｍｍｏｌ）とＮ−ヒドロキシコハク酸
イミド２．４２ｇ（２１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラ
ン５０ｍｌに溶かし、−５〜５℃に冷却後、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド４．３３ｇ（２１ｍｍｏｌ）を加
え１時間撹拌した。次いで、これに、β−ベンジル−Ｌ
−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−
アルギニンベンジルエステル１２．８ｇ（２１ｍｍｏｌ
）のテトラヒドフラン溶液を加え、１０時間撹拌した。

【００８９】不溶物をろ別後、ろ液を減圧濃縮し、残渣
に酢酸エチルを加え、水、３％クエン酸水溶液で３回、
水、３％炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム（展開溶媒
：クロロホルム／エタノール＝９５／５）で精製し、イ
ソプロピルエーテルで固化粉末化し、Ｎ−ｔ−ブトキシ
カルボニル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパル
チル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−アルギニンベ
ンジルエステルを得た。 収量１３．７ｇ（８１．４％） ［α］Ｄ　２４−５８°（ｃ＝１、メタノール）

【００
９０】実施例６（第６工程） Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プ
ロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステ
ルの調製

【００９１】

【化４３】

【００９２】Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリル
−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｎ
Ｇ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル４．８
ｇ（６ｍｍｏｌ）をメチレンクロリド１０ｍｌに溶かし
、氷水で冷却後、トリフルオロ酢酸１０ｍｌを滴下した
。滴下後、室温で１時間撹拌し、減圧下で溶媒を留去し
、残渣にエーテルを加え、固化、ろ取、数回エーテルで
洗浄し、Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル
−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベン
ジルエステルトリフルオロ酢酸塩を無色粉末として得た
。収量４．８ｇ（９８％）

【００９３】実施例７（第７工程） Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパル
チル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニン
ベンジルエステルの調製

【００９４】

【化４４】

【００９５】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アスパラギン酸２．１４ｇ（６ｍｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン１０ｍｌに溶かし、−２０〜−１５
℃に冷却した。これに、Ｎ−メチルモルホリン０．６１
ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え、次いでクロロ炭酸イソブチル
０．８２ｇ（６ｍｍｏｌ）を−１５℃以下で滴下し、同
温度で５分間撹拌した。

【００９６】別に、Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アル
ギニンベンジルエステルのトリフルオロ酢酸塩４．８８
ｇ（６ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド３ｍｌとテト
ラヒドロフラン６ｍｌの混液に溶かし、Ｎ−メチルモル
ホリン０．６１ｇ（６ｍｍｏｌ）を加え−５℃に冷却し
た。次いでこの溶液を上記混酸無水物の溶液に−１５℃
以下で滴下し、室温で１５時間撹拌した。減圧下溶媒を
留去し、残渣に酢酸エチルを加え、Ｎ−塩酸、飽和食塩
水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去後、残渣をジイソプロピルエーテルで固化、ろ取し
、酢酸エチルから２回再晶析し、Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリ
ル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−
ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステルを無
色粉末として得た。収量４．０ｇ（６４．２％） ［α］Ｄ　２７−１５．０°（ｃ＝１、ＣＨＣｌ３　）

【００９７】実施例８（第８工程） Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ
−プロリル−Ｌ−アルギニンの調製

【００９８】

【化４５】

【００９９】Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベン
ジル−Ｌ−アルパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−
アルギニンベンジルエステル４１．５ｇ（０．０４ｍｍ
ｏｌ）を酢酸−メタノ−ル（１：１）混液８３０ｍｌに
溶かし、パラジウム黒８．３ｇ存在下、３．５気圧、１
６時間接触還元した。

【０１００】触媒をろ去後、ろ液を減圧濃縮し、残渣に
水を加え、全容を１００ｍｌとした。この溶液をエタノ
ール１０００ｍｌ中に注加、撹拌した。沈殿した固体を
ろ取し、これを、エタノール、次いでジイソプロピルエ
ーテルで洗浄後減圧乾燥し、粗製のＬーアスパルチル−
Ｌ−セリル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−ア
ルギニンを得た。

【０１０１】本品を水に溶かし、Ｄｏｗｅｘ　５０（ア
セテート型）に吸着、水で洗浄後、水から０．２Ｍ酢酸
に徐々に濃度を上げ、溶出した。かくして、目的画分を
集め、凍結乾燥し、高純度のペンタペプチドを得た。収
量１４．１ｇ（６６％）

【０１０２】

【発明の効果】本発明の方法が従来の技術と比較して、
優れた点は本工程における重要中間体であるＮ−ｔ−ブ
トキシカルボニル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−
Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジ
ルエステルが収率良く、結晶として、単離精製すること
ができること、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−Ｌ−
セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリ
ル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル
およびＮ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジル−
Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アル
ギニンベンジルエステルも通常の精製方法により固体と
して単離されること、さらには、β−ベンジル−Ｌ−ア
スパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アル
ギニンベンジルエステルにセリン部を導入する工程（第
５工程）でセリンの水酸基を無保護で導入することがで
きる等をあげることができる。

【化４６】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　次式（Ｉ） 【化１】 で示される、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリ
   ンを混酸無水物又は活性エステルとしたのち、これを、
   次式（ＩＩ） 【化２】 で示される、ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジル
   エステルと反応せしめて、次式（ＩＩＩ）：【化３】 で示される、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−プロリ
   ル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステル
   とし、これを、脱保護反応に付して、式（ＩＶ）：【化
   ４】 で示されるＬ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギ
   ニンベンジルエステルとし、これに、次式（Ｖ）：【化
   ５】 で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジル
   −Ｌ−アスパラギン酸を活性エステル又は混酸無水物と
   したのち反応せしめて、次式（ＶＩ）：【化６】 で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−β−ベンジル
   −Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−
   Ｌ−アルギニンベンジルエステルとし、これを、脱保護
   して、次式（ＶＩＩ）： 【化７】 で示されるβ−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロ
   リル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエステ
   ルとし、これに、次式　（ＶＩＩＩ）　：【化８】 で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリンを
   、活性エステルとしたのち反応せしめて、次式（ＩＸ）
   ： 【化９】 で示されるＮ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリル−
   β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ
   　−ニトローＬ−アルギニンベンジルエステルとし、こ
   れを、脱保護して、次式（Ｘ）： 【化１０】 で示されるＬ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチ
   ル−Ｌ−プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−アルギニンベン
   ジルエステルとし、これに、次式（ＸＩ）：【化１１】 で示されるＮ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジ
   ルアスパラギン酸を混酸無水物又は活性エステルとした
   のち反応せしめて、次式（ＸＩＩ）： 【化１２】 で示されるＮ−ベンジルオキシカルボニル−β−ベンジ
   ル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ
   −アスパルチル−Ｌ−プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−
   アルギニンベンジルエステルとし、これを脱保護するこ
   とを特徴とする、次式（ＸＩＩＩ）： 【化１３】 で示されるＬ−アスパルチル−Ｌ−セリル−Ｌ−アスパ
   ルチル−Ｌ−プロリル−Ｌ−アルギニンの製法。
2. 【請求項２】　　β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ
   −プロリル−ＮＧ−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジルエ
   ステルと、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−セリンの
   水酸基を保護することなく活性エステルとしたものを反
   応せしめることを特徴とするＮ−ｔ−ブトキシカルボニ
   ル−Ｌ−セリル−β−ベンジル−Ｌ−アスパルチル−Ｌ
   −プロリル−ＮＧ　−ニトロ−Ｌ−アルギニンベンジル
   エステルの製法。