JPH04330093A - オリゴリボヌクレオチドの製造法 - Google Patents

オリゴリボヌクレオチドの製造法

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JPH04330093A
JPH04330093A JP3136086A JP13608691A JPH04330093A JP H04330093 A JPH04330093 A JP H04330093A JP 3136086 A JP3136086 A JP 3136086A JP 13608691 A JP13608691 A JP 13608691A JP H04330093 A JPH04330093 A JP H04330093A
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JP
Japan
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phenylxanthenyl
derivative
tetrahydropyranyl
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Withdrawn
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JP3136086A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Tanimura
浩 谷村
Michi Imada
岐 今田
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication date
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】オリゴリボヌクレオチドの化学合
成、特に20量体以上の高縮合度のオリゴリボヌクレオ
チドの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】オリゴリボヌクレオチドの合成に当って
は、3’位−5’位結合を形成するために、リボヌクレ
オチドの2’位、5’位の水酸基を保護した上で、該5
’位の保護基のみを離脱させ、縮合反応を行って鎖伸長
させ、その後全ての保護基を外してオリゴリボヌクレオ
チドを製造することが通常行なわれている。この保護基
、保護基離脱剤の組合せが色々用いられており、その例
としてリボヌクレオチドの2’位の水酸基の保護基とし
てテトラヒドロピラニル基、5’位の保護基としてジメ
トキシトリチル基を用いて、この5’位の保護基を脱離
させるために、1%ジクロロ酢酸塩化メチレン処理をお
こない、リン酸トリエステル法を利用して11量体の合
成を行うもの〔I.Hirao ら、ケミストリー・レ
ターズ(Chem Lett.),1929(1986
)〕、19量体を得るもの〔I.Hirao ら、ブレ
チン・オブ・ケミカル・ソサイエティ・オブ・ジャパン
(Bull. Chem. Soc. Jap.), 
62,1995(1989)〕、同様に5’位の保護基
としてジメトキシトリチル基を用い、またその脱離法と
して、0.3%ジクロロ酢酸塩化メチレンを用いて、ホ
スホロアミダイト法により、8量体の合成を行うもの〔
R. Kirezek ら、バイオケミストリー(Bi
ochemistry), 25,7840(1986
)〕が報告されている。又、最近、5’位の保護基とし
て、アデノシン、グアノシンについては9−フェニルキ
サンテニル基を、シチジン、ウリジンについては9−(
4−メトキシ)フェニルキサンテニル基を用いて、その
脱離反応のために、0.5%トリフルオロ酢酸塩化メチ
レンを使用し、ホスホロアミダイト法を利用して、21
量体の合成を行った例〔H. Tanimuraら、ヌ
クレイック・アシッズ・リサーチ(Nucleic A
cids Res.) 17,8135(1989)〕
も知られている。
【0003】
【本発明が解決すべき課題】オリゴリボヌクレオチドの
化学合成は、現在でもたいへん困難であるが、その理由
の一つに保護基の選択と、その脱離法の問題がある。特
に2’位水酸基の保護基については、5’位水酸基の保
護基を外してヌクレオチド鎖伸長反応を行う工程中に、
同時に外れてしまうことが多く、希望するような縮合度
のオリゴリボヌクレオチドが得られないことが多く、ど
のような条件で、脱離反応をおこなうかということと関
連して、いろいろな保護基が開発されている。中でもア
セタール型の保護基であるテトラヒドロピラニル基は、
原料が安価で入手し易く、また導入反応も容易であるた
めに、一般によく使用されているが、上記の従来の報告
例にもある通り、現時点ではこれらの合成法では11量
体、或いは12量体であり、多量体としてはせいぜい2
0量体位までの長さのオリゴリボヌクレオチドの合成し
か報告されていないのが現状である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、20量体
以上のオリゴリボヌクレオチドを得るべく研究を重ねた
結果、2’位にテトラヒドロピラニル基を導入した原料
を使って、20量体以上のオリゴリボヌクレオチドを合
成することができることを見出した。すなわち、本発明
は(1)2’位がテトラヒドロピラニル基で保護され、
5’位が9−フェニルキサンテニル基類で保護されたリ
ボヌクレオチドを1.5容量%から2.5容量%のジク
ロロ酢酸含有有機溶媒溶液で処理して5’位の保護基を
脱離させた後、2’位がテトラヒドロピラニル基で保護
され、5’位が9−フェニルキサンテニル基誘導体で保
護されたリボヌクレオチドユニットとの縮合反応に付す
ことを特徴とする、オリゴリボヌクレオチドの製造法、
及び(2)2’位がテトラヒドロピラニル基で保護され
、5’位が9−フェニルキサンテニル基類で保護された
リボヌクレオチドを1.5容量%から2.5容量%のジ
クロロ酢酸含有有機溶媒溶液で処理して5’位の保護基
を脱離させ、2’位がテトラヒドロピラニル基で保護さ
れ、5’位が9−フェニルキサンテニル基誘導体で保護
されたリボヌクレオチド誘導体との縮合反応に付し、縮
合反応後、すべての保護基を除去することを特徴とする
、オリゴリボヌクレオチドの製造法、に関する。
【0005】本発明における5’位の保護基である9−
フェニルキサンテニル基類としては、9−フェニルキサ
ンテニル基、あるいは9−(4−メトキシ)フェニルキ
サンテニル基等の9−〔4−(C1−C4アルコキシ)
〕フェニルキサンテニル基等が挙げられる。特に、塩基
がアデノシン、グアノシンの場合には9−フェニルキサ
ンテニル基を、シチジン、ウリジンの場合には9−(4
−メトキシ)フェニルキサンテニル基を用いるのが好ま
しい。2’位がテトラヒドロピラニル基で保護され、5
’位が9−フェニルキサンテニル基類で保護されたリボ
ヌクレオチドの5’位の保護基の脱離は、通常該ヌクレ
オチドを15〜30℃で0.5〜3分間1.5〜2.5
容量%(以下%と略す)のジクロロ酢酸含有有機溶媒溶
液で処理することにより行われる。ジクロロ酢酸を溶解
させるための有機溶媒としては通常、ジクロロメタンや
1,2−ジクロロエタンなどの非極性有機溶媒が用いら
れる。5’位の保護基が除去されたリボヌクレオチドと
2’位および5’位が保護されたリボヌクレオチド誘導
体との縮合反応としては、ホスホロアミダイト法〔M.
D. Matteucci ら、ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサィエティ(J. Am. C
hem. Soc.),103,3185(1981)
〕、H−ホスホネート法〔P. J. Garegg,
ケミカ・シュークロース(Chemica Scr.)
25,280(1985)〕、リン酸トリエステル法〔
R. L. Letsingeret ら、ジャーナル
・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサィエティ(J. 
Am. Chem. Soc.), 87,3526(
1965)〕が挙げられるが、望ましくはホスホロアミ
ダイト法が挙げられる。
【0006】ホスホロアミダイト法が望ましい理由は、
まず第1点として、縮合反応がほぼ定量的に行なえると
いうこと、第2点として、縮合反応時間が、現在知られ
ている反応の中で、最も短いこと、第3点として、塩基
部位の修飾反応などの副反応がほとんど起こらないこと
であり、特に、今回開発された、アミダイトユニットで
は、塩基部分も完全に保護しているため、アミダイト法
由来の副反応は、全く起こらないという利点がある。ホ
スホロアミダイト法、H−ホスホネート法、リン酸トリ
エステル法について、図1の模式図に示すと共に、それ
に従って簡単に説明する。図中、Rは9−フェニルキサ
ンテニル基類、R’はテトラヒドロピラニル基、R’’
はシアノエチル基又はメチル基(ホスホロアミダイト法
)、オルトクロロフェノキシ基、パラクロロフェノキシ
基、又はフェニルチオ基(リン酸トリエステル法)、R
’’’はアセチル基又はベンゾイル基を示す。ホスホロ
アミダイト法は、3価の状態にある、ヌクレオチドホス
ホロアミダイト誘導体の、P−N結合をテトラゾールな
どにより活性化させて、ヌクレオチドの5’水酸基と縮
合反応を行ない、その後、ヨウ素により酸化反応を行な
って安定な5価のリン酸トリエステルを形成する反応を
行なう方法である。H−ホスホネート法はP−H結合を
もつ、ヌクレオチドH−ホスホネート誘導体を、塩化ピ
バロイルなどにより活性化させた後、ヌクレオチドの5
’水酸基と縮合反応を行ない、最終的にヨウ素により酸
化反応を行なって、リン酸ジエステルを形成する反応を
行なう方法である。リン酸トリエステル法はヌクレオチ
ドリン酸ジエステル誘導体を、メシチレンスルホニルニ
トロトリアゾリドなどとの縮合剤により活性化させた後
、5’水酸基と縮合反応を行なって、リン酸トリエステ
ルを形成する反応を行なう方法である。
【0007】本発明で用いるヌクレオチドユニットは上
記縮合反応に依り異なるが、ホスホロアミダイト法で用
いられるリボヌクレオチドアミダイトユニットは、すで
に公知の方法により調製される。すなわち、H. Ta
nimura ら、ヌクレイック・アシッズ・リサーチ
(Nucleic Acids Res.) 17,8
135(1989)に記載された方法に従い、アデノシ
ン、グアノシン、シチジン、ウリジンの各アミダイトユ
ニットを調製できる。一連のヌクレオチド鎖伸長反応は
、マニュアル法、自動合成機を用いる方法の、いずれに
よっても可能であるが、自動合成機により行うことによ
り、操作法の簡便化、合成の正確性の点から自動合成機
を用いる方法が望ましい。このようにして得られた、保
護されたオリゴリボヌクレオチドはそのまま利用されて
もよく、又全保護基を除去してもよい。これらの全保護
基の除去および、精製は公知の方法、例えば、まずアン
モニア/ピリジン(5:1)溶液を室温で12時間、そ
の後55℃で3時間反応させることにより、固相担体か
らのヌクレオチド鎖の切り出しと、塩基部分の保護基の
除去を行ない、溶媒を留去した後、pH2.0に調整し
た希塩酸と20時間反応させることにより、2’位の保
護基と5’位の保護基を除去し、こうして全ての保護基
を除いた後、逆相HPLCにより精製する方法〔H. 
Tanimura ら、ヌクレイック・アシッズ・リサ
ーチ(Nucleic Acids Res.)17,
8135(1989)〕で行なうことができる。
【0008】
【作用】本発明では、リボヌクレオチドの2’位をテト
ラヒドロピラニル基で保護し、5’位を9−フェニルキ
サンテニル基類で保護したリボヌクレオチドの該5’位
の保護基の脱離反応に、1.5容量%から2.5容量%
のジクロロ酢酸含有有機溶媒溶液を用い、2’位と5’
位が同様に保護されたリボヌクレオチド誘導体との縮合
反応を順次行うことにより、5’位の保護基離脱の際に
2’位の保護基が同時に外れてしまうことが防止でき、
縮合度の大きい、例えば30量体のオリゴリボヌクレオ
チドが得られる。
【0009】
【実施例】本発明を実施例をあげて、さらに詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なおリボヌクレオチドに関しては、次の略称を用
いる。 A:アデノシン;G:グアノシン;C:シチジン;U:
ウリジン
【0010】
【実施例1】    CUCGUCCUCGCCGGC
UAGUA(配列番号1)の製造 5’位は9−フェニルキサンテニル(Pix)基で、2
’位はテトラヒドロピラニル(Thp)基で保護された
アデノシン誘導体が、1gあたり20μmolの割合で
誘導されたコントロールポアグラス(CPG)10mg
(0.2μmol)を、自動合成機(ABI社製のDN
A Synthesizer Model 381 A
)にすえつけてある反応カラムにつめる。そして、5’
位は9−(4−メトキシ)フェニルキサンテニル(Mo
x)基で、2’位はテトラヒドロピラニル(Thp)基
で保護されたホスホロアミダイト法用ウリジンホスホロ
アミダイトユニットを、0.2Mの濃度になるように無
水アセトニトリルに溶解して、ユニット保存用のボトル
につめて自動合成機に取り付ける。それから、以下に記
す操作を自動合成機によって、反応カラム中で行う。
【0011】1)2.0%ジクロロ酢酸(DCA)/C
H2Cl2処理を60秒間行い、アデノシンの5’位の
9−フェニルキサンテニル(Pix)基を除去する。こ
の溶液は、縮合収率を算定するために、保存しておく。 2)アセトニトリルによりCPGを洗浄する。 3)アルゴンガスによりCPGを乾燥させる。 4)保護された0.2Mウリジンホスホロアミダイトユ
ニットと0.4Mテトラゾールにより、縮合反応を5分
間行う。 5)0.25M無水酢酸/1−メチルイミダゾール/ル
チジン/テトラヒドロフラン溶液を30秒間反応させる
ことにより、未反応の5’−水酸基をブロックする。 6)0.1Mヨウ素/テトラヒドロフラン/ピリジン/
水により、酸化反応を30秒間行う。 7)アセトニトリルによる洗浄、アルゴンガスによる乾
燥を行う。
【0012】以上の操作で、CPG上に導入されたアデ
ノシン誘導体に、保護されたウリジン誘導体を結合させ
ることができる。次の塩基配列の、保護されたグアニン
誘導体を結合させるためには、同様に0.2Mの濃度に
溶解して自動合成機に取り付けた後、1)及び4)につ
いては下記のとおりにする以外は、上記の操作1)〜7
)を繰り返して行なう。 1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を60秒間行な
い、保護されたウリジン誘導体の5’−(Mox)基を
除去する。この溶液は、縮合収率を算定するために保存
しておく。 4)保護された0.2Mグアノシンホスホロアミダイト
ユニットと0.4Mテトラゾールにより縮合反応を5分
間行なう。
【0013】以上の操作を繰り返すことにより、ヌクレ
オチド鎖を順次のばしていく。1)の操作で遊離してき
た、PixあるいはMoxを、比色定量した結果算出し
た各縮合反応の平均収率は、99%であった。合成反応
が終了した後の、脱保護操作は、常法〔H. Tani
mura ら、ヌクレイック・アシッズ・リサーチ(N
ucleic AcidsRes.) 17,8135
(1989)〕に従って行なった。反応カラム中のCP
Gを取り出してから、これをまずアンモニア/ピリジン
(5:1)溶液で室温で12時間、その後55℃で3時
間反応させることにより、固相担体からのヌクレオチド
鎖の切り出しと、塩基部分の保護基の除去を行ない、溶
媒を留去した後、pH2.0に調整した希塩酸と20時
間反応させることにより、2’位のテトラヒドロピラニ
ル(Thp)基と5’−末端のシチジンの5’−Mox
基を除去し、こうして全ての保護基を除いた後、逆相H
PLC(μBondasphere C18)を用いて
、精製を行なう。 以上の操作により、目的物のRNAフラグメントCUC
GUCCUCGCCGGCUAGUAを合成した。合成
物の構造は次の方法により確認した。T4ポリヌクレオ
チドキナーゼを用いて、合成オリゴリボヌクレオチドの
5’−末端を、32Pでラベル化し、ドニス−ケラー(
Donis−Kellar)法〔H. Donis−K
ellar ら、ヌクレイック・アシッズ・リサーチ(
Nucleic Acids Res.)4,2527
(1977)〕により、その構造を確認した。
【0014】
【実施例2】    ウリジル酸30量体(配列番号2
)の製造 5’位をMox基で、2’位はThp基で保護されたウ
リジン誘導体を、1gあたり20μmolの割合で導入
されたCPG 10mg(0.2μmol)を、自動合
成機にすえつけてある、反応カラムにつめる。そして、
ホスホロアミダイト法用のウリジンホスホロアミダイト
ユニットを、0.2Mの濃度になるように、無水アセト
ニトリルに溶解して、ユニット保存用のボトルにつめて
、自動合成機に取り付ける。その後、以下に記す操作を
自動合成機によって、反応カラム中で行なう。
【0015】1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を
60秒間行い、5’−Mox基を除去する。この溶液は
、縮合収率を算定するために、保存しておく。 2)アセトニトリルによりCPGを洗浄する。 3)アルゴンガスによりCPGを乾燥させる。 4)0.2Mウリジンホスホロアミダイトユニットと0
.4Mテトラゾールにより、縮合反応を5分間行う。 5)0.25M無水酢酸/1−メチルイミダゾール/ル
チジン/テトラヒドロフラン溶液を30秒間反応させる
ことにより、未反応の5’−水酸基をブロックする。 6)0.1Mヨウ素/テトラヒドロフラン/ピリジン/
水により、酸化反応を30秒間行う。 7)アセトニトリルによる洗浄、アルゴンガスによる乾
燥を行う。
【0016】以上の操作で、CPG上に導入されたウリ
ジン誘導体に、保護されたウリジン誘導体を結合させる
ことができる。この操作を繰り返すことにより、ヌクレ
オチド鎖を順次のばしていく。1)の操作で遊離してき
た、Moxを比色定量した結果算出した、各縮合反応の
平均収率は、99%であった。合成反応が終了した後の
、脱保護操作は、常法〔H. Tanimura ら、
ヌクレイック・アシッズ・リサーチ(Nucleic 
Acids Res.) 17,8135(1989)
〕に従って行なった。反応カラム中のCPGを取り出し
てから、これをまずアンモニア/ピリジン(5:1)溶
液で、室温で12時間、その後55℃で3時間反応させ
ることにより、固相担体からのヌクレオチド鎖の切り出
しと、塩基部分の保護基の除去を行ない、溶媒を留去し
た後、pH2.0に調整した希塩酸と20時間反応させ
ることにより、2’−Thp基と5’−末端の5’−M
ox基を除去し、こうして全ての保護基を除いた後、逆
相HPLC(μBondasphere C18)を用
いて、精製を行なう。以上の操作により、目的物のRN
Aフラグメントのウリジル酸の30量体を合成すること
ができた。合成物の構造は次の方法により確認した。T
4ポリヌクレオチドキナーゼを用いて、合成オリゴリボ
ヌクレオチドの5’−末端を、32Pでラベル化し、ド
ニス−ケラー(Donis−Kellar)法(前出)
により、その構造を確認した。
【0017】
【実施例3】  38量体、UUAAUAAUGCUC
UUCUCUCUCGUCCUCGCCGGCUAGU
A(配列番号3)の合成 5’位は9−フェニルキサンテニル(Pix)基で、2
’位はテトラヒドロピラニル(Thp)基で保護された
アデノシン誘導体が、1g当り20μmol、導入され
たCPG 10mg(0.2μmol)を、自動合成機
(ABI社製のDNA Synthesizer Mo
del 381 A)にすえつけてある、反応カラムに
つめる。そして、ウリジンホスホロアミダイトユニット
を、0.2Mの濃度になるように、無水アセトニトリル
に溶解して、ユニット保存用のボトルにつめて、自動合
成機に取り付ける。それから以下の操作を自動合成機に
よって、反応カラム中で行なう。
【0018】1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を
60秒間行ない、5’−Pix基を除去する。この溶液
は縮合収率を算定するために、保存しておく。 2)アセトニトリルによりCPGを洗浄する。 3)アルゴンガスによりCPGを乾燥させる。 4)0.2Mウリジンホスホロアミダイトユニットと0
.4Mテトラゾールにより、縮合反応を5分間行なう。 5)0.25M無水酢酸/1−メチルイミダゾール/ル
チジン/テトラヒドロフラン溶液を30秒間反応させる
ことにより、未反応の5’−水酸基をブロックする。 6)0.1Mヨウ素/テトラヒドロフラン/ピリジン/
水により、酸化反応を30秒間行なう。 7)アセトニトリルによる洗浄、アルゴンガスによる乾
燥を行なう。
【0019】以上の操作で、CPG上に導入されたアデ
ノシン誘導体に、保護されたウリジン誘導体を縮合させ
ることができる、次の塩基配列の保護されたグアノシン
誘導体を結合させるためには、同様に0.2Mの濃度に
溶解して自動合成機に取付けた後、1)及び4)につい
ては下記の通りにする以外は、上記の操作1)から7)
を繰り返して行なう。 1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を60秒間行な
い、保護されたウリジン誘導体の5’−(Mox)基を
除去する。この溶液は、縮合収率を算定するために、保
存しておく。 4)保護された0.2Mグアノシンホスホロアミダイト
ユニットと0.4Mテトラゾールにより縮合反応を5分
間行なう。
【0020】以上の操作を繰り返すことにより、ヌクレ
オチド鎖を、順次伸ばしていく。1)の操作で遊離して
きた、PixあるいはMoxを比色定量した結果算出し
た、各縮合反応の平均収率は、99%以上であった。合
成反応が終了した後の、脱保護操作は、常法(H. T
animura ら、ヌクレイック アシッズ リサー
チ(Nucleic Acids Res.), 17
, 8135(1989))に従って行なった。反応カ
ラム中のCPGを取り出してから、これを、まず、アン
モニア/ピリジン(5:1)溶液で、室温で12時間、
その後55℃で3時間反応させることにより、固相担体
からのヌクレオチド鎖の切り出しと、塩基部分の保護基
の除去を行なう。溶媒を留去した後、pH2.0に調整
した希塩酸と、20時間反応させることにより、2’−
Thp基と5’−末端のウリジンの5’−Mox基とを
除去する。こうしてすべての保護基を除いた後、逆相H
PLC(μBondasphere C18)を用いて
、精製を行なう。以上の操作により、目的物のRNAフ
ラグメントの38量体 UUAAUAAUGCUCUU
CUCUCUCGUCCUCGCCGGCUAGUAを
合成した。合成物の構造はつぎの方法により確認した。 T4ポリヌクレオチドキナーゼを用いて、合成オリゴリ
ボヌクレオチドの5’−末端を、32Pでラベル化し、
Donis−Kellar 法(H. Donis−K
ellar ら、ヌクレイック アシッズ リサーチ(
 Nucleic Acids Res.), 4, 
2527(1977))により、その構造を確認した。
【0021】
【実施例4】  39量体、UGUGUCUACUUC
UGCCACCUGGACAUCAUUUGGUAAU
AG(配列番号4)の合成 5’位は9−フェニルキサンテニル(Pix)基で、2
’位はテトラヒドロピラニル(Thp)基で保護された
グアノシン誘導体が、1g当り20μmol、導入され
たCPG 10mg(0.2μmol)を、自動合成機
(ABI社製のDNA Synthesizer Mo
del 381 A)にすえつけてある、反応カラムに
つめる。そして、アデノシンホスホロアミダイトユニッ
トを、0.2Mの濃度になるように、無水アセトニトリ
ルに溶解して、ユニット保存用のボトルにつめて、自動
合成機に取り付ける。それから以下の操作を自動合成機
によって、反応カラム中で行なう。 1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を60秒間行な
い、5’−Pix基を除去する。この溶液は縮合収率を
算定するために、保存しておく。 2)アセトニトリルによりCPGを洗浄する。 3)アルゴンガスによりCPGを乾燥させる。 4)0.2Mアデノシンホスホロアミダイトユニットと
0.4Mテトラゾールにより、縮合反応を5分間行なう
。 5)0.25M無水酢酸/1−メチルイミダゾール/ル
チジン/テトラヒドロフラン溶液を30秒間反応させる
ことにより、未反応の5’−水酸基をブロックする。 6)0.1Mヨウ素/テトラヒドロフラン/ピリジン/
水により、酸化反応を30秒間行なう。 7)アセトニトリルによる洗浄、アルゴンガスによる乾
燥を行なう。
【0022】以上の操作で、CPG上に導入されたグア
ノシン誘導体に、保護されたアデノシン誘導体を縮合さ
せることができる。次の塩基配列の保護されたウリジン
誘導体を結合させるためには、同様に0.2Mの濃度に
溶解して自動合成機に取付けた後、1)及び4)につい
ては下記の通りにする以外は、上記の操作1)から7)
を繰り返して行なう。 1)2.0%DCA/CH2Cl2処理を60秒間行な
い、保護されたアデノシン誘導体の5’−(Pix)基
を除去する。この溶液は、縮合収率を算定するために、
保存しておく。 4)保護された0.2Mウリジンホスホロアミダイトユ
ニットと0.4Mテトラゾールにより縮合反応を5分間
行なう。
【0023】以上の操作を繰り返すことにより、ヌクレ
オチド鎖を、順次伸ばしていく。1)の操作で遊離して
きた、PixあるいはMoxを比色定量した結果算出し
た、各縮合反応の平均収率は、99%以上であった。合
成反応が終了した後の、脱保護操作は、常法(H. T
animura ら、ヌクレイック アシッズ リサー
チ( Nucleic Acids Res.), 1
7, 8135(1989))に従って行なった。反応
カラム中のCPGを取り出してから、これを、まず、ア
ンモニア/ピリジン(5:1)溶液で、室温で12時間
、その後55℃で3時間反応させることにより、固相担
体からのヌクレオチド鎖の切り出しと、塩基部分の保護
基の除去を行なう。溶媒を留去した後、pH2.0に調
整した希塩酸と、20時間反応させることにより、2’
−Thp基と5’−末端のウリジンの5’−Mox基を
除去する。 こうしてすべての保護基を除いた後、逆相HPLC(μ
Bondasphere C18)を用いて、精製を行
なう。以上の操作により、目的物のRNAフラグメント
の39量体 UGUGUCUACUUCUGCCACC
UGGACAUCAUUUGGUAAUAG を合成し
た。合成物の構造はつぎの方法により確認した。T4ポ
リヌクレオチドキナーゼを用いて、合成オリゴリボヌク
レオチドの5’−末端を、32Pでラベル化し、Don
is−Kellar 法(H. Donis−Kell
ar ら、ヌクレイック アシッズ リサーチ( Nu
cleic Acids Res.), 4, 252
7(1977))により、その構造を確認した。
【0024】
【発明の効果】本発明によってこれまで問題の多かった
20量体以上のオリゴリボヌクレオチドの合成について
、自動合成機を利用して、簡便に、また迅速に製造でき
るようになった。こうして得られる合成RNAフラグメ
ントを用いることにより、色々な分子生物学的研究や、
構造化学的な研究の発展に寄与することができる。
【0025】
【配列表】配列番号:1 配列の長さ:20 配列の型:核酸 鎖の数:一本鎖 トポロジー:直鎖状 配列の種類:他の核酸  合成DNA 配列 CUCGUCCUCG CCGGCUAGUA    
                         
                  20。
【0026】配列番号:2 配列の長さ:30 配列の型:核酸 鎖の数:一本鎖 トポロジー:直鎖状 配列の種類:他の核酸  合成DNA 配列 UUUUUUUUUU UUUUUUUUUU  UU
UUUUUUUU                 
                  30。
【0027】配列番号:3 配列の長さ:38 配列の型:核酸 鎖の数:一本鎖 トポロジー:直鎖状 配列の種類:他の核酸  合成DNA 配列 UUAAUAAUGC  UCUUCUCUCU  C
GUCCUCGCC  GGCUAGUA      
                        3
8。
【0028】配列番号:4 配列の長さ:39 配列の型:核酸 鎖の数:一本鎖 トポロジー:直鎖状 配列の種類:他の核酸  合成DNA 配列 UGUGUCUACU UCUGCCACCU GGA
CAUCAUU UGGUAAUAG        
                  39。
【0029】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明で用いられる縮合反応を模式的に示した
図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】2’位がテトラヒドロピラニル基で保護さ
    れ、5’位が9−フェニルキサンテニル基類で保護され
    たリボヌクレオチドを1.5容量%から2.5容量%の
    ジクロロ酢酸含有有機溶媒溶液で処理して5’位の保護
    基を脱離させた後、2’位がテトラヒドロピラニル基で
    保護され、5’位が9−フェニルキサンテニル基誘導体
    で保護されたリボヌクレオチドユニットとの縮合反応に
    付すことを特徴とする、オリゴリボヌクレオチドの製造
    法。
  2. 【請求項2】2’位がテトラヒドロピラニル基で保護さ
    れ、5’位が9−フェニルキサンテニル基類で保護され
    たリボヌクレオチドを1.5容量%から2.5容量%の
    ジクロロ酢酸含有有機溶媒溶液で処理して5’位の保護
    基を脱離させ、2’位がテトラヒドロピラニル基で保護
    され、5’位が9−フェニルキサンテニル基誘導体で保
    護されたリボヌクレオチド誘導体との縮合反応に付し、
    縮合反応後、すべての保護基を除去することを特徴とす
    る、オリゴリボヌクレオチドの製造法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004533488A (ja) * 2001-07-03 2004-11-04 アベシア・バイオテクノロジー・インコーポレーテッド オリゴヌクレオチド合成用のアクチベーター

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2004533488A (ja) * 2001-07-03 2004-11-04 アベシア・バイオテクノロジー・インコーポレーテッド オリゴヌクレオチド合成用のアクチベーター

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