JPH04334284A - Traverse transfer fit system ccd solid-state image pickup element - Google Patents
Traverse transfer fit system ccd solid-state image pickup elementInfo
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- JPH04334284A JPH04334284A JP3105600A JP10560091A JPH04334284A JP H04334284 A JPH04334284 A JP H04334284A JP 3105600 A JP3105600 A JP 3105600A JP 10560091 A JP10560091 A JP 10560091A JP H04334284 A JPH04334284 A JP H04334284A
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Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】この発明は、横転送FIT(フレ
ームインタートランスファー)方式のCCD固体撮像素
子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lateral transfer FIT (frame inter transfer) type CCD solid-state imaging device.
【0002】0002
【従来の技術】従来、撮像領域に対して蓄積領域が水平
方向に並べて配された横転送FIT方式のCCD固体撮
像素子が提案されている(特開昭61−125077参
照)。図8は、横転送FIT方式のCCD固体撮像素子
の構成を示すものである。2. Description of the Related Art Hitherto, a lateral transfer FIT type CCD solid-state image sensing device has been proposed in which storage areas are arranged horizontally with respect to the imaging area (see Japanese Patent Laid-Open No. 125077/1983). FIG. 8 shows the configuration of a lateral transfer FIT type CCD solid-state image sensor.
【0003】同図において、1は撮像領域であり、SE
はフォトダイオードからなるセンサー、12は水平シフ
トレジスタである。水平シフトレジスタ12は、水平方
向のセンサー列の各々に対応して1個配されている。In the figure, 1 is an imaging area, and SE
12 is a sensor consisting of a photodiode, and 12 is a horizontal shift register. One horizontal shift register 12 is arranged corresponding to each sensor row in the horizontal direction.
【0004】各センサーSEに蓄積された信号電荷は水
平シフトレジスタ12に読み出され、高速で遮光された
蓄積領域2に転送される。その後、垂直方向に1ライン
分ずつ転送されて水平シフトレジスタ3に供給される。
そして、各センサーからの電荷は水平シフトレジスタ3
より水平走査の速度に合わせて信号検出部4に順次転送
され、信号検出部4より撮像信号が取り出される。[0004] The signal charges accumulated in each sensor SE are read out to a horizontal shift register 12 and transferred at high speed to a light-shielded accumulation region 2. Thereafter, the data is transferred vertically one line at a time and supplied to the horizontal shift register 3. Then, the charge from each sensor is transferred to the horizontal shift register 3.
The signals are sequentially transferred to the signal detecting section 4 in accordance with the horizontal scanning speed, and the imaging signals are taken out from the signal detecting section 4.
【0005】図9は撮像領域1の画素構造を示すもので
ある。同図において、101〜103はポリSi電極か
らなる転送電極であり、それぞれに転送パルスφ1〜φ
3が供給されて3相駆動される。106は水平シフトレ
ジスタ12を構成する転送チャネル、105はチャネル
ストップである。FIG. 9 shows the pixel structure of the imaging area 1. In the figure, reference numerals 101 to 103 are transfer electrodes made of poly-Si electrodes, and transfer pulses φ1 to φ are provided respectively.
3 is supplied and three-phase drive is performed. 106 is a transfer channel constituting the horizontal shift register 12, and 105 is a channel stop.
【0006】図10は転送パルスφ1〜φ3を示してお
り、転送期間の転送パルスφ1〜φ3は電位VL,VM
(VL<VM)の2値のパルスであるが、読み出し期間
の転送パルスφ3には電位VH(VH>VM)のリード
アウトパルスPRDが付加される。FIG. 10 shows transfer pulses φ1 to φ3, and the transfer pulses φ1 to φ3 during the transfer period are at potentials VL and VM.
Although it is a binary pulse of (VL<VM), a readout pulse PRD of potential VH (VH>VM) is added to the transfer pulse φ3 in the read period.
【0007】転送パルスφ3のパルスPRDによって、
転送電極101,102間に対応する転送チャネル10
6にセンサーSEから信号電荷が読み出される(矢印a
参照)。そして、信号電荷は転送パルスφ1〜φ3によ
って水平方向に転送される(矢印b参照)。この場合、
転送パルスφ1〜φ3の1周期Tでもって、1水平画素
ピッチ転送される。By pulse PRD of transfer pulse φ3,
Transfer channel 10 corresponding between transfer electrodes 101 and 102
6, the signal charge is read out from the sensor SE (arrow a
reference). Then, the signal charges are transferred in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ3 (see arrow b). in this case,
One horizontal pixel pitch is transferred in one period T of transfer pulses φ1 to φ3.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、撮像領域1
から蓄積領域2への転送は、スミアを少なくするために
、例えば水平ブランキング期間内に行なわれる。この場
合、例えば水平768画素であるとき、横フレームシフ
ト周波数は約1.6MHzにもなり、ドライバの駆動能
力および消費電力の面で不利である。また、素子自体の
特性においても、横フレームシフト周波数の高さからく
る転送劣化も無視できない。[Problem to be solved by the invention] By the way, imaging area 1
The transfer from to the storage area 2 is performed, for example, during a horizontal blanking period in order to reduce smear. In this case, for example, when there are 768 horizontal pixels, the horizontal frame shift frequency is as high as about 1.6 MHz, which is disadvantageous in terms of driver driving ability and power consumption. In addition, regarding the characteristics of the element itself, transfer deterioration caused by the high horizontal frame shift frequency cannot be ignored.
【0009】そこで、この発明では、横フレームシフト
周波数を低減することを目的とするものである。Therefore, it is an object of the present invention to reduce the horizontal frame shift frequency.
【0010】0010
【課題を解決するための手段】この発明は、各水平方向
のセンサー列の両側に水平シフトレジスタを配置し、セ
ンサー列の奇数番目および偶数番目のセンサーからの信
号電荷をそれぞれ一方および他方の水平シフトレジスタ
に読み出して転送するものである。[Means for Solving the Problems] The present invention arranges horizontal shift registers on both sides of each horizontal sensor row, and transfers signal charges from odd-numbered and even-numbered sensors of the sensor row to one and the other horizontal shift registers, respectively. It is read out and transferred to the shift register.
【0011】[0011]
【作用】水平方向のセンサー列の奇数番目および偶数番
目のセンサーからの信号電荷を、それぞれ一方および他
方に読み出して転送するので、信号電荷は転送パルスの
1周期Tで2水平画素ピッチ転送される。そのため、横
フレームシフト周波数を従来に比べて半減することが可
能となる。[Operation] The signal charges from the odd-numbered and even-numbered sensors in the horizontal sensor row are read out and transferred to one side and the other, respectively, so the signal charges are transferred by two horizontal pixel pitches in one period T of the transfer pulse. . Therefore, it is possible to reduce the horizontal frame shift frequency by half compared to the conventional method.
【0012】0012
【実施例】以下、図1を参照しながら、この発明の一実
施例について説明する。図1において、図8と対応する
部分には同一符号を付して示している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. In FIG. 1, parts corresponding to those in FIG. 8 are designated by the same reference numerals.
【0013】同図において、1は撮像領域であり、SE
はフォトダイオードからなるセンサー、12A,12B
は水平シフトレジスタである。水平方向のセンサー列の
各々の上下に水平シフトレジスタ12A,12Bが配さ
れる。In the figure, 1 is an imaging area, and SE
are sensors consisting of photodiodes, 12A, 12B
is a horizontal shift register. Horizontal shift registers 12A and 12B are arranged above and below each horizontal sensor row.
【0014】水平方向のセンサー列の奇数番目のセンサ
ーSEに蓄積された信号電荷は水平シフトレジスタ12
Aに読み出され(実線矢印参照)、一方偶数番目のセン
サーSEに蓄積された信号電荷は水平シフトレジスタ1
2Bに読み出される(破線矢印参照)。The signal charges accumulated in the odd-numbered sensors SE in the horizontal sensor row are transferred to the horizontal shift register 12.
A (see solid arrow), while the signal charges accumulated in even-numbered sensors SE are read out to horizontal shift register 1.
2B (see dashed arrow).
【0015】水平シフトレジスタ12A,12Bに読み
出された信号電荷は、遮光された蓄積領域2に、例えば
垂直ブランキング期間に高速で転送される。その後、垂
直方向に1ライン分ずつ転送される。この場合、奇数番
目のセンサーSEからの信号電荷と偶数番目のセンサー
SEからの信号電荷とが交互に並んだ状態で同一の垂直
シフトレジスタを使用し、各水平ブランキング期間に2
段ずつ転送される。The signal charges read out to the horizontal shift registers 12A and 12B are transferred to the light-shielded accumulation region 2 at high speed, for example, during the vertical blanking period. Thereafter, the data is transferred one line at a time in the vertical direction. In this case, the same vertical shift register is used with the signal charges from the odd-numbered sensors SE and the signal charges from the even-numbered sensors SE arranged alternately, and the signal charges from the even-numbered sensors SE are
Transferred step by step.
【0016】偶数番目のセンサーSEからの1ライン分
の信号電荷は水平シフトレジスタ3Aに供給され、さら
に水平トランスファーゲート5を介して水平シフトレジ
スタ3Bに供給される。一方、奇数番目のセンサーSE
からの1ライン分の信号電荷は水平シフトレジスタ3A
に供給される。One line of signal charges from even-numbered sensors SE is supplied to a horizontal shift register 3A, and further supplied to a horizontal shift register 3B via a horizontal transfer gate 5. On the other hand, the odd-numbered sensor SE
The signal charge for one line from is transferred to the horizontal shift register 3A.
is supplied to
【0017】各水平ブランキング期間に水平シフトレジ
スタ3A,3Bに供給される奇数番目、偶数番目のセン
サーSEからの1ライン分の信号電荷は、続く水平期間
に水平走査速度に合わせて信号検出部4A,4Bに順次
転送される。そして、信号検出部4A,4Bより、それ
ぞれ奇数番目、偶数番目のセンサーSEに係る撮像信号
が並行して取り出される。The signal charges for one line from the odd-numbered and even-numbered sensors SE supplied to the horizontal shift registers 3A and 3B during each horizontal blanking period are sent to the signal detection unit in accordance with the horizontal scanning speed during the subsequent horizontal period. It is sequentially transferred to 4A and 4B. Imaging signals related to odd-numbered and even-numbered sensors SE are then extracted in parallel from the signal detection units 4A and 4B, respectively.
【0018】図2は撮像領域1の画素構造の一例を示す
ものである。同図において、SEa,SEbは、それぞ
れ水平方向のセンサー列の奇数番目、偶数番目のセンサ
ーである。各水平方向のセンサー列のセンサーSEa,
SEbの上下には、それぞれ水平シフトレジスタ12A
,12Bを構成する水平方向に延びる転送チャネル10
6A,106Bが形成される。FIG. 2 shows an example of the pixel structure of the imaging area 1. In the figure, SEa and SEb are odd-numbered and even-numbered sensors in the horizontal sensor row, respectively. Sensor SEa of each horizontal sensor row,
Horizontal shift registers 12A are provided above and below SEb, respectively.
, 12B extending horizontally.
6A and 106B are formed.
【0019】転送チャネル106A,106Bのセンサ
ーSEa,SEb側とは逆側にはチャネルストップ10
5が形成される。センサーSEaとSEbの間、センサ
ーSEaの転送チャネル106B側(下側)およびセン
サーSEbの転送チャネル106A側(上側)にもチャ
ネルストップ105が形成される。これにより、センサ
ーSEaからの信号電荷は転送チャネル106Aのみに
、一方センサーSEbからの信号電荷は転送チャネル1
06Bのみに読み出されるように、読み出し方向が規制
される。A channel stop 10 is provided on the opposite side of the transfer channels 106A and 106B from the sensors SEa and SEb.
5 is formed. Channel stops 105 are also formed between sensors SEa and SEb, on the transfer channel 106B side (lower side) of sensor SEa and on the transfer channel 106A side (upper side) of sensor SEb. As a result, the signal charge from sensor SEa is transferred only to transfer channel 106A, while the signal charge from sensor SEb is transferred to transfer channel 106A.
The read direction is restricted so that the data is read only to 06B.
【0020】また、101〜103はポリSi電極から
なる垂直方向に延びる転送電極であり、電極101→1
02→103→101→・・・の順に水平方向に繰り返
し配される。この場合、1対のセンサーSEa,SEb
に対応して1組の転送電極103〜101が配され、転
送電極101〜103のセンサーSEa,SEbに対応
する部分は切り欠かれる。Further, 101 to 103 are transfer electrodes made of poly-Si electrodes and extending in the vertical direction.
They are repeatedly arranged in the horizontal direction in the order of 02→103→101→... In this case, a pair of sensors SEa, SEb
A set of transfer electrodes 103 to 101 is arranged corresponding to the transfer electrodes 103 to 101, and portions of the transfer electrodes 101 to 103 corresponding to the sensors SEa and SEb are cut out.
【0021】転送電極101〜103には、それぞれ転
送パルスφ1〜φ3が供給されて3相駆動される。Transfer electrodes 101 to 103 are supplied with transfer pulses φ1 to φ3, respectively, and are driven in three phases.
【0022】図3は転送パルスφ1〜φ3を示しており
、転送期間の転送パルスφ1〜φ3は電位VL,VM(
VL<VM)の2値のパルスであるが、読み出し期間の
転送パルスφ1,φ3には電位VH(VH>VM)のリ
ードアウトパルスPRDが付加される。FIG. 3 shows the transfer pulses φ1 to φ3, and the transfer pulses φ1 to φ3 during the transfer period are at the potentials VL, VM(
Although the pulses are binary pulses with VL<VM), a readout pulse PRD with a potential VH (VH>VM) is added to the transfer pulses φ1 and φ3 in the read period.
【0023】転送パルスφ1のパルスPRDによって転
送電極101に対応する転送チャネル106Bにセンサ
ーSEbから信号電荷が読み出される(矢印■参照)。
この信号電荷は転送パルスφ1〜φ3によって水平方向
に転送される。この信号電荷が転送電極103に対応す
る位置まで転送されるとき(矢印■参照)、転送パルス
φ3のパルスPRDによって転送電極103に対応する
転送チャネル106AにセンサーSEaから信号電荷が
読み出される(矢印■参照)。これにより、センサーS
Ea,SEbからの信号電荷が、それぞれ転送電極10
3に対応する転送チャネル106A,106Bに蓄積さ
れた状態となり、読み出しが完了する。A signal charge is read out from sensor SEb to transfer channel 106B corresponding to transfer electrode 101 by pulse PRD of transfer pulse φ1 (see arrow ■). This signal charge is transferred in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ3. When this signal charge is transferred to the position corresponding to the transfer electrode 103 (see the arrow ■), the signal charge is read out from the sensor SEa to the transfer channel 106A corresponding to the transfer electrode 103 by the pulse PRD of the transfer pulse φ3 (arrow ■ reference). As a result, sensor S
Signal charges from Ea and SEb are transferred to the transfer electrode 10, respectively.
3, and the reading is completed.
【0024】その後に、これらセンサーSEa,SEb
からの信号電荷は、転送パルスφ1〜φ3によって水平
方向に並行して転送される(矢印■参照)。この場合、
転送パルスφ1〜φ3の1周期Tで2水平画素ピッチ転
送される。[0024] After that, these sensors SEa, SEb
The signal charges from are transferred in parallel in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ3 (see arrow ■). in this case,
Two horizontal pixel pitches are transferred in one period T of transfer pulses φ1 to φ3.
【0025】次に、図4は撮像領域1の画素構造の他の
例を示すものである。同図において、図2と対応する部
分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する。Next, FIG. 4 shows another example of the pixel structure of the imaging area 1. In the figure, parts corresponding to those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted.
【0026】本例において、転送電極101(一点鎖線
図示),102(実線図示)は、それぞれ2層目、1層
目のポリSi電極で形成される。これら転送電極101
,102は、全体としては垂直方向に延びるように形成
され、電極101→102→101→・・・の順に水平
方向に繰り返し配される。In this example, the transfer electrodes 101 (shown with a dashed line) and 102 (shown with a solid line) are formed of second-layer and first-layer poly-Si electrodes, respectively. These transfer electrodes 101
, 102 are formed to extend in the vertical direction as a whole, and are repeatedly arranged in the horizontal direction in the order of electrodes 101→102→101→....
【0027】転送電極102は、センサーSEa,SE
bのそれぞれに対応する転送チャネル106A,106
Bの部分を覆うようにクランク状に配される。転送電極
101は、転送電極102と同様にクランク状とされ、
センサーSEaとSEbの中間に対応する転送チャネル
106A,106Bの部分を覆うように配される。The transfer electrode 102 is connected to the sensors SEa, SE
Transfer channels 106A, 106 corresponding to each of b
It is arranged in a crank shape to cover part B. The transfer electrode 101 is crank-shaped like the transfer electrode 102,
It is arranged so as to cover a portion of the transfer channels 106A, 106B corresponding to the middle between the sensors SEa and SEb.
【0028】また、転送電極103(破線図示)は3層
目のポリSi電極で構成される。この転送電極103は
、転送チャネル106A,106Bの双方を覆うように
水平方向に延びるように配される。Further, the transfer electrode 103 (indicated by a broken line) is composed of a third layer of poly-Si electrode. This transfer electrode 103 is arranged so as to extend in the horizontal direction so as to cover both transfer channels 106A and 106B.
【0029】また、1センサー列毎にセンサーSEaの
転送チャネル106B側(下側)および転送チャネル1
06A側(上側)に交互にチャネルストップ105が形
成されると共に、1センサー列毎にセンサーSEbの転
送チャネル106A側(上側)および転送チャネル10
6B側(下側)に交互にチャネルストップ105が形成
される。これにより、センサーSEaからの信号電荷は
1センサー列毎に転送チャネル106Aおよび106B
のみに、一方センサーSEbからの信号電荷は1センサ
ー列毎に転送チャネル106Bおよび106Aのみに読
み出されるように、読み出し方向が規制される。Furthermore, for each sensor row, the transfer channel 106B side (lower side) and transfer channel 1 of sensor SEa are
Channel stops 105 are formed alternately on the 06A side (upper side), and the transfer channel 106A side (upper side) and transfer channel 10 of sensor SEb are formed every sensor row.
Channel stops 105 are alternately formed on the 6B side (lower side). As a result, signal charges from sensor SEa are transferred to transfer channels 106A and 106B for each sensor column.
In addition, the readout direction is regulated so that signal charges from sensor SEb are read out only to transfer channels 106B and 106A for each sensor column.
【0030】本例は以上のように構成され、その他の構
成は図2の例と同様に構成される。This example is configured as described above, and the other configurations are the same as the example shown in FIG.
【0031】図5は転送パルスφ1〜φ3を示しており
、転送期間の転送パルスφ1〜φ3は電位VL,VM(
VL<VM)の2値のパルスであるが、読み出し期間の
転送パルスφ2には電位VH(VH>VM)のリードア
ウトパルスPRDが付加される。FIG. 5 shows the transfer pulses φ1 to φ3, and the transfer pulses φ1 to φ3 during the transfer period are at the potentials VL, VM(
Although it is a binary pulse of VL<VM), a readout pulse PRD of potential VH (VH>VM) is added to the transfer pulse φ2 in the read period.
【0032】転送パルスφ2のパルスPRDによって転
送電極102に対応する転送チャネル106A,106
Bに、それぞれセンサーSEa,SEb(あるいはSE
b,SEa)から信号電荷が同時に読み出されて蓄積さ
れ(矢印■参照)、読み出しが完了する。Transfer channels 106A and 106 corresponding to transfer electrode 102 are activated by pulse PRD of transfer pulse φ2.
B, sensors SEa and SEb (or SE
The signal charges are simultaneously read out from SEa) and accumulated (see arrow ■), and the readout is completed.
【0033】その後に、これらセンサーSEa,SEb
からの信号電荷は、転送パルスφ1〜φ3によって水平
方向に並行して転送される(矢印■参照)。この場合も
、図2の例と同様に転送パルスφ1〜φ3の1周期Tで
2水平画素ピッチ転送される。[0033] After that, these sensors SEa, SEb
The signal charges from are transferred in parallel in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ3 (see arrow ■). In this case, as in the example of FIG. 2, two horizontal pixel pitches are transferred in one period T of transfer pulses φ1 to φ3.
【0034】次に、図6は撮像領域1の画素構造のさら
に他の例を示すものである。同図において、図2と対応
する部分には同一符号を付し、その詳細説明は省略する
。Next, FIG. 6 shows still another example of the pixel structure of the imaging area 1. In the figure, parts corresponding to those in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted.
【0035】本例において、101〜104はポリSi
電極からなる垂直方向に延びる転送電極であり、電極1
01→102→103→104→101→・・・の順で
水平方向に繰り返し配される。転送電極101〜104
には、それぞれ転送パルスφ1〜φ4が供給されて4相
駆動される。In this example, 101 to 104 are poly-Si
A vertically extending transfer electrode consisting of electrodes, electrode 1
They are repeatedly arranged in the horizontal direction in the order of 01→102→103→104→101→... Transfer electrodes 101 to 104
are respectively supplied with transfer pulses φ1 to φ4 and driven in four phases.
【0036】この場合、1対のセンサーSEa,SEb
に対応して1組の転送電極104〜101が配され、転
送電極104〜101のセンサーSEa,SEbに対応
する部分は切り欠かれる。In this case, a pair of sensors SEa, SEb
A set of transfer electrodes 104 to 101 are arranged corresponding to the transfer electrodes 104 to 101, and portions of the transfer electrodes 104 to 101 corresponding to the sensors SEa and SEb are cut out.
【0037】本例は以上のように構成され、その他の構
成は図2の例と同様に構成される。This example is configured as described above, and the other configurations are similar to the example shown in FIG.
【0038】図7は転送パルスφ1〜φ4を示しており
、転送パルスφ1〜φ4の転送期間は電位VL,VM(
VL<VM)の2値のパルスであるが、読み出し期間の
転送パルスφ1〜φ4には電位VH(VH>VM)のリ
ードアウトパルスPRDが付加される。FIG. 7 shows the transfer pulses φ1 to φ4, and the transfer period of the transfer pulses φ1 to φ4 is at the potentials VL, VM(
Although the pulses are binary pulses with VL<VM), a readout pulse PRD with a potential VH (VH>VM) is added to the transfer pulses φ1 to φ4 in the read period.
【0039】転送パルスφ1,φ2のパルスPRDによ
って転送電極101,102に対応する転送チャネル1
06BにセンサーSEbから信号電荷が読み出される(
矢印■参照)。この信号電荷は転送パルスφ1〜φ4に
よって水平方向に転送される。この信号電荷が転送電極
103,104に対応する位置まで転送されるとき(矢
印■参照)、転送パルスφ3,φ4のパルスPRDによ
って転送電極103,104に対応する転送チャネル1
06AにセンサーSEaから信号電荷が読み出される(
矢印■参照)。これにより、センサーSEa,SEbか
らの信号電荷が、それぞれ転送電極103,104に対
応する転送チャネル106A,106Bに蓄積された状
態となり、読み出しが完了する。Transfer channel 1 corresponding to transfer electrodes 101 and 102 by pulse PRD of transfer pulses φ1 and φ2
At 06B, signal charges are read out from sensor SEb (
(See arrow ■). This signal charge is transferred in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ4. When this signal charge is transferred to the position corresponding to the transfer electrodes 103, 104 (see arrow ■), the transfer channel 1 corresponding to the transfer electrodes 103, 104 is
Signal charges are read out from sensor SEa at 06A (
(See arrow ■). As a result, signal charges from sensors SEa and SEb are accumulated in transfer channels 106A and 106B corresponding to transfer electrodes 103 and 104, respectively, and reading is completed.
【0040】その後に、これらセンサーSEa,SEb
からの信号電荷は、転送パルスφ1〜φ4によって水平
方向に並行して転送される(矢印■参照)。この場合も
、図2の例と同様に転送パルスφ1〜φ4の1周期Tで
2水平画素ピッチ転送される。[0040] After that, these sensors SEa, SEb
The signal charges from are transferred in parallel in the horizontal direction by transfer pulses φ1 to φ4 (see arrow ■). In this case as well, two horizontal pixel pitches are transferred in one period T of the transfer pulses φ1 to φ4, as in the example of FIG.
【0041】このように本例によれば、転送パルスφ1
〜φ3(φ1〜φ4)の1周期Tで2水平画素ピッチ転
送されるので、図8の例に比べて横フレーム周波数を1
/2とすることができる。これにより、ドライバの駆動
能力および消費電力の面で有利となり、素子自体の転送
劣化も少なくできる。As described above, according to this example, the transfer pulse φ1
Since 2 horizontal pixel pitches are transferred in one cycle T of ~φ3 (φ1 to φ4), the horizontal frame frequency is reduced by 1 compared to the example in FIG.
/2. This is advantageous in terms of driving ability and power consumption of the driver, and also reduces transfer deterioration of the element itself.
【0042】また、図6の例のように4相駆動するもの
によれば、センサーSEa,SEbからの信号電荷は、
それぞれ2つの転送電極に対応する転送チャネル106
A,106Bに読み出して蓄積できるので、図2、図4
の例のように3相駆動するものに比べて横転送取扱電荷
量が50%も増大する。Furthermore, according to the four-phase drive as in the example shown in FIG. 6, the signal charges from the sensors SEa and SEb are
Transfer channels 106 each corresponding to two transfer electrodes
A, 106B can be read and stored, so the data in Figures 2 and 4 can be read and stored.
The amount of charge handled by lateral transfer increases by 50% compared to the case of three-phase driving as in the example shown in FIG.
【0043】[0043]
【発明の効果】この発明によれば、各水平方向のセンサ
ー列の両側に水平シフトレジスタを配置し、センサー列
の奇数番目および偶数番目のセンサーからの信号電荷を
それぞれ一方および他方の水平シフトレジスタに読み出
して転送するので、信号電荷は転送パルスの1周期で2
水平画素ピッチ転送することができ、横フレームシフト
周波数を従来に比べて半減することができる。これによ
り、ドライバの駆動能力および消費電力の面で有利とな
り、素子自体の転送劣化も少なくできる。According to the present invention, horizontal shift registers are arranged on both sides of each horizontal sensor row, and signal charges from odd-numbered and even-numbered sensors in the sensor row are transferred to one and the other horizontal shift registers, respectively. Since the signal charge is read out and transferred to
The horizontal pixel pitch can be transferred, and the horizontal frame shift frequency can be halved compared to the conventional method. This is advantageous in terms of driving ability and power consumption of the driver, and also reduces transfer deterioration of the element itself.
【図1】実施例の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an embodiment.
【図2】撮像領域の画素構造を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a pixel structure of an imaging area.
【図3】転送パルスを示す図である。FIG. 3 is a diagram showing transfer pulses.
【図4】撮像領域の画素構造を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a pixel structure of an imaging area.
【図5】転送パルスを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing transfer pulses.
【図6】撮像領域の画素構造を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a pixel structure of an imaging area.
【図7】転送パルスを示す図である。FIG. 7 is a diagram showing transfer pulses.
【図8】従来例の構成を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the configuration of a conventional example.
【図9】撮像領域の画素構造を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a pixel structure of an imaging area.
【図10】転送パルスを示す図である。FIG. 10 is a diagram showing transfer pulses.
1 撮像領域
2 蓄積領域
3A,3B,12A,12B 水平シフトレジスタ4
A,4B 信号検出部
5 水平トランスファーゲート
101〜104 転送電極
105 チャネルストップ
106A,106B 転送チャネル
SE,SEa,SEb センサー1 Imaging area 2 Accumulation area 3A, 3B, 12A, 12B Horizontal shift register 4
A, 4B Signal detection unit 5 Horizontal transfer gates 101 to 104 Transfer electrode 105 Channel stop 106A, 106B Transfer channel SE, SEa, SEb Sensor
Claims (1)
シフトレジスタを配置し、上記センサー列の奇数番目お
よび偶数番目のセンサーからの信号電荷をそれぞれ一方
および他方の上記水平シフトレジスタに読み出して転送
することを特徴とする横転送FIT方式CCD固体撮像
素子。1. Horizontal shift registers are arranged on both sides of each horizontal sensor row, and signal charges from odd-numbered and even-numbered sensors in the sensor row are read out and transferred to one and the other horizontal shift register, respectively. A lateral transfer FIT type CCD solid-state image pickup device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3105600A JPH04334284A (en) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | Traverse transfer fit system ccd solid-state image pickup element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3105600A JPH04334284A (en) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | Traverse transfer fit system ccd solid-state image pickup element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04334284A true JPH04334284A (en) | 1992-11-20 |
Family
ID=14411993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3105600A Pending JPH04334284A (en) | 1991-05-10 | 1991-05-10 | Traverse transfer fit system ccd solid-state image pickup element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04334284A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6160580A (en) * | 1996-09-25 | 2000-12-12 | Nec Corporation | CCD image sensor having two-layered electrode structure |
-
1991
- 1991-05-10 JP JP3105600A patent/JPH04334284A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6160580A (en) * | 1996-09-25 | 2000-12-12 | Nec Corporation | CCD image sensor having two-layered electrode structure |
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