JPH04318987A - 光論理素子 - Google Patents

光論理素子

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JPH04318987A
JPH04318987A JP3085311A JP8531191A JPH04318987A JP H04318987 A JPH04318987 A JP H04318987A JP 3085311 A JP3085311 A JP 3085311A JP 8531191 A JP8531191 A JP 8531191A JP H04318987 A JPH04318987 A JP H04318987A
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JP
Japan
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optical
light
semiconductor layer
logic element
horizontal
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Pending
Application number
JP3085311A
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English (en)
Inventor
Nobuyoshi Tato
伸好 田遠
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光通信用の光交換スイ
ッチ等に応用可能な光論理素子に関し、さらに光ニュー
ロシステム、光コンピュータ等の光論理演算に用いる光
論理素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の光交換スイッチとして、(a)L
iNbO3 等の表面に形成した2次元平面導波路を用
いるものと、(b)光信号を一旦電気シグナルに変換し
た後、付随する電気回路部によってこれを処理するもの
とが存在する。
【0003】光論理素子そのものとして、(c)非線形
光学材料の直交する2面の各々にベクトル成分となる並
列光信号を入射させ、これら並列光信号の交点に発生す
る2次高調波を光ANDシグナルのマトリックスとして
取り出すものが存在する。また、光演算等に用いる光ニ
ューロチップとして、(d)帯状発光ダイオードアレイ
と帯状受光ダイオードアレイとの間にシナプス荷重に比
例した透過率のマスクを挟んだもの(Optics L
etters, Vol.14,No.16, Aug
ust 15,1989 )が存在し。光演算等に用い
る光メモリとして、(e)並列に接続されたpnpn構
造を用いたもの(Optics Letters, V
ol.15, No.13, July 1,1990
)が存在する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、(a)
の光交換スイッチでは、LiNbO3 等の導波路の吸
収が無視できないものとなり、伝達特性が良くないとい
った問題があった。また、(b)の光交換スイッチでは
、受光素子、IC、発光素子等を集積するので構造が複
雑化するといった問題があった。
【0005】また、(c)の光論理素子では、非線形光
学材料を用いているため、得られる光ANDシグナルが
微弱であるといった問題や2次元処理しかできないとい
った問題があった。更に、(d)及び(e)の素子では
、それ自体が純粋の光論理素子となっておらず、付随し
て設けなければならない電気回路部への負担が多くなる
といった問題があった。
【0006】そこで、本発明は、簡易な構造で、効率が
高く、3次元的処理を可能にする光論理素子を提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明に係る光論理素子は、(a)半絶縁性の半導体基板
上に形成された第1導電型の第1の半導体層と、第1の
半導体層上に形成されるとともに光を吸収する第2導電
型の第2の半導体層と、第2の半導体層上に設けられた
一対のショットキー型電極と、第1の半導体層に設けら
れたバイアス電極とを有する光導電型の横型受光素子と
、(b)少なくとも2以上の信号光を第2の半導体層に
導く光ガイド手段とを備えることとしている。
【0008】なお、上記の光ガイド手段は、半導体基板
中に設けた光導波路から構成したものであってもよいし
、半導体基板外に設けた光導波路から構成したものであ
ってもよい。さらに、上記の光ガイド手段を、光学部品
から構成してもよいし、ファイバ結合器から構成しても
よい。
【0009】
【作用】本発明に係る光論理素子は上記のような光導電
型の横型受光素子を備える。この横型受光素子は、これ
に入射する信号光の強度が所定値を超えた場合、空間電
界効果に起因し、信号光強度の増大にともなってその感
度(即ち応答(responsivity))が減少す
る。したがって、例えば光ガイド手段をへて横型受光素
子に入射する2以上の信号光につきこれらの各強度の最
大値が所定値を超えないように予め設定しておき、これ
らの各強度の最大値の和が所定値を超えるように予め設
定しておけば、横型受光素子に入射する信号光に対し排
他的論理和(EXOR)の演算機能を有する光論理素子
を提供することができる。
【0010】さらに、この横型受光素子においては、半
絶縁性の半導体基板と光吸収のための第2の半導体層と
の間に形成された第1の半導体層にバイアス電極が設け
られている。このバイアス電極に正又は負のいずれかの
電圧を印加することで、第2の半導体層内で光生成され
たキャリアのうち易動度の小さいキャリアをその内部に
閉じ込めることができ、これによって受光素子の感度が
増加する。逆に、このバイアス電極に逆の電圧を印加す
ることで、上記易動度の小さいキャリアをバイアス電極
外に取り出すことができ、受光素子の感度が減少する。 このような横型受光素子の特徴を利用するならば、空間
電界効果の発生する信号光強度を調節することができ、
横型受光素子に入射する信号光に対するEXOR等の演
算機能を必要に応じて解除等することもできる。
【0011】
【実施例】以下、図面を参照しつつ光論理素子の概念的
構成について説明する。
【0012】図1は、光論理素子の構成例を示したもの
である。横型受光素子12の入力電極12aには横型受
光素子12を駆動するための電圧が印加され、出力電極
12bには負荷抵抗14が接続される。横型受光素子1
2の出力電極12bから取出された電流は、負荷抵抗1
4によって電圧の検出信号に変換され、キャパシタ16
をへて光論理素子外に取り出される。横型受光素子12
のバイアス電極12cには、適当な電源からのバイアス
電圧が供給される。このバイアス電圧の調節によって、
横型受光素子12の感度を調節することができる。横型
受光素子12の光吸収層には、ファイバ等からなる光ガ
イド18からの第1及び第2の信号光が供給される。第
1及び第2の信号光は、それぞれ第1及ぶ第2の入力ポ
ート18a、18bに入射し、カプラ部分18cで結合
された後に出力ポート18dから出射する。
【0013】図1の光論理素子の動作の説明の前にこの
光論理素子に用いる横型受光素子について簡単に説明す
る。図2は横型受光素子の概略構成図である。図示のよ
うに、半絶縁性InP等からなる基板12d上にp型I
nP等からなる第1層12eを結晶成長し、さらにその
上に光吸収層としてn型InGaAs等からなる第2層
12fを格子整合させて結晶成長し、さらにAlInA
s等からなるバッファ層12gを格子整合させて結晶成
長する。この後、このバッファ層12g上に、入力電極
12aおよび出力電極12bとなるTi/Pt/Au等
のショットキー電極を形成する。また、第1層12eの
一端に、バイアス電極12cとなるp型オーミック電極
を形成する。
【0014】図3は、図2の横型受光素子の感度特性を
示した図である。横軸は横型受光素子12に入射する光
の強度で、縦軸は横型受光素子の示す感度である。各測
定点は電極12a、12bに印加される各種駆動電圧を
パラメータとする。プラス印(+)は駆動電圧が12V
の場合を示し、丸印(○)は駆動電圧が5Vの場合を示
し、三角印(△)は駆動電圧が4Vの場合を示し、四角
印(□)は駆動電圧が3Vの場合を示し、ペケ印(×)
は駆動電圧が2Vの場合を示す。図示のように、駆動電
圧が4V以下の場合、感度が入射光の強度に合わせて低
下することが分かる。これは、空間電荷効果と呼ばれて
いるものである。つまり、受光素子に入射する光の強度
が強いと感度が低下し、シグナルレベルが弱くなる。こ
の現象を利用することで、横型受光素子を用いた光論理
素子を構成することができる。
【0015】図4は、図1の光論理素子の動作を説明し
たものである。図4(a)は、横型受光素子のバイアス
電極12cをオープンにした状態で、かつ、空間電荷効
果が発生し得る駆動電圧の状態で、適当な強度の光パル
ス(点線)が第1の入力ポート18aに入射した場合の
光論理素子の動作を示したものである。この場合、光パ
ルスにより横型受光素子の第2層内に光生成されたキャ
リアによって、両電極12a、12b間の抵抗値が減少
し、十分大きなパルス応答出力(実線)を得ることがで
きる。図4(b)は、横型受光素子を図4(a)と同様
の状態に保ったままで適当な強度の光パルスとDC光(
参照光)とを第1及び第2の入力ポート18a、18b
に入射させた場合を示したものである。この場合、光パ
ルス及びDC光の強度の和が所定値を超えて空間電荷効
果が生ずるため、実質的な光パルス応答出力が得られな
い。図4(c)は、図4(b)の状態の横型受光素子の
バイアス電極12cを接地し、図4(b)と同様の光パ
ルス及びDC光を入力ポート18a、18bに入射させ
た場合を示したものである。この場合、DC光によって
受光層12f内に光生成されたキャリアのうち、ホール
がバイアス電極12cに部分的に集められる。このため
、光パルスに応じて僅かながらパルス応答出力が得られ
る。図4(d)は、図4(b)の状態の横型受光素子の
バイアス電極12cに負のバイアス電圧を印加し、図4
(b)と同様の光パルス及びDC光を入力ポート18a
、18bに入射させた場合を示したものである。この場
合、受光層12f内に光生成されたホールのほとんどが
バイアス電極12cに集められる。このため、光パルス
に応じて十分大きなパルス応答出力が得られる。
【0016】図4のような動作を利用するならば、DC
光(参照光)によって信号光の光パルスをスイッチする
ことができる。また、2つの信号光が入力ポート18a
、18bに光パルスとして同時に入射した場合にパルス
応答出力が得られなくなるので、EXORに対応する光
論理素子を得ることができる。
【0017】さらに、横型受光素子の駆動電圧をある程
度以上(例えば、4V以上)に高くすると横型受光素子
の感度が入射光の強度に合わせて変化しなくなる。この
ような状態で2つの光パルスが相前後して入力ポート1
8a、18bに入射した場合、光パルスのいずれが入射
してもパルス応答出力が得られるので、論理和(OR)
に対応する光論理素子を得ることができる。
【0018】さらに、横型受光素子のバイアス電極12
cに印加すべき電圧を正負様々に調節することで、光論
理素子の動作状態を様々に調節することもできる。例え
ば、参照光による信号光のスイッチング機能を解除する
ことができる。
【0019】図5は本発明に係る光論理素子の具体的な
第1実施例を示したものである。半導体基板20上には
、各種化合物半導体層からなる横型受光素子12が形成
され、入力電極12a、出力電極12b、バイアス電極
12cが取り出される。横型受光素子12の図面左側に
は、適当な化合物半導体を成長して形成した導波路22
が形成される。導波路22の第1の入力ポート22aに
信号光の光パルスを入射させ、第2の入力ポート22b
に参照光の光パルスを入射させるならば、図1の光論理
素子の動作原理で説明したのと同様の原理によって、光
交換スイッチを実現できる。この様な光交換スイッチを
集積すれば、3次元的な処理を可能にする光交換スイッ
チを得ることもできる。この場合、例えば導波路22の
かわりに2本の光ファイバを結合したファイバ導波路2
4を用いてもよい。さらに、第1の入力ポート22aを
そのまま利用し、第2の入力ポート22bのかわりにフ
ァイバ導波路24を用いてもよい。
【0020】図6は本発明に係る光論理素子の第2実施
例を示したものである。半導体基板30上には、図5と
同様の横型受光素子12が形成されるとともに、第1及
び第2の発光素子(例えば、LD、LED等)32a、
32bが形成される。横型受光素子12及び発光素子3
2a、32bの上方には樹脂、ガラス等からなる透明な
層または板34が設けられ、その上面には金属等を蒸着
したミラー36が形成される。このミラー36は、発光
素子32a、32bからの信号光等を横型受光素子12
に導く。このような光論理素子において、第1の発光素
子32aから信号光の光パルスを発生させ、第2の発光
素子32bから参照光の光パルスを発生させるならば、
図1の光論理素子の動作原理で説明したのと同様の原理
によって、光ロジックを実現できる。この様な光ロジッ
クをアレイ化してもよい。さらに、これを3次元的に集
積化すれば、3次元的な処理を可能にする光ロジック回
路を得ることもできる。
【0021】
【発明の効果】以上のように本発明の光論理素子にあっ
ては、光ガイド手段をへて横型受光素子に入射する2以
上の信号光を適当に設定しておけば、横型受光素子に入
射する信号光に対し各種機能を有する光論理素子を提供
することができる。このため、簡易な構造で、効率が高
く、3次元的処理を可能にする光論理素子を得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光論理素子を構成を示した図である。
【図2】図1の横型受光素子の構成を示した図である。
【図3】図1の横型受光素子の感度特性を説明した図で
ある。
【図4】図1の光論理素子の動作を説明したものである
【図5】光論理素子の第1実施例の構成を示した斜視図
である。
【図6】光論理素子の第2実施例の構成を示した斜視図
である。
【符号の説明】
12…横型受光素子 18…光ガイド手段 12a、12b…一対のショットキー電極12c…バイ
アス電極 12d…半導体基板 12e…第1の半導体層 12f…第2の半導体層

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半絶縁性の半導体基板上に形成された
    第1導電型の第1の半導体層と、該第1の半導体層上に
    形成されるとともに光を吸収する第2導電型の第2の半
    導体層と、該第2の半導体層上に設けられた一対のショ
    ットキー型電極と、該第1の半導体層に設けられたバイ
    アス電極とを有する光導電型の横型受光素子と、少なく
    とも2以上の信号光を前記第2の半導体層に導く光ガイ
    ド手段と、を備える光論理素子。
  2. 【請求項2】  前記半絶縁性の半導体基板には、前記
    光ガイド手段を構成する光導波路が設けられていること
    を特徴とする請求項1記載の光論理素子。
JP3085311A 1991-02-28 1991-04-17 光論理素子 Pending JPH04318987A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3085311A JPH04318987A (ja) 1991-04-17 1991-04-17 光論理素子
US07/840,899 US5296698A (en) 1991-02-28 1992-02-26 Lateral photo-sensing device, opt-electronic integrated circuit using the lateral photo-sensing device and photo-logic device using the lateral photo-sensing device
EP92103475A EP0503401A1 (en) 1991-02-28 1992-02-28 Lateral photo-sensing device, opto-electronic integrated circuit using the lateral photo-sensing device and photo-logic device using the lateral photo-sensing device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3085311A JPH04318987A (ja) 1991-04-17 1991-04-17 光論理素子

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JPH04318987A true JPH04318987A (ja) 1992-11-10

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JP3085311A Pending JPH04318987A (ja) 1991-02-28 1991-04-17 光論理素子

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JP (1) JPH04318987A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5911450A (en) * 1996-01-30 1999-06-15 Sumitomo Wiring Systems, Ltd. Method and apparatus for preventing distortion of a wire harness by marking the harness with a contrasting straight line

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5911450A (en) * 1996-01-30 1999-06-15 Sumitomo Wiring Systems, Ltd. Method and apparatus for preventing distortion of a wire harness by marking the harness with a contrasting straight line

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