JPH04330750A - Semiconductor inspection method and device - Google Patents

Semiconductor inspection method and device

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Publication number
JPH04330750A
JPH04330750A JP3065322A JP6532291A JPH04330750A JP H04330750 A JPH04330750 A JP H04330750A JP 3065322 A JP3065322 A JP 3065322A JP 6532291 A JP6532291 A JP 6532291A JP H04330750 A JPH04330750 A JP H04330750A
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JP
Japan
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needle
semiconductor
plate
mounting table
trace
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3065322A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiaki Akasaka
赤坂 趣明
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Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Yamanashi Ltd filed Critical Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Publication of JPH04330750A publication Critical patent/JPH04330750A/en
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Abstract

PURPOSE:To automatically align a semiconductor device to be inspected for bringing an inspecting probe in contact with a lead of the semiconductor device. CONSTITUTION:An alignment plate 5 is fed from a plate feeding means 6 to the semiconductor device mounting position on a mounting base 22 and then the plate 5 and an inspecting probe are pressure-welded to exhibit an alignment probe trace. Next, the probe trace is detected by a probe trace detector 32 so as to store the date on the probe trace as image data by a probe trace memory 33. Next, a driving part 54 is operated according to the image data to make alignment of the semiconductor device 1 mounted on the base 22. Finally, the semiconductor device 1 can be brought into contact with an inspecting probe so as to inspect the various electrical characteristics of the semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は半導体検査方法及びそ
の装置に関するもので、更に詳細には、半導体素子を自
動的に位置合せして、電気的諸特性を検査する半導体検
査方法及びその装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor testing method and device, and more particularly, to a semiconductor testing method and device for automatically aligning semiconductor elements and testing various electrical characteristics. It is something.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、パッケージされた半導体素子は
、1つずつ検査工程に供給され、一定のテスト環境(定
温・室温・高温)の中で半導体素子のリードとテスタの
電気信号を接続して電気的諸特性が検査されている。
[Prior Art] Generally, packaged semiconductor devices are supplied one by one to an inspection process, and the leads of the semiconductor devices are connected to the electrical signals of a tester in a constant test environment (constant temperature, room temperature, high temperature). Electrical characteristics have been tested.

【0003】すなわち、複数個のパッケージ済み半導体
素子が収納されたトレイから1つずつ半導体素子を取り
出して検査用ステージに供給し、検査用ステージにおい
て、位置合せされた半導体素子をテストヘッドの下方ま
で移動した後、半導体素子のリードに検査針を接触させ
て、半導体素子の電気的諸特性を検査している。
That is, semiconductor devices are taken out one by one from a tray containing a plurality of packaged semiconductor devices and supplied to an inspection stage, and on the inspection stage, the aligned semiconductor devices are moved below the test head. After moving, the test needle is brought into contact with the leads of the semiconductor element to test the electrical characteristics of the semiconductor element.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の検査方法においては、検査用ステージに供給さ
れた半導体素子のリードと検査針とを接触させるための
位置合せをオペレータがマイクロスコープ等を用いて目
視により行い、検査用ステージの載置台の駆動系の再現
精度により以後の半導体素子のリード検査針との位置合
せを行っていた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in this type of conventional inspection method, an operator uses a microscope or the like to align the leads of the semiconductor device supplied to the inspection stage and the inspection needle. The lead inspection needle of the semiconductor device was subsequently aligned with the lead inspection needle based on the reproducibility of the drive system of the mounting table of the inspection stage.

【0005】したがって、従来のこの種の検査において
は、熟練を要し、また、位置合せに細心の注意を要する
ので、検査効率が低下するという問題があった。しかも
、目視による位置合せのため、精度誤差が生じて検査の
信頼性が低下するという問題もあった。
[0005] Therefore, in this type of conventional inspection, skill is required and careful attention is required for positioning, which has resulted in a problem of reduced inspection efficiency. Moreover, since the positioning is done by visual inspection, there is a problem in that accuracy errors occur and the reliability of the inspection is reduced.

【0006】この発明は上記事情に鑑みなされたもので
、半導体素子のリードと検査針との位置合せを自動的に
行い、検査の効率及び信頼性の向上を図れるようにした
半導体検査方法及びその装置を提供することを目的とす
るものである。
The present invention was made in view of the above circumstances, and provides a semiconductor testing method and its method that automatically aligns the leads of a semiconductor element and a testing needle to improve testing efficiency and reliability. The purpose is to provide a device.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第1の半導体検査方法は、水平及び垂直
方向に移動自在な載置台上に載置される半導体素子のリ
ードに検査針を接触させて、半導体素子の電気的諸特性
を検査する半導体検査方法を前提とし、上記載置台上の
半導体素子載置位置に供給される位置決め用のプレート
と検査針とを圧接して検査載置の針跡を形成し、上記針
跡を検出すると共に、画像情報として記憶し、上記針跡
のデータに基いて上記載置台上に載置される半導体素子
を位置合せして半導体素子のリードに上記検査針を位置
合せすることを特徴とするものである。また、この発明
の第2の半導体検査装置は、上記半導体検査方法を具現
化するものにおいて、上記載置台上の半導体載置位置に
位置決め用のプレートを供給するプレート供給手段と、
上記プレート上に検査針の針跡を形成する針跡形成手段
と、上記プレート上に形成された針跡を検出する針跡検
出手段と、上記針跡検出手段からの信号を受けて針跡を
画像情報として記憶する針跡記憶手段と、上記針跡記憶
手段からの針跡データに基いて半導体素子を位置合せす
る位置合せ手段とを具備するものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a first semiconductor testing method of the present invention tests the leads of a semiconductor device placed on a mounting table that is movable in horizontal and vertical directions. The semiconductor testing method is based on a semiconductor testing method that tests the electrical characteristics of a semiconductor device by bringing a needle into contact with it, and the test is performed by pressing the test needle against a positioning plate that is supplied to the semiconductor device mounting position on the mounting table mentioned above. A placement needle trace is formed, the needle trace is detected and stored as image information, and the semiconductor element placed on the mounting table is aligned based on the data of the needle trace, and the semiconductor element is aligned. This method is characterized by aligning the test needle with the lead. Further, a second semiconductor testing device of the present invention embodies the semiconductor testing method described above, and includes plate supply means for supplying a positioning plate to the semiconductor mounting position on the mounting table;
a needle trace forming means for forming a needle trace of a test needle on the plate; a needle trace detecting means for detecting the needle trace formed on the plate; and a needle trace detecting means for detecting the needle trace in response to a signal from the needle trace detecting means. The apparatus includes a needle trace storage means for storing image information, and a positioning means for aligning the semiconductor element based on the needle trace data from the needle trace storage means.

【0008】この発明において、上記プレートは半導体
素子のリードの検査針位置に検査針によって針跡が形成
されるものであれば、金属等の反射率の高い不透明部材
又は透明性部材がよく、更に好ましくは例えばポリカー
ボネート等の透明性の合成樹脂部材とする方がよい。こ
の場合、載置台の少なくともプレート載置部の上面を鏡
面とする方が好ましく、また、上記針跡検出手段を、プ
レートの針跡に向って照射された光源からの反射光を検
出する光検出手段にて形成する方がよい。
In the present invention, the plate is preferably made of an opaque or transparent material with high reflectance such as metal, as long as a needle mark is formed by the test needle at the test needle position of the lead of the semiconductor element. It is preferable to use a transparent synthetic resin member such as polycarbonate. In this case, it is preferable that at least the upper surface of the plate placement part of the mounting table is made into a mirror surface, and the needle mark detection means is a light detector that detects reflected light from a light source irradiated toward the needle marks on the plate. It is better to form it by means.

【0009】上記プレート供給手段はプレートを載置台
上の半導体素子載置位置に搬送するものであれば、プレ
ート専用の供給手段あるいは半導体素子供給手段との併
用のいずれであってもよい。
The plate supply means may be a dedicated plate supply means or may be used in combination with a semiconductor element supply means, as long as it conveys the plate to the semiconductor element mounting position on the mounting table.

【0010】上記針跡形成手段はプレートと検査針とを
圧接して針跡を形成するものであれば、検査針をプレー
トに向って圧接するもの、あるいは、載置台と共にプレ
ートを検査針に圧接するもののいずれであってもよい。
[0010] The needle trace forming means may be one that presses the test needle against the plate to form the needle trace, or one that presses the test needle against the plate, or one that presses the plate together with the mounting table against the test needle. It can be any of the following.

【0011】また、上記針跡記憶手段は針跡検出手段か
らの信号を受けて針跡を画像情報として記憶するもので
あれば任意のものでよく、例えば中央演算処理装置(C
PU)にて形成できる。
The needle track storage means may be of any type as long as it receives a signal from the needle track detection means and stores the needle track as image information, for example, a central processing unit (C
It can be formed from PU).

【0012】加えて、上記位置合せ手段は針跡記憶手段
からの針跡データに基いて半導体素子を位置合せするも
のであれば任意のものでよく、例えばCPUからの指令
を受けて載置台の移動機構を制御する載置台駆動部にて
形成することができる。
In addition, the above-mentioned positioning means may be of any type as long as it aligns the semiconductor element based on the needle track data from the needle track storage means. It can be formed by a mounting table drive unit that controls the moving mechanism.

【0013】[0013]

【作用】上記のように構成することにより、載置台上の
半導体素子載置位置に供給された位置合せ用のプレート
と検査針とが圧接して針跡を形成し、この針跡を検出し
て画像情報として記憶し、そして、針跡のデータに基い
て載置台上に載置される半導体素子を位置合せして、半
導体素子のリードに検査針を正確に位置合せすることが
できる。この場合、プレートを透明性部材にて形成する
と共に、載置台の少なくともプレート載置部の上面を鏡
面とし、かつ、透明性部材に形成された針跡に光を照射
し、その反射光を検出することにより、針跡を正確に検
出することができ、半導体素子のリードと検査針とを高
精度に位置合せすることができる。
[Operation] With the above configuration, the alignment plate supplied to the semiconductor element mounting position on the mounting table and the inspection needle come into pressure contact to form a needle mark, and this needle mark is detected. Then, the semiconductor device mounted on the mounting table is aligned based on the data of the needle trace, and the test needle can be accurately aligned with the leads of the semiconductor device. In this case, the plate is made of a transparent material, at least the top surface of the plate placement part of the mounting table is made a mirror surface, and light is irradiated onto the needle mark formed on the transparent material, and the reflected light is detected. By doing so, the trace of the needle can be detected accurately, and the lead of the semiconductor element and the test needle can be aligned with high precision.

【0014】[0014]

【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Examples of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0015】図1はこの発明に係る半導体検査装置の平
面図、図2はその側面図が示されている。
FIG. 1 is a plan view of a semiconductor inspection apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a side view thereof.

【0016】この発明の半導体検査装置は半導体素子1
の搬送部2と検査部3とで構成されており、これら搬送
部2と検査部3は防振機構を有する接続部材4にて連結
されている。
[0016] The semiconductor inspection device of the present invention
The transport section 2 and the inspection section 3 are connected by a connecting member 4 having an anti-vibration mechanism.

【0017】搬送部2には、未検査の半導体素子1及び
位置合せ用のプレート5の供給部6と、検査後の半導体
素子1及びプレート5の取出し部7が設けられており、
複数個の半導体素子1を収容するトレイ8から未検査半
導体素子1を1つずつ取り出し、検査終了後の半導体素
子1を空きトレイ8に順次収納するようになっている。 なお、供給部側の最初のトレイ8には半導体素子1と共
にプレート5が収容されており、半導体素子1の供給前
にプレート5が検査部3に搬送されるようになっている
The transport section 2 is provided with a supply section 6 for untested semiconductor elements 1 and alignment plates 5, and a take-out section 7 for semiconductor elements 1 and plates 5 after inspection.
Untested semiconductor devices 1 are taken out one by one from a tray 8 that accommodates a plurality of semiconductor devices 1, and the semiconductor devices 1 after testing are sequentially stored in empty trays 8. Note that the first tray 8 on the supplying section side accommodates a plate 5 together with the semiconductor element 1, and the plate 5 is transported to the inspection section 3 before the semiconductor element 1 is supplied.

【0018】この場合、供給部6には、複数個の未検査
半導体素子1をマトリックス状に収容するトレイ8が複
数枚積層されており、これらトレイ8は上下方向に昇降
可能に配設されている。トレイ8は、図3に示すように
、その表面には適宜間隔をおいてマトリックス状に矩形
状の収容凹所8aが設けられている。そして、収容凹所
8aの1つにプレート5が収容され、残りの全てには半
導体素子1が収容されている。
In this case, a plurality of trays 8 for accommodating a plurality of untested semiconductor devices 1 in a matrix are stacked in the supply section 6, and these trays 8 are arranged to be vertically movable. There is. As shown in FIG. 3, the tray 8 has rectangular accommodation recesses 8a arranged in a matrix at appropriate intervals on its surface. The plate 5 is accommodated in one of the accommodation recesses 8a, and the semiconductor elements 1 are accommodated in all the remaining recesses.

【0019】また、供給部6の最上段のトレイ8の上方
には、トレイ8からプレート5及び半導体素子1を1個
ずつロードテーブル9に搬送する搬送機構10が設けら
れている。この搬送機構10は、供給部6の上方におい
てY方向に延在する搬送腕11をXステージ12に沿っ
てX方向に移動可能に取り付けると共に、搬送腕11に
半導体素子1の垂直方向(Z方向)移動機構を有する保
持部13を搬送腕11に沿ってY方向に移動可能に取り
付けた構造となっている。
Further, above the uppermost tray 8 of the supply section 6, a transport mechanism 10 is provided for transporting the plates 5 and semiconductor elements 1 one by one from the tray 8 to the load table 9. This transport mechanism 10 has a transport arm 11 that extends in the Y direction above the supply section 6 and is movably attached to the transport arm 11 in the X direction along an X stage 12. ) The holding part 13 having a moving mechanism is attached so as to be movable in the Y direction along the transport arm 11.

【0020】この場合、Xステージ12は、例えばLM
ガイドとボールねじ又はタイミングベルト等で構成され
ている。また、保持部13は、先端が例えばゴム製の吸
着体となっており、真空吸着することにより、半導体素
子1又はプレート5をトレイ8から取り出すと共に、保
持してロードテーブル9まで移送するようになっている
In this case, the X stage 12 is, for example, LM
It consists of a guide and a ball screw or timing belt. Further, the holding section 13 has an adsorbent made of rubber at the tip thereof, and by vacuum adsorption, it takes out the semiconductor element 1 or the plate 5 from the tray 8, and also holds it and transfers it to the load table 9. It has become.

【0021】取出し部7は検査済みの半導体素子1をア
ンロードテーブル14から搬入機構15によって空のト
レイ8に移送するものである。搬入機構15は搬送機構
10と同様に、Xステージ12に沿ってX方向に移動可
能な搬送腕11と、この搬送腕11に沿ってY方向に移
動可能な吸着保持部13とで構成されてされており、ア
ンロードテーブル14上に載置された検査済みの半導体
素子1を真空吸着して保持すると共に、取出し部7の最
上段のトレイ8の空いている場所に移送するようになっ
ている。
The take-out section 7 is for transferring the inspected semiconductor device 1 from the unloading table 14 to an empty tray 8 by means of a carry-in mechanism 15. Like the transport mechanism 10, the carry-in mechanism 15 is composed of a transport arm 11 that is movable in the X direction along the X stage 12, and a suction holding section 13 that is movable in the Y direction along this transport arm 11. The inspected semiconductor device 1 placed on the unloading table 14 is held by vacuum suction, and is transferred to an empty space on the tray 8 at the top of the takeout section 7. There is.

【0022】上記のように構成される供給部6と取出し
部7には基台16が架設されており、この基台16には
半導体素子ダブル移送機構17がY方向及びZ方向に移
動可能に取り付けられている。そして、この半導体素子
ダブル移送機構17には、ロードテーブル9とアンロー
ドテーブル14との間の距離の1/2の距離を隔てて、
真空吸着により半導体素子1を吸着して保持する吸着保
持部18,18が取り付けられている。したがって、ロ
ードテーブル9とアンロードテーブル14との間の中心
位置に設けられる検査用ステージ20に対して、ロード
テーブル9上の未検査半導体素子1と検査用ステージ2
0上の検査済みの半導体素子1を同時に吸着保持して、
上記1/2の距離だけY方向に移送することにより、未
検査半導体素子1は検査用ステージ20に、検査済み半
導体素子1はアンロードテーブル14に、それぞれ移送
することができる。
A base 16 is installed between the supply section 6 and the take-out section 7 configured as described above, and a semiconductor element double transfer mechanism 17 is mounted on this base 16 so as to be movable in the Y direction and the Z direction. installed. The semiconductor element double transfer mechanism 17 is provided with a distance that is half the distance between the load table 9 and the unload table 14.
Attached are suction holding parts 18, 18 that suction and hold the semiconductor element 1 by vacuum suction. Therefore, with respect to the inspection stage 20 provided at the center position between the load table 9 and the unload table 14, the untested semiconductor device 1 on the load table 9 and the inspection stage
At the same time, the inspected semiconductor device 1 on top of 0 is held by suction,
By transferring the above-mentioned 1/2 distance in the Y direction, the untested semiconductor device 1 can be transferred to the testing stage 20, and the tested semiconductor device 1 can be transferred to the unloading table 14, respectively.

【0023】なお、ロードテーブル9の上方には、プリ
アライメント用画像認識装置19が設けられている。ま
た、取出し部7の半導体搬送経路の途中の下方には、検
査の結果、不良品とされた半導体素子1を収容するため
の不良素子収容箱21が設けられている。また、供給部
6と取出し部7との間には、供給部6で空になったトレ
イ8を取出し部7に搬送する途中で一旦待機させるトレ
イバッファ機構39が設けられている。
Note that above the load table 9, a pre-alignment image recognition device 19 is provided. In addition, a defective element storage box 21 is provided at a lower portion of the semiconductor transport path of the take-out section 7 for accommodating semiconductor elements 1 that are determined to be defective as a result of inspection. Further, a tray buffer mechanism 39 is provided between the supply section 6 and the take-out section 7 , and the tray buffer mechanism 39 temporarily waits for the empty tray 8 in the supply section 6 to be conveyed to the take-out section 7 .

【0024】一方、検査部3は、載置台22と、この載
置台22を水平及び垂直すなわちX,Y,Z及びθ(X
,Y平面上における回転)方向に位置調整する移動機構
23とで構成されており、載置台22が図1及び図2で
一点鎖線で示す半導体素子1のロード・アンロード位置
P1 、点線で示す位置合せ位置P2 及び実線で示す
検査位置P3 に移動可能となっている。また、載置台
22は位置合せ手段である駆動部34により移動機構2
3が作動されることによって位置合せ制御される。
On the other hand, the inspection section 3 uses the mounting table 22 and the mounting table 22 horizontally and vertically, that is, X, Y, Z and θ(X
, rotation on the Y plane) and a moving mechanism 23 that adjusts the position in the direction (rotation on the Y plane), and the mounting table 22 is at the load/unload position P1 of the semiconductor element 1 shown by the dashed line in FIGS. 1 and 2, and shown by the dotted line. It is possible to move to an alignment position P2 and an inspection position P3 shown by a solid line. Further, the mounting table 22 is moved to the moving mechanism 2 by a drive unit 34 which is a positioning means.
3 is operated, the alignment is controlled.

【0025】載置台22は、図4に示すように、その表
面に半導体素子1又はプレート5を所定の位置に載置す
る4つの載置凹所24が中心に関して対称な同心円上に
設けられ、少なくとも載置凹所24の底面は鏡面25と
なっている。したがって、4つの半導体素子1を同時に
収容することができる。また、プレート5は、例えばポ
リカーボネート等の透明性合成樹脂製部材にて形成され
ており、この透明のプレート5を載置台22の鏡面25
上に載置することによって後述するように針跡26の検
出を容易かつ正確に行うことができるようになっている
。また、プレート5は低廉に製造できるので、使い捨て
が可能である。
As shown in FIG. 4, the mounting table 22 has four mounting recesses 24 arranged on a concentric circle symmetrical about the center on its surface, in which the semiconductor element 1 or the plate 5 is placed at a predetermined position. At least the bottom surface of the mounting recess 24 is a mirror surface 25. Therefore, four semiconductor elements 1 can be accommodated at the same time. The plate 5 is made of a transparent synthetic resin member such as polycarbonate, and the transparent plate 5 is placed on the mirror surface 25 of the mounting table 22.
By placing the needle mark 26 on top, the needle mark 26 can be easily and accurately detected as described later. Furthermore, since the plate 5 can be manufactured at low cost, it can be disposable.

【0026】検査位置P3 の上方にはテストヘッド2
7が配設されており、このテストヘッド27の下部に取
り付けられるプローブカード28から下方に向って検査
針29が突出している。この検査位置P3 において、
針跡形成手段である移動機構23によって載置台22が
上昇することにより、載置台22上に載置されるプレー
ト5と検査針29とが圧接されてプレート5の上面に半
導体素子1のリード1aに対応した針跡26が形成され
(図6及び図7参照)、また、検査時に検査針29が半
導体素子1のリード1aに接触するようになっている(
図8参照)。
[0026] Above the inspection position P3, there is a test head 2.
A test needle 29 protrudes downward from a probe card 28 attached to the lower part of the test head 27. At this inspection position P3,
When the mounting table 22 is raised by the moving mechanism 23, which is a needle trace forming means, the plate 5 placed on the mounting table 22 and the test needle 29 are brought into pressure contact, and the leads 1a of the semiconductor element 1 are formed on the upper surface of the plate 5. A needle trace 26 corresponding to the pattern is formed (see FIGS. 6 and 7), and the test needle 29 comes into contact with the lead 1a of the semiconductor element 1 during inspection (see FIGS. 6 and 7).
(See Figure 8).

【0027】位置合せ位置P2 には、図5に示すよう
に、プレート5に形成された針跡26に向って光を照射
する発光ダイオード等の光源30と、プレート5から反
射された光を検知するフォトセンサ31とを具備する針
跡検出手段32が設けられている。この場合、針跡検出
手段32は光源30の光軸を針跡26にほぼ直角に照射
する明視野照明によって針跡26の位置が検出される。 このように構成される針跡検出手段32にて検出された
情報信号がCPU33にて比較データとして記憶される
。更に、CPU33に予め記憶された比較データと画像
情報とが比較演算され、そのデータに基いて駆動部34
が作動して移動機構23が制御されて半導体素子1が位
置決めされる。図5において、符号35はハーフミラー
、符号36は収束レンズ、符号37は対物レンズである
At the alignment position P2, as shown in FIG. 5, there is a light source 30 such as a light emitting diode that emits light toward the needle mark 26 formed on the plate 5, and a light source 30 that detects the light reflected from the plate 5. A needle trace detection means 32 is provided, which includes a photosensor 31 that detects the needle trace. In this case, the needle mark detection means 32 detects the position of the needle mark 26 using bright field illumination that illuminates the optical axis of the light source 30 substantially perpendicularly to the needle mark 26. The information signal detected by the needle trace detection means 32 configured as described above is stored in the CPU 33 as comparison data. Further, the comparison data stored in advance in the CPU 33 and the image information are compared, and based on the data, the drive section 34
is activated, the moving mechanism 23 is controlled, and the semiconductor element 1 is positioned. In FIG. 5, numeral 35 is a half mirror, numeral 36 is a converging lens, and numeral 37 is an objective lens.

【0028】なお、検査用ステージ20の上方には予備
加熱手段38が設けられて、半導体素子1が所定温度例
えば150℃に加熱されるようになっている。
A preheating means 38 is provided above the inspection stage 20 to heat the semiconductor element 1 to a predetermined temperature, for example, 150.degree.

【0029】次に、この発明の半導体検査方法について
説明する。
Next, the semiconductor inspection method of the present invention will be explained.

【0030】まず、搬送部2の供給部側にセットされた
トレイ8に収容されたプレート5が保持部13にて吸着
保持され、搬送機構10によりロードテーブル9上に移
送されると、ロードテーブル9の位置において、画像認
識装置19によりその位置が認識される。次に、半導体
素子ダブル移送機構17の保持部18,18にてプレー
ト5が再び吸着保持されて検査用ステージ20のプリア
ライメント位置に待機する載置台22の載置凹所24に
載置されると共に、画像認識装置19の情報に基いてプ
リアライメントされた状態で供給される。
First, the plate 5 accommodated in the tray 8 set on the supply section side of the conveyance section 2 is suction-held by the holding section 13 and transferred onto the load table 9 by the conveyance mechanism 10. At position 9, the position is recognized by the image recognition device 19. Next, the plate 5 is again sucked and held by the holding parts 18, 18 of the semiconductor element double transfer mechanism 17, and placed in the mounting recess 24 of the mounting table 22 waiting at the pre-alignment position of the inspection stage 20. At the same time, it is supplied in a pre-aligned state based on information from the image recognition device 19.

【0031】プリアライメントが完了すると、載置台2
2は位置合せ位置P2に移動し、この位置合せ位置P2
 にてプレート5が精密位置合せされた後、載置台22
が検査位置P3 に移動する。検査位置P3 において
、移動機構23により載置台22が上昇してプレート5
とプローブカード28の検査針29とが圧接され、プレ
ート5の表面に半導体素子1のリード1aに対応した針
跡26が形成される。
When the pre-alignment is completed, the mounting table 2
2 moves to alignment position P2, and this alignment position P2
After the plate 5 is precisely aligned on the mounting table 22
moves to inspection position P3. At the inspection position P3, the mounting table 22 is raised by the moving mechanism 23 and the plate 5 is
and the test needles 29 of the probe card 28 are brought into pressure contact, and needle marks 26 corresponding to the leads 1a of the semiconductor element 1 are formed on the surface of the plate 5.

【0032】針跡26が形成された後、載置台22は再
び位置合せ位置P2 に移動され、この位置合せ位置P
2 において、光源30から光が針跡26に照射される
と、透明のプレート5と載置台22の鏡面25との関係
により針跡26が乱反射し、その反射光が針跡検出手段
32にて正確に検出される。そして、針跡検出手段32
からの信号がCPU33に伝達されて針跡26のデータ
が画像情報として記憶される。
After the needle mark 26 is formed, the mounting table 22 is moved again to the alignment position P2, and this alignment position P2 is moved again to the alignment position P2.
2, when the light source 30 illuminates the needle mark 26, the needle mark 26 is diffusely reflected due to the relationship between the transparent plate 5 and the mirror surface 25 of the mounting table 22, and the reflected light is detected by the needle mark detection means 32. Accurately detected. Then, the needle mark detection means 32
A signal from the needle mark 26 is transmitted to the CPU 33, and the data of the needle mark 26 is stored as image information.

【0033】針跡26のデータが記憶されたプレート5
は載置台22によってロード・アンロード位置P1 に
移動し、この位置において半導体ダブル移送機構17に
よって取出し部7側に排出される。この時、同時に供給
部6側から半導体素子1がロード・アンロード位置P1
 に供給され、上述と同様にプリアライメントされる。 そして、プリアライメントされた後、載置台22の移動
によって位置合せ位置P2に移動され、位置合せ位置P
2 において、針跡26の画像情報に基いて駆動する駆
動部34によって移動機構23が作動して精密位置合せ
される。そして、載置台22の移動によって検査位置P
3 に移動されて、半導体素子1のリード1aにプロー
ブカード28の検査針29が正確に接触して、半導体素
子1の電気的諸特性が測定される。
Plate 5 in which data of needle marks 26 is stored
is moved to the load/unload position P1 by the mounting table 22, and at this position is discharged to the take-out section 7 side by the semiconductor double transfer mechanism 17. At this time, the semiconductor element 1 is simultaneously transferred from the supply section 6 to the load/unload position P1.
and prealigned in the same manner as described above. After the pre-alignment, the mounting table 22 is moved to the alignment position P2, and the mounting table 22 is moved to the alignment position P2.
2, the moving mechanism 23 is operated by the drive section 34 driven based on the image information of the needle trace 26 to perform precise positioning. Then, by moving the mounting table 22, the inspection position P
3, the test needles 29 of the probe card 28 accurately come into contact with the leads 1a of the semiconductor element 1, and various electrical characteristics of the semiconductor element 1 are measured.

【0034】検査が終了すると、移動機構23によって
載置台22が下降し、載置台22はロード・アンロード
位置P1 に戻る。そして、半導体素子ダブル移送機構
17によって検査済みの半導体素子1は取出し部7側に
搬送されると同時に、供給部側から次の半導体素子1が
ロード・アンロード位置P1 に移送され、以下同様の
操作を繰り返すことによって半導体素子1は順次位置合
せされた後、検査される。なおこの場合、4つの載置凹
所24に同時に4つの半導体素子1を載置しておけば、
半導体素子1の位置合せ及び検査を更に効率良く行うこ
とができる。
When the inspection is completed, the mounting table 22 is lowered by the moving mechanism 23, and the mounting table 22 returns to the load/unload position P1. Then, the semiconductor device double transfer mechanism 17 transports the inspected semiconductor device 1 to the take-out section 7 side, and at the same time, the next semiconductor device 1 is transferred from the supply section side to the loading/unloading position P1, and the same process continues. By repeating the operation, the semiconductor elements 1 are sequentially aligned and then inspected. In this case, if four semiconductor devices 1 are placed in the four placement recesses 24 at the same time,
The alignment and inspection of the semiconductor element 1 can be performed more efficiently.

【0035】なお、上記実施例では、半導体素子1を収
容するトレイ8を兼用してプレート5を収容して、半導
体素子1の搬送部2からプレート5を供給する場合につ
いて説明したが、必ずしもこのような構造とする必要は
なく、半導体素子1の搬送部2と別個にプレート5の専
用の搬送部を設けてもよい。
In the above embodiment, a case has been described in which the tray 8 for accommodating the semiconductor element 1 is also used to accommodate the plate 5, and the plate 5 is supplied from the transport section 2 for the semiconductor element 1. However, this is not necessarily the case. It is not necessary to adopt such a structure, and a dedicated transport section for the plate 5 may be provided separately from the transport section 2 for the semiconductor element 1.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば上記のように構成されているので、半導体素子のリー
ドと検査針との位置合せを精度良くかつ効率良く行うこ
とができ、検査の信頼性を向上することができる。
As explained above, according to the present invention, with the above structure, the leads of the semiconductor element and the inspection needle can be aligned accurately and efficiently, and the inspection reliability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】この発明の半導体検査装置の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a semiconductor inspection device of the present invention.

【図2】図1の側面図である。FIG. 2 is a side view of FIG. 1;

【図3】この発明における半導体素子とプレートの収容
用トレイの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a tray for accommodating semiconductor devices and plates in the present invention.

【図4】この発明における半導体素子とプレートの載置
状態を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a semiconductor element and a plate are placed in the present invention.

【図5】この発明における針跡検出手段を示す概略構成
図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing needle trace detection means in the present invention.

【図6】針跡形成状態を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a state in which needle marks are formed.

【図7】プレートに針跡が形成された状態を示す斜視図
である。
FIG. 7 is a perspective view showing a state in which needle marks are formed on the plate.

【図8】半導体素子と検査針との接触状態を示す断面図
である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a state of contact between a semiconductor element and a test needle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  半導体素子 1a  リード 2  搬送部 3  検査部 5  プレート 6  供給部 22  載置台 23  移動機構(針跡形成手段) 25  鏡面 26  針跡 27  テストヘッド 29  検査針 30  光源 31  フォトセンサ 32  針跡検出手段 33  CPU(針跡記憶手段) 34  駆動部(位置合せ手段) 1 Semiconductor element 1a lead 2 Conveyance section 3 Inspection Department 5 Plate 6 Supply section 22 Mounting table 23 Moving mechanism (needle mark forming means) 25 Mirror surface 26 needle mark 27 Test head 29 Test needle 30 Light source 31 Photo sensor 32 Needle trace detection means 33 CPU (needle track storage means) 34 Drive section (positioning means)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  水平及び垂直方向に移動自在な載置台
上に載置される半導体素子のリードに検査針を接触させ
て、半導体素子の電気的諸特性を検査する半導体検査方
法において、上記載置台上の半導体素子載置位置に供給
される位置決め用のプレートと検査針とを圧接して検査
載置の針跡を形成し、上記針跡を検出すると共に、画像
情報として記憶し、上記針跡のデータに基いて上記載置
台上に載置される半導体素子を位置合せして半導体素子
のリードに上記検査針を位置合せするようにしたことを
特徴とする半導体検査方法。
1. A semiconductor testing method as described above, in which various electrical characteristics of a semiconductor device are tested by bringing a test needle into contact with the leads of a semiconductor device placed on a mounting table that is movable in horizontal and vertical directions. A positioning plate supplied to the semiconductor element mounting position on the mounting table is pressed against the test needle to form a test mounting needle mark, and the needle mark is detected and stored as image information. A semiconductor testing method characterized in that the semiconductor device placed on the mounting table is aligned based on trace data, and the test needle is aligned with the lead of the semiconductor device.
【請求項2】  請求項1記載の半導体検査方法におい
て、位置決め用のプレートを透明性部材にて形成すると
共に、載置台の少なくともプレート載置部の上面を鏡面
とし、上記透明性部材に形成された針跡に光を照射する
と共に、その反射光を検出して画像情報を得るようにし
たことを特徴とする半導体検査方法。
2. The semiconductor testing method according to claim 1, wherein the positioning plate is formed of a transparent member, and at least the upper surface of the plate mounting portion of the mounting table is made a mirror surface, and the positioning plate is formed on the transparent member. 1. A semiconductor inspection method characterized by irradiating a needle mark with light and detecting the reflected light to obtain image information.
【請求項3】  水平及び垂直方向に移動自在な載置台
上に載置される半導体素子のリードに検査針を接触させ
て、半導体素子の電気的諸特性を検査する半導体検査装
置において、上記載置台上の半導体載置位置に位置決め
用のプレートを供給するプレート供給手段と、上記プレ
ート上に検査針の針跡を形成する針跡形成手段と、上記
プレート上に形成された針跡を検出する針跡検出手段と
、上記針跡検出手段からの信号を受けて針跡を画像情報
として記憶する針跡記憶手段と、上記針跡記憶手段から
の針跡データに基いて半導体素子を位置合せする位置合
せ手段とを具備することを特徴とする半導体検査装置。
3. A semiconductor testing device for testing various electrical characteristics of a semiconductor device by bringing a test needle into contact with the leads of the semiconductor device placed on a mounting table movable in horizontal and vertical directions, as described above. A plate supply means for supplying a positioning plate to a semiconductor mounting position on a mounting table, a needle trace forming means for forming a needle trace of a test needle on the plate, and a needle trace forming means for detecting the needle trace formed on the plate. A needle trace detection means, a needle trace storage means that receives a signal from the needle trace detection means and stores the needle trace as image information, and aligns the semiconductor element based on the needle trace data from the needle trace storage means. 1. A semiconductor inspection device comprising: alignment means.
【請求項4】  請求項3記載の半導体検査装置におい
て、位置合せ用のプレートを透明性部材にて形成すると
共に、載置台の少なくともプレート載置部の上面を鏡面
とし、針跡検出手段を、上記プレートの針跡に向って照
射された光源からの反射光を検出する光検出手段にて形
成したことを特徴とする半導体検査装置。
4. The semiconductor inspection apparatus according to claim 3, wherein the alignment plate is formed of a transparent member, at least the upper surface of the plate mounting portion of the mounting table is a mirror surface, and the needle mark detection means is configured to include: A semiconductor inspection device characterized in that it is formed by a light detection means for detecting reflected light from a light source irradiated toward the needle marks on the plate.
JP3065322A 1991-03-07 1991-03-07 Semiconductor inspection method and device Withdrawn JPH04330750A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007273631A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Tokyo Electron Ltd Method of detecting end position of probe and storage medium recorded therewith, and probe device

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JP2007273631A (en) * 2006-03-30 2007-10-18 Tokyo Electron Ltd Method of detecting end position of probe and storage medium recorded therewith, and probe device

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