JPH03260999A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH03260999A
JPH03260999A JP2059515A JP5951590A JPH03260999A JP H03260999 A JPH03260999 A JP H03260999A JP 2059515 A JP2059515 A JP 2059515A JP 5951590 A JP5951590 A JP 5951590A JP H03260999 A JPH03260999 A JP H03260999A
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JP
Japan
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memory cell
signal
bit line
level
output
Prior art date
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Application number
JP2059515A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiji Oota
佳似 太田
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to US07/616,923 priority patent/US5185722A/en
Publication of JPH03260999A publication Critical patent/JPH03260999A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To test memory cells simultaneously and in a short time by reading out a signal written on the memory cell via a bit line on the other side, outputting a signal representing coincidence/noncoincidence with an expected value, and separating a defective bit line. CONSTITUTION:An H level signal representing the coincidence with an expected value signal is outputted to an output line DOUT when the readout of memory 42 is performed normally even when the same input data written on the memory cells 41, 42 simultaneously are set at either a logic level 0 or 1. Also, when the readout of the memory 42 is performed erroneously, an L level signal representing the noncoincidence is outputted. Then, the cells of one row are tested simultaneously by operating an output decision circuit 3 simultaneously at every another memory cell selected by a word line WL simultaneously. Also, the bit line connected to a defective cell is separated from an output line by melting a fuse 36. In such a way, it is possible to test the memory cells of one row simultaneously and in a short time.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は半導体記憶装置に関し、特に動作テストを高
速に行うことができる半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that can perform operational tests at high speed.

〈従来の技術〉 近年の半導体記憶装置の進歩は著しいものがあり、RA
M(ランダム・アクセス・メモリ)、ROM(リート・
オンリ・メモリ)その他のメモリとも、3年に4倍づつ
集積度を着実に増してきている。
<Conventional technology> There has been remarkable progress in semiconductor memory devices in recent years, and RA
M (random access memory), ROM (read memory)
Only memory) and other types of memory have been steadily increasing their density by four times every three years.

それにつれて、デバイスの動作テストに要する時間も増
大しており、製造側の出荷検査やユーザー側の受は入れ
検査を効率的に行うため、より高速なテストモードの確
立が求められている。
As a result, the time required to test the operation of devices is increasing, and there is a need to establish a faster test mode in order to efficiently perform shipping inspections on the manufacturer's side and acceptance inspections on the user side.

従来、このような状況の下、動作テストを高速に行うた
めに、たとえばD RAM(ダイナミック・ランダム・
アクセス・メモリ)では、複数のビット線を並列にテス
トするいわゆる並列テストモードが採用されている。こ
の並列テストモードは、複数のビットに同時に同一のデ
ータを書き込み、読み出し時ζこそのデータを比較して
1つでも違うデータがあると不良であると判定するよう
になっている。
Conventionally, under such circumstances, in order to perform operation tests at high speed, for example, DRAM (dynamic random
Access memory) uses a so-called parallel test mode in which multiple bit lines are tested in parallel. In this parallel test mode, the same data is simultaneously written to a plurality of bits, the data at the time of reading ζ is compared, and if there is even one different data, it is determined that the bit is defective.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、従来の並列テストモードは、およそIM
xlDRAMのテスト時間を越えないようにしているの
が実状である。
<Problem to be solved by the invention> However, the conventional parallel test mode
The reality is that the test time for xlDRAM is not exceeded.

そこで、この発明の目的は、1行分(実用的にはおよそ
1024ビツトもしくは2048ビツト)を並列にテス
トでき、したがって動作テストを高3 速に行うことができて、しかも不良ビット線が存在した
ときに上記不良ビット線を切り離すことができる半導体
記憶装置を提供することにある。
Therefore, the purpose of this invention is to be able to test one line (approximately 1024 bits or 2048 bits in practice) in parallel, and therefore to be able to perform operational tests at a high speed of 3, while also eliminating the presence of defective bit lines. The object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can sometimes disconnect the defective bit line.

く課題を解決するための手段〉 上記目的を遠戚するために、この発明の半導体記憶装置
は、相補に動作する各一対のビット線を介して複数のメ
モリセルに並行に同一のデータを書き込み読み出し可能
な半導体記憶装置であって、特定なメモリセルに書き込
まれたデータを表わす期待値信号をこのメモリセルにつ
ながるビット線を介して出力するラインデータ記憶回路
と、上記ラインデータ記憶回路から上記期待値信号を受
けて、この期待値信号のレベルの高低に応じて、上記メ
モリセル以外の他のメモリセルの一対のビット線のうち
一方または他方のビット線を選択するビット線選択回路
と、上記特定のメモリセルと並行して上記他のメモリセ
ルに書き込まれ、上記特定のメモリセルに書き込まれた
期待値信号と同一のデータを表わすべき信号を、上記期
待値信号が高レベルのとき上記ビット線選択回路によっ
て選択された一方のビット線を介して検出する一方、上
記期待値信号が低レベルのとき上記ビット線選択回路に
よって選択された他方のビット線を介して検出して、上
記信号と」二記期待値信号との一致または不一致を表わ
す信号を出力線に連なる出力端子に出力する出力判定回
路と、上記他のメモリセルの一対のビット線と上記出力
判定回路の出力端子とを切り離すことが可能な、フェー
ズとを備えたことを特徴としている。
Means for Solving the Problems> In order to remotely achieve the above object, the semiconductor memory device of the present invention writes the same data in parallel to a plurality of memory cells via each pair of bit lines that operate complementary to each other. A readable semiconductor memory device comprising: a line data storage circuit that outputs an expected value signal representing data written in a specific memory cell via a bit line connected to the memory cell; a bit line selection circuit that receives an expected value signal and selects one or the other of a pair of bit lines of a memory cell other than the memory cell, depending on the level of the expected value signal; A signal that is written to the other memory cell in parallel with the specific memory cell and should represent the same data as the expected value signal written to the specific memory cell is transmitted when the expected value signal is at a high level. The signal is detected through one bit line selected by the bit line selection circuit, and when the expected value signal is at a low level, is detected through the other bit line selected by the bit line selection circuit. and (ii) an output determination circuit that outputs a signal representing coincidence or mismatch with the expected value signal to an output terminal connected to the output line, and a pair of bit lines of the other memory cell and the output terminal of the output determination circuit. It is characterized by having a phase that can be separated.

く作用〉 特定のメモリセルに書き込まれたデータが論理レベル“
1”の場合、ラインデータ記憶回路が出ツノする期待値
信号は高レベルとなる。このとき、出力判定回路は、他
のメモリセルに書き込まれた上記データと同一のデータ
を表わすべき信号をビット線選択回路によって選択され
た一方のビット線を介して検出する。上記一方のビット
線は、上記出力信号を表わす高低いずれかのレベルとな
っている。出力判定回路は、検出したレベルが高低いず
れのレベルであるかに応じて、上記信号と上記期待値信
号どの一致または不一致を表わす信号を出力端子に出力
する。例えば、上記他のメモリセルの読み出しが正常に
行われたとき上記一方のビット線が低レベルになる場合
、検出したレベルが低レベルであるとき一致を表わす信
号を出力する一方、検出したレベルが高レベルであると
き不一致を表わす信号を出力するようにしておく。
Effect〉 The data written to a specific memory cell has a logic level “
1", the expected value signal output by the line data storage circuit is at a high level. At this time, the output determination circuit selects a bit signal that should represent the same data as the above data written in other memory cells. Detection is performed via one bit line selected by the line selection circuit.The one bit line is at either a high or low level representing the output signal.The output determination circuit determines whether the detected level is high or low. A signal indicating whether the above-mentioned signal and the above-mentioned expected value match or do not match is output to the output terminal depending on the level of the above-mentioned expected value.For example, when the above-mentioned other memory cell is read normally, the above-mentioned one bit When the line becomes a low level, a signal indicating a match is output when the detected level is low, and a signal indicating a mismatch is output when the detected level is high.

一方、特定のメモリセルに書き込まれたデータが論理レ
ベル“0”の場合、ラインデータ記憶回路が出力する期
待値信号は低レベルとなる。このとき出力判定回路は、
他のメモリセルに書き込まれた上記データと同一のデー
タを表わすべき信号を、ビット線選択回路によって選択
された他方のビット線を介して検出する。先の例に対応
させて説明すると、上記他のメモリセルの読み出しが正
常に行われると、上記信号が反転していることから、上
記他方のビット線は低レベルとなる。ここで、出力判定
回路は、検出したレベルが低レベルであるとき一致を表
わす信号を出力する一方、検出したレベルが高レベルで
あるとき不一致を表わす信号を出力するようになってい
る。したがって、上記出力判定回路は、上泥地のメモリ
セルの読み出しが正常に行われたとき一致を表わす信号
を出ツノする一方、読み出しが誤りであったとき不一致
を表わす信号を出力する。このように、上記出力判定回
路は、上記特定のメモリセルおよび上泥地のメモリセル
に同時に書き込まれた同一データが論理レベル“0”“
l”のいずれの場合であっても、上泥地のメモリセルの
読み出しが正常に行われたとき一致を表わす信号を出力
し、」−泥地のメモリセルの読み出しが誤りであったと
き不一致を表わす信号を出力する。
On the other hand, when the data written in a specific memory cell is at logic level "0", the expected value signal outputted by the line data storage circuit is at a low level. At this time, the output judgment circuit is
A signal representing the same data as the data written in another memory cell is detected via the other bit line selected by the bit line selection circuit. To explain in conjunction with the previous example, when the other memory cell is read normally, the other bit line becomes low level because the signal is inverted. Here, the output determination circuit outputs a signal indicating a match when the detected level is a low level, and outputs a signal indicating a mismatch when the detected level is a high level. Therefore, the output determination circuit outputs a signal indicating a match when the memory cell in the upper half is read normally, and outputs a signal indicating a mismatch when the read is erroneous. In this way, the output determination circuit determines that the same data written simultaneously in the specific memory cell and the upper memory cell is at logic level "0".
In either case, a signal indicating a match is output when the memory cell on the upper muddy area is successfully read, and a mismatch is output when the reading of the memory cell on the muddy area is incorrect. Outputs a signal representing .

1行分のメモリセルは一般に1本のワード線によって同
時に選択することができる。したかって、」1記ビット
線選択回路に1行分のメモリセルの各一対のビット線の
うちの一方または他方を並列に同時に選択させると共に
、上記出力判定回路を各メモリセルごとに同時に動作さ
せることによって、上記1行分のメモリセルが同時にテ
スト可能となる。したがって、動作テストが高速に行わ
れる。
Generally, one row of memory cells can be selected simultaneously by one word line. Therefore, the bit line selection circuit (1) simultaneously selects one or the other of each pair of bit lines of one row of memory cells in parallel, and the output determination circuit operates simultaneously for each memory cell. This makes it possible to test the memory cells for one row at the same time. Therefore, operational tests can be performed quickly.

また、読み出しが誤りであったメモリセルに接続するビ
ット線は、フェーズによって、出力判定回路の出力端子
とを切り離すことによって、そのビット線に連なるメモ
リセルのデータは出力しないようにできる。したがって
、不良ビット線が存在しても、1行分のメモリセルを同
時に短時間にテストできる。
Further, by separating the bit line connected to the memory cell whose read was erroneous from the output terminal of the output determination circuit depending on the phase, data of the memory cell connected to the bit line can be prevented from being output. Therefore, even if a defective bit line exists, one row of memory cells can be simultaneously tested in a short time.

〈実施例〉 以下、この発明の半導体記憶装置を実施例により詳細に
説明する。
<Example> Hereinafter, the semiconductor memory device of the present invention will be explained in detail with reference to an example.

第1図はこの発明の一実施例のDRAMを示している。FIG. 1 shows a DRAM according to an embodiment of the present invention.

このDRAMは、ラインデータ記憶回路1と、ビット線
選択回路2と、出力判定回路3を備えている。4はメモ
リセルアレイを示し、5はセンスアンプ51.52  
・・からなるセンスアンプアレイを示している。メモリ
セルアレイ4は1本のワード線WLによって同時に選択
される1行分のメモリセル41,42.・を有している
。メモリセル41,42は相補に動作する各一対のビッ
ト線B、B#;BL、BL#を介してデータの書き込み
、読み出しが行われる。なお、メモリセル4142に実
際に接続されているのは上記各一対のビット線のうちビ
ット線B、BLのみである。センスアンプアレイ5のセ
ンスアンプ5152はそれぞれ上記ビット線B、B#間
: BL、BL#間の電圧を増幅する。ラインデータ記
憶回路1は、信号φ11により制御されるNMOSトラ
ンジスタ11と、逆並列接続されたインバータ12およ
び13と、信号φ12により同時に制御されるNMOS
トランジスタ14および15を備えている。そして、入
力信号DINで表わされるデータをビット線B、B#を
介してメモリセル41に書き込むと共に、上記人力信号
DINを反転させた信号DIN#を上記ビット線選択回
路2へ出力することができる。また、メモリセル41に
書き込まれたデータを期待値信号Eとして読み出し、こ
の信号Eを反転させて信号E#となして、上記ビット線
選択回路2へ出力することができる。ビット線選択回路
2は、信号φ21を受けるアンド(A N D )回路
21および22と、このアンド回路21,22の入力端
子間に接続されたインバータ23を備えている。そして
、上記ラインデータ記憶回路1からの信号DIN#また
は期待値信号E#を受けて、各信号DIN#、E#のレ
ベルの高低に応じて、上記メモリセル42のビット線B
LまたはBL#を選択する一対の選択信号SおよびS#
を出力する。出力判定回路3は、電源と出ツノ線DOU
Tとの間に接続され信号φ32によりオンオフ制御され
るPMOSトランジスタ32と、出力線D○UTとグラ
ンドとの間に接続されたNMOSトランジスタ35を備
えている。NMOSトランジスタ35と出力線DOUT
の間にフェーズ36を接続している。したがって、この
フェーズ36は、出力線DOUTに連なる出力判定回路
3の出力端子をNMOSトランジスタ35、ひいては一
対のビット線BL、BL#から切り離すことができる。
This DRAM includes a line data storage circuit 1, a bit line selection circuit 2, and an output determination circuit 3. 4 indicates a memory cell array, and 5 indicates a sense amplifier 51.52
It shows a sense amplifier array consisting of... The memory cell array 4 includes one row of memory cells 41, 42 . . . which are simultaneously selected by one word line WL. ·have. Data is written into and read from the memory cells 41 and 42 via each pair of bit lines B, B#; BL, BL# which operate complementary to each other. Note that only the bit lines B and BL of each pair of bit lines are actually connected to the memory cell 4142. The sense amplifiers 5152 of the sense amplifier array 5 amplify the voltage between the bit lines B and B#: BL and BL#. The line data storage circuit 1 includes an NMOS transistor 11 controlled by a signal φ11, inverters 12 and 13 connected in antiparallel, and an NMOS transistor 11 controlled simultaneously by a signal φ12.
It includes transistors 14 and 15. Then, data represented by the input signal DIN can be written into the memory cell 41 via the bit lines B and B#, and a signal DIN# obtained by inverting the human input signal DIN can be output to the bit line selection circuit 2. . Further, the data written in the memory cell 41 can be read as the expected value signal E, and this signal E can be inverted and output as the signal E# to the bit line selection circuit 2. The bit line selection circuit 2 includes AND (A N D ) circuits 21 and 22 that receive a signal φ21, and an inverter 23 connected between the input terminals of the AND circuits 21 and 22. Then, in response to the signal DIN# or the expected value signal E# from the line data storage circuit 1, the bit line B of the memory cell 42 is
A pair of selection signals S and S# to select L or BL#
Output. The output judgment circuit 3 connects the power source and the output wire DOU.
A PMOS transistor 32 connected between the output line DUT and the ground is connected between the output line DUT and the ground. NMOS transistor 35 and output line DOUT
A phase 36 is connected between them. Therefore, this phase 36 can separate the output terminal of the output determination circuit 3 connected to the output line DOUT from the NMOS transistor 35 and, furthermore, from the pair of bit lines BL and BL#.

NMO8)ランンスタ35のゲートはNMO8)ランジ
スタ33.34を介してビット線BL、BL#に並列に
接続されている。上記NMOSトランジスタ33.34
は、それぞれ」二記ビット線選択回路2からの選択信号
S、S#により制御される。
The gate of the NMO8) transistor 35 is connected in parallel to the bit lines BL and BL# via NMO8) transistors 33 and 34. The above NMOS transistor 33.34
are controlled by selection signals S and S# from bit line selection circuit 2, respectively.

また、この出力判定回路3は、上記NMOSトランジス
タ35のゲートとグランドとの間に接続され信号φ31
により制御されるNMOSトランジスタ31を備えてい
る。 このDRAMは、第2図に示す動作タイミングに
基づいて次のように動作する。なお、第2図中破線は書
き込み動作のタイミング、実線は読み出し動作のタイミ
ングをそれぞれ示している。
Further, this output determination circuit 3 is connected between the gate of the NMOS transistor 35 and the ground, and is connected to a signal φ31.
The NMOS transistor 31 is controlled by the NMOS transistor 31. This DRAM operates as follows based on the operation timing shown in FIG. Note that the broken lines in FIG. 2 indicate the timing of the write operation, and the solid lines indicate the timing of the read operation.

まず、書き込み動作について説明する。First, the write operation will be explained.

プリチャージ状態(第2図に示す動作タイミングにおi
る左端の状態)では信号φ21が低(I、)レベルであ
り、ビット線選択回路2のアンド回路21.22の出力
はいずれも■、レベル、したがって、出力判定回路3の
NMOSトランジスタ3334はいずれも非導通状態と
なっている。また、信号φ31は高(H)レベル、信号
φ32はLレベルになっている。
Precharge state (i at the operation timing shown in Figure 2)
In the leftmost state), the signal φ21 is at the low (I, ) level, and the outputs of the AND circuits 21 and 22 of the bit line selection circuit 2 are both at the level ■.Therefore, the NMOS transistor 3334 of the output determination circuit 3 is is also in a non-conducting state. Further, the signal φ31 is at a high (H) level, and the signal φ32 is at an L level.

書き込み動作に入ると、入ツノ信号DINには、入力デ
ータに対応してHまたはLレベルがちえられる。そして
、信号φIIが立ち上がって、ラインデータ記憶回路1
のNMO8)ランジスタ11が導通状態となり、」−記
入力信号DINはインバータ12および13によってラ
ッチされる。その後、信号φ21がH状態に立ち上がる
と、入力信号DTNがトIレベルすなわちDIN#がL
レベルの場合、選択信号S、S#はそれぞれLレベルH
レベルとなる。したがって、NMO8)ランジスタ34
が導通状態となって、ビット線B L #がGNDレベ
ルへ引き落とされる。一方、NMOSトランジスタ33
は非導通状態であるため、ビット線BLは元のプリチャ
ージ状態のレベル(通常1/2Vccのレベルが用いら
れる)のままとなりでいる。これに対して、入力信号D
INがLレベルすなわち信号DIN#がHレベルの場合
、選択信号S、S#はそれぞれHレベル、Lレベルとな
る。したがって、NMO8)ランジスタ33が導通状態
となってビット線BLがGNDレベルに弓き落とされる
。一方、NMOSトランジスタ34は非導通状態である
ため、ビット線BL#は元の1 2 プリチャージ状態のレベルのままとなっている。
When the write operation starts, the input signal DIN changes to H or L level depending on the input data. Then, the signal φII rises and the line data storage circuit 1
NMO8) transistor 11 becomes conductive, and input signal DIN is latched by inverters 12 and 13. After that, when the signal φ21 rises to the H state, the input signal DTN goes to the I level, that is, DIN# goes to the L level.
In the case of the level, the selection signals S and S# are respectively L level and H
level. Therefore, NMO8) transistor 34
becomes conductive, and the bit line B L # is pulled down to the GND level. On the other hand, the NMOS transistor 33
Since is in a non-conductive state, the bit line BL remains at its original precharge state level (normally a level of 1/2 Vcc is used). On the other hand, input signal D
When IN is at L level, that is, signal DIN# is at H level, selection signals S and S# are at H level and L level, respectively. Therefore, the NMO8) transistor 33 becomes conductive, and the bit line BL is lowered to the GND level. On the other hand, since the NMOS transistor 34 is in a non-conductive state, the bit line BL# remains at the level of the original 1 2 precharge state.

このようなメモリセル42側の動作と並行して、メモリ
セル41側では信号φ■2が立ち上げられ、ラインデー
タ記憶回路1のNMOSトランジスタ14.15が導通
状態となり、入ツノデータがビット線B、B#に書き込
まれる。なお、入力信号DINがHレベルの場合、ビッ
ト線B、B#はそれぞれHレベル Lレベルとなり、入
力信号DINがLレベルの場合、上記ビット線B、B#
はそれぞれ1.レベル Hレベルとなる。ワード線WL
が立ち上げられた後、センスアンプアレイ5のセンスア
ンプ5152が駆動されて、ビット線対BB#;ビット
線対BL、BL#のレベルはメモリセル4142に書き
込まれるのに十分なレベルにまで増幅される。最後にワ
ード線WLを立ち下げられ、メモリセル4.1.42へ
の書き込み動作が終了する。このようにして、各一対の
ビット線BB#・BLBL#を介してメモリセル414
2、・・・に同一のデータが同時に書き込まれる。
In parallel with this operation on the memory cell 42 side, the signal φ■2 is raised on the memory cell 41 side, the NMOS transistors 14 and 15 of the line data storage circuit 1 become conductive, and the incoming data is transferred to the bit line B. , B#. Note that when the input signal DIN is at H level, the bit lines B and B# are at H level and L level, respectively, and when the input signal DIN is at L level, the bit lines B and B# are at H level and L level, respectively.
are 1. Level: H level. Word line WL
is turned on, the sense amplifier 5152 of the sense amplifier array 5 is driven, and the levels of the bit line pair BB#; bit line pair BL, BL# are amplified to a level sufficient to be written to the memory cell 4142. be done. Finally, the word line WL is brought down, and the write operation to the memory cell 4.1.42 is completed. In this way, the memory cell 414 is connected via each pair of bit lines BB# and BLBL#.
The same data is written to 2, . . . at the same time.

次に、読み出し動作お上び判定動作について説明する。Next, the read operation and determination operation will be explained.

読み出し動作に入ると、第2図に示すよ・うに、ワード
線WLが立ち上げられ、センスアンプ5152が駆動さ
れて、メモリセル41,42に書き込まれたデータがビ
ット線対B、B#、ビット線対BL、BL#にそれぞれ
読み出される。さらに、信号φ12が立ち上げられて、
メモリセル41に書き込まれたデータを表わす期待値信
号Eがこれを反転さぜた信号E#としてビット線選択回
路2へ出力される。そして、判定動作に入るとき、信号
φ31がLレベル、信号φ32がHレベルになった後、
信号φ21が立ち上げられる。
When the read operation starts, as shown in FIG. 2, the word line WL is raised, the sense amplifier 5152 is driven, and the data written in the memory cells 41 and 42 is transferred to the bit line pair B, B#, The bit line pairs BL and BL# are respectively read out. Furthermore, the signal φ12 is raised,
Expected value signal E representing data written in memory cell 41 is inverted and output to bit line selection circuit 2 as signal E#. Then, when entering the determination operation, after the signal φ31 goes to L level and the signal φ32 goes to H level,
Signal φ21 is raised.

ここで、メモリセル41に書き込まれた入力データが論
理“l”の場合、期待値信号EがHレベルすなわち信号
E#がLレベルとなる。このとき、選択信号S、S#は
それぞれLレベル、Hレベルとなる。したがって、出力
判定回路3のNMOSトランジスタ34が導通し、ビッ
ト線BL#のレベルがNMO8)ランジスタ35のゲー
トに入力される。もし、メモリセル42の読み出しが正
常に行われたとすれば、データ線BL#はLレベルとな
っているはずである。データ線BL#がLレベルのとき
、NMOSトランジスタ35はゲートにLレベルが与え
られることになり、非導通のままとなる。したがって、
出力線DOUTには一致を表わすHレベルが出力される
。これに対して、メモリセル42の読み出しが誤まりで
あったときは、データ線BL#はHレベルとなっている
。したがって、NMOSトランジスタ35は導通して、
出力線DOUTには不一致を表わすLレベルが出ツノさ
れる。
Here, when the input data written to the memory cell 41 is logic "1", the expected value signal E becomes the H level, that is, the signal E# becomes the L level. At this time, selection signals S and S# become L level and H level, respectively. Therefore, the NMOS transistor 34 of the output determination circuit 3 becomes conductive, and the level of the bit line BL# is input to the gate of the NMOS transistor 35. If reading from the memory cell 42 is performed normally, the data line BL# should be at L level. When data line BL# is at L level, NMOS transistor 35 has its gate supplied with L level and remains non-conductive. therefore,
An H level indicating a match is output to the output line DOUT. On the other hand, when the reading of the memory cell 42 is erroneous, the data line BL# is at H level. Therefore, the NMOS transistor 35 is conductive and
An L level indicating a mismatch is output on the output line DOUT.

一方、メモリセル41に書き込まれたデータが論理“0
”の場合、期待値信号E 、’)< Lレベルすなわち
信号E#がHレベルとなる。このとき、選択信号S、S
#はそれぞれHレベル、Lレベルとなる。
On the other hand, the data written in the memory cell 41 is at logic “0”.
”, the expected value signal E,')<L level, that is, the signal E# becomes H level.At this time, the selection signals S, S
# becomes H level and L level, respectively.

したがって、出力判定回路3のNMOSトランジスタ3
3が導通し、ビット線BLのレベルがNMOSトランジ
スタ35のゲートに入力される。もし、メモリセル42
の読み出しが正常に行われたとすれば、データ線BLは
Lレベルとなっているはずである。データ線BLがLレ
ベルのとき、NMOS)ランジスタ35はゲートにLレ
ベルが与えられることになり、非導通のままとなる。し
たがって、出力線DOUTには一致を表わすHレベルが
出力される。これに対して、メモリセル42の読み出し
が誤まりであったときは、データ線BLはHレベルとな
っている。NMOS)ランジスタ35は導通して、出力
線DOUTには不一致を表わすLレベルが出力される。
Therefore, the NMOS transistor 3 of the output determination circuit 3
3 becomes conductive, and the level of bit line BL is input to the gate of NMOS transistor 35. If memory cell 42
If reading is performed normally, the data line BL should be at L level. When data line BL is at L level, L level is applied to the gate of NMOS transistor 35, and it remains non-conductive. Therefore, an H level indicating a match is output to the output line DOUT. On the other hand, when the reading of the memory cell 42 is erroneous, the data line BL is at H level. The NMOS) transistor 35 becomes conductive, and an L level indicating a mismatch is output to the output line DOUT.

このようにして、このDRAMは、メモリセル41.4
2に同時に書き込まれた同一人力データが論理レベル“
0”、“1”のいずれの場合であっても、上記メモリセ
ル42の読み出しが正常に行われたとき一致を表わす信
号を出力し、上記メモリセル42の読み出しが誤まりで
あったとき不一致を表わす信号を出力する。そして、上
記ワード線WLによって同時に選択される図示しない他
のメモリセルごとに出力判定回路3のNMOSトランジ
スタ3334および35と、フェーズ36を設けて同時
に動作させることによって、1行分の15 メモリセルを同時にテストすることができる。したがっ
て、動作テストを高速に行うことができる。
In this way, this DRAM has memory cells 41.4
The same human data written at the same time in 2 is at the logical level.
Regardless of whether it is "0" or "1", a signal indicating a match is output when the memory cell 42 is read normally, and a mismatch is output when the memory cell 42 is read incorrectly. By providing the NMOS transistors 3334 and 35 of the output determination circuit 3 and the phase 36 for each of the other memory cells (not shown) that are simultaneously selected by the word line WL and operating them simultaneously, 1. Fifteen memory cells corresponding to a row can be tested simultaneously. Therefore, an operation test can be performed at high speed.

また、上記1行分のメモリセルのうち読み出しが誤りで
あったメモリセルに接続するビット線は、フェーズ36
を切断することによって、上記出力線DOUTから切り
離すことができる。したがって、不良ビット線が存在し
ても、同じワード線WLにつながる1行分のメモリセル
を同時に短時間でテストできる。
In addition, the bit line connected to the memory cell for which reading was erroneous among the memory cells for one row is phase 36.
By cutting , it can be separated from the output line DOUT. Therefore, even if a defective bit line exists, one row of memory cells connected to the same word line WL can be simultaneously tested in a short time.

なお、上記メモリセル4]、42は、相補に動作する各
一対のビット線B、B#、PL、BL#のうちそれぞれ
一方のビット線B、BLのみと接続されているものとし
た。例えば、第3図に示すように、メモリセルMが直列
接続されたMOS)ランジスタとキャパシタとで横絞さ
れ、かつキャパシタの一方の端子にセルプレート電圧が
印加される場合がこれに相当する。しかしながら、この
発明はこれに限られるものではなく、第4図または第5
図に示ずように、ビット線BL、BL#の双方に接続さ
れている場合(米国特許(US)4796 2922伺)にも適用できる。
It is assumed that the memory cells 4] and 42 are connected only to one bit line B, BL, respectively, of each pair of bit lines B, B#, PL, BL# that operate complementary to each other. For example, as shown in FIG. 3, this case corresponds to the case where the memory cell M is laterally squeezed by a MOS transistor and a capacitor connected in series, and a cell plate voltage is applied to one terminal of the capacitor. However, the present invention is not limited to this.
As shown in the figure, it can also be applied to the case where the bit lines BL and BL# are connected to both (see US Pat. No. 4,796,2922).

また、上記実施例では、フェーズ36は、NMOSトラ
ンジスタ35と出力線DOUTの間に接続したが、フェ
ーズ36の接続位置はこれに限られるものではなく、第
6,7図に示すようにしてもよい。この第6.7図に示
すものは、フェーズの接続位置のみが第1図と異なり、
他は第1図と全く同じである。第6図に示すフェーズ3
6は、一端をNMOS)ランジスタ35のゲートに接続
し、他端をビット線BL、BL#に接続している。
Further, in the above embodiment, the phase 36 is connected between the NMOS transistor 35 and the output line DOUT, but the connection position of the phase 36 is not limited to this, and it may be connected as shown in FIGS. 6 and 7. good. The one shown in Fig. 6.7 differs from Fig. 1 only in the connection position of the phases.
The rest is exactly the same as in Figure 1. Phase 3 shown in Figure 6
6 has one end connected to the gate of the NMOS transistor 35, and the other end connected to the bit lines BL and BL#.

また、第7図に示すものは、フェーズ36を2つ用いて
、一方をNMOSトランジスタ35のゲートとNMOS
)ランジスタ33の間に、他方をNMOS)ランノスタ
35のゲートとNMOS)ランジスタ34の間に接続し
ている。要は、一対のビット線BL、BL#を出ツノ線
DOUTから切り離すことができればよいのである。
In addition, the one shown in FIG. 7 uses two phases 36, one of which is connected to the gate of the NMOS transistor 35 and the other is connected to the gate of the NMOS transistor 35.
) transistor 33, and the other is connected between the gate of the NMOS) transistor 35 and the NMOS) transistor 34. The point is that it is sufficient if the pair of bit lines BL and BL# can be separated from the output horn line DOUT.

〈発明の効果〉 以」二上り明らかなように、この発明の半導体記憶装置
は、特定なメモリセルに書き込まれたデー夕を表わす期
待値信号をこのメモリセルにつながるビット線を介して
出力するラインデータ記憶回路と、上記ラインデータ記
憶回路から上記期待値信号を受けて、この期待値信号の
レベルの高低に応じて、上記メモリセル以外の他のメモ
リセルの一対のビット線のうち一方または他方のビット
線を選択するビット線選択回路と、上記特定のメモリセ
ルと並行して上記化のメモリセルに書き込まれ、上記特
定のメモリセルに書き込まれた期待値信号と同一のデー
タを表わすべき信号を、上記期待値信号が高レベルのと
き上記ビット線選択回路によって選択された一方のビッ
ト線を介して検出する一方、上記期待値信号が低レベル
のとき上記ビット線選択回路によって選択された他方の
ビット線を介して検出して、上記信号と上記期待値信号
との一致または不一致を表わす信号を出力線に連なる出
力端子に出力する出力判定回路と、上記化のメモリセル
の一対のビット線と上記出力判定回路の出力端子とを切
り離すことが可能なフェーズとを備えているので、1行
分を並列にテストでき、したがって、動作テストを高速
に行うことができる。
<Effects of the Invention> As is clear from the above, the semiconductor memory device of the present invention outputs an expected value signal representing data written in a specific memory cell via a bit line connected to this memory cell. A line data storage circuit receives the expected value signal from the line data storage circuit, and depending on the level of the expected value signal, selects one of the bit lines of the memory cell other than the above memory cell or A bit line selection circuit that selects the other bit line, and a bit line selection circuit that is written to the above memory cell in parallel with the above specific memory cell, and should represent the same data as the expected value signal written to the above specific memory cell. A signal is detected via one bit line selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a high level, while the signal is detected via one bit line selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a low level. an output determination circuit that detects via the other bit line and outputs a signal representing coincidence or mismatch between the signal and the expected value signal to an output terminal connected to the output line; and a pair of bits in the memory cell described above. Since it is provided with a phase that can separate the line and the output terminal of the output determination circuit, one line can be tested in parallel, and therefore, the operation test can be performed at high speed.

また、読み出しが誤りであったメモリセルに接続するビ
ット線は、フェーズを切断することによって出力線と切
り離すことができ、したがって、不良ビット線が有って
も1行分のメモリセルを同時にテストでき、したかって
、テスト時間を短縮できる。
In addition, the bit line connected to the memory cell that was read incorrectly can be separated from the output line by cutting the phase, so even if there is a defective bit line, one row of memory cells can be tested at the same time. If you can and want to do it, you can shorten the test time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の半導体記憶装置の一実施例のDRA
Mを示す図、第2図は上記DRAMの動作タイミングを
示す図、第3図、第4図、第5図はそれぞれメモリセル
がビット線に接続される状態を示す図、第6図、第7図
はこの発明の半導体記憶装置の変形例のDRAMを示す
図である。 1・・・ラインデータ記憶回路、 2・・・ビット線選択回路、3・・出力判定回路、4・
 メモリセルアレイ、 5・・・センスアンプアレイ、36・・・フコーズ41
42・・・メモリセル、 51.52・・センスアンプ、 B、B#、BL、BL#・・・ビット線。
FIG. 1 shows a DRA of an embodiment of the semiconductor memory device of the present invention.
FIG. 2 is a diagram showing the operation timing of the DRAM, FIG. 3, FIG. 4, and FIG. 5 are diagrams showing states in which memory cells are connected to bit lines, and FIG. 6, FIG. FIG. 7 is a diagram showing a DRAM as a modification of the semiconductor memory device of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Line data storage circuit, 2... Bit line selection circuit, 3... Output determination circuit, 4...
Memory cell array, 5...Sense amplifier array, 36...Fukose 41
42...Memory cell, 51.52...Sense amplifier, B, B#, BL, BL#...Bit line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)相補に動作する各一対のビット線を介して複数の
メモリセルに並行に同一のデータを書き込み読み出し可
能な半導体記憶装置であって、特定なメモリセルに書き
込まれたデータを表わす期待値信号をこのメモリセルに
つながるビット線を介して出力するラインデータ記憶回
路と、上記ラインデータ記憶回路から上記期待値信号を
受けて、この期待値信号のレベルの高低に応じて、上記
メモリセル以外の他のメモリセルの一対のビット線のう
ち一方または他方のビット線を選択するビット線選択回
路と、 上記特定のメモリセルと並行して上記他のメモリセルに
書き込まれ、上記特定のメモリセルに書き込まれた期待
値信号と同一のデータを表わすべき信号を、上記期待値
信号が高レベルのとき上記ビット線選択回路によって選
択された一方のビット線を介して検出する一方、上記期
待値信号が低レベルのとき上記ビット線選択回路によっ
て選択された他方のビット線を介して検出して、上記信
号と上記期待値信号との一致または不一致を表わす信号
を出力線に連なる出力端子に出力する出力判定回路と、 上記他のメモリセルの一対のビット線と上記出力判定回
路の出力端子とを切り離すことが可能なフェーズとを備
えたことを特徴とする半導体記憶装置。
(1) A semiconductor memory device that can write and read the same data in parallel to multiple memory cells via each pair of bit lines that operate in a complementary manner, with an expected value representing the data written to a specific memory cell. A line data storage circuit that outputs a signal via a bit line connected to this memory cell, and a line data storage circuit that receives the expected value signal from the line data storage circuit and selects a memory cell other than the above memory cell depending on the level of the expected value signal. a bit line selection circuit that selects one or the other bit line of a pair of bit lines of the other memory cell; and a bit line selection circuit that writes to the other memory cell in parallel with the specific memory cell, A signal that should represent the same data as the expected value signal written in the expected value signal is detected via one of the bit lines selected by the bit line selection circuit when the expected value signal is at a high level. When the signal is at a low level, it is detected via the other bit line selected by the bit line selection circuit, and a signal indicating whether the signal matches or does not match the expected value signal is output to an output terminal connected to the output line. A semiconductor memory device comprising: an output determination circuit; and a phase capable of separating a pair of bit lines of the other memory cell from an output terminal of the output determination circuit.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63102095A (en) * 1986-10-20 1988-05-06 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Semiconductor storage device
JPH01133297A (en) * 1987-08-21 1989-05-25 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Redundant composition semiconductor memory

Patent Citations (2)

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