JPH0432695B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の背景） この発明は、沸騰床接触反応装置において均一
な、上方への流れ分布を得るのに用いられる、す
ぐれた流れ分布格子板組立体及び方法、特に上一
次格子板及び一次格子板下に配設した下二次格子
板を有し、かつ各板が多数の立て形流れ管を備え
る段階流れ分布格子板組立体並びに方法に関す
る。

高温、高圧条件下に操作する沸騰触媒床反応装
置においては、分布格子板下及び触媒床中で流れ
分布不良の問題が起ることがある。このような流
れ分布不良は、通常格子板開口のコークスによる
閉そくのような異常操作状態、又は床中の触媒粒
子上への過剰コークス析出による。このような格
子板開口の閉そくが起こつた場合、不均一な流れ
分布及び床沸騰が生じ、極めて望ましくない。現
在、反応装置格子板に用いられるような流れ立ち
管及びみぞ穴つき尾筒は、通常沸騰触媒床への再
循環及び供給液体流並びに水素ガスをじゆうぶん
分布させうる。しかし、現在用いられる格子板装
置は、反応装置の充気室における烈しい流れ分布
不良を処理するにはじゆうぶんでないことが明ら
かとなつた。その理由は、現在の板は板下に存在
する流れ分布を中程度にしか改良できず、「噴流」
及び大きな操作混乱状態が充気室内に水素の不同
な深さを生じ、これにより尾筒みぞ穴の一層大き
な長さが露出するとともに、それに応じてそれら
特定の立ち管へ水素流れが増加することを緩和す
ることはできないからである。反応装置充気室に
おける、このような流れ分布不良の状態は、供給
流及び再循環流が充気室に入れられる仕方によつ
て大体一定である。また、流れ分布不良は、分布
格子下の充気室内の液準位が一つの方向から他の
方向へと絶えず傾いている場合、スラツシユ効果
（sloshing effect）として恐らく起こるであろう。

前記沸騰床接触反応装置における円筒形状バブ
ルキヤツプでおおつた従来の円筒流れ立ち管の使
用は、フアーカス（Farkas）らの米国特許第
3197286号、ヨハンソン（Johanson）の米国特許
第3197288号、及びウエーバー（Weber）らの米
国特許第3475134号明細書に示される。しかし、
ガス及び液体流れがこれらの反応装置設計により
通常供給された場合、不十分な分布が起こること
を確かめた。

したがつて、沸騰床接触反応装置における流れ
分布の改良が求められた。ここに、すぐれた段階
格子板配置が開発されたのであり、これは、格子
下に流れ分布不良の問題が存在する場合は、いつ
でも一次格子板下のガス及び液体の流れを一層有
効に再分布させ、反応装置内触媒床の、一層均一
な沸騰を与えるようにする。充気室内の「なめら
かな」液準位を維持し、それによつて各管へガス
が流入する、各立ち管のみぞ穴の露出長さを適度
に等しく維持するのを助けるため、二次格子板を
一次格子下に設ける。この二次格子板は、現在沸
騰床反応装置に用いられる単一流れ分布格子と同
様であるが、板の上側、立ち管の上にキヤツプを
備えず、反応装置内壁近くまで延在する板に取付
けたみぞ穴付き管のみを用いる。

（発明の要約） この発明は、反応装置の沸騰触媒床への、上方
への、すぐれた流れ分布のために用いられる段階
分布格子板組立体及び方法を提供し、その場合、
下二次流れ分布格子がガス及び液体流れを上方
に、上一次流れ分布格子へ送り、次いで反応装置
の沸騰床へと供給する。下二次格子板に設けられ
た流れ管は、均一な間隔を有し、上一次分布格子
板の流れ管より直径が比較的大きく、全断面積が
大きくて、一層大きい、制御する圧力差が上一次
格子板で起こり、沸騰床への、上方への一層均一
な流れ分布を与えるようにされる。この段階格子
板装置又は組立体は、上一次格子板が一層有効に
作動することを可能にし、これにより、沸騰触媒
床がそれを経て上方に流れるガス及び液体の、反
応装置全断面積にわたる、一層均一な分布を有す
るようにする。

この発明の段階格子板組立体においては、上一
次格子板は、反応装置下頭部又は反応装置壁かの
いずれかに支持することができ、下二次格子板
は、上一次格子に、二つの格子間に延在する、多
数のスペーサ棒によるなどして支持するのが普通
である。その代わりに、二次格子板を反応装置下
頭部又は壁に、独立に支持することができ、又は
上一次格子板と構造的に一体化して、格子を経
る、上方への流体流れにより起こされた格子板組
立体での全圧力差に耐えるのを助けるようにする
ことができる。また、下格子板を上格子板下の流
れ管を延長することにより上格子板に、一体に取
付け、触媒床重量と、格子板組立体の両板での全
圧力差とを組立体により担うようにすることがで
きる。

一層詳細に述べると、この発明は、上方、反応
装置触媒床へのガス／液体混合物の均一流れ分布
を供給する段階格子板組立体を特徴とし、前記格
子板組立体は、反応装置内に、その下端部付近に
支持した上一次格子板であつて、該板に等間隔に
配設した、該板を通り、ほぼ垂直に延在する、均
一大きさの、多数の流れ分布管を備える上一次格
子板；前記一次格子板の各管の上端部をおおうキ
ヤツプであつて、格子板上の管上端部から外方に
間隔をおいてこれに固着し、流体が管を経て上方
に、次いでキヤツプの下縁部の下から外方に沸騰
床に流れるようにしたキヤツプ；及び前記一次格
子板の下方にこれと間隔をおいて配設した下二次
格子板であつて、該板に等間隔に配設した、該板
を通りほぼ垂直に延在する、均一直径の、多数の
流れ分布管を備えて、流体が二次格子の流れ管を
経て上方に、次いで一次格子の流れ管を経て上方
に、そしてキヤツプ下縁部の下から外方に流れ、
反応装置沸騰床における均一流体流れを与えるよ
うにした下二次格子板を備える。

第二に、この発明は、上方に、沸騰床反応装置
に流れるガス及び流体流れを均一に分布させるに
あたり、ガス及び液体の流れを反応装置下端部
で、流れ分布格子の下に設けた充気室に入れるこ
と；前記ガス及び液体流れを前記充気室から上方
に、二次格子板に配設した、多数の、管状流路を
経て、二次格子板の上で一次格子板の下に配設し
た中間帯域に送ること；前記下格子板上の前記中
間帯域内のガス及び流体流れを再混合し、かつ再
分布させること；及び再混合したガス及び液体を
前記上一次格子板に配設した、多数の管状流路を
経て上方に、次いで前記多数の、上の流路の上に
それぞれ配設したバブルキヤツプの下を通り、反
応装置の沸騰触媒床に均一に流すことを特徴とす
る沸騰床反応装置用段階流れ分布方法を含む。

（発明の説明） 液体、ガス及び粒子固体を接触させる液相接触
反応装置において、完全かつ有効な接触反応を達
成するためには、上に流れる液体とガスとの混合
物を反応装置の全横断面にわたつて均一に分布さ
せ、粒子固体、すなわち、触媒の床を、触媒がラ
ンダム運動をする均一膨脹状態に保つようにする
ことが極めて重要である。260〜538℃（500〜
1000〓）の温度及び35.2〜352Kg／cm²ゲージ圧
（500〜5000psig）の圧力でような高温高圧条件下
に、低沸点液体留分を製造する、重質油若しくは
石炭−油スラリーの接触水素化又は重質炭化水素
供給流の水素化分解のような、若干の反応に対し
て、反応装置整流板又は格子板組立体を経る流れ
分布不良は、床中に、触媒が均一ランダム運動に
ない、比較的不活性な帯域を生じる傾向がある。
この状態は、熱に油又はスラリーのコークス化に
よる、望ましくない触媒粒子凝集塊の生成を引き
起こす。格子板を経て沸騰触媒床に至る上方への
望ましい均一流れ分布は、コークス化によつて立
ち管内に起こる抵抗によるか、管内触媒粒子によ
るかのいずれかでそこなわれる。この発明は沸騰
触媒床における、これらの流れ分布不良の問題に
対し有効な解決を提供する。

また、整流板又は格子板組立体は、反応装置を
運転停止した場合、常に触媒粒子が整流板を経て
下方に引き戻されないようにするとともに、触媒
床内に含まれる液体の大部分を床の下に排出する
働らきを有さねばならない。触媒が格子板整流装
置を経て引き戻される場合、その中の流路をふさ
ぎ、操作を妨げる傾向があり、そのため流路が少
なくとも一部分制限されるので、触媒床の再沸騰
化が極めて困難になる。更に、このような制限
は、触媒床に望ましくない流れ分布不良を生じる
傾向がある。このような触媒の逆流を防止するた
めには、ボール逆止弁を各立ち管に設けるのが普
通である。

この発明においては、２枚の格子板を一連の流
れ関係をなして設け、それにより上一次格子板上
にある沸騰触媒床への、上方への、比較的一層均
一な流れ分布が得られるようにする。したがつ
て、この発明の基本的特徴として両格子板が均一
な大きさと間隔を有する多数の流れ管を備え、上
格子板の管のみが管の上端部をおおうキヤツプを
有することが挙げられる。二次格子板に用いる流
れ管は、均一な間隔で設けられ、かつ上一次格子
板の流れ管より比較的大きい直径及び全断面積を
有しなければならない。二次流れ管は、必ずしも
形状が円筒形である必要はなく、断面形状を正方
形、長方形、若しくは三角形にすることができ、
又実際には任意の形状にすることができる。しか
し、管有効直径及び管数の組合わせは、所望の均
一流れ及び二次格子での圧力差、これは上一次格
子での圧力差の0.10〜0.90倍の間でなければなら
ない、を与えるようにする。また、二次管に対す
る長さ／直径比は少なくとも約1.0とし、通常約
5.0を超える必要はない。

操作中、下二次格子の多数の流れ管を経て進む
ガス液体混合物は２枚の格子板間の横空間におい
て再分布される。したがつて、上一次格子の多数
の流れ管を経て沸騰床に流れるガス／液体混合物
の流れは、単一格子板のみを用いた場合より均一
である。

第１図に一般的に示すように、反応装置１０
は、上一次格子板１２を備え、該板は、反応装置
内で通常その外縁部において、反応装置下頭部１
４に取り付けた円筒形状支持スカート１３により
固定され、反応装置下部において側壁に密封さ
れ、下格子板３０の下に充気室空間１５を与える
ようにする。反応装置への供給流は、導管１１を
経て入り、流れは固定じやま板１１ａにより放射
外方に偏向させられる。格子板１２は触媒板２５
を支持するのに役立ち、多数の流れ立ち管１６を
備える。第２図に一層詳細に示すように、各立ち
管１６は、その上端部に少なくとも１個の開口又
はみぞ穴１７を有し、管１６の上端部にねじ込み
ボルト及びナツトのような適当な固定手段１９に
より固着したキヤツプ１８によりおおわれる。キ
ヤツプ１８は、管１６から外方に間隔をおいて設
けられ、格子板１２の管１６及びみぞ穴１７を経
て触媒粒子の床２５への、上方への流体の均一な
流れに備える。

第２図に示すように、キヤツプ１８の下端部
は、切欠き１８ａを備えてガスの局部的流出流れ
に備え、床２５中におけるガスの小泡の生成を促
進するようにするのが好ましい。切欠きを設ける
意図は、ガスをキヤツプの下から、ガスの大きな
球でなく分離した小泡として出させることであ
り、切欠きの幅は触媒の有効粒子径の５〜10倍と
するのが普通である。キヤツプの底部のまわりに
設けた切欠きは円筒形又はテーパー形状のような
任意の形状の個々のキヤツプに用いうる。また、
反応装置の操業停止又は再循環液体流れの減少に
伴う、床２５から格子板下の充気室１５への触媒
の逆流を防止するためには、ボールチエツク２０
を設けるのが普通であり、第２図に示すように、
各立ち管１６の上端部に配設するのが好ましい。
ボールチエツク２０は、立ち管１６の上端内部に
設けた弁座２２と対となり、床２５から整流板１
２下の充気室１５への、触媒のいかなる逆流をも
防止する。水素のようなガスを立ち管１６の下端
部に入れやすくするために、穴２３又は縦みぞ穴
２４のような開口を管の、格子板下の部分に設け
る。

一次格子板１２の下には、二次格子板３０を配
設し、該二次格子板３０は穴３３又は縦みぞ穴３
４のような開口をそれぞれ下端部に有する、多数
の、平行な流れ管３２を備える。二次格子板３０
は、上格子板１２に対し間隔をおいてその下方に
設け、しかも、第１図に示すように、上下の格子
板間に所望の間隔３５を保つスペーサ管３７を周
囲に、それぞれ配設した、多数の棒３６によるな
どして上格子板１２に支持するのが普通である。
二次格子板３０は、支持スカート１３に接するま
で延在することができるが、それらの間に小さな
環状間隔を有し、かつ板３０から下方に延在す
る。円周上のスカート４０を備えうるのが好まし
い。スカート４０の下端部は二次流れ管３２の下
端部とほぼ同一単位まで延長する。また、スカー
ト４０にも二次流れ管３２の穴３３又はみぞ穴３
４と同様な穴３９又はみぞ穴４１のような開口を
設ける。更に、環状間隔３８の流れ面積は二次格
子板にある開口の全流れ面積、すなわち、多数の
流れ管３２及び環状流れ間隔３８の両方より与え
られるそれの約10％を超えてはならない。

複式格子板組立体の操作中、充気室１５に供給
されたガス／液体混合物は下二次格子板３０の下
にガス空間１５ａを形成する。充気室１５内のガ
ス及び液体混合物は、多数の流れ管３２及び環状
間隔３８を経て上方に上下格子板間の空間３５に
進む。空間３５においてガス／液体混合物は一般
に横方向に再分布され、ガス部分は上昇して液準
位３５ｂ上にガス空間３５ａを形成する。液準位
３５ｂは、立ち管１６の下端部にあるみぞ穴２４
の垂直位置及び格子板を経る流量により制御され
る。

したがつて、この発明の利点は、下二次格子板
が上一次格子板下の流体流れの、横方向への再分
布に備え、それにより格子の下側における流れ分
布不良の問題により起こされる可能性のある、一
次格子下の、任意の流れ分布不良を補正するに役
立つ。若干の立ち管がコークス生成などにより閉
そくされない場合は、反応装置床の沸騰が均一な
のが普通である。

この発明の他の例においては、第３図に示すよ
うに、上一次格子板１２及び下二次格子板３０の
両方を独立に反応装置下頭部１４に、上格子１２
に対しては外側円筒形支持スカート１３により、
また下格子３０の支持に対しては内側円筒状スカ
ート４５により支持することができる。この格子
板配置に対しては、第１図の例で用いた支持棒３
６及びスペーサ管３７に不必要である。また、格
子板３０の、多数の流れ管３２にも水素のような
ガスの流れ管への進入を容易にするため、上格子
板１２の流れ管１６に対すると同様に多数の開口
３３又はみぞ穴３４を設ける。所要に応じて、充
気室１５への供給流用複式ノズル１１を設ける。

この発明の他の重要な利点は、２枚の格子板を
構造的に一体化し、それらを通る、上方への流体
流れと触媒床重量とによる、格子板組立体での全
圧力差が両板の組立体により担われるようにしう
ることである。第４図に示すように、上一次格子
板１２の立ち管４２を下方に延在させて、溶接の
ような方法により下二次格子板３０に固着する。
穴４３又はみぞ穴４４を各管４２の下端部に前の
ように設けて、水素のようなガスの流れ管への流
入に備える。また、上一次格子板１２は、反応装
置内壁に、壁に溶接した連続リング２６により適
当に支持することができる。上格子板１２はリン
グ２６に多数の締付けボルト２８及びナツト２９
により取付けられる。この格子板組立体におい
て、下格子板３０の周囲を反応装置１０の内壁の
近くまで延在させ、それらの間に小さな環状空間
４６をつくり、周囲にたれ下がるスカート４８と
穴４９を第１図の例で前述したように、設けるよ
うにしうる。

次に示す例により、段階流れ分布格子板組立体
の有用性及び有効性を示すが、これによりこの発
明の範囲が限定されるものではない。

例 石油供給原料物質の沸騰床接触水素化反応装置
において、複式格子組立体は次の特性及び寸法を
有する： 反応装置温度、℃（〓） 399〜454（750〜850） 反応装置圧力、Kg／cm²ゲージ圧（psig） 70〜
211（1000〜3000） 反応装置内径、ｍ（ft） 3.7(12) 一次及び二次格子板間垂直間隔、cm（in） 40.6
(16) 二次格子流れ管直径、cm（in） 3.30（1.30） バブルキヤツプ直径、cm（in） 7.62(3) 一次格子板下への一次流れ管の延長、cm（in）
22.9(9) 一次格子管の流れ面積、cm²（in²） 13.94（2.16） 二次格子流れ管直径、cm（in） 10.2(4) 格子板下への二次流れ管の延長、cm（in） 12.7
(5) 二次格子管の流れ面積、cm²（in²） 81.9（12.7） 上一次格子での圧力差、Kg／cm²（psi） 0.35〜
0.56（５〜８） 下二次格子での圧力差、Kg／cm²（psi） 0.07〜
0.21（１〜３） 反応装置内の触媒沸騰パターンは、充気室から
上方、反応装置床への液体及びガス流量の広い範
囲にわたつて均一であつた。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に従う、多数の立ち管を有
する段階格子板組立体を備える反応装置容器の下
部の部分縦断面図、第２図は、それぞれ単独のバ
ブルキヤツプでおおわれ、かつボールチエツクを
備える、多数の流れ立ち管を備える上一次格子板
の部分縦断面図、第３図は、両格子板が反応装置
下頭部に支持された他の段階格子板組立体の部分
縦断面図、第４図は、段階格子板が構造的に一体
化されて単一装置をなし、反応装置壁に支持され
ている他の格子板組立体の部分縦断面図である。 １０……反応装置、１１……導管、１１ａ……
じやま板、１２……上一次格子板、１３……支持
スカート、１４……下頭部、１５……充気室、１
５ａ……ガス空間、１６……流れ立ち管、１７…
…みぞ穴、１８……キヤツプ、１８ａ……切欠
き、１９……固定手段、２０……ボールチエツ
ク、２２……弁座、２３……穴、２４……縦みぞ
穴、２５……沸騰触媒床、２６……連続リング、
２８……締付けボルト、３０……下二次格子板、
３２……流れ管、３３……穴、３４……縦みぞ
穴、３５ａ……ガス空間、３５ｂ……液準位、３
６……支持棒、３７……スペーサ管、３８……環
状間隔、３９……穴、４０……スカート、４２…
…立ち管、４３……穴、４４……みぞ穴、４８…
…スカート、４９……穴。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反応装置の沸騰床に、上方に流れるガス／液
   体混合物の、均一な流れ分布を与える段階格子板
   組立体において、 (a) 反応装置内に、その下端部付近に支持した上
   一次格子板であつて、該板に等間隔に配設し
   た、該板を通りほぼ垂直に延在する、均一大き
   さの、多数の流れ分布管を備える上一次格子
   板； (b) 前記一次格子の各管の上端部をおおうキヤツ
   プであつて、格子板上の管上端部から外方に間
   隔をおいてこれに固着し、流体が管を経て上方
   に、次いでキヤツプの下縁部の下方から外方
   に、沸騰床に流れるようにしたキヤツプ；及び (c) 前記一次格子板の下方にこれと間隔をおいて
   配設した下二次格子板であつて、該板に等間隔
   に配設した、該板を通りほぼ垂直に延在する、
   均一直径の、多数の流れ分布管を備えて、流体
   が二次格子の流れ管を経て上方に、次いで一次
   格子の流れ管を経て上方に、そしてキヤツプ下
   縁部の下から外方に流れ、反応装置沸騰床にお
   ける均一流体流れを与えるようにした下二次格
   子板 を備える沸騰床反応装置用段階流れ分布格子板組
   立体。 ２ 二次格子板にある二次流れ管の全断面積が一
   次格子板の一次流れ管のそれを超える特許請求の
   範囲第１項記載の格子板組立体。 ３ 前記二次格子板の各流れ管が一次格子板の各
   管より大きい断面積を有する特許請求の範囲第１
   項記載の格子板組立体。 ４ 前記下二次格子板の前記管が約1.0〜5.0の長
   さ／直径比を有する特許請求の範囲第１項記載の
   格子板組立体。 ５ 前記二次格子板を前記一次格子板に多数の支
   持棒により支持する特許請求の範囲第１項記載の
   格子板組立体。 ６ 前記二次格子板を、前記一次格子板の下に、
   前記支持棒に設けたスペーサ手段により、間隔を
   保たせる特許請求の範囲第５項記載の格子板組立
   体。 ７ 前記一次格子板を、反応装置下頭部に、前記
   一次格子板の下方に延びて前記二次格子板の下方
   の取付け部に至るスカート手段により、取付ける
   特許請求の範囲第１項記載の格子板組立体。 ８ 一次及び二次の両格子板を構造的に一体化し
   て触媒床重量及び格子板組立体での全圧力差に耐
   えるようにする特許請求の範囲第１項記載の格子
   板組立体。 ９ 一次管が触媒の格子板上から格子板下への逆
   流を防止する逆止弁を備える特許請求の範囲第１
   項記載の格子板組立体。 １０ 前記逆止弁が立ち管上部に配設したボール
   及びこれと対をなす弁座である特許請求の範囲第
   ９項記載の格子板組立体。 １１ 反応装置の沸騰床に、上方に流れるガス／
   液体混合物の、均一な流れ分布を与える段階格子
   板組立体において、 (a) 反応装置内に、その下端部付近に支持した上
   一次格子板であつて、該板に等間隔に配設し
   た、該板を通りほぼ垂直に延在する、均一大き
   さの、多数の流れ分布管を備える上一次格子
   板； (b) 前記一次格子の各管の上端部をおおうキヤツ
   プであつて、格子板上の該管の上端部から外方
   に間隔をおいてこれに固着し、流体が管を経て
   上方に、次いでキヤツプの下縁部の下から外方
   に、沸騰床に流れるようにしたキヤツプ；及び (c) 前記一次格子板の下方にこれと間隔をおいて
   配設した下二次格子板であつて、該板に等間隔
   に配設した、該板を通りほぼ垂直に延在する、
   一次格子板の管より断面積の大きい、直径及び
   大きさの均一な多数の流れ分布管を備えて、液
   体が最初二次格子流れ管を経て上方に、次いで
   一次格子流れ管を経て上方に、そしてキヤツプ
   下縁部から外方に流れ、反応装置沸騰床におけ
   る均一流体流れを与えるようにした下二次格子
   板 を備える沸騰床反応装置用段階流れ分布格子板組
   立体。 １２ 上方に、沸騰床反応装置に流れるガス及び
   流体流れを均一に分布させるにあたり、 (a) ガス及び液体の流れを反応装置下端部で、流
   れ分布格子の下に設けた充気室に入れること； (b) 前記ガス及び液体流れを前記充気室から上方
   に、下二次格子板に配設した多数の、平行な管
   状流路を経て、二次格子板の上で一次格子板の
   下に配設した中間帯域に送ること； (c) 前記下格子板上の前記中間帯域内のガス及び
   流体流れを混合し、かつ再分布させること；及
   び (d) 混合したガス及び液体を上一次格子板に配設
   した、多数の管状流路を経て上方に、次いで前
   記多数の、上の流路の上にそれぞれ配設したバ
   ブルキヤツプの下を通り、反応装置の沸騰触媒
   床に均一に流すこと を特徴とする沸騰床反応装置用段階流れ分布方
   法。 １３ 前記上一次格子板での流体圧力差が下二次
   格子板での流体圧力差を超える特許請求の範囲第
   １２項記載の方法。 １４ 入るガス及び液体流れをそれぞれ別の導管
   を経て前記充気室に入れ、前記充気室で各導管に
   組合わせた整流じやま板のまわりを通す特許請求
   の範囲第１２項記載の方法。 １５ 液体が炭化水素液体であり、ガスが水素で
   ある特許請求の範囲第１２項記載の方法。 １６ 液体温度が260〜482℃（500〜900〓）であ
   り、液体圧が35.2〜352Kg／cm²ゲージ圧（500〜
   5000psig）である特許請求の範囲第１２項記載の
   方法。 １７ 上方に、沸騰床反応装置に流れるガス及び
   液体を均一に分布させるにあたり、 (a) 炭化水素液体及び水素ガスの流れを反応装置
   下端部で流れ分布格子の下に設けた充気室に入
   れること； (b) 前記ガス及び液体の流れを前記充気室から上
   方に、下二次格子板に配設した、多数の、平行
   な管状流路を経て、二次格子板の上で一次格子
   板の下に配設した中間帯域に送ること； (c) 前記下格子板上の前記中間帯域内のガス及び
   液体流れを混合し、かつ再分布させること；及
   び (d) 混合したガス及び液体を上一次格子板に配設
   した、多数の管状流路を経て上方に、次いで前
   記多数の、上の流路の上にそれぞれ配設したバ
   ブルキヤツプの下を通り、反応装置の沸騰触媒
   床に均一に流し、その際一次格子板の管状路で
   の圧力差が下二次格子板の管状路でのそれを超
   えること を特徴とする沸騰床反応装置用段階流れ分布方
   法。