JPH04328551A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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Publication number
JPH04328551A
JPH04328551A JP12527591A JP12527591A JPH04328551A JP H04328551 A JPH04328551 A JP H04328551A JP 12527591 A JP12527591 A JP 12527591A JP 12527591 A JP12527591 A JP 12527591A JP H04328551 A JPH04328551 A JP H04328551A
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JP
Japan
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compound
acid
photosensitive
photosensitive composition
examples
Prior art date
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Pending
Application number
JP12527591A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshitsugu Suzuki
利継 鈴木
Hideyuki Nakai
英之 中井
Takeo Akiyama
秋山 健夫
Jiro Kamimura
次郎 上村
Mitsuru Sasaki
充 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP12527591A priority Critical patent/JPH04328551A/en
Publication of JPH04328551A publication Critical patent/JPH04328551A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve exposure visible picture property and enhance photosensitivity by incorporating ortho-quinone diazo compound, specified compound, dystuff changing tone by mutual reaction with a photodissociated product of the compound and inorganic acid. CONSTITUTION:An ortho-quinone diazide compound, a compound forming acid or radicals by irradiating it with activated ray, a dystuff changing tone by mutual reaction with a photo-dissociated product and inorganic acid. As examples of inorganic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, HBr, HI, H3BO3, HClO4, HClO3, HIO3, HIO4, H3AsO3, etc., are given, and one or not less than two kinds of these acids are used upon mixing. As examples of compounds forming acid or radicals by irradiating them with activated ray, halomethyl oxiadiazol compound, halomethyl-s-triazine compounds, etc., are given.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版に用
いることができる感光性組成物に関し、さらに詳しくは
露光可視画性がよく、かつ感度の高い感光性組成物に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive composition that can be used in a photosensitive lithographic printing plate, and more particularly to a photosensitive composition that has good exposure and visible imageability and high sensitivity.

【0002】0002

【従来の技術】感光性平版印刷版は、親水性支持体上に
インク受容性の感光層を設けたもので、例えばポジ型感
光性平版印刷版においては、親水性支持体上に紫外線等
の活性光線による露光により可溶化するインク受容性感
光層が形成されている。このようなポジ型感光性平版印
刷版の感光層に画像露光を施し、次いで現像すると、露
光部の感光層は除去されて親水性支持体の表面が露出す
る一方、露光されない部分の感光層は支持体に残留して
インキ受容層を形成する。
[Prior Art] A photosensitive lithographic printing plate is one in which an ink-receptive photosensitive layer is provided on a hydrophilic support. For example, in a positive-working photosensitive lithographic printing plate, ultraviolet rays, etc. An ink-receptive photosensitive layer is formed which becomes solubilized by exposure to actinic light. When the photosensitive layer of such a positive-working photosensitive lithographic printing plate is subjected to imagewise exposure and then developed, the photosensitive layer in the exposed areas is removed and the surface of the hydrophilic support is exposed, while the photosensitive layer in the unexposed areas is It remains on the support to form an ink-receiving layer.

【0003】平版印刷においては、上記露光部が親水性
で、露光されない部分が親油性であるという性質の差が
利用される。
[0003] In planographic printing, the difference in properties is utilized in that the exposed areas are hydrophilic and the unexposed areas are lipophilic.

【0004】通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層
には、感光成分としてo−キノンジアジド化合物が、ま
た被膜強度とアルカリ可溶性とを高めるための成分とし
てアルカリ可溶性樹脂が含有されている。
Usually, the photosensitive layer of a positive photosensitive lithographic printing plate contains an o-quinonediazide compound as a photosensitive component and an alkali-soluble resin as a component for increasing film strength and alkali solubility.

【0005】これらの感光性平版印刷版には、作業性向
上のために高い感度を有することが必要とされている。
These photosensitive planographic printing plates are required to have high sensitivity in order to improve workability.

【0006】このため、特に上記o−キノンジアジド化
合物の中でも、感度及びコストの点から1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−5−スルホン酸エステル化合物
が有用なものとして一般に用いられている。
[0006] For this reason, particularly among the o-quinonediazide compounds mentioned above, 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonic acid ester compounds are generally used as being useful from the viewpoint of sensitivity and cost.

【0007】製版においては、例えば複数のフィルム原
稿の位置をかえて次々に焼き付けをする、いわゆる“多
面焼き付け”を行う等の露光作業が行われる。これら露
光作業において、露光部と未露光部の識別ができないと
、露光部の位置の確認ができないため、露光作業が難し
くなり、また、誤った露光をしてしまうということにな
る。これらをさけるために、感光性組成物には、露光に
より、露光作業に用いられる黄色の安全灯の下ででも認
識することができる可視画像が形成されること(露光可
視画性)が求められている。
[0007] In plate making, exposure operations such as so-called "multi-sided printing" are performed, in which a plurality of film originals are printed one after another while changing their positions. In these exposure operations, if it is not possible to distinguish between exposed areas and unexposed areas, the position of the exposed areas cannot be confirmed, making the exposure operations difficult and leading to incorrect exposure. In order to avoid these problems, photosensitive compositions are required to form a visible image upon exposure that can be recognized even under the yellow safety light used for exposure work (exposure visible image property). ing.

【0008】露光可視画性を得るために、感光性組成物
に露光により可視画像を形成させるプリントアウト材料
を含有させることが行われている。プリントアウト材料
は露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互
作用することによってその色調を変える有機染料より成
るもので、また露光により酸もしくは遊離基を生成する
化合物としては、例えば特開昭53−36223号記載
のトリハロメチル−2−ピロンやトリハロメチル−トリ
アジン、特開昭55−77742号記載のハロメチル−
ビニル−オキサジアゾール化合物およびジアゾニウム塩
等が挙げられる。
[0008] In order to obtain exposure-visible imageability, photosensitive compositions have been incorporated with printout materials that form visible images upon exposure. The printout material is composed of an organic dye that changes its color tone by interacting with a compound that generates an acid or a free radical when exposed to light. Trihalomethyl-2-pyrone and trihalomethyl-triazine described in JP-A-36223, halomethyl-2-pyrone and trihalomethyl-triazine described in JP-A-55-77742.
Examples include vinyl-oxadiazole compounds and diazonium salts.

【0009】しかし、従来公知の露光により酸もしくは
遊離基を生成するこれらの化合物は、添加量を増加させ
ると感度が低下してしまうことがわかった。
[0009] However, it has been found that when the amount of these conventionally known compounds that generate acids or free radicals upon exposure to light is increased, the sensitivity decreases.

【0010】0010

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の解
決すべき課題に鑑み、なされたもので、その目的は、露
光可視画性がよく、かつ、感度の高い感光性組成物を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems to be solved, and its object is to provide a photosensitive composition that has good exposure visibility and high sensitivity. There is a particular thing.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の感光性組成物は、(a)オルトキノンジア
ジド化合物、(b)活性光線の照射により酸又は遊離基
を生成する化合物、(c)該(b)の光分解生成物と相
互作用することによってその色調を変える色素、及び(
d)無機酸を含有することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the photosensitive composition of the present invention comprises (a) an orthoquinone diazide compound, (b) a compound that generates an acid or a free radical upon irradiation with actinic rays, (c) a dye that changes its color tone by interacting with the photolysis product of (b); and (
d) It is characterized by containing an inorganic acid.

【0012】本発明に用いられる無機酸としては、例え
ば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、HBr,HI,H3B
O3,HClO4,HClO3,HIO3,HIO4,
H3AsO3などがあげられる。特に好ましいものとし
て硫酸、リン酸があげられる。
Examples of inorganic acids used in the present invention include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, HBr, HI, H3B
O3, HClO4, HClO3, HIO3, HIO4,
Examples include H3AsO3. Particularly preferred are sulfuric acid and phosphoric acid.

【0013】これらの無機酸は1種類又は2種類以上を
混合して用いられ、全感光性組成物に対して0.01〜
5wt%、より好ましくは0.05〜2wt%の範囲で
使用される。 本発明における無機酸の添加量が少な過ぎると本発明の
効果は得られず、反対に添加量が多過ぎると露光後の可
視画像が見えにくくなったり、現像時画像部が損像され
やすくなったりする。
[0013] These inorganic acids are used singly or in combination of two or more, and the amount of these inorganic acids is from 0.01 to
It is used in an amount of 5 wt%, more preferably 0.05 to 2 wt%. If the amount of inorganic acid added in the present invention is too small, the effects of the present invention cannot be obtained, and on the other hand, if the amount added is too large, the visible image after exposure may become difficult to see, or the image area may be easily damaged during development. or

【0014】本発明の感光性組成物は、活性光線の照射
により酸または遊離基を生成する化合物として、例えば
、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−s
−トリアジン化合物などが用いられる。
The photosensitive composition of the present invention contains compounds that generate acids or free radicals upon irradiation with actinic rays, such as halomethyloxadiazole compounds, halomethyl-s
- Triazine compounds and the like are used.

【0015】ハロメチルオキサジアゾール化合物とは、
オキサジアゾール環にハロメチル基、好ましくはトリク
ロロメチル基を有する化合物である。
[0015] What is a halomethyloxadiazole compound?
It is a compound having a halomethyl group, preferably a trichloromethyl group, in the oxadiazole ring.

【0016】これらの化合物は公知であり、例えば特公
昭57−6096号公報、同61−51788号公報、
特公平1−28369号公報、特開昭60−13853
9号公報、同60−177340号公報、同60−24
1049号公報等に記載されている。
These compounds are known, for example, in Japanese Patent Publication No. 57-6096, Japanese Patent Publication No. 61-51788,
Japanese Patent Publication No. 1-28369, Japanese Patent Application Publication No. 1983-13853
Publication No. 9, Publication No. 60-177340, Publication No. 60-24
It is described in Publication No. 1049 and the like.

【0017】以下に、本発明に好ましく用いられるハロ
メチルオキサジアゾール化合物を具体的に示すが、本発
明に用いられるハロメチルオキサジアゾール化合物はこ
れのみに限定されるものではない。
The halomethyloxadiazole compounds preferably used in the present invention are specifically shown below, but the halomethyloxadiazole compounds used in the present invention are not limited thereto.

【0018】[0018]

【化1】[Chemical formula 1]

【0019】[0019]

【化2】[Case 2]

【0020】[0020]

【化3】[Chemical formula 3]

【0021】また、ハロメチル−s−トリアジン化合物
とは、s−トリアジン環に1以上のハロメチル基、好ま
しくはトリクロロメチル基を有する化合物である。
Further, the halomethyl-s-triazine compound is a compound having one or more halomethyl groups, preferably trichloromethyl groups, in the s-triazine ring.

【0022】これら化合物は公知であり、例えば特公昭
60−46700号公報、同62−44258号公報、
特公平1−28369号公報、特開昭58−87553
号公報、同60−239736号公報、同60−239
473号公報、同61−151644号公報、同62−
24242号公報、同62−58241号公報、同62
−175735号公報、同63−58440号公報、同
63−298339号公報等に記載されている。
These compounds are known, for example, Japanese Patent Publication No. 60-46700, Japanese Patent Publication No. 62-44258,
Japanese Patent Publication No. 1-28369, Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-87553
No. 60-239736, No. 60-239
No. 473, No. 61-151644, No. 62-
No. 24242, No. 62-58241, No. 62
It is described in JP-A-175735, JP-A No. 63-58440, JP-A No. 63-298339, etc.

【0023】本発明には、これら化合物を用いることが
できる。
These compounds can be used in the present invention.

【0024】次に、本発明に好ましく用いられるハロメ
チル−s−トリアジン化合物を具体的に示すが、本発明
に用いられるハロメチル−s−トリアジン化合物はこれ
のみに限定されるものではない。
Next, halomethyl-s-triazine compounds preferably used in the present invention will be specifically shown, but the halomethyl-s-triazine compounds used in the present invention are not limited to these.

【0025】[0025]

【化4】[C4]

【0026】[0026]

【化5】[C5]

【0027】[0027]

【化6】[C6]

【0028】本発明の感光性組成物中における前記活性
光線の照射により酸又は遊離基を生成する化合物の添加
量は、0.01〜10重量%が好ましく、より好ましく
は、0.1〜30重量%であり、特に好ましくは、0.
2〜3重量%である。
The amount of the compound that generates acid or free radicals upon irradiation with active light in the photosensitive composition of the present invention is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 30% by weight. % by weight, particularly preferably 0.
It is 2 to 3% by weight.

【0029】本発明に使用される上記の活性光線の照射
により酸又は遊離基を生成する化合物の光分解生成物と
相互作用することによってその色調を変える色素として
は、発色するものと退色又は変色するものとの2種類が
ある。退色又は変色する色素としては、例えばジフェニ
ルメタン、トリフェニルメタン系チアジン、オキサジン
系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノナフトキ
ノン系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる
The pigments used in the present invention that change their color tone by interacting with the photodecomposition products of compounds that generate acids or free radicals upon irradiation with actinic rays include those that develop color and those that fade or change color. There are two types: As the pigment that fades or changes color, various pigments such as diphenylmethane, triphenylmethane-based thiazine, oxazine-based, xanthene-based, anthraquinone-based, iminonaphthoquinone-based, and azomethine-based dyes are effectively used.

【0030】これらの例としては具体的には次のような
ものが挙げられる。ブリリアントグリーン、エオシン、
エチルバイオレット、エリスロシンB、メチルグリーン
、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェ
ノールフタレイン、1,3−ジフェニルトリアジン、ア
リザリンレッドS、チモールフタレイン、メチルバイオ
レット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタ
ニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノー
ルブルー、メチルオレンジ、オレンジIV、ジフェニル
チオカルバゾン、2,7−ジクロロフルオレセイン、パ
ラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン4
B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブ
ルーA、フェナセタリン、メチルバイオレット、マラカ
イトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー
BOH(保土ケ谷化学(株)製)、オイルブルー#60
3[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#3
12[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5
B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレッ
ト#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレ
ッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッ
ドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリー
ン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロン
レッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]
、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダ
ミンB、ローダミン6G、ファーストアシッドバイオレ
ットR、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジ
エチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボ
キシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ
ナフトキノン、2−カルボステアリルアミノ−4−p−
ジヒドロオキシエチルアミノ−フェニルイミノナフトキ
ノン、p−メトキシベンゾイル−p′−ジエチルアミノ
−o′−メチルフェニルイミノアセトアニリド、シアノ
−p−ジエチルアミノフェニルイミノアセトアニリド、
1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン
Specific examples of these include the following. brilliant green, eosin,
Ethyl violet, erythrosine B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyl triazine, alizarin red S, thymol phthalein, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol Sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, orange IV, diphenylthiocarbazone, 2,7-dichlorofluorescein, paramethyl red, Congo red, benzopurpurin 4
B, α-naphthyl red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, phenacetarin, methyl violet, malachite green, parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue #60
3 [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Pink #3
12 [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Red 5
B [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Scarlet #308 [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Red OG [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Red RR [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.] , Oil Green #502 [manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.]
, m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, fast acid violet R, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, 2-carbostearylamino-4-p-
dihydroxyethylamino-phenylimino naphthoquinone, p-methoxybenzoyl-p'-diethylamino-o'-methylphenyliminoacetanilide, cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilide,
1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4
-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone.

【0031】また、発色する色素としてはアリールアミ
ン類を挙げることができる。この目的に適するアリール
アミン類としては、第一級、第二級芳香族アミンのよう
な単なるアリールアミンのほかにいわゆるロイコ色素も
含まれ、これらの例としては次のようなものが挙げられ
る。
[0031] Arylamines can also be used as coloring pigments. Arylamines suitable for this purpose include not only simple arylamines such as primary and secondary aromatic amines, but also so-called leuco dyes, examples of which include the following.

【0032】ジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、
トリフェニルアミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−
p−フェニレンジアミン、p−トルイジン、4,4′−
ビフェニルジアミン、o−クロロアニリン、o−ブロモ
アニリン、4−クロロ−o−フェニレンジアミン、o−
ブロモ−N,N−ジメチルアニリン、1,2,3−トリ
フェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、アニリン、2,5−ジクロロアニリン、N
−メチルジフェニルアミン、o−トルイジン、p,p′
−テトラメチルジアミノジフェニルメタン、N,N−ジ
メチル−p−フェニレンジアミン、1,2−ジアニリノ
エチレン、p,p′,p″−ヘキサメチルトリアミノト
リフェニルメタン、p,p′−テトラメチルジアミノト
リフェニルメタン、p,p′−テトラメチルジアミノジ
フェニルメチルイミン、p,p′,p″−トリアミノ−
o−メチルトリフェニルメタン、p,p′,p″−トリ
アミノトリフェニルカルビノール、p,p′−テトラメ
チルアミノジフェニル−4−アニリノナフチルメタン、
p,p′,p″−トリアミノトリフェニルメタン、p,
p′,p″−ヘキサプロピルトリアミノトリフェニルメ
タン。
Diphenylamine, dibenzylaniline,
Triphenylamine, diethylaniline, diphenyl-
p-phenylenediamine, p-toluidine, 4,4'-
biphenyldiamine, o-chloroaniline, o-bromoaniline, 4-chloro-o-phenylenediamine, o-
Bromo-N,N-dimethylaniline, 1,2,3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, aniline, 2,5-dichloroaniline, N
-methyldiphenylamine, o-toluidine, p,p'
-Tetramethyldiaminodiphenylmethane, N,N-dimethyl-p-phenylenediamine, 1,2-dianilinoethylene, p,p',p''-hexamethyltriaminotriphenylmethane, p,p'-tetramethyldiaminotri Phenylmethane, p,p'-tetramethyldiaminodiphenylmethylimine, p,p',p''-triamino-
o-methyltriphenylmethane, p,p',p''-triaminotriphenylcarbinol, p,p'-tetramethylaminodiphenyl-4-anilinonaphthylmethane,
p, p', p''-triaminotriphenylmethane, p,
p',p''-hexapropyltriaminotriphenylmethane.

【0033】上記の色素の感光性組成物中に占める割合
は、0.01〜10重量%であることが好ましく、更に
好ましくは0.02〜5重量%で使用される。
The proportion of the above dye in the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.02 to 5% by weight.

【0034】本発明の感光性組成物には、感光性物質と
して、ポジ型の感光性物質、オルトキノンジアジド化合
物が用いられる。
In the photosensitive composition of the present invention, a positive type photosensitive substance, orthoquinone diazide compound, is used as the photosensitive substance.

【0035】本発明に好ましく用いられるオルトキノン
ジアジド化合物としては、オルトキノンジアジド基を含
む化合物とアルカリ可溶性樹脂との反応生成物を挙げる
ことができる。
The orthoquinonediazide compound preferably used in the present invention includes a reaction product of a compound containing an orthoquinonediazide group and an alkali-soluble resin.

【0036】オルトキノンジアジド基を含む化合物とア
ルカリ可溶性樹脂との反応生成物の代表的なものとして
は、o−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノー
ル類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物が挙げられる。
Typical reaction products of compounds containing orthoquinonediazide groups and alkali-soluble resins include ester compounds of o-naphthoquinonediazide sulfonic acid and polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones. It will be done.

【0037】このようなエステル化合物を形成するフェ
ノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂の製造
に用いるフェノール類としては、例えばフェノール、o
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,
5−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価
フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等
の二価のフェノール、ピロガロール、フロログルシン等
の三価のフェノールを挙げることができる。また、アル
デヒドとしては、例えばホルムアルデヒド、ベンズアル
デヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フル
フラールを挙げることができる。これらのアルデヒドの
うち好ましいものは、ホルムアルデヒド、ベンズアルデ
ヒドである。また、ケトンとしては、例えばアセトン、
メチルエチルケトンを挙げることができる。
Examples of the phenols used in the production of the polycondensation resin of phenols and aldehydes or ketones that form such ester compounds include phenols, o
-cresol, m-cresol, p-cresol, 3,
Examples include monovalent phenols such as 5-xylenol, carvacrol, and thymol, divalent phenols such as catechol, resorcinol, and hydroquinone, and trivalent phenols such as pyrogallol and phloroglucin. Examples of the aldehyde include formaldehyde, benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde, and furfural. Preferred among these aldehydes are formaldehyde and benzaldehyde. In addition, examples of ketones include acetone,
Mention may be made of methyl ethyl ketone.

【0038】上記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂
、ピロガロール・アセトン樹脂が挙げられる。
Specific examples of the polycondensation resins include phenol/formaldehyde resin, m-cresol/formaldehyde resin, m-, p-mixed cresol/formaldehyde resin, resorcinol/benzaldehyde resin, and pyrogallol/acetone resin. .

【0039】これらフェノール類及びアルデヒド又はケ
トンの重縮合樹脂は公知の方法で製造することができる
These polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones can be produced by known methods.

【0040】前記オルトナフトキノンジアジド基を含む
化合物のフェノール類のOH基に対する縮合率(OH基
1個に対する反応率)は、15〜80%が好ましく、よ
り好ましくは20〜60%である。
The condensation rate (reaction rate for one OH group) of the phenol of the compound containing the orthonaphthoquinone diazide group is preferably 15 to 80%, more preferably 20 to 60%.

【0041】また、オルトキノンジアジド基を含む化合
物とアルカリ可溶性樹脂との反応生成物としては、o−
ナフトキノンジアジドスルホン酸とフェノール性水酸基
を有するビニル系重合体とのエステル化合物も用いるこ
とができる。
[0041] Also, as a reaction product of a compound containing an orthoquinonediazide group and an alkali-soluble resin, o-
An ester compound of naphthoquinonediazide sulfonic acid and a vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group can also be used.

【0042】このようなエステルを形成するフェノール
性水酸基を有するビニル系重合体としては、特願平2−
29709号に記載されているフェノール性水酸基を有
するビニル系重合体を用いることができる。
[0042] Vinyl polymers having phenolic hydroxyl groups that form such esters are disclosed in Japanese Patent Application No.
A vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group described in No. 29709 can be used.

【0043】また、オルトナフトキノンジアジド基を含
む化合物と2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン
、2,3,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン
、2,3,4,2′,4′−ペンタヒドロキシベンゾフ
ェノン、2,3,4,3′,4′,5′−ヘキサヒドロ
キシベンゾフェノンとの縮合化合物も使用することがで
きる。
In addition, compounds containing an orthonaphthoquinonediazide group and 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,3,4,2',4'-pentahydroxy Condensation compounds with benzophenone, 2,3,4,3',4',5'-hexahydroxybenzophenone can also be used.

【0044】本発明の感光性組成物においては更にアル
カリ可溶性樹脂が用いられる。
In the photosensitive composition of the present invention, an alkali-soluble resin is further used.

【0045】アルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック
樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合体、特
開昭55−57841号公報に記載されている多価フェ
ノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が挙げら
れ、これらの樹脂を併用することもできる。
Examples of the alkali-soluble resins include novolac resins, vinyl polymers having phenolic hydroxyl groups, and condensation resins of polyhydric phenols and aldehydes or ketones described in JP-A-55-57841. , these resins can also be used in combination.

【0046】ノボラック樹脂としては、例えばフェノー
ル・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、特開昭55−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノール・フェノールもし
くはクレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合樹脂等が挙
げられる。
Examples of the novolak resin include phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, phenol-cresol-formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-57841, and JP-A-55-127553. Examples include p-substituted phenol/phenol or cresol/formaldehyde copolycondensation resins as described in Japanese Patent Publication No.

【0047】また、非ノボラック樹脂としてはフェノー
ル性水酸基を有するビニル系重合体、特にフェノール性
水酸基を有する単位を分子構造中に有するビニル系重合
体があげられる。
Examples of non-novolac resins include vinyl polymers having phenolic hydroxyl groups, particularly vinyl polymers having units having phenolic hydroxyl groups in their molecular structure.

【0048】これらのアルカリ可溶性樹脂は、塗布性を
考慮すると重量平均分子量が1,000以上のものが好
ましく、1,500以上のものがさらに好ましい。
These alkali-soluble resins preferably have a weight average molecular weight of 1,000 or more, more preferably 1,500 or more, in view of coating properties.

【0049】本発明の感光性組成物には、必要に応じて
これら感光性組成物に通常用いられる他の添加剤を添加
することができる。
Other additives commonly used in these photosensitive compositions can be added to the photosensitive composition of the present invention, if necessary.

【0050】本発明の感光性組成物は、これらの各成分
を下記の溶媒に溶解させ、更にこれを適当な支持体の表
面に塗布し、乾燥させることにより、感光層を設けて、
感光性平版印刷版を形成することができる。
The photosensitive composition of the present invention is prepared by dissolving each of these components in the following solvents, coating the solution on the surface of a suitable support, and drying it to form a photosensitive layer.
A photosensitive lithographic printing plate can be formed.

【0051】本発明の感光性組成物の各成分を溶解する
際に使用し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチ
ルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブアセテート等のセロソルブ類、メチルカルビト
ール、エチルカルビトール、ジメチルカルビトール、ジ
エチルカルビトール、メチルカルビトールアセテート等
のジエチレングリコールのエーテル及び/又はエステル
類、ジメチル−3−メトキシ−1−ブタノール、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、メチルエチルケトン、ホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、
シクロヘキサノン、トリクロロエチレン、メチルエチル
ケトン等が挙げられる。これら溶媒は、単独であるいは
2種以上混合して使用することができる。
Solvents that can be used to dissolve each component of the photosensitive composition of the present invention include cellosolves such as methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, and ethyl cellosolve acetate, methyl carbitol, and ethyl carbitol. , diethylene glycol ethers and/or esters such as dimethyl carbitol, diethyl carbitol, methyl carbitol acetate, dimethyl-3-methoxy-1-butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, methyl ethyl ketone, formamide, dimethyl sulfoxide, dioxane, acetone,
Examples include cyclohexanone, trichloroethylene, and methyl ethyl ketone. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0052】本発明においては、ジアルキレングリコー
ルのアルキルエーテル類、例えばジメチルカルビトール
を単独であるいは他の溶媒と混合して使用するのが好ま
しい。このときジアルキレングリコールのアルキルエー
テル類の混合量は、15重量%を越えることが好ましい
。 更に40重量%を越えることが好ましく、特に好ましく
は、55重量%以上含有されることである。
In the present invention, it is preferable to use alkyl ethers of dialkylene glycol, such as dimethyl carbitol, alone or in combination with other solvents. At this time, it is preferable that the amount of the alkyl ether of dialkylene glycol to be mixed exceeds 15% by weight. Furthermore, the content is preferably over 40% by weight, particularly preferably 55% by weight or more.

【0053】本発明の感光性組成物を支持体表面に設け
る際に用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布等を用いることが可能である。塗布量は用途により
異なるが、例えば0.1〜5.0g/m2(固形分とし
て)が好ましい。また乾燥温度としては、例えば20〜
150℃、好ましくは30〜100℃が採用される。
The coating method used for applying the photosensitive composition of the present invention to the surface of a support includes conventionally known methods, such as spin coating, wire bar coating, dip coating, air knife coating, roll coating, and blade coating. It is also possible to use curtain coating, etc. The coating amount varies depending on the application, but is preferably, for example, 0.1 to 5.0 g/m2 (as solid content). In addition, the drying temperature is, for example, 20~
A temperature of 150°C, preferably 30 to 100°C is employed.

【0054】本発明において、感光性塗布液の支持体上
への塗布量は、用途によって異なるが、一般的に固形分
として0.5〜3.5g/m2が適当である。
[0054] In the present invention, the amount of the photosensitive coating liquid to be applied onto the support varies depending on the use, but it is generally appropriate to have a solid content of 0.5 to 3.5 g/m2.

【0055】本発明の感光性組成物を用いた感光層を設
ける支持体としては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の
金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニ
ウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プラス
チックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、ア
ルミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプ
ラスチックフィルム等が挙げられる。このうち好ましい
のはアルミニウム板である。本発明の感光性組成物を用
いた感光性平版印刷版の支持体として砂目立て処理、陽
極酸化処理および必要に応じて封孔処理等の表面処理が
施されているアルミニウム板を用いることがより好まし
い。
Supports on which the photosensitive layer using the photosensitive composition of the present invention is provided include metal plates such as aluminum, zinc, steel, and copper, as well as metal plates plated or plated with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc. Examples include vapor-deposited metal plates, paper, plastic films, glass plates, paper coated with resin, paper covered with metal foil such as aluminum, and hydrophilic plastic films. Among these, aluminum plates are preferred. As a support for a photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to use an aluminum plate that has been subjected to surface treatments such as graining, anodizing, and, if necessary, sealing. preferable.

【0056】これらの処理には公知の方法を適用するこ
とができる。
[0056] Known methods can be applied to these treatments.

【0057】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版は、通常の方法で現像処理することができる。例
えば、透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ
等の光源により露光し、次いで、種々のアルカリ現像液
にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面に
残り、ポジ−ポジ型のレリーフ像が形成される。
A photosensitive lithographic printing plate using the photosensitive composition of the present invention can be developed by a conventional method. For example, the transparent positive film is exposed to light from a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, or tungsten lamp, and then developed with various alkaline developers. As a result, only the unexposed portion remains on the surface of the support, forming a positive-positive relief image.

【0058】上記アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩
の濃度は0.1〜20重量%が好ましい。又、該現像液
中に必要に応じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤
やアルコール等の有機溶媒を加えることができる。
Examples of the alkaline developer include alkali metal salts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, dibasic sodium phosphate, and tribasic sodium phosphate. Examples include aqueous solutions of. The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 20% by weight. Furthermore, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, and an organic solvent such as alcohol can be added to the developer as required.

【0059】[0059]

【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明は、その要旨を越えない限り、これらの実
施例に限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited to these Examples unless the gist of the invention is exceeded.

【0060】実施例1 [アルミニウム板の作製]厚さ0.24mmのアルミニ
ウム板(材質1050、調質H16)を、5重量%の水
酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行
った後、1リットルの0.5モル塩酸水溶液中において
、温度25℃、電流密度60A/dm2、処理時間30
秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで5重量
%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃、10秒間のデス
マット処理を施した後、20重量%硫酸溶液中で、温度
20℃、電流密度3A/dm2、処理時間1分の条件で
陽極酸化処理を行った。更に、80℃の熱水で20秒間
熱水封孔処理を行い、平版印刷版用支持体のアルミニウ
ム板を作製した。
Example 1 [Preparation of aluminum plate] A 0.24 mm thick aluminum plate (material 1050, tempered H16) was degreased in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 60°C for 1 minute. After that, in 1 liter of 0.5 molar hydrochloric acid aqueous solution, the temperature was 25°C, the current density was 60 A/dm2, and the treatment time was 30.
Electrolytic etching treatment was performed under conditions of seconds. Next, after desmutting in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 60°C for 10 seconds, anodization was performed in a 20% by weight sulfuric acid solution at a temperature of 20°C, a current density of 3A/dm2, and a treatment time of 1 minute. processed. Furthermore, hot water sealing treatment was performed for 20 seconds with hot water at 80° C. to produce an aluminum plate as a support for a lithographic printing plate.

【0061】[感光性組成物塗布液の塗布]上記のよう
に作成したアルミニウム板に下記組成の感光性組成物塗
布液1を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で4分間乾
燥し、ポジ型感光性平版印刷版(試料1)を作製した。
[Coating of photosensitive composition coating solution] Photosensitive composition coating solution 1 having the following composition was applied to the aluminum plate prepared as above using a rotary coating machine, and dried at 90° C. for 4 minutes. A positive photosensitive lithographic printing plate (Sample 1) was prepared.

【0062】この試料の乾燥塗布膜の膜厚は2.2g/
m2であった。
The thickness of the dry coating film of this sample was 2.2 g/
It was m2.

【0063】(感光性組成物塗布液1組成)(1)o−
ナフトキノンジアジド化合物(QD−1)      
  1.8 g(2)ノボラック樹脂(1)     
                         
2.5 g(3)非ノボラック樹脂(2)      
                      4.3
 g(4)ハロメチルオキサジアゾール化合物(rad
−1)       0.07g(5)色素(ビクトリ
アピュアブルーBOH)      (保土ケ谷化学製
)                        
        0.07g(6)メチルセロソルブ 
                         
        100ml(7)硫酸       
                         
              0.4 g
(1 composition of photosensitive composition coating solution) (1) o-
Naphthoquinone diazide compound (QD-1)
1.8 g (2) Novolac resin (1)

2.5 g (3) non-novolac resin (2)
4.3
g(4) Halomethyloxadiazole compound (rad
-1) 0.07g (5) Pigment (Victoria Pure Blue BOH) (manufactured by Hodogaya Chemical)
0.07g (6) Methyl cellosolve

100ml (7) Sulfuric acid

0.4 g

【0064】
実施例2 実施例1の感光性組成物塗布液1組成において、硫酸の
代りにリン酸を使用した以外はすべて実施例1と同様に
して感光性組成物塗布液2を作製し、これを用いてポジ
型感光性平版印刷版試料2を作製した。
[0064]
Example 2 Photosensitive composition coating liquid 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that phosphoric acid was used instead of sulfuric acid in the composition of photosensitive composition coating liquid 1 of Example 1. A positive-working photosensitive lithographic printing plate sample 2 was prepared.

【0065】比較例1 実施例1の感光性組成物塗布液1組成において、硫酸を
添加しないこと以外はすべて実施例1と同様にして感光
性組成物塗布液3を作製し、これを用いてポジ型感光性
平版印刷版試料3を作製した。
Comparative Example 1 Photosensitive composition coating solution 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that sulfuric acid was not added to the composition of photosensitive composition coating solution 1 of Example 1. Positive-working photosensitive lithographic printing plate sample 3 was prepared.

【0066】比較例2 実施例1の感光性組成物塗布液1組成において、硫酸を
添加せず、さらにハロメチルオキサジアゾール化合物(
rad−1)を、0.07gの代わりに0.14g添加
したこと以外はすべて実施例1と同様にして感光性組成
物塗布液4を作製し、これを用いてポジ型感光性平版印
刷版試料4を作製した。
Comparative Example 2 In the photosensitive composition coating solution 1 composition of Example 1, sulfuric acid was not added, and a halomethyloxadiazole compound (
A photosensitive composition coating solution 4 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.14 g of rad-1) was added instead of 0.07 g, and this was used to prepare a positive photosensitive lithographic printing plate. Sample 4 was produced.

【0067】[0067]

【化7】 ノボラック樹脂(1)フェノール、m−クレゾール、p
−クレゾール及びホルムアルデヒドの共重合化合物(フ
ェノール、m−クレゾール及びp−クレゾールの各々の
モル比が20:48:32,Mw=6000,Mw/M
n=5.0)
[Chemical 7] Novolac resin (1) Phenol, m-cresol, p
- Copolymer compound of cresol and formaldehyde (the molar ratio of phenol, m-cresol and p-cresol is 20:48:32, Mw=6000, Mw/M
n=5.0)

【0068】[0068]

【化8】[Chemical formula 8]

【0069】<感度の評価>得られた感光性平版印刷版
試料1〜4の各々に、感度測定用ステップタブレット(
イーストマン・コダック社製No.2、濃度差0.15
ずつで21段階のグレースケール)を密着して、2kw
メタルハライドランプ(岩崎電気社製  アイドルフィ
ン2000)を光源として90cmの距離から露光した
。次にこの試料をSDR−1(コニカ(株)製)現像液
を水で6倍に希釈した現像液で27℃にて20秒間現像
した。
<Evaluation of sensitivity> Each of the obtained photosensitive lithographic printing plate samples 1 to 4 was coated with a step tablet for sensitivity measurement (
Eastman Kodak No. 2.Difference in concentration 0.15
(21 levels of gray scale) in close contact with each other, 2kw
Exposure was carried out from a distance of 90 cm using a metal halide lamp (Idol Fin 2000 manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) as a light source. Next, this sample was developed at 27° C. for 20 seconds using a developer prepared by diluting SDR-1 (manufactured by Konica Corp.) six times with water.

【0070】上記ステップタブレットの3.0段が完全
にクリアーになる露光時間をもって感度とした。
Sensitivity was defined as the exposure time at which the 3.0 step of the step tablet was completely cleared.

【0071】<露光可視画性の評価>前記条件で露光し
た現像前の試料の露光部と未露光部の濃度差を黄色灯下
で目視で評価し、露光可視画性を評価した。また、濃度
計(コニカデンシトメーターPDA−65)を用いて測
定を行い、露光部と未露光部の濃度差の絶対値ΔDを求
めた。ΔDが大きい程、露光可視画性が良いことを示し
ている。
<Evaluation of visible image quality upon exposure> The difference in density between the exposed and unexposed areas of the sample before development was exposed under the above conditions and was visually evaluated under a yellow lamp to evaluate the visible image quality upon exposure. Further, measurement was performed using a densitometer (Konica densitometer PDA-65), and the absolute value ΔD of the density difference between the exposed area and the unexposed area was determined. It is shown that the larger ΔD is, the better the exposure visible image quality is.

【0072】感度及び露光可視画性の評価結果を表1に
示した。
Table 1 shows the evaluation results of sensitivity and exposure visibility.

【0073】[0073]

【表1】 *1  露光可視画性(目視)露光可視画性が良好な状
態を○、不良な状態を×としてその間を3段階評価した
。○以上で実用可能なレベルである。 露光可視画性(優)←○,△,×→(劣)表1の結果よ
り、本発明の感光性組成物を用いた感光性平版印刷版試
料1及び2は、露光可視画性が良好で、かつ感度が高い
ことがわかる。
[Table 1] *1 Exposure visible image property (visual observation) Good exposure visible image property was evaluated as ◯, and poor state as ×, and evaluated in 3 grades. ○ or above is a practical level. Exposure visible image properties (excellent)←○,△,×→(poor) From the results in Table 1, photosensitive lithographic printing plate samples 1 and 2 using the photosensitive composition of the present invention have good exposure visible image properties. It can be seen that the sensitivity is high.

【0074】これに対し、無機酸を含有していない比較
試料3は露光可視画性が劣っており、またハロメチルオ
キサジアゾール化合物(rad−1)を増量した比較試
料4は露光可視画性が実用可能なレベルまで改良される
ものの、感度が低下してしまう。
On the other hand, Comparative Sample 3, which does not contain an inorganic acid, has poor exposure visible image properties, and Comparative Sample 4, which contains an increased amount of halomethyloxadiazole compound (rad-1), has poor exposure visible image properties. is improved to a practical level, but the sensitivity is reduced.

【0075】[0075]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の感
光性組成物によれば、露光可視画性が良好で、かつ感度
の高い感光性平版印刷版を提供することができる。
As described above in detail, the photosensitive composition of the present invention makes it possible to provide a photosensitive lithographic printing plate with good exposed visible image properties and high sensitivity.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  (a)オルトキノンジアジド化合物、
(b)活性光線の照射により酸又は遊離基を生成する化
合物、(c)該(b)の光分解生成物と相互作用するこ
とによってその色調を変える色素、及び(d)無機酸を
含有することを特徴とする感光性組成物。
Claim 1: (a) an orthoquinonediazide compound;
(b) a compound that generates an acid or a free radical upon irradiation with actinic light, (c) a dye that changes its color tone by interacting with the photodecomposition product of (b), and (d) an inorganic acid. A photosensitive composition characterized by:
JP12527591A 1991-04-26 1991-04-26 Photosensitive composition Pending JPH04328551A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5338643A (en) * 1991-12-25 1994-08-16 Mitsubishi Kasei Corporation O-quinonediazide photosensitive composition containing s-triazine compound, novolak resin, vinyl-based polymer and a dye

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5338643A (en) * 1991-12-25 1994-08-16 Mitsubishi Kasei Corporation O-quinonediazide photosensitive composition containing s-triazine compound, novolak resin, vinyl-based polymer and a dye

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