JPH0432100A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0432100A
JPH0432100A JP2139127A JP13912790A JPH0432100A JP H0432100 A JPH0432100 A JP H0432100A JP 2139127 A JP2139127 A JP 2139127A JP 13912790 A JP13912790 A JP 13912790A JP H0432100 A JPH0432100 A JP H0432100A
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JP
Japan
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signal
memory cell
level
expected value
bit line
Prior art date
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Application number
JP2139127A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiji Oota
佳似 太田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Priority to US07/616,923 priority patent/US5185722A/en
Publication of JPH0432100A publication Critical patent/JPH0432100A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To execute the read-out operation and the deciding operation without being subjected to undesirable influence even if a failure bit line exists by providing a fuse which can disable the operation of a sense amplifier, provided between each sense amplifier and driving signal lines for driving these sense amplifiers. CONSTITUTION:Each sense amplifier 51, 52 - has all a pair of pull-up transistors 514, 515 and a pair of pull-down transistors 516, 517. Also, between a connecting point of the pull-up transistors 514, 515 of each sense amplifier 51, 52 - and one driving signal line SEN, a fuse 513 is provided, respectively. Each sense amplifier 51, 52 is operated by receiving signals phi51, phi52 through the driving signal line SEN, the fuse 513 and a driving signal line SEN#, respectively. In such a way, even if the failure bit line exists, the read-out operation and the deciding operation can be executed without being subjected to undesirable influence by interrupting the fuse.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

この発明は半導体記憶装置に関し、特に動作テストを高
速に行うことができる半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that can perform operational tests at high speed.

【従来の技術】[Conventional technology]

近年の半導体記憶装置の進歩は著しいものがあり、RA
M(ランダム・アクセス・メモリ)、ROM(リード・
オンリ・メモリ)その他のメモリとも、3年に4倍づつ
集積度を着実に増してきている。 それにつれて、デバイスの動作テストに要する時間も増
大しており、製造側の出荷検査やユーザー側の受は入れ
検査を効率的に行うため、より高速なテストモードの確
立が求められている。 従来、このような状況の下、動作テストを高速に行うた
めに、たとえばDRAM(ダイナミック・ランダム・ア
クセス・メモリ)では、複数のビット線を並列にテスト
するいわゆる並列テストモードが採用されている。この
並列テストモードは、複数のビットに同時に同一のデー
タを書き込み、上記各メモリセルに書き込まれたデータ
を表わす信号を上記各一対のビット線ごとに設けられた
複数のセンス増幅器によって上記各一対のビット線上で
増幅し、増幅した信号を出力して並行に各データを読み
出す。そしてそのデータを比較して1つでも違うデータ
があると不良であると判定するようになっている。
There has been remarkable progress in semiconductor memory devices in recent years, and RA
M (random access memory), ROM (read memory)
Only memory) and other types of memory have been steadily increasing their density by four times every three years. As a result, the time required to test the operation of devices is increasing, and there is a need to establish a faster test mode in order to efficiently perform shipping inspections on the manufacturer's side and acceptance inspections on the user side. Conventionally, in order to perform operational tests at high speed under such circumstances, a so-called parallel test mode in which a plurality of bit lines are tested in parallel has been adopted, for example, in DRAMs (dynamic random access memories). In this parallel test mode, the same data is written to multiple bits at the same time, and a signal representing the data written to each memory cell is transmitted to each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers provided for each pair of bit lines. Amplify on the bit line, output the amplified signal, and read each data in parallel. Then, the data is compared and if there is even one difference in data, it is determined that the product is defective.

【発明が解決しようとする課題】[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来の並列テストモードは、およそIM
x I DRAMのテスト時間を越えないようにしてい
るのが実状である。 そこで、この発明の目的は、1行分(実用的にはおよそ
1024ビツトもしくは2048ピツト)を並列にテス
トでき、したがって動作テストを高速に行うことができ
、しかも、仮に不良ビット線があったとしても、悪影響
を受けることなく読み出し動作や判定動作を行うことが
できる半導体記憶装置を提供することにある。
However, the traditional parallel test mode is approximately IM
The reality is that the test time for x I DRAM is not exceeded. Therefore, the purpose of this invention is to be able to test one line (approximately 1024 bits or 2048 bits in practice) in parallel, and therefore to perform operation tests at high speed, and even if there is a defective bit line, Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can perform read operations and determination operations without being adversely affected.

【課題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、第1の発明の半導体記憶装
置は、相補に動作する各一対のビット線を介して複数の
メモリセルに並行に同一のデータを書き込み、上記各メ
モリセルに書き込まれたデータを表わす信号を上記各一
対のビット線ごとに設けられた複数のセンス増幅器によ
って上記各−対のビット線上で増幅し、増幅した信号を
出力して並行に各データを読み出し可能な半導体記憶装
置であって、特定なメモリセルに書き込まれたデータを
表わす期待値信号をこのメモリセルにつながるビット線
を介して出力するラインデータ記憶回路と、上記ライン
データ記憶回路から上記期待値信号を受けて、この期待
値信号のレベルの高低に応じて、上記メモリセル以外の
他のメモリセルの一対のビット線のうち一方または他方
のヒツト線を選択するビット線選択回路と、上記特定の
メモリセルと並行して上記能のメモリセルに書き込まれ
、上記特定のメモリセルに書き込れた期待値信号と同一
のデータを表わすべき信号を、上記期待値信号が高レベ
ルのとき上記ビット線選択回路によって選択された一方
のビット線を介して検出する一方、上記期待値信号が低
レベルのとき上記ビット線選択回路によって選択された
他方のビット線を介して検出して、上記信号と上記期待
値信号との一致または不一致を表わす信号を出力する出
力判定回路と、上記各センス増幅器とこれらのセンス増
幅器を駆動する駆動信号線との間にそれぞれ設けられ、
上記センス増幅器の動作を不能にできるヒユーズを備え
ことを特徴としている。 また、第2の発明の半導体記憶装置は、相補に動作する
各一対のビット線を介して複数のメモリセルに並行に同
一のデータを書き込み、上記各メモリセルに書き込まれ
たデータを表わす信号を上記各一対のヒツト線ごとに設
けられた複数のセンス増幅器によって上記各一対のビッ
ト線上で増幅し、増幅した信号を出力して並行に各デー
タを読み出し可能な半導体記憶装置であって、特定なメ
モリセルに書き込まれたデータを表わす期待値信号をこ
のメモリセルにつながるビット線を介して出力するライ
ンデータ記憶回路と、上記ラインデータ記憶回路から上
記期待値信号を受けて、この期待値信号のレベルの高低
に応じて、上記メモリセル以外の他のメモリセルの一対
のビット線のうち一方または他方のビット線を選択する
ビット線選択回路と、上記特定のメモリセルと並行して
上記能のメモリセルに書き込まれ、上記特定のメモリセ
ルに書き込れた期待値信号と同一のデータを表わすべき
信号を、上記期待値信号が高レベルのとき上記ビット線
選択回路によって選択された一方のビット線を介して検
出する一方、上記期待値信号か低レベルのとき上記ビッ
ト線選択回路によって選択された他方のビット線を介し
て検出して、上記信号と上記期待値信号との一致または
不一致を表わす信号を出力する出力判定回路と、上記能
のメモリセルの一対のヒツト線と上記出力判定回路の出
力端子とを導通または電気的に分離可能なトランジスタ
と、上記出力判定回路が上記一致を表わす信号を出力し
たとき上記トランジスタをオンさせる一方、上記出力判
定回路が上記不一致を表わす信号を出力したとき上記ト
ランジスタをオフさせる割部回路とを備えたことを特徴
とする半導体記憶装置。
In order to achieve the above object, the semiconductor memory device of the first invention writes the same data in parallel to a plurality of memory cells via each pair of bit lines that operate complementary to each other, and writes the same data in parallel to each of the memory cells. A semiconductor memory capable of amplifying signals representing data on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers provided for each pair of bit lines, outputting the amplified signals, and reading each data in parallel. The device includes a line data storage circuit that outputs an expected value signal representing data written in a specific memory cell via a bit line connected to the memory cell, and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit. a bit line selection circuit that selects one or the other bit line of a pair of bit lines of a memory cell other than the memory cell, depending on the level of the expected value signal; When the expected value signal is at a high level, the bit line selection circuit outputs a signal that is written to the memory cell of the above function in parallel with the above function, and when the expected value signal is at a high level, the signal that should represent the same data as the expected value signal written to the specific memory cell is When the expected value signal is at a low level, it is detected through the other bit line selected by the bit line selection circuit, and the signal and the expected value are detected via the other bit line selected by the bit line selection circuit. an output determination circuit that outputs a signal indicating coincidence or mismatch with the signal; and a drive signal line that drives each of the sense amplifiers and the sense amplifiers;
It is characterized by comprising a fuse that can disable the operation of the sense amplifier. Further, the semiconductor memory device of the second invention writes the same data in parallel to a plurality of memory cells via each pair of bit lines that operate in a complementary manner, and outputs a signal representing the data written to each of the memory cells. A semiconductor memory device capable of amplifying data on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers provided for each pair of bit lines, outputting the amplified signals, and reading each data in parallel, a line data storage circuit that outputs an expected value signal representing data written in a memory cell via a bit line connected to the memory cell; and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit and processes the expected value signal. A bit line selection circuit that selects one or the other bit line of a pair of bit lines of a memory cell other than the above memory cell depending on the level of the above memory cell, and a bit line selection circuit that operates the above function in parallel with the above specific memory cell. A signal that is written in a memory cell and should represent the same data as the expected value signal written in the specific memory cell is selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a high level. On the other hand, when the expected value signal is at a low level, it is detected through the other bit line selected by the bit line selection circuit to determine whether the signal matches or does not match the expected value signal. an output determination circuit that outputs a signal representing the output determination circuit; a transistor that can conduct or electrically separate the output terminal of the output determination circuit from the pair of human lines of the memory cell having the above-mentioned capacity; and the output determination circuit that outputs the signal representing the coincidence. A semiconductor memory device characterized by comprising: a division circuit that turns on the transistor when a signal is output, and turns off the transistor when the output determination circuit outputs a signal representing the mismatch.

【作用】 第1の発明の半導体記憶装置は次のように動作する。 特定のメモリセルに書き込まれたデータが論理レベル“
ビの場合、ラインデータ記憶回路が出力する期待値信号
は高レベルとなる。このとき、出力判定回路は、他のメ
モリセルに書き込まれた上記データと同一のデータを表
わすべき信号をビット線選択回路によって選択された一
方のヒツト線を介して検出する。上記一方のビット線は
、上記信号を表わす高低いずれかのレベルとなっている
。 出力判定回路は、検出したレベルが高低いずれのレベル
であるかに応じて、上記信号と上記期待値信号との一致
または不一致を表わす信号を出力端子に出力する。例え
ば、上記能のメモリセルの読み出しが正常に行われたと
き上記一方のビット線が低レベルになる場合、検出した
レベルが低レベルであるとき一致を表わす信号を出力す
る一方、検出したレベルが高レベルであるとき不一致を
表わす信号を出力するようにしておく。 一方、特定のメモリセルに書き込まれたデータが論理レ
ベル“0”の場合、ラインデータ記憶回路が出力する期
待値信号は低レベルとなる。このとき出力判定回路は、
他のメモリセルに書き込まれた上記データと同一のデー
タを表わすべき信号を、ビット線選択回路によって選択
された他方のヒント線を介して検出する。先の例に対応
させて説明すると、上記能のメモリセルにつながるヒツ
ト線のセンス増幅器が正常に動作して上記能のメモリセ
ルの読み出しが正常に行われたとき、上記信号が反転し
ていることから、上記他方のヒツト線は低レベルとなる
。ここで、出力判定回路は、検出したレベルが低レベル
であるとき一致を表わす信号を出力する一方、検出した
レベルが高レベルであるとき不一致を表わす信号を出力
するようになっている。したがって、上記出力判定回路
は、上記他のメモリセルの読み出しが正常に行われたと
き一致を表わす信号を出力する一方、読み出しが誤りで
あったとき不一致を表わす信号を出力する。 このように、上記出力判定回路は、上記特定のメモリセ
ルおよび上記他のメモリセルに同時に書き込まれた同一
データが論理レベル“0”、“1”のいずれの場合であ
っても、上記他のメモリセルの読み出しが正常に行われ
たとき一致を表わす信号を出力し、上記他のメモリセル
の読み出しが誤りであったとき不一致を表わす信号を出
力する。 1行分のメモリセルは一般に1本のワード線によって同
時に選択することができる。したがって、上記ビット線
選択回路に1行分のメモリセルの各一対のビット線のう
ちの一方または他方を並列に同時に選択させると共に、
上記出力判定回路を各メモリセルごとに同時に動作させ
ることによって、上記1行分のメモリセルが同時にテス
ト可能となる。したがって、動作テストが高速に行われ
る。 また、上記他のメモリセルの読み出しが誤りであったと
き、上記他のメモリセルのデータを表わす信号を増幅し
たセンス増幅器と駆動信号線との間のヒユーズを切断す
るようにする。すると、上記センス増幅器は動作不能と
なり、以後、上記他のメモリセルにつながるビット線(
不良ビット線)は動作に関与しなくなる。したがって、
仮に不良ビット線があったとしても、読み出し動作や判
定動作に悪影響を受けるようなことがない。 第2の発明の半導体記憶装置は、上記第2の発明の半導
体記憶装置の上記ヒユーズに代えて、上記他のメモリセ
ルの一対のビット線と上記出力判定回路の出力端子とを
導通または電気的に分離可能なトランジスタと、上記出
力判定回路が上記−致を表わす信号を出力したとき上記
トランジスタをオンさせる一方、上記出力判定回路が上
記不敬を表わす信号を出力したとき上記トランジスタを
オフさせる制御回路とを備えている。他の構成部分は上
記第1の発明の半導体記憶装置と同一構成となっている
。したがって、この半導体記憶装置は、上記第1の発明
の半導体記憶装置と同様に、1行分のメモリセルを同時
にテストでき、動作テストを高速に行うことができる。 そして、この場合、上記他のメモリセルにつながるビッ
ト線が不良ビット線であるとき、上記トランジスタがオ
フすることによって上記ビット線と上記出力端子とが電
気的に分離される。したがって、仮に不良ビット線があ
ったとしても読み出し動作や判定動作に悪影響を受ける
ようなことがない。
[Operation] The semiconductor memory device of the first invention operates as follows. The data written to a specific memory cell has a logic level “
In the case of B, the expected value signal outputted by the line data storage circuit is at a high level. At this time, the output determination circuit detects a signal representing the same data as the data written in the other memory cell via one of the hit lines selected by the bit line selection circuit. The one bit line is at either high or low level representing the signal. The output determination circuit outputs a signal representing whether the signal matches or does not match the expected value signal to the output terminal, depending on whether the detected level is high or low. For example, if one of the above bit lines becomes low level when a memory cell with the above function is read normally, a signal indicating a match is output when the detected level is low, while a signal indicating a match is output when the detected level is low. A signal indicating a mismatch is output when the level is high. On the other hand, when the data written in a specific memory cell is at logic level "0", the expected value signal outputted by the line data storage circuit is at a low level. At this time, the output judgment circuit is
A signal representing the same data as the data written in another memory cell is detected via the other hint line selected by the bit line selection circuit. To explain in conjunction with the previous example, when the sense amplifier on the line connected to the memory cell of the above function operates normally and the read of the memory cell of the above function is performed normally, the above signal is inverted. Therefore, the other human line is at a low level. Here, the output determination circuit outputs a signal indicating a match when the detected level is a low level, and outputs a signal indicating a mismatch when the detected level is a high level. Therefore, the output determination circuit outputs a signal indicating a match when the other memory cell is read normally, and outputs a signal indicating a mismatch when the read is erroneous. In this way, the output determination circuit determines whether the same data simultaneously written to the specific memory cell and the other memory cell is at logic level "0" or "1". A signal indicating a match is output when the memory cell is read normally, and a signal indicating a mismatch is output when the read from the other memory cell is erroneous. Generally, one row of memory cells can be selected simultaneously by one word line. Therefore, while causing the bit line selection circuit to simultaneously select one or the other of each pair of bit lines of one row of memory cells in parallel,
By operating the output determination circuit simultaneously for each memory cell, one row of memory cells can be tested simultaneously. Therefore, operational tests can be performed quickly. Further, when the reading of the other memory cell is erroneous, the fuse between the sense amplifier that amplified the signal representing the data of the other memory cell and the drive signal line is cut. Then, the sense amplifier becomes inoperable, and from then on, the bit line (
(defective bit line) no longer participates in operation. therefore,
Even if there is a defective bit line, the read operation and determination operation will not be adversely affected. A semiconductor memory device according to a second aspect of the present invention is characterized in that, in place of the fuse of the semiconductor memory device according to the second aspect of the present invention, the pair of bit lines of the other memory cell and the output terminal of the output determination circuit are connected or electrically connected. a control circuit that turns on the transistor when the output judgment circuit outputs the signal representing the blasphemy, and turns off the transistor when the output judgment circuit outputs the signal representing the blasphemy. It is equipped with The other components have the same configuration as the semiconductor memory device of the first invention. Therefore, like the semiconductor memory device of the first aspect of the invention, this semiconductor memory device can simultaneously test one row of memory cells and perform operational tests at high speed. In this case, when the bit line connected to the other memory cell is a defective bit line, the transistor is turned off, thereby electrically separating the bit line and the output terminal. Therefore, even if there is a defective bit line, the read operation and determination operation will not be adversely affected.

【実施例】【Example】

以下、この発明の半導体記憶装置を実施例により詳細に
説明する。 第1図は第1の発明の一実施例のDRAMを示している
。このDRAMは、ラインデータ記憶回路1と、ビット
線選択回路2と、出力判定回路3と、メモリセルアレイ
4と、センスアンプ51゜52、・からなるセンスアン
プアレイ5を備えている。メモリセルアレイ4は1本の
ワード線WLによって同時に選択される1行分のメモリ
セル41.42.・・・を有している。メモリセル41
42は相補に動作する各一対のヒツト線B、B#・BL
BL#を介してデータの書き込み、読み出しが行われる
。なお、メモリセル41.42に実際に接続されている
のは上記各一対のビット線のうちビット線B、BLのみ
である。センスアンプアレイ5には、センスアンプ51
,52.・・・を駆動する一対の駆動信号線SEN、S
EN#が設けられている。 各センスアンプ51,52.・・は、いずれも一対のプ
ルアップ用トランノスタ514 515および一対のプ
ルダウン用トランジスタ516 517を有しており、
各センスアンプ5]、52 ・・のプルアップトランジ
スタ514.515の接続点と一方の駆動信号線SEN
との間にヒユーズ513がそれぞれ設けられている。各
センスアンプ5I52はそれぞれ上記駆動信号線SEN
、ヒユーズ513および駆動信号線SEN#を通して信
号φ51、φ52を受けて動作する。すなわち、信号φ
51が電源レベルヘ引き上げられ、信号φ52がGND
レベルへ引き下げられたとき、ブルア。 ブ用トランジスタ514,5]5およびプルダウン用ト
ランジスタ516,517の働きによって、上記ヒツト
線B、B#間、BL、BL#間の電圧を増幅する。ライ
ンデータ記憶回路lは、信号φ11により制御されるN
Mo5トランジスタ11と、逆並列接続されたインバー
タ12および13と、信号φ12により同時に制御され
るNMO3)ランジスタ14および15を備えている。 そして、入力信号DINで表わされるデータをビット線
B。 B#を介してメモリセル41に書き込むと共に、上記入
力信号DINを反転させた信号DIN#を上記ビット線
選択回路2へ出力することができる。 また、メモリセル41に書き込まれたデータを期待値信
号Eとして読み出し、この信号Eを反転させて信号E#
となして、上記ビット線選択回路2へ出力することがで
きる。ビット線選択回路2は、信号φ21を受けるアン
ド(AND)回路21および22と、このアンド回路2
1.22の入力端子間に接続されたインバータ23を備
えている。そして、上記ラインデータ記憶回路lからの
信号DIN#ま乙は期待値信号E#を受けて、各信号D
IN#、E#のレベルの高低に応じて、上記メモリセル
42のビット線BLまたはBL#を選択する一対の選択
信号SおよびS#を出力する。出力判定回路3は、1/
2Vccレベルに設定された電源と出力線DOUTとの
間に接続され信号φ32によりオンオフ制御されるPM
OSトランジスタ32と、出力線DOUTとグランドと
の間に接続されたNMO6)ランジスタ35を備えてい
る。 NMO9)ランジスタ35のゲートはNMOSトランジ
スタ3334を介してヒツト線BL、BL#に並列に接
続されている。上記NMOSトランジスタ33.34は
、それぞれ上記ヒツト線選択回路2からの選択信号S、
S#により制御される。 また、この出力判定回路3は、上記NMOSトランジス
タ35のゲートとグランドとの間に接続され信号φ31
により制御されるNMOSトランジスタ31を備えてい
る。 このDRAMは、第2図に示す動作タイミングに基づい
て次のように動作する。なお、第2図中破線は書き込み
動作のタイミング、実線は読み出し動作のタイミングを
それぞれ示している。 まず、書き込み動作について説明する。 プリチャージ状態(第2図に示す動作タイミングにおけ
る左端の状態)ではビット線B、B#:BL、BL#、
・・・はいずれもl/2Vccレベルに充電される。そ
して、信号φ21が低(L)レベルであり、ビット線選
択回路2のアンド回路21.22の出力はいずれもLレ
ベル、したかって、出力判定回路3のNMOSトランジ
スタ33.34はいずれも非導通状態となっている。ま
た、信号φ31は高(H)レベル、信号φ32はLレベ
ルになっている。信号φ32を受けてPMOSトランジ
スタ32がオンし、出力線DOUTは1/2vCCレベ
ルに充電されている。 書き込み動作に入ると、人力信号DTHには、入力デー
タに対応してHまたはLレベルか与えられる。そして、
信号φ11が立ち上かつて、ラインデータ記憶回路1の
NMOSトランジスタ11が導通状態となり、上記入力
信号DINはインバータI2およびI3によってラッチ
される。その後、信号φ21がH状態に立ち上がると、
入力信号DINがHレベルすなわちDIN#がLレベル
の場合、選択信号S、S#はそれぞれLレベルHレベル
となる。したがって、NMOSトランジスタ34が導通
状態となって、ビット線BL#がGNDレベルへ引き落
とされる。一方、NMOSトランジスタ33は非導通状
態であるため、ヒツト線BLは元のプリチャージ状態の
レベルのままとなっている。これに対して、入力信号D
INがLレベルすなわち信号DIN#がHレベルの場合
、選択信号S、S#はそれぞれHレベル、Lレベルとな
る。したがって、NMO9)ランノスタ33が導通状態
となってビット線BLがGNDレベルに引き落とされる
。一方、NMOSトランジスタ34は非導通状態である
1こめ、ヒツト線BL#は元のプリチャージ状態のレベ
ルのままとなっている。 このようなメモリセル42側の動作と並行して、メモリ
セル41側では信号φ12が立ち上げられ、ラインデー
タ記憶回路lのNMO9)ランジスタ14.15が導通
状態となり、入力データがビット線B、B#に書き込ま
れる。なお、入力信号DINがHレベルの場合、ビット
線B、B#はそれぞれHレベル、Lレベルとなり、入力
信号DINがLレベルの場合、上記ビット線B、B#は
それぞれLレベル、Hレベルとなる。ワード線WLが立
ち上げられた後、センスアンプアレイ5のセンスアンプ
51.52が信号φ51.φ52によって駆動されて、
ビット線対B、B#、ビット線対BL、BL#のレベル
はメモリセル41.42に書き込まれるのに十分なレベ
ルにまで増幅される。 最後にワード線WLを立ち下げられ、メモリセル414
2への書き込み動作が終了する。このようにして、各一
対のヒツト線B、B#、BL、BL#を介してメモリセ
ル41.42.・に同一のデータか同時に書き込まれる
。 次に、読み出し動作および判定動作について説明する。 読み出し動作に入ると、第2図に示すように、ワード線
WLが立ち上げられ、センスアンプ51゜52が信号φ
51.φ52によって駆動されて、メモリセル41.4
2に書き込まれたデータがビット線対B、B#: ビッ
ト線対BL、BL#にそれぞれ読み出される。さらに、
信号φ12が立ち上げられて、メモリセル41に書き込
まれたデータを表わす期待値信号Eがこれを反転させた
信号E#としてビット線選択回路2へ出力される。そし
て、判定動作に入るとき、信号φ31がLレベル、信号
φ32がHレベルになった後、信号φ21が立ち上げら
れる。 ここで、メモリセル41に書き込まれた入力データが論
理“ビの場合、期待値信号EがHレベルすなわち信号E
#がLレベルとなる。このとき、選択信号S、S#はそ
れぞれLレベル、Hレベルとなる。したがって、出力判
定回路3のNMOSトランジスタ34が導通し、ビット
線BL#のレベルがNMO3)ランジスタ35のゲート
に入力される。もし、メモリセル42の読み出しが正常
に行われたとすれば、データ線BL#はLレベルとなっ
ているはずである。データ線BL#がLレベルのとき、
NMO9)ランジスタ35はゲートにLレベルが与えら
れることになり、非導通のままとなる。したがって、出
力線DOUTには一致を表わす1/2Vccレベルが出
力される。これに対して、メモリセル42の読み出しが
誤まりであったときは、データ線BL#はHレベルとな
っている。したがって、NMOSトランジスタ35は導
通して、出力線DOUTには不一致を表わすG NDレ
ベルが出力される。 一方、メモリセル4Iに書き込まれたデータが論理“0
”の場合、期待値信号EがLレベルすなわち信号E#が
Hレベルとなる。このとき、選択信号S、S#はそれぞ
れHレベル、Lレベルとなる。 したがって、出力判定回路3のNMo5トランジスタ3
3が導通し、ビット線BLのレベルがNMo5トランジ
スタ35のゲートに入力される。もし、メモリセル42
の読み出しが正常に行われたとすれば、データ線BLは
Lレベルとなっているはずである。データ線BLがLレ
ベルのとき、NMOSトランジスタ35はゲートにLレ
ベルが与えられることになり、非導通のままとなる。し
たがって、出力線DOUTには一致を表わす1/2Vc
cレベルが出力される。これに対して、メモリセル42
の読み出しが誤まりであったときは、データ線BLはH
レベルとなっている。NMOSトランジスタ35は導通
して、出力線DOUTには不一致を表わすGNDレベル
が出力される。 このようにして、このDRAMは、メモリセル41.4
2に同時に書き込まれた同一人力データが論理レベル“
0“、“l”のいずれの場合であっても、上記メモリセ
ル42の読み出しが正常に行われたとき一致を表わす信
号を出力し、上記メモリセル42の読み出しが誤まりで
あったとき不一致を表わす信号を出力する。そして、上
記ワード線WLによって同時に選択される図示しない他
のメモリセルごとに出力判定回路3のNMO9)ラノジ
スタ33.34および35を設けて同時に動作させるこ
とによって、1行分のメモリセルを同時にテストするこ
とができる。したがって、動作テストを高速に行うこと
ができる。 また、このDRAMは、1行分のメモリセルのうち例え
ば上記メモリセル42の読み出しが誤りであったとき、
メモリセル42の信号を増幅したセンスアンプ52のヒ
ユーズ513を切断して、以後センスアンプ52が動作
しないようにすることができる。このようにした場合、
センス動作が行われた後においても、ビット線(不良ビ
ット線)BL、BL#のレベルかもとのプリチャージ状
態のレベル(1/2Vceレベル)を超えることがない
。 ここで、電源が1/2Vccレベルに設定されているこ
とにより、NMO9)ランジスタ35のドレイン電圧は
1/2Vccレベル以下にある。したがって、ゲート電
圧およびドレイン電圧が1/2Vccレベル以下となっ
て、NMOSトランジスタ35はいかなる場合もオンし
なくなる。すなわち、不良ビット線BL、BL#と出力
線DOUTとが常に電気的に分離された状態になる。し
たがって、このDRAMは、仮に不良ヒツト線BL、B
L#があったとしても、悪影響を受けることなく読み出
し動作や判定動作を行うことができる。 なお、上記メモリセル41.42は、相補に動作する各
一対のビット線B、B#、BL、BL#のうちそれぞれ
一方のビット線B、BLのみと接続されているものとし
た。例えば、第3図に示すように、メモリセルMが直列
接続されたMOSトランジスタとキャパシタとで構成さ
れ、かつキャパシタの一方の端子にセルプレート電圧が
印加される場合がこれに相当する。しかしながら、この
発明はこれに限られるものではなく、第4図または第5
図に示すように、ビット線BL、BL#の双方に接続さ
れている場合(米国特許(US)4792922号)に
も適用できる。 第6図および第7図は第2の発明の一実施例のDRAM
を示している。 このDRAMは、第6図に示すように、ラインデータ記
憶回路+01と、ビット線選択回路102と、出力判定
回路103と、メモリセルアレイ104と、センスアン
プ151,152.・・・からなるセンスアンプアレイ
105を備えると共に、第7図に示すように、制御回路
106を備えている。 メモリセルアレイ104は1本のワード線WLによって
同時に選択される1行分のメモリセル41゜42、・・
を有している。メモリセル41,42は相補に動作する
各一対のビット線B、B#、BL、BL#を介してデー
タの書き込み、読み出しが行われる。なお、第1図に示
したDRAMと同様に、メモリセル41.42に実際に
接続されているのは上記各一対のビット線のうちビット
線B、BLのみである。センスアンプアレイ+05のセ
ンスアンプ151 152は図示しない駆動信号線によ
って駆動され、それぞれ上記ビット線B、B#間; B
L、BL#間の電圧を増幅する。なお、センスアンプ1
51,152は、第1図に示したセンスアンプ51.5
2と異なり、ヒユーズ513を有しない通常のものであ
る。ラインデータ記憶回路101は、信号φ11により
制御されるNMOSトランジスタ11と、逆並列接続さ
れたインバータ12および13と、信号φ12により同
時に制御されるNMO9)ランジスタ14および15を
備えている。そして、入力信号DINで表わされるデー
タをビット線B、B#を介してメモリセル41に書き込
むと共に、上記入力信号DINを反転させた信号DIN
#を上記ビット線選択回路102へ出力することができ
る。また、メモリセル41に書き込まれたデータを期待
値信号Eとして読み出し、この信号Eを反転させて信号
E#となして、上記ビット線選択回路102へ出力する
ことができる。ビット線選択回路102は、信号φ21
を受けるアンド回路21および22と、このアンド回路
21.22の入力端子間に接続されたインバータ23を
備えている。そして、上記ラインデータ記憶回路101
からの信号DIN#または期待値信号E#を受けて、各
信号D T N#。 E#のレベルの高低に応じて、上記メモリセル42のビ
ット線BLまたはBL#を選択する一対の選択信号Sお
よびS#を出力する。出力判定回路103は、電源(H
レベル)と出力線DOUTとの間に接続され信号φ32
によりオンオフ制御されるPMO3+・ランノスタ32
と、出力線DOUTとグランドとの間に接続されたNM
OSトランジスタ35を備えている。NMOSトランジ
スタ35のゲートにはNMOSトランジスタ36の一方
の端子が接続され、このNMOSトランジスタ36の他
方の端子は一対のNMOSトランジスタ33.34を介
してビット線BL、BL#に並列に接続されている。ま
た、上記NMo5トランジスタ35のゲートとグランド
との間にNMOSトランジスタ31が接続されている。 上記NMOSトランノスタ33,34はそれぞれ上記ビ
ット線選択回路102からの選択信号S、S#により制
御され、また、NMOSトランジスタ31は信号φ31
により制御される。一方、NMOSトランジスタ35は
第7図に示す制御回路6からの信号φ36により制御さ
れる。制御回路6は、電源(Hレベル)とグランドとの
間に直列に接続されたPMOSトランジスタ61.フユ
ーズ63およびNMOSトランジスタ62と、このPM
OSトランノスタ61とフユーズ63との接続点に接続
されたインバータ64とからなっている。PMOSトラ
ンジスタ61とNMOSトランジスタ63は、このDR
AMがプリチャージ状態にあるときLレベル、動作を開
始したときHレベルをとる同一の信号φ61により制御
される。ヒユーズ63が切断されていない場合は、プリ
チャージ状態のときPMOSトランジスタ61がオン 
NMOSトランジスタ62がオフとなってインバータ6
4を介して信号φ36がLレベルになる一方、動作を開
始したときPMOSトランノスタ61がオフ NMOS
)ランンスタ62がオンとなって信号φ36がHレベル
となる。ヒユーズ63が切断されている場合は信号φ3
6は常にLレベルに保たれる。 したがって、第6図に示すNMOSトランジスタ36は
、ヒユーズ63が切断されていない場合はプリチャージ
状態のときオフする一方、動作を開始したときオンする
。一方、ヒユーズ63が切断されている場合、常にオフ
状態となる。 このDRAMは、第2図に示したのと同一の動作タイミ
ングに基づいて次のように動作する。 まず、書き込み動作について説明する。 プリチャージ状態(第2図に示す動作タイミングにおけ
る左端の状*3)ではビット線B、B#・BL、BL#
;・はいずれも1/2Vccレベルに充電される。そし
て、信号φ21がLレベルであり、ビット線選択回路1
02のアンド回路21.22の出力はいずれもLレベル
、したがって、出力判定回路103のNMOSトランジ
スタ3334はいずれも非導通状態となっている。また
、信号φ31はHレベル、信号φ32はLレベルになっ
ている。信号φ32を受けてPMO5I−ランジスタ3
2がオンし、出力線DOUTはHレベルに充電されてい
る。さらに、上に述べたように信号φ36はLレベルに
なっており、NMOSトランジスタ36はオフしている
。 書き込み動作に入ると、入力信号DINには、入力デー
タに対応してHまたはLレベルが与えられる。そして、
信号φ]1が立ち上かって、ラインデータ記憶回路10
1のNMOSトランジスタIIが導通状態となり、上記
入力信号DINはインバータ12および13によってラ
ッチされる。 その後、信号φ2】がH状態に立ち上がると、入力信号
DINがHレベルすなわちDIN#がLLノベルの場合
、選択信号S、S#はそれぞれLレベル、Hレベルとな
る。これにより、NMOS)ランジスタ34が導通状態
となる。したがって、Hレベルとなった信号φ36を受
けてオンしているNMOSトランジスタ36およびプリ
チャージ状態の時からオンしているNMOS)ランノス
タ31を通してビット線BL#がGNDレベルへ引き落
とされる。一方、NMOSトランジスタ33は非導通状
態であるため、ビット線BLは元のプリチャージ状態の
レベルのままとなっている。これに対して、入力信号D
INがLレベルすなわち信号DIN#がHレベルの場合
、選択信号S、S#はそれぞれHレベル、Lレベルとな
る。したがって、NMOS)ランジスタ33が導通状態
となってピント線BLかGNDレベルに引き落とされる
。 一方、NMOSトランジスタ34は非導通状態であるた
め、ヒツト線BL#は元のプリチャージ状態のレベルの
ままとなっている。 このようなメモリセル42側の動作と並行して、メモリ
セル41側では信号φ12が立ち上げられ、ラインデー
タ記憶回路1のNMOSトランジスタ1415が導通状
態となり、入力データがビット線B、B#に書き込まれ
る。なお、入力信号DINがHレベルの場合、ビット線
B、B#はそれぞれHレベル、Lレベルとなり、入力信
号DINがLレベルの場合、上記ビット線B、B#はそ
れぞれLレベル、Hレベルとなる。ワード線WLが立ち
上げられた後、センスアンプアレイ105のセンスアン
プ151,152が駆動されて、ビット線対B、B#、
ビット線対BL、BL#のレベルはメモリセル41,4
2に書き込まれるのに十分なレベルにまで増幅される。 最後にワード線WLを立ち下げられ、メモリセル41.
42への書き込み動作が終了する。このようにして、各
一対のビット線B、B#: BL、BL#を介してメモ
リセル41 42.  に同一のデータか同時に書き込
まれる。 次に、読み出し動作および判定動作について説明する。 読み出し動作に入ると、第2図に示すように、ワード線
WLが立ち上げられ、センスアンプ151.152が駆
動されて、メモリセル41.42に書き込まれたデータ
がピット線対B、B#、ビット線対BL、BL#にそれ
ぞれ読み出される。さらに、信号φ12が立ち上げられ
て、メモリセル41に書き込まれたデータを表わす期待
値信号Eがこれを反転させた信号E#としてビット線選
択回路2へ出力される。そして、判定動作に入るとき、
信号φ31がLレベル、信号φ32がHレベルになった
後、信号φ21が立ち上げられる。 ここで、メモリセル41に書き込まれた人力データが論
理“1′の場合、期待値信号EがHレベルすなわち信号
E#かLレベルとなる。このとき、選択信号S、S#は
それぞれLレベル、Hレベルとなる。したがって、出力
判定回路103のNMOS)ランジスタ34か導通し、
オン状態のNMOSトランジスタ35を通してビット線
BL#のレベルがNMOSトランジスタ35のゲートに
入力される。もし、メモリセル42の読み出しが正常に
行われたとすれば、データ線BL#はLレベルとなって
いるはずである。データ線BL#がLレベルのとき、N
MOSトランジスタ35はゲートにLレベルが与えられ
ることになり、非導通のままとなる。したがって、出力
線DOUTには一致を表わすHレベルが出力される。こ
れに対して、メモリセル42の読み出しが誤まりであっ
たときは、データ線BL#はHレベルとなっている。し
たがって、NMOS)ランジスタ35は導通して、出力
線DOUTには不一致を表わすLレベルが出力される。 一方、メモリセル41に書き込まれたデータが論理“0
”の場合、期待値信号EがLレベルすなわち信号E#が
Hレベルとなる。このとき、選択信号S、S#はそれぞ
れHレベル、Lレベルとなる。 したがって、出力判定回路103のNMo5トランジス
タ33が導通し、オン状態のNMO3I−ランンスタ3
6を通してビット線BLのレベルがNMOSトランジス
タ35のゲートに入力される。 もし、メモリセル42の読み出しか正常に行われたとす
れば、データ線BLはLレベルとなっているはずである
。データ線BLがLレベルのとき、NMOSトランジス
タ35はゲートにLレベルか与えられることになり、非
導通のままとなる。したがって、出力線DOUTには一
致を表わすHレベルが出力される。これに対して、メモ
リセル42の読み出しが誤まりであったときは、データ
線BLはHレベルとなっている。NMOS)ランノスタ
35は導通して、出力線DOtJTには不一致を表わす
Lレベルが出力される。 このようにして、このDRAMは、メモリセル41.4
2に同時に書き込まれた同一人力データが論理レベル“
O”、“ビのいずれの場合であっても、上記メモリセル
42の読み出しが正常に行われたとき一致を表わす信号
を出力し、上記メモリセル42の読み出しか誤まりであ
ったとき不一致を表わす信号を出力する。そして、上記
ワード線WLによって同時に選択される図示しない他の
メモリセルごとに出力判定回路+03のNMOSトラン
ジスタ33.34.35および36を設けて同時に動作
させることによって、1行分のメモリセルを同時にテス
トすることができる。したがって、動作テストを高速に
行うことができる。 また、このDRAMは、1行分のメモリセルのうち、例
えば上記メモリセル42の読み出しが誤りであったとき
、メモリセル42の信号を出力線DOUTに伝えるNM
OSトランジスタ35を常にオフ状態にすることができ
る。すなわち、上記NMOSトランジスタ36を制御す
る第7図に示した制御回路106のフユーズ63を切断
することによって、NMOSトランジスタ36を常にオ
フ状態に保ち、NMO5)ランノスタ35がオンしない
ようにすることができる。したが、って、上記ヒント線
(不良ピント線B L 、 B L #を出力線DOU
Tから切り離すことができる。したがって、不良ヒント
線か存在しても、悪影響を受けることなく読み出し動作
や判定動作を行うことができる。 なお、上記制御回路+06に代えて、第8図に示すよう
に、制御回路107を備えても良い。この制御回路+0
7は、電源(Hレベル)とグランドとの間に直列に接続
されたヒユーズ71およびNMOSトランジスタ74を
備えると共に、電源(Hレベル)と上記NMOSトラン
ジスタ74のゲートとの間に接続されたPMOSキャパ
シタ73を備えている。上記ヒユーズ71とNMO8)
ランジスタフ4との接続点72と、上記PMCISキャ
パシタ73とNMOSトランジスタ74のゲートとの接
続点77との間にインバータ75を接続し、さらに、こ
の接続点77にインバータ76を接続している。この制
御回路107のヒユーズ71は、上記ヒユーズ61と同
様に、上記ヒツト線B、B#、BL、BL、#:・・・
のうちに不良ビット線がないときは切断されず、不良ピ
ント線があったときに切断される。ヒユーズ7Iが切断
されていなけれよ、電源投入後は接続点72がHレベル
となり、インバータ75.76を介して信号φ36がH
レベルとなって、第6図に示し1ニNMO9)ランノス
タ36が常にオン状態となる。逆に、ヒユーズ71か切
断されていれば、電源投入後はNMOSトランジスタ3
6か常にオフ状態となる。したがって、このDRAMは
、制御回路106を備えた場合と同様に、ビット線B、
B#;BL、BL#;のうちに不良ビット線があったと
しても、悪影響を受することなく読み出し動作や判定動
作を行うことができる。 また、上記メモリセル41.42は、相補に動作する各
一対のビット線E、B#+ BL BL#のうちそれぞ
れ一方のビット線B、BLのみと接続されているものと
したが、これに限られるものではなく、第4図または第
5図に示したように、ビット線BL、BL#の双方に接
続されているメモリセルMにも適用することができる。
Hereinafter, the semiconductor memory device of the present invention will be explained in detail with reference to examples. FIG. 1 shows a DRAM according to an embodiment of the first invention. This DRAM includes a line data storage circuit 1, a bit line selection circuit 2, an output determination circuit 3, a memory cell array 4, and a sense amplifier array 5 consisting of sense amplifiers 51, 52, and so on. The memory cell array 4 includes one row of memory cells 41, 42, . . . that are simultaneously selected by one word line WL. ···have. memory cell 41
42 are each pair of human lines B, B# and BL that operate complementary to each other.
Data is written and read via BL#. It should be noted that only the bit lines B and BL of each pair of bit lines are actually connected to the memory cells 41 and 42. The sense amplifier array 5 includes sense amplifiers 51
,52. A pair of drive signal lines SEN, S that drive...
EN# is provided. Each sense amplifier 51, 52. ... have a pair of pull-up transistors 514 and 515 and a pair of pull-down transistors 516 and 517,
The connection point of the pull-up transistors 514, 515 of each sense amplifier 5], 52... and one drive signal line SEN
Fuses 513 are provided between the two. Each sense amplifier 5I52 is connected to the drive signal line SEN.
, fuse 513 and drive signal line SEN# to operate in response to signals φ51 and φ52. That is, the signal φ
51 is pulled up to the power supply level, and the signal φ52 is pulled up to GND.
When brought down to the level, Brua. By the functions of pull-down transistors 514, 5]5 and pull-down transistors 516, 517, the voltage between the hit lines B and B# and between BL and BL# is amplified. The line data storage circuit l is controlled by the signal φ11.
It includes an Mo5 transistor 11, inverters 12 and 13 connected in antiparallel, and NMO3 transistors 14 and 15 controlled simultaneously by a signal φ12. Then, the data represented by the input signal DIN is sent to the bit line B. It is possible to write into the memory cell 41 via B# and output the signal DIN#, which is an inverted version of the input signal DIN, to the bit line selection circuit 2. Further, the data written in the memory cell 41 is read out as an expected value signal E, and this signal E is inverted to produce a signal E#.
It can be outputted to the bit line selection circuit 2 as follows. The bit line selection circuit 2 includes AND circuits 21 and 22 that receive the signal φ21, and the AND circuit 2.
The inverter 23 is connected between the input terminals of 1.22. Then, the signal DIN# from the line data storage circuit 1 receives the expected value signal E#, and each signal DIN# receives the expected value signal E#.
A pair of selection signals S and S# for selecting bit line BL or BL# of the memory cell 42 is output depending on the level of IN# and E#. The output determination circuit 3 is 1/
PM connected between the power supply set to 2Vcc level and the output line DOUT and controlled on/off by signal φ32
It includes an OS transistor 32 and an NMO transistor 35 connected between the output line DOUT and ground. NMO9) The gate of the transistor 35 is connected in parallel to the human lines BL and BL# via the NMOS transistor 3334. The NMOS transistors 33 and 34 receive selection signals S and S from the hit line selection circuit 2, respectively.
Controlled by S#. Further, this output determination circuit 3 is connected between the gate of the NMOS transistor 35 and the ground, and is connected to a signal φ31.
The NMOS transistor 31 is controlled by the NMOS transistor 31. This DRAM operates as follows based on the operation timing shown in FIG. Note that the broken lines in FIG. 2 indicate the timing of the write operation, and the solid lines indicate the timing of the read operation. First, the write operation will be explained. In the precharge state (the leftmost state in the operation timing shown in FIG. 2), bit lines B, B#: BL, BL#,
... are all charged to the l/2Vcc level. Then, the signal φ21 is at the low (L) level, the outputs of the AND circuits 21 and 22 of the bit line selection circuit 2 are both at the L level, and therefore the NMOS transistors 33 and 34 of the output determination circuit 3 are both non-conductive. It is in a state. Further, the signal φ31 is at a high (H) level, and the signal φ32 is at an L level. PMOS transistor 32 is turned on in response to signal φ32, and output line DOUT is charged to 1/2vCC level. When the write operation begins, the human input signal DTH is given either an H or L level depending on the input data. and,
When signal φ11 rises, NMOS transistor 11 of line data storage circuit 1 becomes conductive, and input signal DIN is latched by inverters I2 and I3. After that, when the signal φ21 rises to the H state,
When input signal DIN is at H level, that is, when DIN# is at L level, selection signals S and S# are at L level and H level, respectively. Therefore, NMOS transistor 34 becomes conductive, and bit line BL# is pulled down to GND level. On the other hand, since the NMOS transistor 33 is in a non-conductive state, the hit line BL remains at the level of the original precharged state. On the other hand, input signal D
When IN is at L level, that is, signal DIN# is at H level, selection signals S and S# are at H level and L level, respectively. Therefore, the NMO9) runnostar 33 becomes conductive, and the bit line BL is pulled down to the GND level. On the other hand, since the NMOS transistor 34 is in a non-conductive state, the voltage line BL# remains at the level of the original precharged state. In parallel with this operation on the memory cell 42 side, the signal φ12 rises on the memory cell 41 side, the NMO9) transistors 14 and 15 of the line data storage circuit 1 become conductive, and the input data is transferred to the bit line B, Written to B#. Note that when the input signal DIN is at H level, the bit lines B and B# are at H level and L level, respectively, and when the input signal DIN is at L level, the bit lines B and B# are at L level and H level, respectively. Become. After the word line WL is raised, the sense amplifiers 51.52 of the sense amplifier array 5 output the signals φ51. Driven by φ52,
The levels of bit line pair B, B# and bit line pair BL, BL# are amplified to a level sufficient to be written into memory cells 41 and 42. Finally, the word line WL is brought down, and the memory cell 414
The write operation to 2 ends. In this way, the memory cells 41, 42 .・Identical data is written to simultaneously. Next, a read operation and a determination operation will be explained. When the read operation starts, the word line WL is raised and the sense amplifiers 51 and 52 output the signal φ, as shown in FIG.
51. Driven by φ52, memory cell 41.4
The data written to bit line pair B, B#: bit line pair BL, BL# is read out. moreover,
The signal φ12 is raised, and the expected value signal E representing the data written in the memory cell 41 is outputted to the bit line selection circuit 2 as an inverted signal E#. Then, when entering the determination operation, after the signal φ31 goes to L level and the signal φ32 goes to H level, the signal φ21 rises. Here, when the input data written to the memory cell 41 is logic "B", the expected value signal E is at H level, that is, the signal E
# becomes L level. At this time, selection signals S and S# become L level and H level, respectively. Therefore, the NMOS transistor 34 of the output determination circuit 3 becomes conductive, and the level of the bit line BL# is input to the gate of the NMO3) transistor 35. If reading from the memory cell 42 is performed normally, the data line BL# should be at L level. When data line BL# is at L level,
The L level is applied to the gate of the NMO9) transistor 35, and it remains non-conductive. Therefore, a 1/2 Vcc level indicating a match is output to the output line DOUT. On the other hand, when the reading of the memory cell 42 is erroneous, the data line BL# is at H level. Therefore, the NMOS transistor 35 becomes conductive, and a GND level representing a mismatch is output to the output line DOUT. On the other hand, the data written in the memory cell 4I is at logic “0”.
”, the expected value signal E becomes L level, that is, the signal E# becomes H level. At this time, the selection signals S and S# become H level and L level, respectively. Therefore, the NMo5 transistor 3 of the output determination circuit 3
3 becomes conductive, and the level of the bit line BL is input to the gate of the NMo5 transistor 35. If memory cell 42
If reading is performed normally, the data line BL should be at L level. When the data line BL is at the L level, the NMOS transistor 35 has its gate supplied with the L level and remains non-conductive. Therefore, the output line DOUT has 1/2Vc representing coincidence.
c level is output. On the other hand, memory cell 42
If the reading of the data is incorrect, the data line BL becomes H.
level. The NMOS transistor 35 becomes conductive, and a GND level indicating a mismatch is output to the output line DOUT. In this way, this DRAM has memory cells 41.4
The same human data written at the same time in 2 is at the logical level.
In either case, a signal indicating a match is output when the memory cell 42 is read normally, and a mismatch is output when the memory cell 42 is read incorrectly. Then, by providing the NMO9) random registers 33, 34 and 35 of the output determination circuit 3 for each of the other memory cells (not shown) that are simultaneously selected by the word line WL and operating them simultaneously, one row It is possible to test memory cells for 1 row at the same time. Therefore, the operation test can be performed at high speed. Also, in this DRAM, among the memory cells for one row, for example, the above-mentioned memory cell 42 was read incorrectly. When,
By cutting off the fuse 513 of the sense amplifier 52 that has amplified the signal of the memory cell 42, the sense amplifier 52 can be prevented from operating from now on. If you do this,
Even after the sensing operation is performed, the levels of the bit lines (defective bit lines) BL and BL# do not exceed the original precharge state level (1/2 Vce level). Here, since the power supply is set to the 1/2 Vcc level, the drain voltage of the NMO transistor 35 is below the 1/2 Vcc level. Therefore, the gate voltage and drain voltage become below the 1/2 Vcc level, and the NMOS transistor 35 will not turn on under any circumstances. That is, the defective bit lines BL, BL# and the output line DOUT are always electrically isolated. Therefore, if this DRAM has defective lines BL, B
Even if there is L#, read operations and determination operations can be performed without being adversely affected. It is assumed that the memory cells 41 and 42 are connected to only one bit line B, BL of each pair of bit lines B, B#, BL, BL# that operate complementary to each other. For example, as shown in FIG. 3, this corresponds to the case where the memory cell M is composed of a MOS transistor and a capacitor connected in series, and a cell plate voltage is applied to one terminal of the capacitor. However, the present invention is not limited to this.
As shown in the figure, it is also applicable to the case where the bit lines BL and BL# are connected to both (US Pat. No. 4,792,922). FIG. 6 and FIG. 7 show a DRAM of an embodiment of the second invention.
It shows. As shown in FIG. 6, this DRAM includes a line data storage circuit +01, a bit line selection circuit 102, an output determination circuit 103, a memory cell array 104, sense amplifiers 151, 152 . . . and a control circuit 106 as shown in FIG. The memory cell array 104 includes one row of memory cells 41, 42, . . . that are simultaneously selected by one word line WL.
have. Data is written into and read from the memory cells 41 and 42 via each pair of bit lines B, B#, BL, and BL# that operate complementary to each other. Note that, like the DRAM shown in FIG. 1, only the bit lines B and BL of each pair of bit lines are actually connected to the memory cells 41 and 42. Sense amplifiers 151 and 152 of sense amplifier array +05 are driven by drive signal lines (not shown), and between the bit lines B and B#, respectively;
Amplify the voltage between L and BL#. In addition, sense amplifier 1
51, 152 are the sense amplifiers 51.5 shown in FIG.
Unlike No. 2, this is a normal one that does not have a fuse 513. Line data storage circuit 101 includes an NMOS transistor 11 controlled by signal φ11, inverters 12 and 13 connected in antiparallel, and NMOS transistors 14 and 15 simultaneously controlled by signal φ12. Then, data represented by the input signal DIN is written into the memory cell 41 via the bit lines B and B#, and a signal DIN which is an inversion of the input signal DIN is written into the memory cell 41 via the bit lines B and B#.
# can be output to the bit line selection circuit 102. Further, the data written in the memory cell 41 can be read out as the expected value signal E, and this signal E can be inverted and outputted as the signal E# to the bit line selection circuit 102. The bit line selection circuit 102 receives the signal φ21
and an inverter 23 connected between the input terminals of the AND circuits 21 and 22. Then, the line data storage circuit 101
In response to the signal DIN# or the expected value signal E# from the respective signals D T N#. A pair of selection signals S and S# for selecting bit line BL or BL# of the memory cell 42 is output depending on the level of E#. The output determination circuit 103 is connected to a power source (H
level) and the output line DOUT, and the signal φ32
PMO3+/Runnostar 32 controlled on/off by
and NM connected between the output line DOUT and ground.
It includes an OS transistor 35. One terminal of an NMOS transistor 36 is connected to the gate of the NMOS transistor 35, and the other terminal of the NMOS transistor 36 is connected in parallel to bit lines BL and BL# via a pair of NMOS transistors 33 and 34. . Further, an NMOS transistor 31 is connected between the gate of the NMo5 transistor 35 and the ground. The NMOS transistors 33 and 34 are controlled by selection signals S and S# from the bit line selection circuit 102, respectively, and the NMOS transistor 31 is controlled by the signal φ31.
controlled by On the other hand, the NMOS transistor 35 is controlled by a signal φ36 from the control circuit 6 shown in FIG. The control circuit 6 includes a PMOS transistor 61 . connected in series between a power supply (H level) and ground. Fuse 63 and NMOS transistor 62, and this PM
It consists of an inverter 64 connected to a connection point between an OS transnoster 61 and a fuse 63. The PMOS transistor 61 and the NMOS transistor 63
It is controlled by the same signal φ61 which takes L level when AM is in a precharge state and takes H level when it starts operation. If the fuse 63 is not cut, the PMOS transistor 61 is turned on in the precharge state.
The NMOS transistor 62 is turned off and the inverter 6
4, the signal φ36 goes to L level, and when the operation starts, the PMOS transistor 61 is turned off.
) The run star 62 is turned on and the signal φ36 becomes H level. If fuse 63 is disconnected, signal φ3
6 is always kept at L level. Therefore, the NMOS transistor 36 shown in FIG. 6 is turned off in the precharge state when the fuse 63 is not cut, but turned on when the operation starts. On the other hand, when the fuse 63 is disconnected, it is always in an off state. This DRAM operates as follows based on the same operation timing as shown in FIG. First, the write operation will be explained. In the precharge state (the leftmost state *3 in the operation timing shown in Figure 2), bit lines B, B#, BL, BL#
; and are both charged to 1/2Vcc level. Then, the signal φ21 is at L level, and the bit line selection circuit 1
The outputs of the AND circuits 21 and 22 of 02 are both at the L level, so the NMOS transistors 3334 of the output determination circuit 103 are both non-conductive. Further, the signal φ31 is at H level, and the signal φ32 is at L level. In response to signal φ32, PMO5I-ransistor 3
2 is turned on, and the output line DOUT is charged to H level. Further, as described above, the signal φ36 is at the L level, and the NMOS transistor 36 is turned off. When the write operation begins, the input signal DIN is given an H or L level depending on the input data. and,
When the signal φ]1 rises, the line data storage circuit 10
One NMOS transistor II becomes conductive, and the input signal DIN is latched by inverters 12 and 13. Thereafter, when the signal φ2] rises to the H level, when the input signal DIN is at the H level, that is, when DIN# is at the LL novel, the selection signals S and S# go to the L level and H level, respectively. As a result, the NMOS transistor 34 becomes conductive. Therefore, bit line BL# is pulled down to GND level through NMOS transistor 36, which is turned on in response to signal φ36 at H level, and NMOS (Runnostar) 31, which is turned on since the precharge state. On the other hand, since the NMOS transistor 33 is in a non-conductive state, the bit line BL remains at the level of the original precharged state. On the other hand, input signal D
When IN is at L level, that is, signal DIN# is at H level, selection signals S and S# are at H level and L level, respectively. Therefore, the NMOS transistor 33 becomes conductive, and the focus line BL is pulled down to the GND level. On the other hand, since the NMOS transistor 34 is in a non-conductive state, the hit line BL# remains at the level of the original precharged state. In parallel with this operation on the memory cell 42 side, the signal φ12 is raised on the memory cell 41 side, the NMOS transistor 1415 of the line data storage circuit 1 becomes conductive, and the input data is transferred to the bit lines B and B#. written. Note that when the input signal DIN is at H level, the bit lines B and B# are at H level and L level, respectively, and when the input signal DIN is at L level, the bit lines B and B# are at L level and H level, respectively. Become. After the word line WL is activated, the sense amplifiers 151 and 152 of the sense amplifier array 105 are driven, and the bit line pairs B, B#,
The level of bit line pair BL, BL# is the same as that of memory cells 41, 4.
is amplified to a level sufficient to be written to 2. Finally, word line WL is brought down, and memory cell 41.
The write operation to 42 ends. In this way, the memory cells 41 42 . The same data is written simultaneously. Next, a read operation and a determination operation will be explained. When the read operation starts, as shown in FIG. 2, the word line WL is raised, the sense amplifiers 151 and 152 are driven, and the data written in the memory cells 41 and 42 is transferred to the pit line pair B and B#. , bit line pair BL, BL#, respectively. Further, the signal φ12 is raised, and the expected value signal E representing the data written in the memory cell 41 is outputted to the bit line selection circuit 2 as a signal E# obtained by inverting the expected value signal E. Then, when entering the judgment operation,
After the signal φ31 goes low and the signal φ32 goes high, the signal φ21 rises. Here, when the manual data written in the memory cell 41 is logic "1", the expected value signal E becomes H level, that is, signal E# or L level. At this time, selection signals S and S# are each at L level. , becomes H level. Therefore, the NMOS transistor 34 of the output determination circuit 103 becomes conductive.
The level of bit line BL# is input to the gate of NMOS transistor 35 through NMOS transistor 35 in the on state. If reading from the memory cell 42 is performed normally, the data line BL# should be at L level. When data line BL# is at L level, N
The L level is applied to the gate of the MOS transistor 35, and it remains non-conductive. Therefore, an H level indicating a match is output to the output line DOUT. On the other hand, when the reading of the memory cell 42 is erroneous, the data line BL# is at H level. Therefore, the NMOS transistor 35 becomes conductive, and an L level indicating a mismatch is output to the output line DOUT. On the other hand, the data written in the memory cell 41 is at logic “0”.
”, the expected value signal E becomes L level, that is, the signal E# becomes H level. At this time, the selection signals S and S# become H level and L level, respectively. Therefore, the NMo5 transistor 33 of the output determination circuit 103 is conductive and NMO3I-Runstar 3 is in the on state.
6, the level of the bit line BL is input to the gate of the NMOS transistor 35. If reading from the memory cell 42 was performed normally, the data line BL should be at L level. When the data line BL is at the L level, the NMOS transistor 35 receives the L level at its gate and remains non-conductive. Therefore, an H level indicating a match is output to the output line DOUT. On the other hand, when the reading of the memory cell 42 is erroneous, the data line BL is at H level. The NMOS) lannostar 35 becomes conductive, and an L level indicating a mismatch is output to the output line DOtJT. In this way, this DRAM has memory cells 41.4
The same human data written at the same time in 2 is at the logical level.
In either case, a signal indicating a match is output when the memory cell 42 is read normally, and a mismatch is output when the memory cell 42 is read incorrectly. Outputs a signal representing Then, by providing NMOS transistors 33, 34, 35 and 36 of the output determination circuit +03 for each of the other memory cells (not shown) that are simultaneously selected by the word line WL and operating them simultaneously, one row of memory cells can be simultaneously operated. Can be tested. Therefore, operation tests can be performed at high speed. In addition, this DRAM has an NM which transmits the signal of the memory cell 42 to the output line DOUT when, for example, the reading of the memory cell 42 is erroneous among the memory cells for one row.
The OS transistor 35 can be kept in an off state at all times. That is, by cutting off the fuse 63 of the control circuit 106 shown in FIG. 7 that controls the NMOS transistor 36, the NMOS transistor 36 can be kept in an off state and the NMOS transistor 35 can be prevented from being turned on. . Therefore, the above hint lines (defective focus lines BL, BL#) are connected to the output line DOU.
It can be separated from T. Therefore, even if a defective hint line exists, read operations and determination operations can be performed without being adversely affected. Note that, in place of the control circuit +06, a control circuit 107 may be provided as shown in FIG. This control circuit +0
7 includes a fuse 71 and an NMOS transistor 74 connected in series between a power supply (H level) and the ground, and a PMOS capacitor connected between the power supply (H level) and the gate of the NMOS transistor 74. It is equipped with 73. Fuse 71 and NMO8 above)
An inverter 75 is connected between a connection point 72 with the Ranjistaf 4 and a connection point 77 between the PMCIS capacitor 73 and the gate of the NMOS transistor 74, and an inverter 76 is connected to this connection point 77. The fuses 71 of this control circuit 107, like the fuses 61, are connected to the hit lines B, B#, BL, BL, #:...
If there is no defective bit line in the line, it will not be disconnected, but if there is a defective focus line, it will be disconnected. If fuse 7I is not disconnected, connection point 72 becomes H level after power is turned on, and signal φ36 goes to H level via inverters 75 and 76.
level, and the runnostar 36 is always on as shown in FIG. 6. On the other hand, if fuse 71 is disconnected, NMOS transistor 3 will be disconnected after power is turned on.
6 or always in the off state. Therefore, in the same way as when the DRAM is equipped with the control circuit 106, the bit lines B,
Even if there is a defective bit line among B#; BL and BL#;, read operations and determination operations can be performed without being adversely affected. Furthermore, it is assumed that the memory cells 41 and 42 are connected only to one bit line B and BL of each pair of bit lines E and B#+BL BL# which operate in a complementary manner. The invention is not limited to this, and can also be applied to a memory cell M connected to both bit lines BL and BL# as shown in FIG. 4 or 5.

【発明の効果】【Effect of the invention】

以上より明らかなように、第1の発明の半導体記憶装置
は、相補に動作する各一対のビット線を介して複数のメ
モリセルに並行に同一のデータを書き込み、上記各メモ
リセルに書き込まれTこデータを表わす信号を上記各一
対のビット線ごとに設けられた複数のセンス増幅器によ
って上記各一対のビット線上で増幅し、増幅した信号を
出力して並行に各データを読み出し可能な半導体記憶装
置であって、特定なメモリセルに書き込まれたデータを
表わす期待値信号をこのメモリセルにつながるヒツト線
を介して出力するラインデータ記憶回路と、上記ライン
データ記憶回路から上記期待値信号を受けて、この期待
値信号のレベルの高低に応じて、上記メモリセル以外の
他のメモリセルの一対のビット線のうち一方または他方
のビット線を選択するビット線選択回路と、上記特定の
メモリセルと並行して上記他のメモリセルに書き込まれ
、上記特定のメモリセルに書き込れた期待値信号と同一
のデータを表わすべき信号を、上記期待値信号が高レベ
ルのとき上記ピント線選択回路によって選択された一方
のビット線を介して検出する一方、上記期待値信号が低
レベルのとき上記ピント線選択回路によって選択された
他方のヒツト線を介して検出して、上記信号と上記期待
値信号との一致または不一致を表わす信号を出力する出
力判定回路を備えているので、1行分のメモリセルを並
列にテストでき、したがって、動作テストを高速に行う
ことができる。また、上記センス増幅器の動作を不能に
できるヒユーズを備えているので、仮に不良ビット線が
あったとしても、このヒユーズを切断することにより悪
影響を受けることなく読み出し動作や判定動作を行うこ
とができる。 また、第2の発明の半導体記憶装置は、第1の発明の半
導体記憶装置と同様に、相補に動作する各一対のビット
線を介して複数のメモリセルに並行に同一のデータを書
き込み、上記各メモリセルに書き込まれたデータを表わ
す信号を上記各一対のビット線ごとに設けられた複数の
センス増幅器によって上記各一対のビット線上で増幅し
、増幅した信号を出力して並行に各データを読み出し可
能な半導体記憶装置であって、特定なメモリセルに書き
込まれたデータを表わす期待値信号をこのメモリセルに
つながるビット線を介して出力するラインデータ記憶回
路と、上記ラインデータ記憶回路から上記期待値信号を
受けて、この期待値信号のレベルの高低に応じて、上記
メモリセル以外の他のメモリセルの一対のヒツト線のう
ち一方または他方のヒツト線を選択するヒツト線選択回
路と、上記特定のメモリセルと並行して上記他のメモリ
セルに書き込まれ、上記特定のメモリセルに書き込れた
期待値信号と同一のデータを表わすべき信号を、上記期
待値信号が高レベルのとき上記ビット線選択回路によっ
て選択された一方のビット線を介して検出する一方、上
記期待値信号が低レベルのとき上記ビット線選択回路に
よって選択された他方のビット線を介して検出して、上
記信号と上記期待値信号との一致または不一致を表わす
信号を出力する出力判定回路とを備えているので、1行
分のメモリセルを並列にテストでき、したがって、動作
テストを高速に行うことができる。 また、上記他のメモリセルの一対のヒント線と上記出力
判定回路の出力端子とを導通または電気的に分離可能な
トランジスタと、上記出力判定回路が上記一致を表わす
信号を出力したとき上記トランジスタをオンさせる一方
、上記出力判定回路が上記不一致を表わす信号を出力し
たとき上記トランジスタをオフさせる制御回路とを備え
ているので、仮に不良ビット線があったとしても、悪影
響を受けることなく読み出し動作や判定動作を行うこと
ができる。
As is clear from the above, the semiconductor memory device of the first invention writes the same data in parallel to a plurality of memory cells via each pair of bit lines that operate complementary to each other, and writes the same data in each memory cell in parallel. A semiconductor memory device capable of amplifying a signal representing this data on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers provided for each pair of bit lines, outputting the amplified signal, and reading each data in parallel. a line data storage circuit that outputs an expected value signal representing data written in a specific memory cell via a human line connected to this memory cell; and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit. , a bit line selection circuit that selects one or the other of a pair of bit lines of a memory cell other than the memory cell, depending on the level of the expected value signal; In parallel, when the expected value signal is at a high level, a signal that is written to the other memory cells and should represent the same data as the expected value signal written to the specific memory cell is selected by the focus line selection circuit. The signal is detected through the selected one bit line, and when the expected value signal is at a low level, it is detected through the other bit line selected by the focus line selection circuit, and the signal and the expected value signal are detected. Since the output determination circuit outputs a signal indicating coincidence or mismatch, one row of memory cells can be tested in parallel, and therefore an operation test can be performed at high speed. In addition, it is equipped with a fuse that can disable the operation of the sense amplifier, so even if there is a defective bit line, reading and determining operations can be performed without any adverse effects by cutting this fuse. . Further, like the semiconductor memory device of the first invention, the semiconductor memory device of the second invention writes the same data in parallel to a plurality of memory cells via each pair of bit lines that operate complementary to each other. A signal representing the data written in each memory cell is amplified on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers provided for each pair of bit lines, and the amplified signals are output to read each data in parallel. A readable semiconductor memory device comprising: a line data storage circuit that outputs an expected value signal representing data written in a specific memory cell via a bit line connected to the memory cell; a human line selection circuit that receives an expected value signal and selects one or the other of a pair of human lines of a memory cell other than the memory cell, depending on the level of the expected value signal; A signal that is written to the other memory cell in parallel with the specific memory cell and that should represent the same data as the expected value signal written to the specific memory cell, when the expected value signal is at a high level. The detection is performed through one bit line selected by the bit line selection circuit, and when the expected value signal is at a low level, the detection is performed through the other bit line selected by the bit line selection circuit. Since it is equipped with an output determination circuit that outputs a signal indicating whether the signal matches or does not match the expected value signal, one row of memory cells can be tested in parallel, and therefore, an operation test can be performed at high speed. . Further, a transistor capable of conducting or electrically separating the pair of hint lines of the other memory cell and the output terminal of the output determination circuit; On the other hand, the control circuit also includes a control circuit that turns off the transistor when the output determination circuit outputs a signal indicating the mismatch, so even if there is a defective bit line, the read operation can be performed without any adverse effect. A judgment operation can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は第1の発明の半導体記憶装置の一実施例のDR
AMを示す図、第2図は上記DRAMの動作タイミング
を示す図、第3図、第4図、第5図はそれぞれメモリセ
ルがビット線に接続される状態を示す図、第6図および
第7図は第2の発明の半導体記憶装置の一実施例のDR
AMを示す図、第8図は上記DRAMの制御回路の変形
例を示す図である。 1.101・・ラインデータ記憶回路、2.102・・
・ビット線選択回路、 3.103・・・出力判定回路、 4104・・メモリセルアレイ、 5.105  センスアンプアレイ、 36・・・NMOSトランジスタ、 4142・・メモリセル、 5]  52 151 152・・センスアンプ、61
 71 513  ・フユーズ、 B  B#  BL  BL#・・ビット線。
FIG. 1 shows the DR of an embodiment of the semiconductor memory device of the first invention.
FIG. 2 is a diagram showing the operation timing of the DRAM, FIGS. 3, 4, and 5 are diagrams showing the states in which memory cells are connected to bit lines, and FIGS. Figure 7 shows the DR of an embodiment of the semiconductor memory device of the second invention.
FIG. 8, which shows the AM, is a diagram showing a modification of the control circuit of the DRAM. 1.101...Line data storage circuit, 2.102...
・Bit line selection circuit, 3.103... Output determination circuit, 4104... Memory cell array, 5.105 Sense amplifier array, 36... NMOS transistor, 4142... Memory cell, 5] 52 151 152... Sense amplifier, 61
71 513 ・Fuse, B B# BL BL#...Bit line.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)相補に動作する各一対のビット線を介して複数の
メモリセルに並行に同一のデータを書き込み、上記各メ
モリセルに書き込まれたデータを表わす信号を上記各一
対のビット線ごとに設けられた複数のセンス増幅器によ
って上記各一対のビット線上で増幅し、増幅した信号を
出力して並行に各データを読み出し可能な半導体記憶装
置であって、 特定なメモリセルに書き込まれたデータを表わす期待値
信号をこのメモリセルにつながるビット線を介して出力
するラインデータ記憶回路と、上記ラインデータ記憶回
路から上記期待値信号を受けて、この期待値信号のレベ
ルの高低に応じて、上記メモリセル以外の他のメモリセ
ルの一対のビット線のうち一方または他方のビット線を
選択するビット線選択回路と、 上記特定のメモリセルと並行して上記他のメモリセルに
書き込まれ、上記特定のメモリセルに書き込れた期待値
信号と同一のデータを表わすべき信号を、上記期待値信
号が高レベルのとき上記ビット線選択回路によって選択
された一方のビット線を介して検出する一方、上記期待
値信号が低レベルのとき上記ビット線選択回路によって
選択された他方のビット線を介して検出して、上記信号
と上記期待値信号との一致または不一致を表わす信号を
出力する出力判定回路と、 上記各センス増幅器とこれらのセンス増幅器を駆動する
駆動信号線との間にそれぞれ設けられ、上記センス増幅
器の動作を不能にできるヒューズを備えたことを特徴と
する半導体記憶装置。
(1) The same data is written in parallel to multiple memory cells via each pair of bit lines that operate in a complementary manner, and a signal representing the data written to each memory cell is provided for each pair of bit lines. A semiconductor memory device capable of amplifying data on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers and outputting the amplified signals to read each data in parallel, representing data written in a specific memory cell. a line data storage circuit that outputs an expected value signal via a bit line connected to the memory cell; and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit and stores the expected value signal in the memory cell according to the level of the expected value signal. a bit line selection circuit that selects one or the other bit line of a pair of bit lines of a memory cell other than the memory cell; A signal that should represent the same data as the expected value signal written in the memory cell is detected via one of the bit lines selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a high level; an output determination circuit that detects when the expected value signal is at a low level through the other bit line selected by the bit line selection circuit and outputs a signal indicating whether the signal matches or does not match the expected value signal; . A semiconductor memory device, comprising a fuse that is provided between each of the sense amplifiers and a drive signal line for driving the sense amplifiers, and is capable of disabling the operation of the sense amplifier.
(2)相補に動作する各一対のビット線を介して複数の
メモリセルに並行に同一のデータを書き込み、上記各メ
モリセルに書き込まれたデータを表わす信号を上記各一
対のビット線ごとに設けられた複数のセンス増幅器によ
って上記各一対のビット線上で増幅し、増幅した信号を
出力して並行に各データを読み出し可能な半導体記憶装
置であって、 特定なメモリセルに書き込まれたデータを表わす期待値
信号をこのメモリセルにつながるビット線を介して出力
するラインデータ記憶回路と、上記ラインデータ記憶回
路から上記期待値信号を受けて、この期待値信号のレベ
ルの高低に応じて、上記メモリセル以外の他のメモリセ
ルの一対のビット線のうち一方または他方のビット線を
選択するビット線選択回路と、 上記特定のメモリセルと並行して上記他のメモリセルに
書き込まれ、上記特定のメモリセルに書き込れた期待値
信号と同一のデータを表わすべき信号を、上記期待値信
号が高レベルのとき上記ビット線選択回路によって選択
された一方のビット線を介して検出する一方、上記期待
値信号が低レベルのとき上記ビット線選択回路によって
選択された他方のビット線を介して検出して、上記信号
と上記期待値信号との一致または不一致を表わす信号を
出力する出力判定回路と、 上記他のメモリセルの一対のビット線と上記出力判定回
路の出力端子とを導通または電気的に分離可能なトラン
ジスタと、 上記出力判定回路が上記一致を表わす信号を出力したと
き上記トランジスタをオンさせる一方、上記出力判定回
路が上記不一致を表わす信号を出力したとき上記トラン
ジスタをオフさせる制御回路とを備えたことを特徴とす
る半導体記憶装置。
(2) The same data is written in parallel to multiple memory cells via each pair of bit lines that operate in a complementary manner, and a signal representing the data written to each memory cell is provided for each pair of bit lines. A semiconductor memory device capable of amplifying data on each pair of bit lines by a plurality of sense amplifiers and outputting the amplified signals to read each data in parallel, representing data written in a specific memory cell. a line data storage circuit that outputs an expected value signal via a bit line connected to the memory cell; and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit and stores the expected value signal in the memory cell according to the level of the expected value signal. a bit line selection circuit that selects one or the other bit line of a pair of bit lines of a memory cell other than the memory cell; A signal that should represent the same data as the expected value signal written in the memory cell is detected via one of the bit lines selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a high level; an output determination circuit that detects when the expected value signal is at a low level through the other bit line selected by the bit line selection circuit and outputs a signal indicating whether the signal matches or does not match the expected value signal; , a transistor capable of conducting or electrically separating the pair of bit lines of the other memory cell and the output terminal of the output determination circuit, and turning on the transistor when the output determination circuit outputs a signal indicating the coincidence. and a control circuit that turns off the transistor when the output determination circuit outputs a signal representing the mismatch.
JP2139127A 1989-11-22 1990-05-29 Semiconductor memory device Pending JPH0432100A (en)

Priority Applications (2)

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JP2139127A JPH0432100A (en) 1990-05-29 1990-05-29 Semiconductor memory device
US07/616,923 US5185722A (en) 1989-11-22 1990-11-21 Semiconductor memory device having a memory test circuit

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01133297A (en) * 1987-08-21 1989-05-25 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Redundant composition semiconductor memory
JPH0223592A (en) * 1988-07-12 1990-01-25 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor device

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