JPH04330652A - Exposure method for optical master disk - Google Patents

Exposure method for optical master disk

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JPH04330652A
JPH04330652A JP2403891A JP2403891A JPH04330652A JP H04330652 A JPH04330652 A JP H04330652A JP 2403891 A JP2403891 A JP 2403891A JP 2403891 A JP2403891 A JP 2403891A JP H04330652 A JPH04330652 A JP H04330652A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
exposure light
appropriate
pits
optical disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP2403891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Morimoto
隆夫 森本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2403891A priority Critical patent/JPH04330652A/en
Publication of JPH04330652A publication Critical patent/JPH04330652A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent work exposing an optical master disk from becoming complicated, to always obtain an appropriate pit and to prevent the pit from becoming shallow. CONSTITUTION:The optical master disk 10 is divided into a light quantity decision area A and an information recording area B. The light quantity decision area A is irradiated with exposure light obtained by changing light quantity stepwise so as to form latent images 11, 12 and 13. The latent images 12 and 13 are developed, and the pit and the like are formed. The light quantity of appropriate exposure light is judged and the information recording area B is exposed by the exposure light of judged appropriate light quantity.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は光ディスクの製造に用い
られる光ディスク原盤の露光方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for exposing an optical disk master used in the manufacture of optical disks.

【0002】0002

【従来の技術】光ディスクの製造方法について説明する
。ガラス製の円盤の表面に密着剤層を形成し、さらにこ
の密着剤層上にフォトレジスト膜を形成する。次いでこ
のフォトレジスト膜が形成された面をレーザ光によって
露光し潜像を形成する。そして、この潜像を現像して凹
ませピットまたはグルーブを形成し光ディスク原盤を製
作する。次に、この光ディスク原盤にニッケルめっき等
を施し、光ディスク原盤のピット等を転写したスタンパ
を製作する。そして、このスタンパを用い射出プレス成
形や2P法などによってプラスチック製のレプリカを製
作し、このレプリカにディスク処理を施して光ディスク
を製造する。
2. Description of the Related Art A method for manufacturing an optical disc will be explained. An adhesive layer is formed on the surface of a glass disk, and a photoresist film is further formed on this adhesive layer. Next, the surface on which the photoresist film is formed is exposed to laser light to form a latent image. This latent image is then developed to form pits or grooves to produce an optical disc master. Next, this optical disk master is subjected to nickel plating, etc., and a stamper is manufactured by transferring the pits and the like of the optical disk master. Then, using this stamper, a plastic replica is manufactured by injection press molding or the 2P method, and this replica is subjected to disk processing to manufacture an optical disk.

【0003】しかし、光ディスク原盤のピットやグルー
ブの形状にバラツキが生じ、そのため光ディスクの信号
レベルが本来のレベルから変化してしまうおそれがある
。光ディスク原盤のピット等の形状ににバラツキが生じ
る原因としては、以下のものがある。フォトレジスト膜
の感度には若干のバラツキがあるためである。これは使
用するフォトレジスト液が製品ロッド毎に多少のバラツ
キがあったり、密着剤の影響を受け、レジスト膜が変質
することによる。また、フォトリソ工程内のプリベーグ
温度(レジスト膜の乾燥温度)や時間に一様でないため
である。さらに、フォトレジスト膜に形成された潜像を
現像する現像剤の濃度、温度が一様でないためである。
However, variations occur in the shapes of pits and grooves on the master optical disc, which may cause the signal level of the optical disc to change from its original level. The causes of variations in the shape of pits and the like on an optical disc master are as follows. This is because there is some variation in the sensitivity of the photoresist film. This is because the photoresist liquid used varies slightly from product rod to product rod, or because the resist film is affected by the adhesive, resulting in deterioration of the resist film. Another reason is that the prebaking temperature (drying temperature of the resist film) and time during the photolithography process are not uniform. Furthermore, this is because the concentration and temperature of the developer used to develop the latent image formed on the photoresist film are not uniform.

【0004】ピット等の形状のバラツキがないように上
記フォトレジスト液等を管理することは殆ど不可能であ
るので、光ディスク原盤の回折光を検出することによっ
てピット等が最も適切な形状となる現像の終了点を検知
する装置を搭載した現像装置が用いられている。すなわ
ち、光ディスク原盤にレーザ光を照射した状態で現像を
行い、この回折光を測定する。そして、予め設定された
適正なピット等が形成されると得られる回折光を検出し
たとき現像を停止する現像装置が使用されている。
Since it is almost impossible to manage the photoresist solution etc. so that there is no variation in the shape of the pits, etc., development is carried out so that the pits etc. have the most appropriate shape by detecting the diffracted light of the optical disk master. A developing device equipped with a device for detecting the end point of the process is used. That is, development is performed while the optical disc master is irradiated with laser light, and the diffracted light is measured. A developing device is used that stops development when it detects diffracted light that is obtained when preset appropriate pits and the like are formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現像を
行いながら回折光を測定することは作業が煩雑である。 また、現像剤のフォトレジスト膜表面上の流れ方も測定
される回折光に影響を及ぼすため、測定位置の選定が困
難である問題もある。さらに現像剤の量、流れ方のバラ
ツキによって回折光の測定値がかわってしまうおそれも
ある。したがって常に適正な形状のピット等を得られな
いおそれがある。また、フォトレジスト膜の感度が低い
場合、長時間、現像を行わなければならないので、フォ
トレジスト膜全体が薄くなってしまうので、ピット等が
浅くなってしまい信号レベルに悪影響を及ぼすおそれも
ある。本発明は上記従来の問題点に着目してなされたも
のであり、作業が煩雑化せず、常に適正なピット等をえ
ることができ、しかもピット等が浅くなってしまうおそ
れのない光ディスク原盤の露光方法を提供することを目
的とする。
[Problems to be Solved by the Invention] However, measuring the diffracted light while performing development is complicated. Furthermore, since the way the developer flows on the surface of the photoresist film also affects the measured diffracted light, there is also the problem that it is difficult to select the measurement position. Furthermore, there is a possibility that the measured value of the diffracted light may change due to variations in the amount of developer and the way it flows. Therefore, there is a possibility that pits etc. of appropriate shape cannot always be obtained. Furthermore, if the sensitivity of the photoresist film is low, development must be carried out for a long time, and the entire photoresist film becomes thinner, causing pits and the like to become shallower, which may adversely affect the signal level. The present invention has been made by focusing on the above-mentioned conventional problems, and provides an optical disc master that does not make the work complicated, can always produce appropriate pits, etc., and does not have the risk of the pits becoming shallow. The purpose is to provide an exposure method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、原盤のフォト
レジスト膜が形成されている面のうち情報を記録する情
報記録領域以外の部分である光量決定領域に段階的に光
量を変化させた露光光を照射して複数の潜像を形成し前
記潜像を現像して基準凹部を形成する工程と、前記基準
凹部から適正な露光光の光量を判断し、判断された適正
な光量の露光光によって前記情報記録領域の露光を行う
工程を有する光ディスク原盤の露光方法である。
[Means for Solving the Problems] The present invention changes the light amount in stages in a light amount determining area that is a portion of the surface of the master disc on which the photoresist film is formed, other than the information recording area where information is recorded. A step of irradiating exposure light to form a plurality of latent images and developing the latent images to form a reference recess, determining an appropriate amount of exposure light from the reference recess, and exposing with the determined appropriate amount of light. This is a method for exposing an optical disc master, which includes the step of exposing the information recording area to light.

【0007】[0007]

【作用】本発明によれば、光量決定領域に段階的に光量
を変化させた露光光を照射し、複数の潜像を形成する。 そしてこの潜像を現像し、基準凹部を形成し、この基準
凹部から適正な、露光光の光量を判断する。そして、こ
の判断された適正な光量の露光光によって情報記録領域
の露光を行う。
According to the present invention, a plurality of latent images are formed by irradiating the light amount determining area with exposure light whose light amount is changed stepwise. This latent image is then developed to form a reference recess, and the appropriate amount of exposure light is determined from this reference recess. Then, the information recording area is exposed with the determined appropriate amount of exposure light.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面にしたがって説
明する。符号10は、光ディスク原盤を示す。この光デ
ィスク原盤10は、図2に示すようにガラス基板1上に
密着剤層2さらに、この密着剤層2上にレジスト膜3が
形成されて構成されている。光ディスク原盤10は図1
において一点鎖線αを境にして外側の光量決定領域Aと
内側の記録領域Bに分かれている。記録領域Bには必要
な情報が書き込まれ、光量決定領域Aには情報の書き込
みは行われない。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Reference numeral 10 indicates an optical disc master. As shown in FIG. 2, this optical disc master 10 is constructed by forming an adhesive layer 2 on a glass substrate 1, and further forming a resist film 3 on the adhesive layer 2. The optical disc master 10 is shown in Figure 1.
It is divided into an outer light amount determining area A and an inner recording area B with a dashed-dotted line α as a boundary. Necessary information is written in the recording area B, and no information is written in the light amount determining area A.

【0009】次に、光ディスク原盤10の露光方法につ
いて説明する。光ディスク原盤10をターンテーブル4
上に設置し、露光装置15によってレーザ光を光量決定
領域Aに照射し、潜像11、12、13を形成する。こ
れら潜像11、12、13を形成するレーザ光は、それ
ぞれ光量を段階的に変えて照射する。そして現像液を含
んだ物を露光部上に置き、潜像12、13、14を現像
し、フォトレジスト膜3を凹ませて、基準凹部としての
ピットまたはグルーブ形成する。そして目視で判断を行
う。目視による場合は、一定の光沢を発する部分が適切
な形状のピット等が形成されていることになるので、当
該部分を露光した光量が適切な光量ということになる。 したがって例えば潜像12を現像して得られたピット等
が形成されている部分が一定の光沢を発している場合、
潜像12を形成した光量の露光光によって記録領域Bに
情報を記録する。
Next, a method of exposing the optical disc master 10 will be explained. The optical disc master 10 is placed on the turntable 4.
The exposure device 15 irradiates the light amount determining area A with laser light to form latent images 11, 12, and 13. The laser beams that form these latent images 11, 12, and 13 are applied while changing the light intensity in stages. Then, an object containing a developer is placed on the exposed area to develop the latent images 12, 13, and 14, and the photoresist film 3 is depressed to form pits or grooves as reference depressions. Judgment is then made visually. In the case of visual inspection, since pits or the like of an appropriate shape are formed in a portion that emits a certain level of gloss, the amount of light used to expose that portion is an appropriate amount of light. Therefore, for example, if a part where pits etc. obtained by developing the latent image 12 are formed has a certain gloss,
Information is recorded in the recording area B using exposure light of an amount that forms the latent image 12.

【0010】また、光量決定部Aを露光した後、光ディ
スク原盤10をターンテーブル4から外し、現像装置を
用いたり、デッピング(現像液の噴霧)などの手段によ
ってて潜像11、12、13を現像して、その後、目視
によって適切な露光光の光量を判断してもよい。
[0010] After exposing the light amount determining section A, the optical disk master 10 is removed from the turntable 4, and the latent images 11, 12, 13 are formed by using a developing device or by dipping (spraying a developer). After development, the appropriate amount of exposure light may be determined by visual inspection.

【0011】以下に説明するように回折光検出装置によ
ってピット等が適正な形状となっているか否かを検査し
てもよい。図3、図4に示すように光ディスク原盤10
の下面側に潜像11、12、13を現像して得られたピ
ット等に対応してLD15、16、17を配置し、光デ
ィスク原盤10の上面側にCCDアレイ20、21、2
2を配置して、LD15、16、17から検知光を光デ
ィスク原盤10のピット等に向かって照射し、各ピット
等の回折の程度を判断する。なお適正な形状のピット等
がどの程度の回折率を示すかは、予め実験的に求められ
ているので、回折の程度を検出することによって、形成
されたピット等が適正な形状となっているか否かが判断
でき、適正な露光光の光量を判断することができる。そ
して上記の場合と同様にして、適正な光量の露光光で記
録領域Bに情報を記録する。
[0011] As will be explained below, it may be inspected whether the pits or the like have a proper shape or not using a diffraction light detection device. As shown in FIGS. 3 and 4, an optical disc master 10
LDs 15, 16, 17 are arranged corresponding to the pits etc. obtained by developing the latent images 11, 12, 13 on the lower surface side, and CCD arrays 20, 21, 2 are arranged on the upper surface side of the optical disk master 10.
2, the detection light is emitted from the LDs 15, 16, and 17 toward the pits, etc. of the optical disc master 10, and the degree of diffraction of each pit, etc. is determined. The degree of diffraction that a properly shaped pit, etc. exhibits is determined experimentally in advance, so by detecting the degree of diffraction, it is possible to check whether the formed pit, etc. has an appropriate shape. It is possible to determine whether or not the exposure light is present, and the appropriate amount of exposure light can be determined. Then, in the same manner as in the above case, information is recorded in the recording area B using an appropriate amount of exposure light.

【0012】第2実施例について説明する。図5に示す
ように、潜像31、32、33を検出可能なように一定
間隔以上をおいて形成する。これら潜像31、32、3
3も段階的に光量を変化させ形成し、潜像31、32、
33を現像する。また回折光検査装置としては、LD1
8とCCDアレイ25を一つずつ配置し、さらにこれら
LD18とCCDアレイ25とによって、適正なピット
等が示す回折値が検出された場合に、それを表示するブ
ザー等の手段を設ける。本装置では、ブザーが鳴ったと
きに検出していたピット等を形成するのに用いた露光光
の光量が最も適切なものと判断できる。このように記録
領域Bに情報を書き込むための露光光の光量を適正な値
に調整するので、潜像の現像段階においての現像時間等
の調整を行う必要がなくなる。したがってピット等が浅
くなることはない。
A second embodiment will be explained. As shown in FIG. 5, latent images 31, 32, and 33 are formed at regular intervals or more so that they can be detected. These latent images 31, 32, 3
3 is also formed by changing the amount of light in stages, latent images 31, 32,
33 is developed. In addition, as a diffraction light inspection device, LD1
One LD 18 and one CCD array 25 are arranged, and when a diffraction value indicating a proper pit or the like is detected by these LD 18 and CCD array 25, a means such as a buzzer is provided to display it. In this apparatus, it can be determined that the amount of exposure light used to form the pits etc. that was detected when the buzzer sounded is the most appropriate. Since the amount of exposure light for writing information in the recording area B is adjusted to an appropriate value in this way, there is no need to adjust the development time and the like in the latent image development stage. Therefore, the pit etc. will not become shallow.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、簡単な作
業で、常に適正なピット等を形成することができる。ま
た現像時間等は一定とするので、ピット等が浅くなって
しまうおそれもなくなる。
As described above, according to the present invention, proper pits and the like can always be formed with simple operations. Furthermore, since the development time and the like are kept constant, there is no fear that pits or the like will become shallow.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の実施例にかかる光ディスク原盤の平面
図である。
FIG. 1 is a plan view of an optical disc master according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の光ディスク原盤のIーI断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II of the optical disc master in FIG. 1;

【図3】第1実施例にかかる光ディスク原盤の露光方法
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a diffraction light detection device for carrying out the method for exposing an optical disk master according to the first embodiment.

【図4】第3図の回折光検出装置による検査を説明する
ための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining an inspection using the diffraction light detection device of FIG. 3;

【図5】第2実施例にかかる光ディスク原盤の露光方法
を実施するための回折光検出装置の構成を示す図である
FIG. 5 is a diagram showing the configuration of a diffraction light detection device for carrying out the method of exposing an optical disc master according to a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1      ガラス基板 2      密着剤層 3      レジスト膜 10    光ディスク原盤 A      光量決定領域 B      情報記録領域 1 Glass substrate 2 Adhesive layer 3 Resist film 10   Optical disc master A Light amount determination area B Information recording area

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】原盤のフォトレジスト膜が形成されている
面のうち情報を記録する情報記録領域以外の部分である
光量決定領域に段階的に光量を変化させた露光光を照射
して複数の潜像を形成し前記潜像を現像して基準凹部を
形成する工程と、前記基準凹部から適正な露光光の光量
を判断し、判断された適正な光量の露光光によって前記
情報記録領域の露光を行う工程を有する光ディスク原盤
の露光方法。
Claim 1: A light amount determining area, which is a part of the surface of the master disc on which the photoresist film is formed, other than the information recording area where information is recorded, is irradiated with exposure light whose light amount is changed stepwise to forming a latent image and developing the latent image to form a reference recess, determining an appropriate amount of exposure light from the reference recess, and exposing the information recording area with the determined appropriate amount of exposure light; A method for exposing an optical disc master, comprising the steps of:
JP2403891A 1991-01-24 1991-01-24 Exposure method for optical master disk Pending JPH04330652A (en)

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