JPH04344860A - 鋳型の湯面レベル制御装置 - Google Patents
鋳型の湯面レベル制御装置Info
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- JPH04344860A JPH04344860A JP11648991A JP11648991A JPH04344860A JP H04344860 A JPH04344860 A JP H04344860A JP 11648991 A JP11648991 A JP 11648991A JP 11648991 A JP11648991 A JP 11648991A JP H04344860 A JPH04344860 A JP H04344860A
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- stopper
- molten metal
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- Pending
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- 239000002184 metal Substances 0.000 title abstract description 9
- 239000012768 molten material Substances 0.000 claims description 9
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 4
- 238000009749 continuous casting Methods 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000009118 appropriate response Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Continuous Casting (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、鋳型幅変更装置を有す
る連続鋳造設備に用いられる鋳型の湯面レベル制御装置
に関する。
る連続鋳造設備に用いられる鋳型の湯面レベル制御装置
に関する。
【0003】
【従来の技術】従来の連続鋳造設備の鋳型の湯面レベル
制御においては、鋳型幅変更制御により、鋳型幅を広げ
る制御を行なうと湯面レベルが下がり、逆に鋳型幅を狭
める制御を行なうと湯面レベルが上がるという様に湯面
レベルの変動が生じることがある。
制御においては、鋳型幅変更制御により、鋳型幅を広げ
る制御を行なうと湯面レベルが下がり、逆に鋳型幅を狭
める制御を行なうと湯面レベルが上がるという様に湯面
レベルの変動が生じることがある。
【0004】即ち、鋳型内の湯のレベルをレベル検出器
により検出し、変換器を少し鋳型内の湯面レベル信号を
ストッパ位置制御系にフィードバックし、ストッパー駆
動装置し駆動し、タンディッシュストッパーへ開度を制
御することにより、鋳型内の湯面レベルが一定となる様
にタンディッシュストッパーの開度制御を行なっている
。
により検出し、変換器を少し鋳型内の湯面レベル信号を
ストッパ位置制御系にフィードバックし、ストッパー駆
動装置し駆動し、タンディッシュストッパーへ開度を制
御することにより、鋳型内の湯面レベルが一定となる様
にタンディッシュストッパーの開度制御を行なっている
。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
湯面レベル制御装置では鋳型幅変更装置により鋳型幅変
更が行なわれると、鋳型内の湯面レベルも変動し、湯面
レベルはレベル検出器によって検出しているので鋳型幅
変更により生じる湯面変動は、レベル検出器、変換器ス
トッパ位置制御、ストッパ駆動装置ストッパの制御系に
より湯面変動をおさえる様制御されるが、これら制御系
の応答にもとずく制御となり、適正な応答をもった湯面
レベル制御を行なうことができず、湯面レベルの制御が
不安定となることが多い。
湯面レベル制御装置では鋳型幅変更装置により鋳型幅変
更が行なわれると、鋳型内の湯面レベルも変動し、湯面
レベルはレベル検出器によって検出しているので鋳型幅
変更により生じる湯面変動は、レベル検出器、変換器ス
トッパ位置制御、ストッパ駆動装置ストッパの制御系に
より湯面変動をおさえる様制御されるが、これら制御系
の応答にもとずく制御となり、適正な応答をもった湯面
レベル制御を行なうことができず、湯面レベルの制御が
不安定となることが多い。
【0006】本発明は、鋳型幅変更制御中においても、
安定に鋳型内湯面レベル制御ができる合理的な鋳型の湯
面レベル制御装置を提供することを目的としている。
安定に鋳型内湯面レベル制御ができる合理的な鋳型の湯
面レベル制御装置を提供することを目的としている。
【0007】[発明の構成]
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は鋳型内の溶融物
の湯面を検出するレベル検出器と、鋳型の略上部に設置
されて溶融物を前記鋳型に補給するタンディッシュ装置
と、このタンディッシュ装置からの溶融物の補給を制限
するタンディッシュストッパーと、このタンディッシュ
ストッパーの上下移動を行なうストッパー駆動装置と、
鋳型の幅寸法を変更する鋳型幅変更装置と、鋳型の幅変
更移動量を単位時間当りの移動量に換算し、鋳型体積と
単位時間当りの移動量められる体積の比から前記鋳型内
の湯面の変動分を求める演算回路と、この演算回路から
の出力によって開度補正値を算出する開度補正回路と、
この開度補正回路からの開度補正値によりレベル検出器
からの湯面値を補正し、ストッパー駆動装置を制御する
ストッパー位置制御回路とを具備してなる鋳型の湯面レ
ベル制御装置である。
の湯面を検出するレベル検出器と、鋳型の略上部に設置
されて溶融物を前記鋳型に補給するタンディッシュ装置
と、このタンディッシュ装置からの溶融物の補給を制限
するタンディッシュストッパーと、このタンディッシュ
ストッパーの上下移動を行なうストッパー駆動装置と、
鋳型の幅寸法を変更する鋳型幅変更装置と、鋳型の幅変
更移動量を単位時間当りの移動量に換算し、鋳型体積と
単位時間当りの移動量められる体積の比から前記鋳型内
の湯面の変動分を求める演算回路と、この演算回路から
の出力によって開度補正値を算出する開度補正回路と、
この開度補正回路からの開度補正値によりレベル検出器
からの湯面値を補正し、ストッパー駆動装置を制御する
ストッパー位置制御回路とを具備してなる鋳型の湯面レ
ベル制御装置である。
【0009】
【作用】本発明は、連続鋳造設備の鋳型内湯面制御にお
いて、鋳型幅変更装置の幅変更移動量を演算し、演算ユ
ニットの出力に応じてタンディッシュストッパー位置制
御に補正信号を与え、タンディッシュストッパーの開度
補正量を求め、ストッパー開度補正を行なう。
いて、鋳型幅変更装置の幅変更移動量を演算し、演算ユ
ニットの出力に応じてタンディッシュストッパー位置制
御に補正信号を与え、タンディッシュストッパーの開度
補正量を求め、ストッパー開度補正を行なう。
【0010】
【実施例】次に本発明の一実施例を説明する。図1は鋳
型1内の溶融物2の湯面を検出するレベル検出器7と、
鋳型1の略上部に設置されて溶融物2を鋳型1に補給す
るタンディッシュ装置3と、タンディッシュ装置3から
の溶融物2の補給を制限するタンディッシュストッパー
4と、タンディッシュストッパー4の上下移動を行なう
ストッパー駆動装置5と、鋳型1の幅寸法を変更する鋳
型幅変更装置9と、鋳型1の幅変更移動量を単位時間当
りの移動量に換算し、鋳型体積と単位時間当りの移動量
められる体積の比から鋳型1内の湯面の変動分を求める
演算回路10と、演算回路10からの出力によって開度
補正値を算出する開度補正回路11と、開度補正回路1
1からの開度補正値によりレベル検出器7からの湯面値
を補正し、ストッパー駆動装置5を制御するストッパー
駆動制御回路6とを具備してなる鋳型の湯面レベル制御
装置を示している。
型1内の溶融物2の湯面を検出するレベル検出器7と、
鋳型1の略上部に設置されて溶融物2を鋳型1に補給す
るタンディッシュ装置3と、タンディッシュ装置3から
の溶融物2の補給を制限するタンディッシュストッパー
4と、タンディッシュストッパー4の上下移動を行なう
ストッパー駆動装置5と、鋳型1の幅寸法を変更する鋳
型幅変更装置9と、鋳型1の幅変更移動量を単位時間当
りの移動量に換算し、鋳型体積と単位時間当りの移動量
められる体積の比から鋳型1内の湯面の変動分を求める
演算回路10と、演算回路10からの出力によって開度
補正値を算出する開度補正回路11と、開度補正回路1
1からの開度補正値によりレベル検出器7からの湯面値
を補正し、ストッパー駆動装置5を制御するストッパー
駆動制御回路6とを具備してなる鋳型の湯面レベル制御
装置を示している。
【0011】即ち、鋳型1内の溶融物2のレベルをレベ
ル検出器7により検出し、変換器8を少し鋳型1内の湯
面レベル信号をストッパ位置制御回路6にフィードバッ
クし、ストッパー駆動装置5を駆動しタンディッシュス
トッパー4の開度を制御することにより、鋳型1内の溶
融物2レベルが一定となる様にタンディッシュストッパ
ー4の開度制御を行なっている。そして、鋳型幅変更移
動量を演算する演算ユニット10およびその出力に応じ
てストッパー位置制御系6に開度補正を行なう開度補正
回路11が備えられている。演算ユニット10は、鋳型
幅変更移動量を単位時間当りの移動量に換算し、鋳型体
積と単位時間当りの移動量から求められる体積の比から
鋳型内湯面の変動分を求め、その演算結果を開度補正回
路11に与え、開度補正値をストッパー位置制御6に与
えることで、鋳型幅変更時の鋳型内湯面変動をおさえる
ことができ、安定した鋳型内湯面レベル制御を行なうこ
とができる。
ル検出器7により検出し、変換器8を少し鋳型1内の湯
面レベル信号をストッパ位置制御回路6にフィードバッ
クし、ストッパー駆動装置5を駆動しタンディッシュス
トッパー4の開度を制御することにより、鋳型1内の溶
融物2レベルが一定となる様にタンディッシュストッパ
ー4の開度制御を行なっている。そして、鋳型幅変更移
動量を演算する演算ユニット10およびその出力に応じ
てストッパー位置制御系6に開度補正を行なう開度補正
回路11が備えられている。演算ユニット10は、鋳型
幅変更移動量を単位時間当りの移動量に換算し、鋳型体
積と単位時間当りの移動量から求められる体積の比から
鋳型内湯面の変動分を求め、その演算結果を開度補正回
路11に与え、開度補正値をストッパー位置制御6に与
えることで、鋳型幅変更時の鋳型内湯面変動をおさえる
ことができ、安定した鋳型内湯面レベル制御を行なうこ
とができる。
【0012】
【発明の効果】本発明によれば、鋳型幅変更時にも安定
した鋳型内湯面レベル制御を行なうことができる。
した鋳型内湯面レベル制御を行なうことができる。
【図1】本発明の一実施例を示す湯面レベル制御装置の
構成図である。
構成図である。
1…鋳型
3…タンディッシュ装置
4…タンディッシュストッパ
5…ストッパー駆動装置
6…ストッパー位置制御回路
7…レベル検出器
9…鋳型幅変更駆動装置
10…演算回路
11…開度補正回路
Claims (1)
- 【請求項1】 鋳型内の溶融物の湯面を検出するレベ
ル検出器と、前記鋳型の略上部に設置されて前記溶融物
を前記鋳型に補給するタンディッシュ装置と、このタン
ディッシュ装置からの前記溶融物の補給を制限するタン
ディッシュストッパーと、このタンディッシュストッパ
ーの上下移動を行なうストッパー駆動装置と、前記鋳型
の幅寸法を変更する鋳型幅変更装置と、前記鋳型の幅変
更移動量を単位時間当りの移動量に換算し、鋳型体積と
単位時間当りの移動量められる体積の比から前記鋳型内
の湯面の変動分を求める演算回路と、この演算回路から
の出力によって開度補正値を算出する開度補正回路と、
この開度補正回路からの開度補正値により前記レベル検
出器からの湯面値を補正し、前記ストッパー駆動装置を
制御するストッパー位置制御回路とを具備してなる鋳型
の湯面レベル制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11648991A JPH04344860A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 鋳型の湯面レベル制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11648991A JPH04344860A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 鋳型の湯面レベル制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04344860A true JPH04344860A (ja) | 1992-12-01 |
Family
ID=14688393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11648991A Pending JPH04344860A (ja) | 1991-05-22 | 1991-05-22 | 鋳型の湯面レベル制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04344860A (ja) |
-
1991
- 1991-05-22 JP JP11648991A patent/JPH04344860A/ja active Pending
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