JPH04345696A - フラックス洗浄剤 - Google Patents
フラックス洗浄剤Info
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- JPH04345696A JPH04345696A JP14783191A JP14783191A JPH04345696A JP H04345696 A JPH04345696 A JP H04345696A JP 14783191 A JP14783191 A JP 14783191A JP 14783191 A JP14783191 A JP 14783191A JP H04345696 A JPH04345696 A JP H04345696A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品のはんだ付け
の際に使用されるフラックスの洗浄において、優れた特
性を有する含フッ素環状エーテルを主成分とするフラッ
クス洗浄剤に関するものである。
の際に使用されるフラックスの洗浄において、優れた特
性を有する含フッ素環状エーテルを主成分とするフラッ
クス洗浄剤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】フラックスは、はんだ及びこれを融着す
る母材表面にある酸化被膜を除去し、はんだと母材との
ぬれ性を良好にするためのもので、はんだ付けの良否は
フラックスの性能に左右されるといっても過言ではない
。近年、電子回路基盤は、その集積度を増しているが、
その回路基盤へのはんだ付け方法は、まず回路基盤全面
にフラックスを塗布し、次いで基盤の塗布面を余熱装置
の上を通過させ、最後に溶融したはんだを接着する。こ
の際、フラックスは導体金属部分及びはんだの酸化被膜
を除去し、はんだの接着を促進すると共に、フラックス
の一部は劣化して残渣化する。ところで、フラックスは
、その性能から多少の腐食性を有し、電子部品を取付け
た部分が経時的に腐食され、事故発生の原因となるので
、フラックス及び残渣（以下、一括してフラックスとい
う）は、溶剤によって完全に除去することが必要である
。これに用いられる溶剤の条件は厳しく、液状で毒性が
少なく、基盤を損なうことなく、フラックスが完全に除
去される高い溶解力を有することが必要である。
る母材表面にある酸化被膜を除去し、はんだと母材との
ぬれ性を良好にするためのもので、はんだ付けの良否は
フラックスの性能に左右されるといっても過言ではない
。近年、電子回路基盤は、その集積度を増しているが、
その回路基盤へのはんだ付け方法は、まず回路基盤全面
にフラックスを塗布し、次いで基盤の塗布面を余熱装置
の上を通過させ、最後に溶融したはんだを接着する。こ
の際、フラックスは導体金属部分及びはんだの酸化被膜
を除去し、はんだの接着を促進すると共に、フラックス
の一部は劣化して残渣化する。ところで、フラックスは
、その性能から多少の腐食性を有し、電子部品を取付け
た部分が経時的に腐食され、事故発生の原因となるので
、フラックス及び残渣（以下、一括してフラックスとい
う）は、溶剤によって完全に除去することが必要である
。これに用いられる溶剤の条件は厳しく、液状で毒性が
少なく、基盤を損なうことなく、フラックスが完全に除
去される高い溶解力を有することが必要である。
【０００３】従来、フラックスの洗浄除去には、有機系
溶剤が使用されており、とくに１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン（以下Ｆ−１１３）
という）と他の有機溶剤との混合物が用いられているが
、具体的には、Ｆ−１１３とイソプロピルアルコール、
Ｆ−１１３と塩化メチレン等の共沸混合物が経時的に成
分割合の変化がなく、プラスチックを侵さずにフラック
スを選択的に溶解除去する優れた性能を有するため広く
使用されていた。
溶剤が使用されており、とくに１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン（以下Ｆ−１１３）
という）と他の有機溶剤との混合物が用いられているが
、具体的には、Ｆ−１１３とイソプロピルアルコール、
Ｆ−１１３と塩化メチレン等の共沸混合物が経時的に成
分割合の変化がなく、プラスチックを侵さずにフラック
スを選択的に溶解除去する優れた性能を有するため広く
使用されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近時、
Ｆ−１１３は成層圏のオゾン層を破壊し、それによって
地上に達する紫外線の量が増加し皮膚ガンの発生要因と
なることが指摘され、これの使用を全廃することが急務
となっている。そのため、Ｆ−１１３に代わる洗浄剤を
得るべく、種々の化合物が検討されているが、まだ適当
な代替品が見出されていない。例えば、トリクロルエチ
レン、塩化メチレン等の、塩素系溶剤は、基盤に用いら
れるプラスチックを侵食したり、環境を汚染する危険性
があるし、アルコール類、炭化水素類等には、洗浄力が
十分でなかったり、燃焼性が高い、といった問題点があ
る。
Ｆ−１１３は成層圏のオゾン層を破壊し、それによって
地上に達する紫外線の量が増加し皮膚ガンの発生要因と
なることが指摘され、これの使用を全廃することが急務
となっている。そのため、Ｆ−１１３に代わる洗浄剤を
得るべく、種々の化合物が検討されているが、まだ適当
な代替品が見出されていない。例えば、トリクロルエチ
レン、塩化メチレン等の、塩素系溶剤は、基盤に用いら
れるプラスチックを侵食したり、環境を汚染する危険性
があるし、アルコール類、炭化水素類等には、洗浄力が
十分でなかったり、燃焼性が高い、といった問題点があ
る。
【０００５】本発明者等は、フラックスの溶解除去性に
優れたＦ−１１３系溶剤に代り得て、しかもオゾン層破
壊の懸念のないフラックス洗浄剤を得るべく鋭意検討し
た結果、下記一般式で表わされる含フッ素環状エーテル
がこれに該当することを発見した。 （ｎは、２〜４の整数）本発明は上記の発見に基づいて
なされたもので、フラックス洗浄剤としてＦ−１１３系
溶剤と同等、或いはそれ以上の性能を有し、しかもオゾ
ン層を破壊する心配のないフラックス洗浄剤を提供する
ことを目的とする。
優れたＦ−１１３系溶剤に代り得て、しかもオゾン層破
壊の懸念のないフラックス洗浄剤を得るべく鋭意検討し
た結果、下記一般式で表わされる含フッ素環状エーテル
がこれに該当することを発見した。 （ｎは、２〜４の整数）本発明は上記の発見に基づいて
なされたもので、フラックス洗浄剤としてＦ−１１３系
溶剤と同等、或いはそれ以上の性能を有し、しかもオゾ
ン層を破壊する心配のないフラックス洗浄剤を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明のフラックス洗浄剤は、下記一般式で表わさ
れる含フッ素環状エーテルを主成分とするフラックス洗
浄剤であって、アルコール類、ケトン類、エステル類、
塩化水素類から選ばれた少なくとも１種を３〜５０ｗｔ
％含有する。 （ｎは、２〜４の整数）本発明のフラックス洗浄剤にお
いて、上記一般式で表わされる含フッ素環状エーテル（
以下、ＦＣＥと記す）と混合される上記アルコール類等
の溶剤は、アルコール類においてはメタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール、ケトン類においては、
アセトン、エステル類においては酢酸エチル、塩化水素
類においては、塩化メチレンが特に好ましい。ＦＣＥは
、これらの溶剤と、分離することなく、任意の割合で混
ざりあう。
めの本発明のフラックス洗浄剤は、下記一般式で表わさ
れる含フッ素環状エーテルを主成分とするフラックス洗
浄剤であって、アルコール類、ケトン類、エステル類、
塩化水素類から選ばれた少なくとも１種を３〜５０ｗｔ
％含有する。 （ｎは、２〜４の整数）本発明のフラックス洗浄剤にお
いて、上記一般式で表わされる含フッ素環状エーテル（
以下、ＦＣＥと記す）と混合される上記アルコール類等
の溶剤は、アルコール類においてはメタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール、ケトン類においては、
アセトン、エステル類においては酢酸エチル、塩化水素
類においては、塩化メチレンが特に好ましい。ＦＣＥは
、これらの溶剤と、分離することなく、任意の割合で混
ざりあう。
【０００７】また、ＦＣＥと上記溶剤のフラックス洗浄
剤中の割合は３〜５０ｗｔ％である。ＦＣＥは、それの
みではフラックスをほとんど溶かさないが、上記溶剤を
混合することにより、優れた洗浄力を示す。しかし、上
記溶剤の割合が３ｗｔ％未満では洗浄能力が不足し、５
０ｗｔ％を超えると選択的溶解性が失われ、基盤に良く
ない影響を与える。
剤中の割合は３〜５０ｗｔ％である。ＦＣＥは、それの
みではフラックスをほとんど溶かさないが、上記溶剤を
混合することにより、優れた洗浄力を示す。しかし、上
記溶剤の割合が３ｗｔ％未満では洗浄能力が不足し、５
０ｗｔ％を超えると選択的溶解性が失われ、基盤に良く
ない影響を与える。
【０００８】
【実施例】次に、実施例、比較例を示して本発明を具体
的に説明する。実施例１〜１１、比較例１〜７（ａ）フ
ラックスの洗浄 フェノール樹脂銅張積層板に市販のフラックス（タムラ
製作所製、ＣＦ−２２０Ｖ、またはＢ−１１１Ｒ）をそ
れぞれ塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、２５０℃
で１０分間焼き付けて試験片を作成した。これを種々な
配合の洗浄剤に、それぞれ２分間浸漬洗浄した後、目視
によってフラックスの除去された程度を観察した。結果
を表１に示す。表１における結果の判定は、以下の基準
によって行なった。 ○：良好に洗浄（肉眼で見える、洗浄残なし）△：やや
不良（少量の洗浄残あり） ×：不良
的に説明する。実施例１〜１１、比較例１〜７（ａ）フ
ラックスの洗浄 フェノール樹脂銅張積層板に市販のフラックス（タムラ
製作所製、ＣＦ−２２０Ｖ、またはＢ−１１１Ｒ）をそ
れぞれ塗布し、１００℃で２分間乾燥した後、２５０℃
で１０分間焼き付けて試験片を作成した。これを種々な
配合の洗浄剤に、それぞれ２分間浸漬洗浄した後、目視
によってフラックスの除去された程度を観察した。結果
を表１に示す。表１における結果の判定は、以下の基準
によって行なった。 ○：良好に洗浄（肉眼で見える、洗浄残なし）△：やや
不良（少量の洗浄残あり） ×：不良
【０００９】（ｂ）フェノール樹脂の膨潤テスト耐圧ガ
ラス瓶に種々な配合のフラックス洗浄剤を入れ、フェノ
ール樹脂の試験片（５×５０×２ｍｍ）の重量をそれぞ
れ測定した後浸漬し、２５℃で４８時間放置してこれを
拭き取り、ただちに重量を測定し、浸漬による重量の増
加を求めた。結果を表１に併せて示す。表１における結
果の測定は、以下の基準によって行なった。 ○：重量増加２％未満 △：重量増加２〜５％ ×：重量増加５％を超える
ラス瓶に種々な配合のフラックス洗浄剤を入れ、フェノ
ール樹脂の試験片（５×５０×２ｍｍ）の重量をそれぞ
れ測定した後浸漬し、２５℃で４８時間放置してこれを
拭き取り、ただちに重量を測定し、浸漬による重量の増
加を求めた。結果を表１に併せて示す。表１における結
果の測定は、以下の基準によって行なった。 ○：重量増加２％未満 △：重量増加２〜５％ ×：重量増加５％を超える
【００１０】
【表１】
（表中、ＦＣＥ−６ は３，３，４，４，５，５−
ヘキサフルオロオキサン、ＦＣＥ−７は、３，３，４，
４，５，５，６，６−オクタフルオロオキセパンを、表
わす。）
ヘキサフルオロオキサン、ＦＣＥ−７は、３，３，４，
４，５，５，６，６−オクタフルオロオキセパンを、表
わす。）
【００１１】
【発明の効果】以上のべたように、本発明に係るフラッ
クス洗浄剤は、従来広く使用されているＦ−１１３系洗
浄剤と同等の性能を有し、しかもオゾン層を破壊するお
それがないので、Ｆ−１１３系洗浄剤が使用できなくな
った場合、電子部品製造業界の苦境を解消するものとし
て、極めて価値の高いものである。
クス洗浄剤は、従来広く使用されているＦ−１１３系洗
浄剤と同等の性能を有し、しかもオゾン層を破壊するお
それがないので、Ｆ−１１３系洗浄剤が使用できなくな
った場合、電子部品製造業界の苦境を解消するものとし
て、極めて価値の高いものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記一般式で表わされる含フッ素環状
エーテル９７〜５０ｗｔ％とアルコール類、ケトン類、
エステル類、塩化水素類から選ばれた少なくとも１種を
３〜５０ｗｔ％とから成るフラックス洗浄剤。 （ｎは、２〜４の整数）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783191A JPH04345696A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | フラックス洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14783191A JPH04345696A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | フラックス洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04345696A true JPH04345696A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=15439233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14783191A Pending JPH04345696A (ja) | 1991-05-23 | 1991-05-23 | フラックス洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04345696A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5562854A (en) * | 1994-09-29 | 1996-10-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Octafluorobutane compositions |
-
1991
- 1991-05-23 JP JP14783191A patent/JPH04345696A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5562854A (en) * | 1994-09-29 | 1996-10-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Octafluorobutane compositions |
| US5653908A (en) * | 1994-09-29 | 1997-08-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Octafluorobutane compositions |
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