JPH04316054A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH04316054A
JPH04316054A JP10823891A JP10823891A JPH04316054A JP H04316054 A JPH04316054 A JP H04316054A JP 10823891 A JP10823891 A JP 10823891A JP 10823891 A JP10823891 A JP 10823891A JP H04316054 A JPH04316054 A JP H04316054A
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栄一 加藤
Kazuo Ishii
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Abstract

PURPOSE:To provide the electrophotographic sensitive body improved in electrostatic characteristics and photographing performance, especially high and precise in image reproduction performance in the case of using a liquid developer, and superior in photographic characteristics in the case of scanning exposure system using low output laser beams. CONSTITUTION:The binder resin to be used for this electrophotographic sensitive body comprises at least one of a resin A having a weight average molecular weight of 1X10<3>-2X10<4> and comprising >=30wt.% repeating units each represented by formula I and 0.5-15wt.% repeating units each having a polar group; and at least one of a resin B of an AB block copolymer having a weight average molecular weight of 2X10<4>-1X10<6> and comprising block A composed of the resin A and the block B containing repeating units each represented by formula I. In formula I, each of a<1> and a<2> is H, halogen, cyano, or a hydrocarbon group, and R<3> is a hydrocarbon group.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor.
Specifically, the present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties and moisture resistance.

【0002】0002

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。支持体と少なくとも1つの光導電層から構成され
る感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即
ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写によ
る画像形成に用いられる。
2. Description of the Related Art Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied. As representative electrophotographic photoreceptors, there are photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used. Photoreceptors, consisting of a support and at least one photoconductive layer, are used for imaging by most common electrophotographic processes, ie, charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.

【0003】更には、ダイレクト製版用のオフセット原
版として電子写真感光体を用いる方法が広く実用されて
いる。特に近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から
数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式
として重要となってきている。こうした状況の中で、電
子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結着
樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹
脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。更に、電子写真感光体を用いた平版印刷
用原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体と
しての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させ
た光導電層用の結着樹脂が必要である。
Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset original plate for direct plate making is widely used. Particularly in recent years, direct electrophotographic lithography has become important as a method for printing high-quality printed matter on the order of several hundred to several thousand sheets. Under these circumstances, the binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties and the ability to disperse photoconductive powder into the binder resin. The formed recording layer has good adhesion to the base material, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and is easy to photograph. It is necessary to have various electrostatic properties and excellent imaging performance, such as the need to maintain these properties stably depending on changes in humidity. Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a binder resin for the photoconductive layer that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing properties of a printing original plate has been developed. is necessary.

【0004】無機光導電材料、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層において、結着樹脂の
化学構造によって、平滑性のみならず静電特性が大きく
影響を受けることが判ってきた。特に静電特性において
、暗中電荷保持率(D.R.R.)や光感度が大きく左
右される。
It has been found that in a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, not only smoothness but also electrostatic properties are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Ta. In particular, in terms of electrostatic properties, the dark charge retention rate (D.R.R.) and photosensitivity are greatly affected.

【0005】これに対し、特開昭63−217354号
、同64−70761号に記載の技術によれば、酸性基
含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在する低分子
量の樹脂あるいは重合体主鎖の片末端に酸性基を結合し
て成る低分子量の樹脂を結着樹脂として用いる事で平滑
性及び静電特性を良化できる様になった。これらは、該
低分子量の樹脂が、光導電体の分散を充分に行ない光導
電体同志の凝集を抑制する効果を有すること及び光導電
体と分光増感色素との吸着を疎外しないで該無機光導電
体の化学量論的な欠陥に充分に吸着するとともに光導電
体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していることによ
ると推定される。その作用機構により、無機光導電体の
化学量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域
をもつ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色
素及び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。
On the other hand, according to the techniques described in JP-A-63-217354 and JP-A-64-70761, low molecular weight resins or polymers in which acidic group-containing polymerization components are randomly present in the polymer main chain. It has become possible to improve smoothness and electrostatic properties by using a low molecular weight resin with an acidic group bonded to one end of the main chain as a binder resin. These low molecular weight resins have the effect of sufficiently dispersing the photoconductor and suppressing aggregation of the photoconductors, and the inorganic resin does not interfere with the adsorption of the photoconductor and the spectral sensitizing dye. This is presumed to be due to sufficient adsorption to the stoichiometric defects of the photoconductor and a loose and sufficient coating of the surface of the photoconductor. Due to its mechanism of action, even if the stoichiometric defect area of the inorganic photoconductor varies slightly, it has a sufficient adsorption area, so the interaction between the inorganic photoconductor, spectral sensitizing dye, and resin is relatively stable. It is inferred that the effect is preserved.

【0006】そして、これらの低分子量の樹脂のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために
、中−高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬化
性基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術等
が特開昭64−564号、同63−220149号、同
63−220148号、特開平1−280761号、同
1−116643号、同1−169455号、同1−2
11766号、同2−34859号、同2−53064
号、同2−56558号、特願平1−163796号、
同1−212994号、同1−229379号、同1−
189245号等に記載されている。
[0006] In order to provide sufficient mechanical strength to the photoconductive layer, which is insufficient with these low molecular weight resins alone, techniques for using other medium to high molecular weight resins in combination or resins containing curable groups have been developed. Techniques for curing after film formation by using in combination are disclosed in JP-A-64-564, JP-A-63-220149, JP-A-63-220148, JP-A-1-280761, JP-A-1-116643, and JP-A-1-169455. , 1-2
No. 11766, No. 2-34859, No. 2-53064
No. 2-56558, Japanese Patent Application No. 1-163796,
No. 1-212994, No. 1-229379, No. 1-
It is described in No. 189245, etc.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の樹脂又は樹脂の組合せを用いても、環境が高温・高湿
から低温・低湿まで著しく変動した場合における安定し
た性能の維持においてはいまだ不充分であることが判っ
た。半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
では、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露
光時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。
[Problem to be Solved by the Invention] However, even if these resins or combinations of resins are used, it is still insufficient to maintain stable performance when the environment changes significantly from high temperature and high humidity to low temperature and low humidity. I found out something. The scanning exposure method using semiconductor laser light requires longer exposure time than the conventional simultaneous exposure method using visible light across the entire surface, and there are restrictions on the exposure intensity, so electrostatic properties, especially dark charge retention properties , for light sensitivity,
Higher performance is required.

【0008】特に、電子写真式平版印刷用原版において
、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式を
採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみると、
上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特にE
1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が
軟調となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが
困難となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、
又、オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印
刷原稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
In particular, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an original plate for electrophotographic planographic printing, actual tests using a conventional photoreceptor show that
The above electrostatic properties are not fully satisfactory, especially E
The difference between 1/2 and E1/10 is large, and the gradation of the copied image becomes soft, and furthermore, it becomes difficult to reduce the residual potential after exposure, resulting in noticeable fogging of the copied image.
Further, even when printing as an offset master, problems such as pasting marks of the printed original appear on the printed matter.

【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術においては
、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によっ
て、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低
下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の樹
脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体は
、前述の様な高精細な画像(特に連続階調画像)の忠実
な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を用
いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、問
題を生じ得ることが明らかになった。
Furthermore, in recent years, there has been a desire to realize a technology that faithfully reproduces not only copies of images consisting of line drawings and halftone dots, but also high-definition images consisting of continuous gradation using liquid developers. However, the above-mentioned known techniques could not fully satisfy these demands. In conventionally known techniques, medium to high molecular weight resins that are used in combination with low molecular weight resins may deteriorate the electrostatic properties that have been improved by the low molecular weight resins, and in fact, these An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer using a combination of well-known resins is capable of faithfully copying high-definition images (particularly continuous-tone images) as described above, or is capable of producing low-power laser beams. It has become clear that the scanning exposure method used can cause problems in imaging performance.

【0010】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。本発明の他の目的は、静電特性
に優れ且つ環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を
提供することである。本発明の他の目的は、半導体レー
ザー光を用いたスキャンニング露光方式に有効な電子写
真感光体を提供することである。本発明の更なる目的は
、電子写真式平版印刷原版として、静電特性(特に暗電
荷保持性及び光感度)に優れ、原画(特に高精細な連続
階調画像)に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印
刷物の全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発
生させず、また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供する
ことである。
The present invention is intended to improve the problems of conventionally known electrophotographic photoreceptors as described above. An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that always maintains stable and good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. The goal is to provide the following. Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor with excellent electrostatic properties and low environmental dependence. Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light. A further object of the present invention is to use an electrophotographic lithographic printing original plate that has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity) and that produces reproduced images that are faithful to original images (particularly high-definition continuous tone images). To provide a lithographic printing original plate which reproduces the above, does not cause not only uniform background smearing on the entire surface of printed matter but also dotted smearing, and has excellent printing durability.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電体
、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導
電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂が、
下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹
脂〔B〕の少なくとも1種を含有して成る事を特徴とす
る電子写真感光体により達成されることが見出された。
[Means for Solving the Problems] The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, the binder resin comprising:
It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing at least one resin [A] shown below and at least one resin [B] shown below.

【0012】樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上と、−PO3 H2 、−SO3
 H、−COOH、−P(=O)(OH)R1 〔R1
 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を
表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択される少な
くとも1種の極性基を有する重合体成分を0.5〜15
重量%とを含有する樹脂。
Resin [A] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as polymer components, -PO3 H2, -SO3
H, -COOH, -P(=O)(OH)R1 [R1
represents a hydrocarbon group or -OR2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group.
Resin containing % by weight.

【0013】[0013]

【化4】[C4]

【0014】〔式(I)中、a1 、a2 は各々水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。 R3 は炭化水素基を表す。〕
[In formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R3 represents a hydrocarbon group. ]

【0015】樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の平均分子量を有し、上記
樹脂〔A〕で示される特定の極性基のうちから選択され
る少なくとも1種の極性基を含有する少なくとも1つの
重合体成分を含有することから成るAブロックと上記樹
脂〔A〕における一般式(I)で示される重合体成分を
少なくとも含有するBブロックとから構成されるABブ
ロック共重合体。
Resin [B] At least one resin having an average molecular weight of 2 x 104 to 1 x 106 and containing at least one polar group selected from the specific polar groups shown in the resin [A] above. An AB block copolymer comprising an A block containing at least one polymer component and a B block containing at least a polymer component represented by the general formula (I) in the resin [A].

【0016】即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式(
I)で示される重合体成分と上記特定の極性基含有の重
合体成分とを含有する低分子量ランダム共重合体(樹脂
〔A〕)と、上記特定の極性基含有成分を含有するAブ
ロックと上記式(I)で示される重合体成分を含有する
BブロックとのABブロック共重合体(樹脂〔B〕)と
から少なくとも構成される。
That is, the binder resin of the present invention has the above general formula (
A low molecular weight random copolymer (resin [A]) containing the polymer component represented by I) and the specific polar group-containing polymer component, and an A block containing the specific polar group-containing component. It is composed of at least an AB block copolymer (resin [B]) with a B block containing a polymer component represented by the above formula (I).

【0017】種々検討の結果、前述の如く、低分子量の
極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公知の
技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂により、
上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下し
てしまうことのあることが判った。そして、これらの中
〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、分光増
感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に適切に
相互作用させることも、予想以上に重要な原因であるこ
とが明らかになってきた。
As a result of various studies, as mentioned above, in the known technology in which a low molecular weight polar group-containing resin is used in combination with a medium to high molecular weight resin, the medium to high molecular weight resin used in combination,
It has been found that the electrostatic properties improved by the low molecular weight resin described above may deteriorate. It is also more important than expected that these medium to high molecular weight resins can interact more appropriately with the photoconductor, spectral sensitizing dye, and low molecular weight resins in the photoconductive layer. It has become clear that this is the cause.

【0018】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基含有のブロックAと極性
基非含有のブロックBとを有するABブロック共重合体
を用いることにより、前記課題が有効に解決されること
が見出されたものである。この事は、本発明の結着樹脂
〔A〕及び〔B〕の相乗効果により、光導電体粒子が充
分に分散され且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増
感色素が光導電体粒子表面に充分に吸着されていること
及び光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分
に吸着してトラップを補償していること等によるものと
推定される。
As a result of repeated studies, the polar group-containing block A according to the present invention and the polar group-free block were selected as medium to high molecular weight resins to be used in combination with the low molecular weight resin [A] containing polar groups. It has been found that the above problem can be effectively solved by using an AB block copolymer having B. This means that due to the synergistic effect of the binder resins [A] and [B] of the present invention, the photoconductor particles are sufficiently dispersed and exist in a non-condensed state, and the spectral sensitizing dye is present on the surface of the photoconductor particles. This is presumed to be due to the fact that the active sites on the surface of the photoconductor are sufficiently adsorbed by the binder resin and the excess active sites on the surface of the photoconductor are sufficiently adsorbed to compensate for the trapping.

【0019】即ち、特定の極性基を含有した低分子量体
の樹脂〔A〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を
均一に分散し、その高分子鎖が非常に短いことにより凝
集を抑制すること、又、分光増感色素の吸着疎外を起こ
さないこと等の重要な作用を有する。又、特定の極性基
を含有するブロックAとそれを含まないブロックBとで
構成された中〜高分子量のABブロック共重合体を用い
ることで光導電層の機械的強度が充分に保持された。こ
れは、この樹脂のブロックAの部分が光導電体粒子と樹
脂〔A〕よりも弱い相互作用であること及びブロックB
の部分同志の高分子鎖間の絡み合い効果等によるものと
考えられる。
That is, the low-molecular-weight resin [A] containing a specific polar group sufficiently adsorbs to the photoconductor particles and disperses the particles uniformly, and because its polymer chains are very short, they do not aggregate. It has important effects such as suppressing the spectral sensitizing dye and preventing absorption and alienation of the spectral sensitizing dye. In addition, the mechanical strength of the photoconductive layer was sufficiently maintained by using a medium to high molecular weight AB block copolymer composed of block A containing a specific polar group and block B not containing it. . This is because the block A part of this resin has a weaker interaction with the photoconductor particles than the resin [A] and the block B part of this resin.
This is thought to be due to the entanglement effect between the polymer chains of the moieties.

【0020】更には、公知の併用された中〜高分子量の
樹脂に比べて静電特性がより良化する効果を有すること
は光導電体粒子と相互作用をもつブロックA部分が極性
を有することから分光増感色素の吸着疎外を抑制する働
きをしているものと考えられる。この作用は、近赤外〜
赤外光の分光増感用色素として特に有効なポリメチン色
素あるいはフタロシアニン系顔料で特に顕著な効果を示
した。一方、光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた
本発明の電子写真感光体を従来公知のダイレクト刷版と
して用いた場合には優れた撮像性とともに著しく良好な
保水性を示す。
Furthermore, the fact that the electrostatic properties are more improved than the known medium to high molecular weight resins used in combination is that the block A portion that interacts with the photoconductor particles has polarity. It is thought that it functions to suppress the adsorption and alienation of spectral sensitizing dyes. This effect is caused by near-infrared light
Particularly remarkable effects were shown with polymethine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of infrared light. On the other hand, when the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as a conventionally known direct printing plate, it exhibits excellent imaging properties and extremely good water retention.

【0021】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。更には本発明において、低分子
量の樹脂〔A〕として、下記一般式(Ia)及び一般式
(Ib)で示される、2位に、及び/又は2位と6位に
特定の置換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレ
ン環を含有する、特定の置換基をもつメタクリレート成
分と酸性基成分とを含有する樹脂〔A〕(以降この低分
子量体をとくに樹脂〔AA〕と称する)であることが好
ましい。
That is, the photoreceptor of the present invention, on which a copy image has been formed through an electrophotographic process, is desensitized in the non-image area by chemical treatment using a conventionally known desensitizing treatment liquid, and this is used as a printing original plate. It shows excellent performance as a printing original plate when printed by offset printing. When the photoreceptor of the present invention was desensitized, the non-image area was sufficiently made hydrophilic and the water retention property was improved, resulting in a dramatic increase in the number of prints. This is because the above-mentioned zinc oxide particles are uniformly dispersed and the binder resin present on the surface of the zinc oxide particles is in an appropriate state, so that the desensitization reaction with the desensitization treatment solution does not occur and is rapid. This is thought to be due to the effective progression of the disease. Furthermore, in the present invention, the low molecular weight resin [A] has a specific substituent at the 2-position and/or at the 2-position and the 6-position, as shown by the following general formula (Ia) and general formula (Ib). The resin [A] contains a methacrylate component with a specific substituent containing a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring, and an acidic group component (hereinafter, this low molecular weight product is particularly referred to as resin [AA]). is preferred.

【0022】[0022]

【化5】[C5]

【0023】[0023]

【化6】[C6]

【0024】〔式(Ia)及び(Ib)中、A1 及び
A2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜
10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−COR4 
又は−COOR4 (R4 は炭素数1〜10の炭化水
素基を示す)を表す。B1 及びB2 はそれぞれ−C
OO−とベンゼン環を結合する、単結合又は連結原子数
1〜4個の連結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔AA〕
を用いると樹脂〔A〕の場合よりもより一層電子写真特
性(特にV10、D.R.R、E1/10)の向上が達
成できる。この事の理由は不明であるが、1つの理由と
して、メタクリレートのエステル成分である、オルト位
に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン環
の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマー
分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考え
られる。
[In formulas (Ia) and (Ib), A1 and A2 each independently represent a hydrogen atom, a carbon number of 1 to
10 hydrocarbon groups, chlorine atom, bromine atom, -COR4
or -COOR4 (R4 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). B1 and B2 are each -C
Represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects OO- and a benzene ring. ]The above specific resin [AA]
By using this resin, electrophotographic properties (particularly V10, D.R.R., and E1/10) can be further improved than in the case of resin [A]. The reason for this is unknown, but one reason is that the planar benzene ring or naphthalene ring with a substituent at the ortho position, which is the ester component of methacrylate, causes these to form at the zinc oxide interface in the film. This is thought to be due to proper arrangement of polymer molecular chains.

【0025】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明する
。樹脂〔A〕の重量平均分子量は1×103 〜2×1
04 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは
−30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜90℃
である。
The binder resin of the present invention will be explained in detail below. First, the resin [A] of the present invention will be explained. The weight average molecular weight of resin [A] is 1 x 103 to 2 x 1
04, and the glass transition point of the resin [A] is preferably -30°C to 110°C, more preferably -20°C to 90°C.
It is.

【0026】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小
さくなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず
、一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の
樹脂であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用い
た感光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条
件下での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくな
り、安定した複写画像が得られるいとう本発明の効果が
薄れてしまう。樹脂〔A〕における一般式(I)の繰り
返し単位に相当する重合体成分の存在割合は30重量%
以上、好ましくは50〜97重量%、極性基を含有する
共重合体成分の割合は0.5〜15重量%、好ましくは
1〜10重量%である。樹脂〔A〕における極性基含有
量が0.5重量%より少ないと、初期電位が低くて充分
な画像濃度を得ることができない。一方、該極性基含有
量が15重量%よりも多いと、いかに低分子量体といえ
ども分散性が低下し、更にオフセットマスターとして用
いるときに地汚れが増大する。
If the molecular weight of the resin [A] is less than 1×10 3 , the film-forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained, whereas if the molecular weight is greater than 2×10 4 , even if the resin of the present invention is used, In particular, for photoreceptors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes, fluctuations in dark decay retention and light sensitivity become somewhat large under harsh conditions of high temperature, high humidity, low temperature and low humidity, resulting in stable copying. When an image is obtained, the effect of the present invention is diminished. The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight
As mentioned above, the proportion of the copolymer component containing polar groups is preferably 50 to 97% by weight, and 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight. If the polar group content in the resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the polar group content is more than 15% by weight, the dispersibility decreases no matter how low the molecular weight is, and furthermore, background smudge increases when used as an offset master.

【0027】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I)で示される繰り返し単位を更に
説明すると、R3 は炭化水素基を表し、具体的にはア
ルキル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましく
はベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基で
あるアラルキル基又は芳香族基である。更に、R3 は
好ましくは炭素数1〜18の置換されていてもよい炭化
水素基を表わす。置換基としては樹脂〔A〕における上
記該極性基含有の重合体成分に含有される前記極性基以
外の置換基であればいずれでもよく、例えば、ハロゲン
原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、−
OR5 、−COOR5 、−OCOR5 (R5 は
炭素数1〜22のアルキル基を表わし、例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基等である)等の置換基が挙げられる。好まし
い炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−
シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素
数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、
2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−
ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4
−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置
換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6
〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等)等があげられる。R3 の示す炭化水
素基において、R3 が脂肪族基の場合には好ましくは
炭素数1〜5の炭化水素基を式(I)で表わされる成分
中の60重量%以上含有することが好ましい。このよう
な置換基R3 を有する成分である一般式(I)の繰り
返し単位において、より好ましくは前記一般式(Ia)
及び/又は一般式(Ib)で示される繰り返し単位の重
合体成分が挙げられる。
Next, to further explain the repeating unit represented by the general formula (I) which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, R3 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, It represents an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. Further, R3 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. The substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component of the resin [A], such as a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom). etc.), -
OR5, -COOR5, -OCOR5 (R5 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group) and the like. Preferred hydrocarbon groups include optionally substituted alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
Cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2
-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example,
2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-
Pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4
-methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group), group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group, 2 -cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or carbon number 6
~12 optionally substituted aromatic groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group,
Chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc. ) etc. In the hydrocarbon group represented by R3, when R3 is an aliphatic group, it is preferable that the component represented by formula (I) preferably contains 60% by weight or more of a hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. In the repeating unit of the general formula (I) which is a component having such a substituent R3, more preferably the repeating unit of the general formula (Ia)
and/or a polymer component having repeating units represented by general formula (Ib).

【0028】式(Ia)において、好ましいA1 及び
A2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及
び臭素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として
、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9の
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベン
ジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール
基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモ
フェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基)、並びに−COOR4 及び−C
OOR4 (好ましいR4 としては上記の炭素数1〜
10の好ましい炭化水素基として記載したものを挙げる
ことができる)を挙げることができる。式(Ia)及び
(Ib)において、B1 及びB2 は各々−COO−
とベンゼン環を結合する単結合又は−(CH2 )a 
− (aは1〜3の整数を表す)、−CH2 OCO−
、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2 )b −
 (bは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH2 
O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、より
好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を挙
げることができる。
In formula (Ia), preferable A1 and A2 are, independently of each other, a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, as well as a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-
phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloromethylbenzyl group) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group) , chlorophenyl group,
dichlorophenyl group), and -COOR4 and -C
OOR4 (Preferably R4 has the above carbon number 1 to
Examples of preferred hydrocarbon groups include those listed above. In formulas (Ia) and (Ib), B1 and B2 are each -COO-
and a single bond connecting the benzene ring or -(CH2)a
- (a represents an integer from 1 to 3), -CH2OCO-
, -CH2 CH2 OCO-, -(CH2)b -
(b represents an integer of 1 or 2), -CH2 CH2
A linking group having 1 to 4 linking atoms such as O-, more preferably a single bond or a linking group having 1 to 2 linking atoms.

【0029】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(Ia
)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以下
に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定されるも
のではない。また、以下の(a−1)〜(a−20)に
おいて、cは1〜4の整数、dは0又は1〜3の整数、
eは1〜3の整数、R6 はいずれも−CcH2c+1
又は−(CH2 )d −C6 H5 (ただし、c、
dは上記と同じ)を表し、D1 及びD2 は同じでも
異なってもよく、水素原子、−Cl、−Br、−Iのい
ずれかを表す。
Formula (Ia) used in the resin [A] of the present invention
) or (Ib) are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto. In addition, in the following (a-1) to (a-20), c is an integer of 1 to 4, d is 0 or an integer of 1 to 3,
e is an integer from 1 to 3, R6 is -CcH2c+1
or -(CH2)d-C6H5 (however, c,
d is the same as above), and D1 and D2 may be the same or different and represent a hydrogen atom, -Cl, -Br, or -I.

【0030】[0030]

【化7】[C7]

【0031】[0031]

【化8】[Chemical formula 8]

【0032】[0032]

【化9】[Chemical formula 9]

【0033】[0033]

【化10】[Chemical formula 10]

【0034】[0034]

【化11】[Chemical formula 11]

【0035】次に低分子量の樹脂〔A〕の極性基含有成
分について説明する。該極性基は、−PO3 H2 、
−SO3 H、−COOH、−P(=O)(OH)R1
 −、環状酸無水物含有基から少なくとも1種選ばれる
ものであることが好ましい。ここで、−P(=O)(O
H)R1 は、下記化12で表わされる基を示し、ここ
において該R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2
 は炭化水素基を表す)を表し、具体的にはR1 は炭
素数1〜6の置換されていてもよい炭化水素基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロ
ロエチル基、2−ブロムエチル基、2−フロロエチル基
、3−クロロプロピル基、3−メトキシプロピル基、2
−メトキシブチル基、ベンジル基、フェニル基、プロペ
ニル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−エ
トキシエチル基)等であり、R2 はR1 と同一の内
容を表す。
Next, the polar group-containing component of the low molecular weight resin [A] will be explained. The polar group is -PO3 H2,
-SO3H, -COOH, -P(=O)(OH)R1
-, a cyclic acid anhydride-containing group is preferred. Here, −P(=O)(O
H) R1 represents a group represented by the following formula 12, where R1 is a hydrocarbon group or -OR2 group (R2
represents a hydrocarbon group), specifically, R1 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2
-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group), and R2 represents the same content as R1.

【0036】[0036]

【化12】[Chemical formula 12]

【0037】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.2
〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの
環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メ
チル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基等が置換されていてもよい。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride, aromatic dicarboxylic anhydride, Things can be mentioned. Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, and cyclopentane-
1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,
2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo [2.2.2
] Octadicarboxylic acid anhydride rings, etc., and these rings may be substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atoms or bromine atoms, or alkyl groups such as methyl groups, ethyl groups, butyl groups, hexyl groups, etc. good.

【0038】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒ
ドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)等が置換されていてもよい。樹脂〔A〕の
極性基を含有する共重合成分は、例えば一般式(I)〔
一般式(Ia)、(Ib)も含む〕で示される繰り返し
単位に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含有す
るビニル系化合物であればいずれでもよく、例えば、高
分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」
培風館(1986年刊)等に記載されている。具体的に
は、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例え
ばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(
2−アミノ)メチル体、α−クロロ体、α−プロモ体、
α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ体
、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−メト
キシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタ
コン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド
類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば
2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オ
クテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−
2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステ
ル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン
酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビ
ニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル
基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン又はスル
ホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該
極性基を含有する化合物等が挙げられる。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, pyridine-dicarboxylic anhydride ring, thiophene-dicarboxylic anhydride ring, etc. These rings are
For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (alkoxy groups include, for example, methoxy group, ethoxy groups, etc.) may be substituted. The polar group-containing copolymerization component of the resin [A] is, for example, the general formula (I) [
Any vinyl compound containing the polar group that can be copolymerized with the monomer corresponding to the repeating unit represented by general formulas (Ia) and (Ib)] may be used. "Polymer Data Handbook [Basic Edition]"
It is described in Baifukan (published in 1986), etc. Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(
2-amino)methyl form, α-chloro form, α-promo form,
α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α,β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-
2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, vinyl group or allyl group of dicarboxylic acids. Examples include ester derivatives, ester derivatives of these carboxyl or sulfonic acids, and compounds containing the polar group in a substituent of an amide derivative.

【0039】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 はH又はCH3 を示し、b2
 はH、CH3 又はCHCOOCH3 を示し、R7
 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R8 は炭素数
1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し
、fは1〜3の整数を示し、gは2〜11の整数を示し
、hは1〜11の整数を示し、iは2〜4の整数を示し
、jは2〜10の整数を示す。
Examples of copolymerizable components containing polar groups are shown below. Here, b1 represents H or CH3, and b2
represents H, CH3 or CHCOOCH3, R7
represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group, f represents an integer of 1 to 3, and g represents an integer of 2 to 11. , h represents an integer of 1 to 11, i represents an integer of 2 to 4, and j represents an integer of 2 to 10.

【0040】[0040]

【化13】[Chemical formula 13]

【0041】[0041]

【化14】[Chemical formula 14]

【0042】[0042]

【化15】[Chemical formula 15]

【0043】[0043]

【化16】[Chemical formula 16]

【0044】[0044]

【化17】[Chemical formula 17]

【0045】[0045]

【化18】[Chemical formula 18]

【0046】[0046]

【化19】[Chemical formula 19]

【0047】[0047]

【化20】[C20]

【0048】[0048]

【化21】[C21]

【0049】[0049]

【化22】[C22]

【0050】[0050]

【化23】[C23]

【0051】[0051]

【化24】[C24]

【0052】更に低分子量体の樹脂〔A〕は、前記した
一般式(I)、(Ia)及び/又は(Ib)の単量体及
び前記極性基を含有する単量体と共に、これら以外の他
の単量体を共重合成分として含有してもよい。このよう
な他の共重合成分としては、例えば一般式(I)で説明
した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル類、
アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加え、
α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エス
テル類(例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオン酸
、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等)
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエー
テル類、イタコン酸エステル類(例えばジメチルエステ
ル、ジエチルエステル等)、アクリルアミド類、メタク
リルアミド類、スチレン類(例えばスチレン、ビニルト
ルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、N,N
−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカルボニル
スチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナ
フタレン等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニルケト
ン含有化合物、複素環ビニル類(例えばビニルピロリド
ン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオ
フェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニ
ルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、
ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
[0052] Furthermore, the low molecular weight resin [A] includes monomers of general formulas (I), (Ia) and/or (Ib) and the polar group-containing monomers described above, as well as other monomers other than these. Other monomers may be contained as copolymerization components. Examples of such other copolymerization components include methacrylic acid esters containing substituents other than those described in general formula (I),
In addition to acrylic esters and crotonic esters,
α-olefins, vinyl carboxylates or allyl esters (e.g., as carboxylic acids, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.)
, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (e.g. dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N,N
-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole,
vinyloxazine, etc.).

【0053】樹脂〔A〕は重量平均分子量が1×103
 〜2×104 の低分量のランダム共重合体であるが
、これらの重合方法は、従来公知の方法において、重合
条件を選択することでラジカル重合、イオン重合等の方
法で容易に合成することができる。重合する単量体、重
合溶媒、反応設定温度等から、ラジカル重合反応を行な
うことが精製、装置、反応方法等の点から有利で好まし
い。 具体的には、重合開始剤として、通常知られているアゾ
ビス系開始剤、過酸化物等が挙げられる。特に低分子量
体を合成する特徴としては、該開始剤の使用量の増量あ
るいは重合設定温度を高くするといった公知の方法を適
用すればよい。具体的には、開始剤利用量としては全単
量体に対して、0.1〜20重量%の範囲で、重合設定
温度は30℃〜200℃の範囲で行なうことができる。
Resin [A] has a weight average molecular weight of 1×103
It is a random copolymer with a low amount of ~2 x 104, but these polymerization methods can be easily synthesized by radical polymerization, ionic polymerization, etc. by selecting polymerization conditions in conventionally known methods. can. In view of the monomers to be polymerized, the polymerization solvent, the reaction temperature setting, etc., it is advantageous and preferable to carry out a radical polymerization reaction from the viewpoint of purification, equipment, reaction method, etc. Specifically, examples of the polymerization initiator include commonly known azobis-based initiators, peroxides, and the like. In particular, as a feature of synthesizing a low molecular weight substance, a known method such as increasing the amount of the initiator used or increasing the polymerization temperature setting may be applied. Specifically, the amount of initiator used can be in the range of 0.1 to 20% by weight based on the total monomers, and the polymerization temperature can be in the range of 30 to 200°C.

【0054】更には、連鎖移動剤を併用する方法も知ら
れている。例えばメルカプト化合物、ハロゲン化化合物
等を全単量体量に対して0.01〜10重量%の範囲で
用いることで所望の重量平均分子量に調整することがで
きる。次に本発明の樹脂〔B〕について説明する。樹脂
〔B〕はABブロック共重合体であり、ブロック共重合
体〔B〕における特定の極性基含有成分の重合体成分量
は、共重合体〔B〕100重量部当り好ましくは0.1
〜5重量部、より好ましくは0.2〜3重量部の割合で
含有される。結着樹脂〔B〕における極性基含有量が0
.1重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像
濃度を得ることができず、該極性基含有量が5重量%よ
りも多いと、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特
特性の高温高湿が低下し、更にオフセットマスターとし
て用いるときに地汚れが増大するため、好ましくない。
Furthermore, a method of using a chain transfer agent in combination is also known. For example, a desired weight average molecular weight can be adjusted by using a mercapto compound, a halogenated compound, etc. in an amount of 0.01 to 10% by weight based on the total monomer amount. Next, the resin [B] of the present invention will be explained. The resin [B] is an AB block copolymer, and the amount of the specific polar group-containing component in the block copolymer [B] is preferably 0.1 per 100 parts by weight of the copolymer [B].
It is contained in a proportion of ~5 parts by weight, more preferably 0.2 to 3 parts by weight. The polar group content in the binder resin [B] is 0
.. If it is less than 1% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density cannot be obtained, and if the polar group content is more than 5% by weight, dispersibility will decrease and film smoothness and electrophotographic properties will deteriorate. This is undesirable because the characteristics of high temperature and high humidity are reduced, and when used as an offset master, background smudge increases.

【0055】また、樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることが好
ましい。樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕のそれ
の10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗中電
荷保持率、光感度の低下が著しく、膜の強度も低下する
。また、50重量%を超えると、分散の均一化が不充分
となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版として
は保水性が低下する。 共重合体〔B〕の重量平均分子量は2×104 〜1×
106、好ましくは3×104 〜5×105 である
[0055] In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in all the copolymers is greater than the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A]. The amount is preferably 10% by weight to 50% by weight based on the total amount. If the total amount in the resin [B] is less than 10% by weight of that in the resin [A], the electrophotographic properties (especially charge retention in the dark and photosensitivity will be significantly reduced, and the strength of the film will also be reduced. If it exceeds % by weight, the uniformity of dispersion becomes insufficient, the electrophotographic properties deteriorate, and the water retention property as an offset original plate decreases.The weight average molecular weight of the copolymer [B] is 2×104 to 1×
106, preferably 3 x 104 to 5 x 105.

【0056】樹脂〔B〕の分子量が2×104 より小
さくなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず
、また分子量が1×106 より大きくなると本発明の
樹脂〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程
度の電子特性になってしまう。該樹脂〔B〕のガラス転
移点は、−10℃〜100℃の範囲のものが好ましいが
、より好ましくは0℃〜90℃である。本発明のABブ
ロック共重合体(樹脂〔B〕)のAブロックを構成する
特定の極性基を含有する重合成分の具体例としては、前
記した樹脂〔A〕の特定の極性基を含有する重合体成分
と同様のものを挙げることができる。
When the molecular weight of the resin [B] is smaller than 2×10 4 , the film-forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained, and when the molecular weight is larger than 1×10 6 , the effect of the resin [B] of the present invention is reduced. This results in electronic properties comparable to those of conventionally known resins. The glass transition point of the resin [B] is preferably in the range of -10°C to 100°C, more preferably 0°C to 90°C. Specific examples of the polymer component containing a specific polar group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [B]) of the present invention include the polymer component containing a specific polar group of the resin [A] described above. The same components as the combined component can be mentioned.

【0057】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよく、
その場合における該2種以上の極性基含有成分は該Aブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。また、上記極性
基含有の重合体成分以外の重合体成分をブロックA中に
含有していてもよく、かかる重合体成分としては好まし
くは下記一般式(II)の繰り返し単位に相当する重合
体成分が挙げられる。
[0057] Two or more types of polymerization components containing the above-mentioned specific polar groups may be contained in the A block,
In that case, the two or more types of polar group-containing components may be contained in the A block in either random copolymerization or block copolymerization. Further, a polymer component other than the polar group-containing polymer component described above may be contained in the block A, and such a polymer component is preferably a polymer component corresponding to a repeating unit of the following general formula (II). can be mentioned.

【0058】[0058]

【化25】[C25]

【0059】〔式(II)中、X1 は−COO−、−
OCO−、−(CH2 )p −OCO−、−(CH2
 )p −COO−(p は1〜3の整数を表わす)、
−O−、−SO2 −、−CO−、−CON−Q2 −
、−SO2 N−Q2 −、−CONHCOO−、−C
ONHCONH−又は−C6 H4 −を表わす(ここ
でQ2 は水素原子又は炭化水素基を表わす)。Q1 
は炭化水素基を表わす。m1 及びm2 は、互いに同
じでも異なってもよく、前記式(I)中のa1 、a2
 とそれぞれ同一の内容を表わす。〕
[In formula (II), X1 is -COO-, -
OCO-,-(CH2)p-OCO-,-(CH2
) p -COO- (p represents an integer from 1 to 3),
-O-, -SO2 -, -CO-, -CON-Q2 -
, -SO2 N-Q2 -, -CONHCOO-, -C
ONHCONH- or -C6H4- (where Q2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). Q1
represents a hydrocarbon group. m1 and m2 may be the same or different from each other, and a1 and a2 in the above formula (I)
and represent the same content. ]

【0060】ここで、Q2 は水素原子のほか、好まし
い炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−
シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素
数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、
2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−
ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4
−メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置
換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロペンチルエチル基等)、又は炭素数
6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフ
ェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ド
デシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基
、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、エトキシカルボキシフェニ
ル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルア
ミドフェニル基等)が挙げられる。
Here, in addition to a hydrogen atom, Q2 is preferably a hydrocarbon group such as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group). , hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
Cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2
-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example,
2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-
Pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4
-methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group), group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (for example, cyclohexyl group, 2 -cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group) , octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxy carboxyphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0061】X1 が−C6 H4 −を表わす場合、
ベンゼン環は置換基を有してもよい。置換基としては、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキ
シ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基
、ブトキシ基等)等が挙げられる。Q1 は、炭化水素
基を表わし、好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜
22の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシ
ル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペ
ンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基
、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メト
キシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベン
ジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基
(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチ
ル基、2−シクロペンチルエチル基等)、炭素数6〜1
2の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、
ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル
基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシル
フェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基
、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基
、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル
基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフ
ェニル基等)が挙げられる。
[0061] When X1 represents -C6H4-,
The benzene ring may have a substituent. As substituents,
Halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g. methoxy group, ethoxy group, propioxy group) , butoxy group, etc.). Q1 represents a hydrocarbon group, and a preferable hydrocarbon group has 1 to 1 carbon atoms.
22 optionally substituted alkyl groups (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group) , 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group) , bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2- cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), carbon number 6-1
2 optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group,
Naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group,
butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0062】更に好ましくは、一般式(II)において
、X1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO
−、−CH2 COO−、−O−、−CONH−、−S
O2 NH−又は−C6 H4 −を表わす。更には、
式(II)に示される重合体成分とともに該Aブロック
中に含有され得る重合体成分として、該式(II)の重
合体成分と共重合しうる他の繰り返し単位に相当する単
量体、例えばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、
複素環ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニルイミダ
ゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニル
ピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)
等が挙げられる。これら他の単量体はAブロックの全重
合体成分100重量部中20重量部を超えない範囲で用
いられる。
More preferably, in general formula (II), X1 is -COO-, -OCO-, -CH2OCO
-, -CH2 COO-, -O-, -CONH-, -S
Represents O2 NH- or -C6 H4 -. Furthermore,
As the polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component represented by formula (II), monomers corresponding to other repeating units that can be copolymerized with the polymer component of formula (II), e.g. acrylonitrile, methacrylonitrile,
Heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.)
etc. These other monomers are used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer components of the A block.

【0063】次にABブロック共重合体〔B〕において
、Bブロック成分を構成する重合成分について詳しく説
明する。Bブロック成分は、少なくとも前記一般式(I
)で示される繰り返し単位で示される重合体成分を含有
し、該式(I)で示される成分は好ましくBブロック成
分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜10
0重量%含有される。一般式(I)の成分の具体的内容
については、樹脂〔A〕で説明したと同様のものに準じ
る。他に含有され得る重合体成分としては、前記ブロッ
クAで含有され得る一般式(II)で示される成分又は
その他の成分として記載したものと同様のものが挙げら
れる。但し、ブロックBにおいては、ブロックAで含有
される特定の極性基含有成分を含有しないことを特徴と
する。
Next, the polymer components constituting the B block component in the AB block copolymer [B] will be explained in detail. The B block component has at least the general formula (I
), and the component represented by formula (I) preferably accounts for 30 to 100% by weight, more preferably 50 to 10% by weight of the B block component.
Contains 0% by weight. The specific contents of the components of general formula (I) are the same as those explained for resin [A]. Other polymer components that may be contained include those similar to those described as the component represented by general formula (II) or other components that may be contained in block A. However, block B is characterized in that it does not contain the specific polar group-containing component contained in block A.

【0064】本発明のABブロック共重合体〔B〕は、
従来公知の重合反応法によって製造することができる。 具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において該極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類
、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシウ
ムハライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等によ
るイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とする
光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわゆ
るリビング重合反応でABブロック共重合体を合成した
後、極性基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分
解反応、酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護
反応を行ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。 その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示した。
The AB block copolymer [B] of the present invention is:
It can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in the monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, the polar group is previously protected as a functional group, and an organometallic compound (for example, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl magnesium After synthesizing an AB block copolymer using a known so-called living polymerization reaction such as an ionic polymerization reaction using a hydrogen iodide/iodine system (halides, etc.), a photopolymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or a group transfer polymerization reaction. , a method of forming a polar group by deprotecting a functional group with a protected polar group by a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, a photolysis reaction, etc. can be mentioned. One example is shown in reaction scheme (1) below.

【0065】[0065]

【化26】[C26]

【0066】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson  etal、Polym.Bull.12
.,79(1984)、B.C.Anderson、G
.D.Andrews  etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.1
7、977(1985)、18、1037(1986)
、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366(1
987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46、
189(1989)、M.Kuroki、T.Aida
、J.Am.Chem.Soc.109、4737(1
987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、43、
300(1985)、D.Y.Sogah、W.R.H
ertleretal.Macromolecules
、20、1473(1987)等に記載の合成方法に従
って容易に合成することができる。
These include, for example, P. Lutz, P. M
asson etal, Polym. Bull. 12
.. , 79 (1984), B. C. Anderson, G.
.. D. Andrews etal, Macromol
ecules, 14, 1601 (1981), K. Ha
tada, K. Ute. etal, Polym. J. 1
7, 977 (1985), 18, 1037 (1986)
, Koichi Miguchi, Koichi Hatada, Polymer processing, 36, 366 (1
987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46,
189 (1989), M. Kuroki, T. Aida
, J. Am. Chem. Soc. 109, 4737 (1
987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43,
300 (1985), D. Y. Sogah, W. R. H
ertleretal. Macromolecules
, 20, 1473 (1987) and the like.

【0067】更に、ABブロック共重合体〔B〕は、極
性基を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメ
ント基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有
する化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行な
って合成することもできる。例えば、大津隆行、高分子
、37,248(1988)、檜森俊一、大津隆一、P
olym.Rep.Jap.37.3508(1988
)、特開昭64−111号、特開昭64−26619号
、東信行等、Polymer  Preprints、
Japan、36、(6)、1511(1987)、M
.Niwa、N.Higashi、etal、J.Ma
cromol.Sci.Chem.A24(5)、56
7(1987)等に記載の合成方法に従って合成するこ
とができる。
Furthermore, the AB block copolymer [B] uses a monomer with its polar group unprotected and uses a compound containing a dithiocarbament group and/or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takayuki Otsu, Kobunshi, 37, 248 (1988), Shunichi Himori, Ryuichi Otsu, P.
olym. Rep. Jap. 37.3508 (1988
), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Higashi Nobuyuki et al., Polymer Preprints,
Japan, 36, (6), 1511 (1987), M
.. Niwa, N. Higashi, etal, J. Ma
cromol. Sci. Chem. A24(5), 56
7 (1987) and others.

【0068】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。 例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談社刊
(1977年)、T.W.Greene、「Prote
ctive  Groups  in  Organi
c  Synthesis」,John  Wiley
  &  Sons(1981年)、J.F.W.Mc
Omie、「Protective  Groups 
 in  OrganicChemistry」Ple
num  Press、(1973年)等の総説に詳細
に記載されている方法を適宜選択して行なうことができ
る。更には、ブロックAはブロックBのいずれかの部分
を含有するアゾビス化合物(即ち、高分子アゾビス開始
剤)を合成し、これを開始剤として、他の一方のブロッ
クを形成するに相当する単量体類をラジカル重合反応で
合成する方法を用いることもできる。
Regarding the protection of a specific polar group of the present invention with a protecting group and the removal of the protecting group (deprotection reaction),
This can be easily done using conventionally known knowledge. For example, there are various descriptions in the cited documents, and furthermore,
Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" Kodansha Co., Ltd. (1977), T. W. Greene, “Prote
Active Groups in Organi
John Wiley
& Sons (1981), J. F. W. Mc
Omie, “Protective Groups
in Organic Chemistry”Ple
num Press, (1973) and the like can be suitably selected. Furthermore, block A can be obtained by synthesizing an azobis compound (i.e., polymeric azobis initiator) containing any part of block B, and using this as an initiator, the monomer equivalent to forming the other block is synthesized. It is also possible to use a method of synthesizing the class by a radical polymerization reaction.

【0069】具体的には、上田明、永井進、高分子論文
集、44、469(1987)、上田明、大阪市立工業
研究所報告、84  (1989)等に記載された方法
で合成することができる。本反応を利用して合成する場
合には、高分子アゾビス開始剤の合成のし易さ及びブロ
ック化の重合反応の規則性等から該高分子開始剤の重量
平均分子量は、2×104 以下が好ましい。一方、本
発明の樹脂〔B〕は、ブロックBの方がブロックAより
も高分子鎖が長い方が好ましい。以上のことから、本反
応で合成する場合、ブロックA含有の高分子開始剤を用
いる方法が好ましい。例えば下記に示す様な反応スキー
ム(2)で反応することができる。
Specifically, it can be synthesized by the method described in Akira Ueda, Susumu Nagai, Collection of Kobunshi Ronsen, 44, 469 (1987), Akira Ueda, Osaka City Industrial Research Institute Report, 84 (1989), etc. Can be done. When synthesizing using this reaction, the weight average molecular weight of the polymer azobis initiator should be 2 x 104 or less due to the ease of synthesis of the polymer azobis initiator and the regularity of the blocking polymerization reaction. preferable. On the other hand, in the resin [B] of the present invention, it is preferable that block B has a longer polymer chain than block A. From the above, when synthesizing by this reaction, a method using a block A-containing polymer initiator is preferable. For example, the reaction can be carried out using the reaction scheme (2) shown below.

【0070】[0070]

【化27】[C27]

【0071】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。 但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂10
0重量部中30重量%を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしまう
。併用可能な他の樹脂としては例えば、代表的なものは
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェ
ン共重合体、スチレン−メタクリレート共重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、酢酸ビニ
ル共重合体、ポリビニルブチラール、アルキド樹脂、シ
リコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエステル樹脂、
ポリエステル樹脂等である。
As the binder resin for the photoconductive layer of the present invention, in addition to the resin [A] and resin [B] of the present invention, the above-mentioned known resins for inorganic photoconductors can also be used in combination. However, the usage ratio of these other resins is 10% of the total binder resin.
It is preferable that the amount does not exceed 30% by weight based on 0 parts by weight. If this ratio is exceeded, the effect of the present invention will be significantly reduced. Typical examples of other resins that can be used in combination include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, and vinyl acetate. Copolymer, polyvinyl butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin,
Polyester resin, etc.

【0072】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分子
」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・武
井英彦「イメージング」1973(No.8)第9頁、
中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第10
章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.Ta
tt、S.C.Heidecker、Tappi、49
(No.10)、439(1966)、E.S.Bal
tazzi、R.G.Blanclotte  eta
l、Photo.Sci.Eng.16(No.5)、
354(1972)、グエン・チャン・ケー、清水  
勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、28
(1980)、特公昭50−31011号、特開昭53
−54027号、同54−20735号、同57−20
2544号、同58−68046号各号公報等に開示の
樹脂が挙げられる。本発明の光導電層において用いられ
る結着樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対し
て、10重量部〜100重量部であることが好ましく、
より好ましくは15重量部〜50重量部である。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, "Polymer" Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto and Hidehiko Takei, "Imaging", 1973 (No. 8), p. 9,
Edited by Koichi Nakamura "Practical technology of binders for insulating materials" No. 10
Chapter, C. H. C. Publishing (1985), D. D. Ta
tt, S. C. Heidecker, Tappi, 49
(No. 10), 439 (1966), E. S. Bal
tazzi, R. G. Blanclotte eta
l, Photo. Sci. Eng. 16 (No. 5),
354 (1972), Nguyen Tranh Khe, Shimizu
Isamu, Eiichi Inoue, Journal of the Electrophotography Society 18 (No. 2), 28
(1980), JP-B No. 50-31011, JP-A-53
-54027, 54-20735, 57-20
Examples include resins disclosed in Publications No. 2544 and No. 58-68046. The total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is preferably 10 parts by weight to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the inorganic photoconductor.
More preferably, it is 15 parts by weight to 50 parts by weight.

【0073】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜0
.8/0.95〜0.20であることが好ましく、より
好ましくは0.10〜0.50/0.90〜0.50で
ある。結着樹脂の総量比が10重量部以下となると、光
導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重量部以
上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性において
も複写画像の悪化を生じてしまう。又、本発明の樹脂〔
A〕と樹脂〔B〕の使用割合において樹脂〔A〕の重量
比が0.05以下になると、静電特性向上の効果が薄れ
てしまう。一方0.8以上になると光導電層の膜強度が
充分維持できなくなる場合(特に電子写真式平版印刷用
原版として)が生じる。
The ratio of resin [A] and resin [B] used in the present invention is 0.05 to 0 in weight ratio of resin [A]/resin [B].
.. The ratio is preferably 8/0.95 to 0.20, more preferably 0.10 to 0.50/0.90 to 0.50. If the total amount of the binder resin is less than 10 parts by weight, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. If the amount exceeds 100 parts by weight, the electrostatic properties will deteriorate, resulting in deterioration of copied images in actual imaging performance. Moreover, the resin of the present invention [
If the weight ratio of resin [A] and resin [B] is less than 0.05, the effect of improving electrostatic properties will be diminished. On the other hand, if it exceeds 0.8, the film strength of the photoconductive layer may not be maintained sufficiently (especially as an original plate for electrophotographic lithographic printing).

【0074】本発明に使用する無機光導電材料としては
、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、
炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、
セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。本発明に使用
する分光増感色素としては、必要に応じて各種の色素を
単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視、武井英彦
、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J
.Young等、RCA  Review  15、4
69(1054)、清田航平等、電気通信学会論文誌J
63  −C(No.2)、97(1980)、原崎勇
次等、工業科学雑誌66  78及び188(1963
)、谷忠昭、日本写真学会誌35、208(1972)
等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン
色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フ
タレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキソノー
ル色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダシアニ
ン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素(金属
を含有してもよい)等が挙げられる。
Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide,
Cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide,
Examples include tellurium selenide and lead sulfide. As the spectral sensitizing dye used in the present invention, various dyes may be used alone or in combination, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No. 8) p. 12, C. J
.. Young et al., RCA Review 15, 4
69 (1054), Wataru Kiyota, Transactions of the Institute of Electrical Communication Engineers J
63-C (No. 2), 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Science Magazine 66 78 and 188 (1963
), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 35, 208 (1972)
Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g., oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes ( may contain metal), etc.

【0075】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同第4,054,4
50号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素として
は、F.M.Harmmer  「The  Cyan
ineDyes  and  Related  Co
mpound」等に記載の色素類が使用可能であり、更
に具体的には、米国特許第3,047,384号、同第
3,110,591号、同第3,121,008号、同
第3,125,447号、同第3,128,179号、
同第3,132,942号、同第3,622,317号
、英国特許第1,226,892号、同第1,309,
274号、同第1,405,898号、特公昭48−7
814号、同55−18892号等に記載の色素が挙げ
られる。
More specifically, carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are mainly used in the Japanese Patent Publication No. 51-45.
No. 2, JP-A-50-90334, JP-A No. 50-11422
No. 7, No. 53-39130, No. 53-82353,
U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4,054,4
50, JP-A-57-16456, and the like. Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include F. M. Hammer “The Cyan”
ineDyes and Related Co.
The dyes described in U.S. Pat. No. 3,047,384, U.S. Pat. No. 3,125,447, No. 3,128,179,
British Patent No. 3,132,942, British Patent No. 3,622,317, British Patent No. 1,226,892, British Patent No. 1,309,
No. 274, No. 1,405,898, Special Publication No. 1974-7
Examples include dyes described in No. 814 and No. 55-18892.

【0076】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141号
、同57−157254号、同61−26044号、同
61−27551号、米国特許第3,619,154号
、同第4,175,956号、「Research  
Disclosure」1982年、216、第117
〜118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光
体は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色
素により変動しにくい点において優れている。更には、
必要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写
真感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば
、前記した総説:イメージング1973(No.8)第
12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロ
ゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボ
ン酸等)、小門宏等、「細菌の光導電材料と感光体の開
発・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出版
部(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化
合物、ヒンダートフェノール化合物、p −フェニレン
ジアミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes in the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No. 4
No. 7-840, No. 47-44180, Special Publication No. 51-4
No. 1061, JP-A-49-5034, JP-A No. 49-451
No. 22, No. 57-46245, No. 56-35141, No. 57-157254, No. 61-26044, No. 61-27551, U.S. Patent No. 3,619,154, No. 4,175,956 issue, “Research
Disclosure” 1982, 216, 117
Examples include those described on pages 118 to 118. The photoreceptor of the present invention is excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together. Furthermore,
If necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers can also be used in combination. For example, the aforementioned review article: Imaging 1973 (No. 8) p. ``Development and practical application of photoconductive materials and photoreceptors'', Chapters 4 to 6, Nihon Kagaku Information Co., Ltd. Publishing Department (1986), cites polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, and p-phenylene. Examples include diamine compounds.

【0077】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μ、特に10〜50μが好適である。また、電荷発
生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光
導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは0.01〜
1μ、特に0.05〜0.5μが好適である。感光体の
保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目的として
絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶縁層は比較
的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロセスに用
いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定される。 後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but is usually 0.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
001 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 1
00μ, especially 10 to 50μ is suitable. In addition, when a photoconductive layer is used as the charge generation layer of a photoconductor with a stacked structure of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01~
1μ, especially 0.05 to 0.5μ is suitable. In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc. At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick. In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.

【0078】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜
用いられる。本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1相以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 microns, particularly 10 to 30 microns. Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin,
Thermoplastic resins and effective resins such as vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride acid vinyl copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, and silicone resin are used as appropriate. . The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, metal, paper, plastic sheet, etc. are basically impregnated with a low-resistance substance, just as in the conventional case. Those that have been subjected to conductive treatment such as by applying a conductive coating, those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back side of the base (the opposite side to the side on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc.
A water-resistant adhesive layer is provided on the surface of the support, a pre-coat layer of at least one phase is provided as required on the surface layer of the support, and a conductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited is used as paper. You can use a laminated one.

【0079】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.1)
、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoove
r,J.Macromol.Sci.Chem.A−4
(6)、第1327〜第1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。本発明の電子写真感光体
は、従来公知のあらゆる電子写真プロセスを利用した用
途において利用することができる。即ち、本発明の感光
体はPPC方式およびCPC方式のいずれの記録方式に
も利用でき、又、現像剤として乾式現像剤あるいは液体
現像剤のいずれの組合せにも用いることができる。 特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画像形成が可能
なことから、液体現像剤との組合せで利用すると、本発
明の効果がより発揮される。又カラー現像剤との組合せ
とすることで、黒・白複写画像のみならず、カラー複写
画像にも応用することができる(例えば、滝沢九郎、「
写真工業」33、34(1975年)、安西正保、「電
子通信学会技術研究報告77、17(1977年)等に
記載の方法)。
Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14 (No. 1)
, P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introductory Chemistry of Special Papers" Kobunshi Publishing (1975), M. F. Hoove
r, J. Macromol. Sci. Chem. A-4
(6), pages 1327 to 1417 (1970), etc. are used. The electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in applications using all conventionally known electrophotographic processes. That is, the photoreceptor of the present invention can be used in both the PPC system and the CPC system, and can be used in combination with either a dry developer or a liquid developer. In particular, since it is possible to form a high-definition faithful copy image of the original, the effects of the present invention are more effectively achieved when used in combination with a liquid developer. In addition, by combining it with a color developer, it can be applied not only to black and white copy images but also to color copy images (for example, Kuro Takizawa, ``
Photo Industry" 33, 34 (1975), Masayasu Anzai, "Methods described in Institute of Electronics and Communication Engineers Technical Research Report 77, 17 (1977), etc.).

【0080】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電酸化チ
タンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用い
られる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用い
ることができる。
Furthermore, the present invention is also effective in systems for other applications using recent electrophotographic processes. For example, the photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor can be used as an original plate for offset lithographic printing, or as a photoreceptor using photoconductive zinc oxide or photoconductive titanium oxide, which is non-polluting and has good whiteness. The body can be used as a marking material for a draft or a color proof used in an offset printing process.

【0081】[0081]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート95g、アクリル酸5g及びト
ルエン200gの混合溶液を窒素気流下90℃の温度に
加温した後、A.I.B.N.6.0gを加え4時間反
応させた。更にA.I.B.N.2gを加え2時間反応
させた。得られた共重合体〔A−1〕の重量平均分子量
(Mwと略称する)は8500であった。
[Examples] Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto. [Synthesis of Resin [A]] Synthesis Example 1 of Resin [A]: [A-1] After heating a mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, and 200 g of toluene to a temperature of 90°C under a nitrogen stream, A .. I. B. N. 6.0 g was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. 2 g was added and reacted for 2 hours. The weight average molecular weight (abbreviated as Mw) of the obtained copolymer [A-1] was 8,500.

【0082】[0082]

【化28】[C28]

【0083】樹脂〔A〕の合成例2〜28:〔A−2〕
〜〔A−28〕 樹脂〔A〕の合成例1の重合条件と同様に操作して下記
表−Aの各樹脂〔A−2〕〜〔A−28〕を合成した。 各樹脂〔A〕のMwは5.0×103 〜9.0×10
3 であった。
Synthesis examples 2 to 28 of resin [A]: [A-2]
~[A-28] Resins [A-2] to [A-28] in Table A below were synthesized by operating the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of Resin [A]. Mw of each resin [A] is 5.0×103 to 9.0×10
It was 3.

【0084】[0084]

【表1】[Table 1]

【0085】[0085]

【表2】[Table 2]

【0086】[0086]

【表3】[Table 3]

【0087】[0087]

【表4】[Table 4]

【0088】[0088]

【表5】[Table 5]

【0089】[0089]

【表6】[Table 6]

【0090】[0090]

【表7】[Table 7]

【0091】樹脂〔A〕の合成例29:〔A−29〕2
,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、アクリ
ル酸5g、n−ドデシルメルカプタン2g及びトルエン
200gの混合溶液を窒素気流下80℃の温度に加温し
た後、A.I.B.N.2gを加え4時間反応し、次に
A.I.B.N.0.5gを加え2時間、更にA.I.
B.N.0.5gを加え3時間反応した。冷却後、メタ
ノール/水(9/1)の混合溶液2l中に再沈し、沈殿
物をデカンテーションで補集し、減圧乾燥した。得られ
たワックス状の共重合体の収量は78gで、Mwは6.
3×103 であった。 〔樹脂〔B〕の合成〕
Synthesis example 29 of resin [A]: [A-29] 2
A mixed solution of 95 g of 6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, 2 g of n-dodecyl mercaptan and 200 g of toluene was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. I. B. N. 2g was added and reacted for 4 hours, then A. I. B. N. Add 0.5g and continue for 2 hours. I.
B. N. 0.5 g was added and reacted for 3 hours. After cooling, it was reprecipitated into 2 liters of a mixed solution of methanol/water (9/1), and the precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the waxy copolymer obtained was 78 g, and the Mw was 6.
It was 3×103. [Synthesis of resin [B]]

【0092】樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕メチル
メタクリレート100g及びテトラヒドロフラン200
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−20℃に
冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム0.8g
を加え12時間反応した。更に、この混合溶液に、メチ
ルアクリレート60g、トリフェニルメチルメタクリレ
ート6g及びテトラヒドロフラン5gの混合溶液を窒素
気流下に充分に脱気した後添加し、更に8時間反応した
。この混合物を0℃にした後、メタノール10mlを加
え30分間反応し、重合を停止させた。得られた重合体
溶液を攪拌下にて温度30℃とし、これに30%塩化水
素エタノール溶液3mlを加え1時間攪拌した。次に、
減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒を留
去した後、石油エーテル1l中に再沈した。 沈殿物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体のMwは
7.3×104 で、収量72gであった。
Synthesis Example 1 of Resin [B]: [B-1] 100 g of methyl methacrylate and 200 g of tetrahydrofuran
The mixed solution of g was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to -20°C. 1,1-diphenylbutyllithium 0.8g
was added and reacted for 12 hours. Furthermore, a mixed solution of 60 g of methyl acrylate, 6 g of triphenylmethyl methacrylate, and 5 g of tetrahydrofuran was added to this mixed solution after sufficiently degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 8 hours. After the mixture was cooled to 0° C., 10 ml of methanol was added and reacted for 30 minutes to terminate the polymerization. The resulting polymer solution was brought to a temperature of 30° C. while stirring, and 3 ml of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added thereto and stirred for 1 hour. next,
The solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume was reduced to half, and then reprecipitated into 1 liter of petroleum ether. The precipitate was collected and dried under reduced pressure, and the Mw of the polymer obtained was 7.3 x 104, and the yield was 72 g.

【0093】[0093]

【化29】[C29]

【0094】樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕メチル
メタクリレート70g:メチルアクリレート30g(テ
トラフェニルポルフィナート)アルミニウムメチル0.
5g及び塩化メチレン60gの混合溶液を窒素気流下に
て温度30℃とした。これに300W−キセノンランプ
光をガラスフィルターを通して25cmの距離から光照
射し、12時間反応した。この混合物に更に、メチルア
クリレート60gベンジルメタクリレート3.2gを加
え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物にメタ
ノール3gを加えて30分間攪拌し反応を停止させた。 次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25℃で1
時間接触還元反応を行なった。不溶物を濾別した後石油
エーテル500ml中に再沈し、沈殿物を捕集し乾燥し
た。得られた重合体は収量118gでMw8×104 
であった。
Synthesis Example 2 of Resin [B]: [B-2] 70 g of methyl methacrylate: 30 g of methyl acrylate (tetraphenylporphinate) aluminum methyl 0.
A mixed solution of 5 g and 60 g of methylene chloride was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with 300 W xenon lamp light from a distance of 25 cm through a glass filter, and reacted for 12 hours. Further, 60 g of methyl acrylate and 3.2 g of benzyl methacrylate were added to this mixture, and after irradiation with light for 8 hours, 3 g of methanol was added to this reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction. Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and 1
A time catalytic reduction reaction was performed. After filtering out insoluble matter, the mixture was reprecipitated into 500 ml of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 118 g and a Mw of 8×104.
Met.

【0095】[0095]

【化30】[C30]

【0096】樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕エチル
メタクリレート100g及びトルエン200gの混合溶
液を窒素気流下に充分に脱気し0℃に冷却した。 次いで1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリチウ
ム2.5gを加え、6時間攪拌した。更にこの混合物に
メチルメタクリレート60g  4−ビニルフェニルオ
キシトリメチルシラン4.6gを加え6時間攪拌した後
、メタノール3gを加えて30分間攪拌した。次にこの
反応混合物に30%塩化水素エタノール溶液10gを加
え25℃で1時間攪拌した後、メタノール1l中に再沈
し捕集した沈殿物をメタノール300mlで2回洗浄し
乾燥した。得られた重合体は、収量121gでMw6.
5×104 であった。
Synthesis Example 3 of Resin [B] [B-3] A mixed solution of 100 g of ethyl methacrylate and 200 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0°C. Then, 2.5 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added and stirred for 6 hours. Furthermore, 60 g of methyl methacrylate and 4.6 g of 4-vinylphenyloxytrimethylsilane were added to this mixture, and the mixture was stirred for 6 hours, and then 3 g of methanol was added and stirred for 30 minutes. Next, 10 g of a 30% hydrogen chloride ethanol solution was added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at 25° C. for 1 hour. The precipitate was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the collected precipitate was washed twice with 300 ml of methanol and dried. The obtained polymer had a yield of 121 g and a Mw of 6.
It was 5×104.

【0097】[0097]

【化31】[Chemical formula 31]

【0098】樹脂〔B〕の合成例4:〔B−4〕メチル
メタクリレート67g、ベンジルN,N−ジエチルジチ
オカーバメート4.8gの混合物を、窒素気流下に容器
に密閉し、温度50gに加温した。これに、400Wの
高圧水水銀灯で10cmの距離からガラスフィルターを
通して、6時間光照射し光重合した。これにメチルアク
リレート32gアクリル酸1g及びメチルエチルケトン
180gを加えた後窒素置換し、再び10時間光照射し
た。得られた反応物をメタノール1lに再沈、捕集し乾
燥した。得られた重合体は、収量73gでMw4.8×
104 であった。
Synthesis Example 4 of Resin [B]: [B-4] A mixture of 67 g of methyl methacrylate and 4.8 g of benzyl N,N-diethyldithiocarbamate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to a temperature of 50 g. did. This was irradiated with light for 6 hours using a 400 W high-pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for photopolymerization. After adding 32 g of methyl acrylate, 1 g of acrylic acid, and 180 g of methyl ethyl ketone, the mixture was purged with nitrogen and irradiated with light for 10 hours again. The obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, collected and dried. The obtained polymer had a yield of 73 g and a Mw of 4.8×
It was 104.

【0099】0099

【化32】[C32]

【0100】樹脂〔B〕の合成例5:〔B−5〕メチル
メタクリレート50g、エチルメタクリレート25g、
ベンジルイソプルザンテート1.0gの混合物を、窒素
気流下に容器に密閉し、温度50℃に加温した。これに
400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフィ
ルターを通して6時間光照射し光重合した。 この重合物をテトラヒドロフランで濃度40%の溶液に
しこれにメチルアクリレート22gを加えて窒素置換し
再び10時間光照射した。次にこの混合物に2−(2′
−カルボキシエチル)カルボニルオキシエチルメタクリ
レート3gを加えて再び窒素置換し再び8時間光照射し
た。得られた反応物を、メタノール2l中に再沈し、捕
集した粉末を乾燥した。得られた重合体は収量63gで
Mw6×104 であった。
Synthesis Example 5 of Resin [B]: [B-5] 50 g of methyl methacrylate, 25 g of ethyl methacrylate,
A mixture of 1.0 g of benzyl isoprusanthate was sealed in a container under a nitrogen stream and heated to a temperature of 50°C. This was irradiated with light from a 10 cm distance through a glass filter for 6 hours using a 400 W high-pressure mercury lamp for photopolymerization. This polymer was made into a solution with a concentration of 40% in tetrahydrofuran, 22 g of methyl acrylate was added thereto, the atmosphere was replaced with nitrogen, and the solution was again irradiated with light for 10 hours. Then add 2-(2'
-carboxyethyl) carbonyloxyethyl methacrylate (3 g) was added, the atmosphere was again replaced with nitrogen, and the mixture was again irradiated with light for 8 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the collected powder was dried. The obtained polymer had a yield of 63 g and a Mw of 6 x 104.

【0101】[0101]

【化33】[Chemical formula 33]

【0102】樹脂〔B〕の合成例6:〔B−6〕エチル
アクリレート97g、メタクリル酸3g、2−メルカプ
トエタノール2g及びテトラヒドロフラン200gの混
合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加温した
。これに、2,2′−アゾビスイソバレロニトリル(A
.I.V.N.)1.0gを加え4時間反応し、更にA
.I.V.N.  0.5gを加え4時間反応した。
Synthesis Example 6 of Resin [B]: [B-6] A mixed solution of 97 g of ethyl acrylate, 3 g of methacrylic acid, 2 g of 2-mercaptoethanol and 200 g of tetrahydrofuran was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. . To this, 2,2'-azobisisovaleronitrile (A
.. I. V. N. ) was added and reacted for 4 hours, and then A
.. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours.

【0103】この反応混合物を温度20℃にした後、4
,4′−アゾビス(シア)吉草酸)8.6g、ジシクロ
ヘキシルジカルボジイミド12g、4−(N,N−ジメ
チル)ピリジル0.2g及びテトラヒドロフラン30g
の混合溶液を1時間で滴下した。そのまま更に2時間攪
拌した後、85%ギ酸水溶液を5g加えて更に30分間
攪拌した。次に析出した結晶を濾別後、濾液を温度25
℃で溶媒を減圧下に留去した。得られた下記構造の重合
体(高分子開始剤)のMwは6.3×103 であった
After bringing the reaction mixture to a temperature of 20°C, 4
, 4'-azobis(sia)valeric acid) 8.6 g, dicyclohexyldicarbodiimide 12 g, 4-(N,N-dimethyl)pyridyl 0.2 g and tetrahydrofuran 30 g
A mixed solution of was added dropwise over 1 hour. After further stirring for 2 hours, 5 g of 85% formic acid aqueous solution was added and further stirred for 30 minutes. Next, after separating the precipitated crystals by filtration, the filtrate was collected at a temperature of 25
The solvent was distilled off under reduced pressure at °C. The Mw of the obtained polymer (polymer initiator) having the following structure was 6.3×10 3 .

【0104】[0104]

【化34】[C34]

【0105】メチルメタクリレート70g及びトルエン
170gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度70
℃に加温した。これに、上記重合体30gをトルエン3
0gに溶解した溶液を予かじめ窒素置換した後、加えて
、8時間反応した。得られた重合体をメタノール2l中
に再沈し、補集した粉末を乾燥した。得られた重合体は
収量72gでMw4×104 であった。
[0105] A mixed solution of 70 g of methyl methacrylate and 170 g of toluene was heated to a temperature of 70% while stirring under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. To this, add 30g of the above polymer to 33g of toluene.
After replacing the solution with 0 g of nitrogen in advance, the solution was added and reacted for 8 hours. The obtained polymer was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the collected powder was dried. The yield of the obtained polymer was 72 g, and the Mw was 4 x 104.

【0106】[0106]

【化35】[C35]

【0107】樹脂〔B〕の合成例7/16:〔B−7〕
〜〔B−16〕 樹脂〔B〕の合成例3と同様の反応方法で、下記表−B
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた共重合体のMw
は5×104 〜9×104 の範囲であった。
Synthesis example 7/16 of resin [B]: [B-7]
~ [B-16] Using the same reaction method as in Synthesis Example 3 of resin [B], the following table-B
Resin [B] shown below was synthesized. Mw of the obtained copolymer
was in the range of 5 x 104 to 9 x 104.

【0108】[0108]

【表8】[Table 8]

【0109】[0109]

【表9】[Table 9]

【0110】[0110]

【表10】[Table 10]

【0111】樹脂〔B〕の合成例17〜23:〔B−1
7〕〜〔B−23〕 樹脂〔B〕の合成例4と同様の反応方法で、下記表ーC
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた共重合体のMw
は4×104 〜8×104 の範囲であった。
Synthesis Examples 17 to 23 of Resin [B]: [B-1
7] ~ [B-23] Using the same reaction method as in Synthesis Example 4 of resin [B], the following table-C
Resin [B] shown below was synthesized. Mw of the obtained copolymer
was in the range of 4 x 104 to 8 x 104.

【0112】[0112]

【表11】[Table 11]

【0113】[0113]

【表12】[Table 12]

【0114】実施例1 樹脂〔A−7〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−1
〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛200
g、下記構造のシアニン色素〔I〕0.018g、無水
フタル酸0.15g及びトルエン300gの混合物をホ
モジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×10
3 rpmで10分間分散して、感光層形成物を調製し
、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/m2
 となる様に、ワイヤバーで塗布し、110℃で10秒
間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件下で
24時間放置することにより、電子写真感光材料を作製
した。
Example 1 Resin [A-7] 6g (as solid content), Resin [B-1]
] 34g (as solid content), photoconductive zinc oxide 200
g, a mixture of 0.018 g of cyanine dye [I] having the following structure, 0.15 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene was heated in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at a rotation speed of 6 x 10.
A photosensitive layer-forming product was prepared by dispersing at 3 rpm for 10 minutes, and the dry adhesion amount was 22 g/m2.
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by coating with a wire bar, drying at 110° C. for 10 seconds, and then leaving in a dark place at 20° C. and 65% RH for 24 hours.

【0115】[0115]

【化36】[C36]

【0116】比較例1 実施例1において、樹脂〔B−1〕34gの代わりに下
記構造の樹脂〔R−1〕34gを用いた他は、実施例1
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that 34 g of resin [R-1] having the following structure was used instead of 34 g of resin [B-1].
An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as above.

【0117】[0117]

【化37】[C37]

【0118】比較例2 実施例1において、樹脂〔B−1〕34gの代わりに下
記構造の樹脂〔R−2〕とした他は、実施例1と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。
Comparative Example 2 An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 34 g of resin [B-1] was replaced with resin [R-2] having the following structure. did.

【0119】[0119]

【化38】[C38]

【0120】これらの感光材料について、静電特性、撮
像性並びに環境条件(20℃,65%RH)及び(30
℃,80%RH)とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Dに示す。
[0120] Regarding these photosensitive materials, electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions (20°C, 65% RH) and (30°C)
℃, 80% RH) was investigated. The above results are shown in Table-D.

【0121】[0121]

【表13】[Table 13]

【0122】表−Dに示した評価項目の実施の態様は以
下通りである。 注1)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製
ペーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6k
Vで20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、こ
の時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中
で90秒間静置させた後の電位V100 を測定し、9
0秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保
持率〔DRR(%)〕を(V100 /V10)×10
0(%)で求めた。
[0122] The implementation of the evaluation items shown in Table D is as follows. Note 1) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH.
-6k using a paper analyzer (Paper Analyzer SP-428 model manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) for each photosensitive material.
After performing corona discharge at V for 20 seconds, it was left to stand for 10 seconds, and the surface potential V10 at this time was measured. Next, the potential V100 was measured after leaving it to stand still in the dark for 90 seconds.
The retention of the potential after dark decay for 0 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] is (V100 /V10) x 10
It was calculated as 0 (%).

【0123】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰する
までの時間を求め、これから露光量E1/10(erg
/cm2 )を算出する。又、同様に表面電位(V10
)が1/100に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/100 (erg/cm2 )を算出する
。測定時の環境条件は、20℃,65%RH(I)と3
0℃,80%RH(II)で行なった。
[0123] Furthermore, the surface of the photoconductive layer is heated to -40 by corona discharge.
After charging to 0V, the surface of the photoconductive layer is heated with a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm).
Irradiate with light, find the time until the surface potential (V10) attenuates to 1/10, and calculate the exposure amount E1/10 (erg
/cm2). Similarly, the surface potential (V10
) is attenuated to 1/100, and the exposure amount E1/100 (erg/cm2) is calculated from this. The environmental conditions at the time of measurement were 20°C, 65% RH (I), and 3
The test was carried out at 0° C. and 80% RH (II).

【0124】注2)撮像性:各感光材料を以下の環境条
件で1昼夜放置した後、各感光材料を−6kVで帯電し
、光源として2.8mW出力のガリウム−アルミニウム
−ヒ素、半導体レーザー(発振波長780nm)を用い
て、感光材料表面上で64erg/cm2 の照射量下
、ピッチ25μm及びスキャンニング速度300m/s
ecのスピード露光後液体現像剤として、ELP−T(
富士写真フィルム(株)製)を用いて現像し、イソパラ
フィンアイソパーG(シェル化学(株)製)溶媒のリン
ス液で洗浄後定着することで得られた複写画像(カブリ
、画像の画質)を目視評価した。
Note 2) Imaging properties: After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, each photosensitive material was charged at -6 kV, and a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (with an output of 2.8 mW) was used as a light source. Using an oscillation wavelength of 780 nm), the radiation dose was 64 erg/cm2 on the surface of the photosensitive material, the pitch was 25 μm, and the scanning speed was 300 m/s.
ELP-T (
The reproduced image (fogging, image quality) obtained by developing it using Fuji Photo Film Co., Ltd. and washing and fixing it with isoparaffin Isopar G (Shell Chemical Co., Ltd.) solvent rinse solution. Visual evaluation was performed.

【0125】撮像時の環境条件は20℃65%RH(I
)と30℃80%RH(II)で実施した。表−Dに示
す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実際
の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。 一方、比較例1,2は、光感度(E1/10及びE1/
100 )の低下が生じ、実際の複写画像でも細線・文
字等のカスレや、リンス処理した後でも微かな地カブリ
が除去されずに残存してしまった。又、静電特性とは一
致しないが、複写原稿の連続階調部分の中間濃度でのム
ラの発生が生じてしまった。本発明の感光体と比較例の
感光体とではE1/100 値が大きく異なる。E1/
100 値は、実際の撮像性において、露光後、非画像
部(既に露光された部位)にどれだけの電位が残ってい
るかを示すものであり、この値が小さい程現像後の非画
像部の地汚れが生じなくなる事を示す。
[0125] The environmental conditions at the time of imaging were 20°C, 65% RH (I
) and 30°C and 80% RH (II). As shown in Table D, the photosensitive material of the present invention had good electrostatic properties, and the actual copied images had no background fog and the quality of the copied images was clear. On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 have photosensitivity (E1/10 and E1/10).
100), and even in actual copied images, fading of thin lines, letters, etc., and slight background fog remained without being removed even after rinsing. Further, although it does not match the electrostatic characteristics, unevenness occurred in the intermediate density of the continuous tone portion of the copied original. The E1/100 value differs greatly between the photoreceptor of the present invention and the photoreceptor of the comparative example. E1/
The 100 value indicates how much potential remains in the non-image area (already exposed area) after exposure in actual imaging performance, and the smaller this value is, the greater the potential in the non-image area after development. Indicates that scumming will not occur.

【0126】具体的には−10V以下の残留電位にする
ことが必要となり、即ち実際にはVR −10V以下と
するために、どれだけ露光量が必要となるかということ
で、半導体レーザー光によるスキャンニング露光方式で
は、小さい露光量でVR を−10V以下にすることは
、複写機の光学系の設計上(装置のコスト、光学系光路
の精度等)非常に重要なことである。以上のことより、
本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電特性及び撮像性を
満足する電子写真感光体が得られ、特に半導体レーザー
光スキャンニング露光方式の感光体システムに優位にな
ることが明らかとなった。
Specifically, it is necessary to make the residual potential below -10V, that is, how much exposure is required to actually make VR below -10V? In the scanning exposure method, it is very important to reduce the VR to −10 V or less with a small exposure amount in terms of the design of the optical system of the copying machine (device cost, precision of the optical system optical path, etc.). From the above,
It has been revealed that only when the resin of the present invention is used, an electrophotographic photoreceptor that satisfies electrostatic properties and imaging performance can be obtained, and is especially advantageous for photoreceptor systems using semiconductor laser beam scanning exposure.

【0127】実施例2 樹脂〔A−3〕5g(固形分量として)、樹脂〔B−2
〕35g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛200
g、下記構造のメチン色素(II)0.020g、N−
ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン30
0gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
Example 2 Resin [A-3] 5g (as solid content), Resin [B-2]
] 35g (as solid content), photoconductive zinc oxide 200
g, 0.020 g of methine dye (II) with the following structure, N-
0.20 g of hydroxymaleimide and 30 g of toluene
0 g of the mixture was operated in the same manner as in Example 1 to produce an electrophotographic light-sensitive material.

【0128】[0128]

【化39】[C39]

【0129】この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、
静電特性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。その
結果を表−Eに示す。
Film properties (surface smoothness) of this photosensitive material,
The electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions were set to 30° C. and 80% RH.The electrostatic properties and imaging properties were investigated. Furthermore, the printability when used as an original plate for electrophotographic planographic printing was investigated. The results are shown in Table E.

【0130】[0130]

【表14】[Table 14]

【0131】表−Eに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注3)表面層の平滑性:得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1c
cの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測定した
。 注4)水との接触角:各感光材料を不感脂化処理液EP
L−EX(富士写真フィルム(株)製)を蒸留水で2倍
に希釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。
[0131] The implementation of the evaluation items shown in Table E is as follows. Note 3) Smoothness of surface layer: The obtained photosensitive material was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) with an air capacity of 1 c.
The smoothness (sec/cc) was measured under the conditions of c. Note 4) Contact angle with water: Desensitizing treatment liquid EP for each photosensitive material
Using a solution prepared by diluting L-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) twice with distilled water,
After the surface of the photoconductive layer is desensitized by passing it through, a drop of 2 μl of distilled water is placed on it, and the contact angle with the water formed is measured using a goniometer.

【0132】注5)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条
件にして、製版して、トナー画像を形成し、上記注4)
と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマスター
として、オフセット印刷機(桜井製作所(株)製オリバ
ー52型)にかけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像
部の画質に問題が生じないで印刷できる枚数を示す(印
刷枚数が多い程、印刷性が良好なことを表わす)。表−
Eに示す様に、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性
膜の機械的強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像
も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。このことは
光導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を
被覆していることによるものと推定される。同様の理由
で、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感
脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像
部の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化
されていることが判る。実際に印刷して印刷物の地汚れ
を観察しても地汚れは全く認められず、鮮明な画質の印
刷物が1万枚得られた。
Note 5) Printing durability: A toner image is formed by plate making under the same conditions as the imaging performance in Note 2) above.
The desensitization process was carried out under the same conditions as the above, and this was used as an offset master to run on an offset printing machine (Oliver Model 52 manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.), so that there would be no background smudges in the non-image areas of the printed matter and no problems with the image quality in the image areas. indicates the number of sheets that can be printed (the larger the number of sheets printed, the better the printability). Table -
As shown in E, in the photosensitive material of the present invention, the smooth film of the photoconductive layer had good mechanical strength and electrostatic properties, and the actual copied image had no background fog and the quality of the copied image was clear. This is presumed to be due to the photoconductor and the binder resin being sufficiently adsorbed and covering the particle surface. For the same reason, even when used as an offset master original, the desensitizing treatment with the desensitizing treatment liquid progresses sufficiently, and the contact angle with water in the non-image area is as small as 10 degrees or less, making it sufficiently hydrophilic. It can be seen that When actually printing and observing the background smear on the printed matter, no background smudge was observed, and 10,000 printed matter with clear image quality were obtained.

【0133】以上の事は、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔
B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処理
液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易すい
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。
[0133] The above describes the resin [A] and the resin [
B] appropriately interacts with the zinc oxide particles, forming a state in which the desensitization reaction by the desensitization treatment liquid can easily and sufficiently proceed, and film strength due to the action of the resin [B]. This shows that a significant improvement has been achieved.

【0134】実施例3〜18 実施例2における樹脂〔A−3〕及び樹脂〔B−2〕に
代えて、下記表−Fの各樹脂〔A〕及び各樹脂〔B〕に
代えた他は、実施例2と同様に操作して、各電子写真感
光体を作製した。実施例2と同様にして静電特性を測定
した。結果を表−Fに示す。
Examples 3 to 18 Resin [A-3] and resin [B-2] in Example 2 were replaced with each resin [A] and each resin [B] in Table-F below. Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 2. Electrostatic properties were measured in the same manner as in Example 2. The results are shown in Table-F.

【0135】[0135]

【表15】[Table 15]

【0136】又、これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もない。地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。
Further, when the actual imaging performance of these photosensitive materials was investigated, the reproducibility of fine lines and characters was good, and there was no occurrence of unevenness in intermediate tones. A clear copy image with no background fog was obtained.

【0137】実施例19〜22 実施例1において用いたメチン色素〔I〕の代わりに下
記表−Gの色素に代えた他は実施例1と同様の条件で電
子写真感光体材料を作製した。
Examples 19 to 22 Electrophotographic photoreceptor materials were produced under the same conditions as in Example 1, except that the methine dye [I] used in Example 1 was replaced with the dye shown in Table G below.

【0138】[0138]

【表16】[Table 16]

【0139】[0139]

【表17】[Table 17]

【0140】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の(30℃、80%RH)の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and even in the harsh conditions of high temperature and high humidity (30° C., 80% RH), even in actual copied images,
Providing clear images with no background fog.

【0141】実施例23及び24並びに比較例3樹脂〔
A−1〕(実施例23)又は樹脂〔A−29〕(実施例
24)のいずれか6.5g、樹脂〔B−9〕33.5g
、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、下記構造の
メチン色素〔VII 〕0.03g、下記構造のメチン
色素(VIII)0.03g、p−ヒドロキシ安息香酸
0.18g及びトルエン300gの混合物をホモジナイ
ザー中で回転数7×103 r.P.M.で10分間分
散して感光層形成物を調整し、これを導電処理した紙に
、乾燥付着量が20g/m2 となる様にワイヤ−バー
で塗布し、110℃で20秒間乾燥した。次いで暗所で
20℃、65%RHの条件下で24時間放置することに
より各電子写真感光体を作製した。
Examples 23 and 24 and Comparative Example 3 Resin [
A-1] (Example 23) or resin [A-29] (Example 24) 6.5 g, resin [B-9] 33.5 g
, 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.03 g of methine dye [VII] with the following structure, 0.03 g of methine dye (VIII) with the following structure, 0.18 g of p-hydroxybenzoic acid, and 300 g of toluene in a homogenizer. and rotation speed 7×103 r. P. M. Dispersion was carried out for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product, which was coated on electrically conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 20 g/m2, and dried at 110 DEG C. for 20 seconds. Next, each electrophotographic photoreceptor was prepared by leaving it for 24 hours in a dark place at 20° C. and 65% RH.

【0142】[0142]

【化40】[C40]

【0143】[0143]

【化41】[C41]

【0144】比較例3 実施例23における樹脂〔B−2〕の代わりに、下記構
造の樹脂〔R−3〕を用いた他は、実施例23と同様に
して、感光材料を作製した。
Comparative Example 3 A photosensitive material was produced in the same manner as in Example 23, except that resin [R-3] having the following structure was used instead of resin [B-2] in Example 23.

【0145】[0145]

【化42】[C42]

【0146】実施例1と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Hにまとめた。
[0146] In the same manner as in Example 1, the characteristics of each photosensitive material were investigated. The results are summarized in Table H below.

【0147】[0147]

【表18】[Table 18]

【0148】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行なった。 注6)静電特性のE1/10及びE1/100 の測定
方法コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電
させた後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視
光で照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/
100 に減衰するまでの時間を求め、これから露光量
E1/10又はE1/100 (ルックス・秒)を算出
する。
[0148] In the above measurements, the electrostatic properties and imaging properties were carried out in the same manner as in Example 1, except that the following operations were followed. Note 6) Method for measuring electrostatic properties E1/10 and E1/100 After the surface of the photoconductive layer was charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux. , the surface potential (V10) is 1/10 or E1/
The time required for the light to attenuate to 100 is determined, and the exposure amount E1/10 or E1/100 (lux/second) is calculated from this.

【0149】注7)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フィルム(株)製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮像
時の環境条件は、20℃65%RH(I)と30℃80
%RH(II)で実施した。但し、複写用の原稿(即ち
、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込み
を行なって作成したものを用いた。各感光材料において
は、光導電層の平滑性及び強度において、その差は認め
られなかった。しかし、静電特性において、比較例3は
、特に光感度E1/100 の値が大きく、これは高温
、高湿になるとより一層助長され、劣化してしまった。 本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更に、特定
の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例24は、非
常に良好であり、特にE1/100 の値が小さくなっ
た。  実際の撮像性を調べて見ると、比較例3は、複
写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の
枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認め
られた。しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れの
ない、鮮明な画像のものが得られた。
Note 7) Imageability After each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions, it was plate-made using a fully automatic plate-making machine EPL-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using EPL-T as a toner. The resulting copied image (fog, image quality) was visually evaluated. The environmental conditions during imaging were 20°C, 65% RH (I) and 30°C, 80°C.
%RH(II). However, the manuscript for copying (ie, the draft manuscript) was created by cutting out and pasting other manuscripts. No difference was observed in the smoothness and strength of the photoconductive layer among the photosensitive materials. However, in terms of electrostatic properties, Comparative Example 3 had a particularly large value of photosensitivity E1/100, which was further aggravated and deteriorated at high temperature and high humidity. The electrostatic properties of the photosensitive material of the present invention are good, and furthermore, Example 24 using the resin [A] having a specific substituent has very good properties, especially the value of E1/100 is small. . When examining the actual imaging performance, in Comparative Example 3, in addition to the original document, the frame of the cut out and pasted portion (that is, pasting trace) was observed as background stains in the non-image area. However, in all cases of the present invention, clear images without background stains were obtained.

【0150】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた。 しかし、比較例3は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑
性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良
好なものであった。さらに、樹脂〔AA〕を用いること
により静電特性がさらに向上することが判った。
Furthermore, when these were desensitized and printed as offset printing original plates, 10,000 prints with clear image quality and no background smudge were obtained for all of the products of the present invention. However, in Comparative Example 3, the above-mentioned pasting marks were not removed even with the desensitization treatment, and were generated from the printed matter. From the above, each of the photosensitive materials of the present invention was good in all respects of the smoothness of the photoconductive layer, film strength, electrostatic properties, and printability. Furthermore, it was found that the electrostatic properties were further improved by using resin [AA].

【0151】実施例25 樹脂〔A−23〕5g及び樹脂〔B−12〕g、酸化亜
鉛200g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.
04g、ブロムフェノールブルー0.03g、無水フタ
ル酸0.40g及びトルエン300gの混合物を、実施
例22と同様に以下操作して、感光材料を作成した。本
発明の感光材料を実施例22と同様に操作して各性能を
調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保持率、光感度に優
れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30℃,−80%
RH)の過酷な条件においても、地カブリの発生のない
、鮮明な画像を与えた。更に、これをオフセットマスタ
ーの原版として用いて印刷した所、1万枚の所でも鮮明
な画質の印刷物を得た。
Example 25 5 g of resin [A-23], 5 g of resin [B-12], 200 g of zinc oxide, 0.02 g of uranine, 0.0 g of rose bengal.
A light-sensitive material was prepared using a mixture of 0.04 g of bromophenol blue, 0.40 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene in the same manner as in Example 22. When the photosensitive materials of the present invention were operated in the same manner as in Example 22 and their respective properties were investigated, they were all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images were also stable at high temperatures and high humidity (30°C). ,-80%
Even under the harsh conditions of RH), it provided clear images without background fog. Furthermore, when this was used as an original plate for an offset master, prints with clear image quality were obtained even after printing 10,000 copies.

【0152】実施例26〜37 実施例25において、樹脂〔A−22〕5g及び樹脂〔
B−12〕35gの代わりに、下記表−Iの樹脂〔A〕
5g及び樹脂〔B〕35gを用いた他は、実施例25と
同様にして各感光材料を作製した。
Examples 26 to 37 In Example 25, 5 g of resin [A-22] and resin [
B-12] Instead of 35g, use the resin [A] in Table-I below.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 25, except that 5 g of resin [B] and 35 g of resin [B] were used.

【0153】[0153]

【表19】[Table 19]

【0154】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(
30℃、80%RH)の過酷な条件においても地カブリ
の発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。 更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万枚
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual reproduced images are also exposed to high temperatures and high humidity (
Even under harsh conditions (30°C, 80% RH), it provided clear images without background fog or skipped fine lines. Furthermore, when printed as an offset master original plate, clear prints with no background staining were obtained even after printing 10,000 sheets.

【0155】[0155]

【発明の効果】本発明によれば、静電特性〔とくに厳し
い条件下での静電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。式(Ia)又は(I
b)で示される特定のメタクリレート成分を含有する繰
り返し単位を本発明の樹脂に用いることにより、更に静
電特性が向上する。
Effects of the Invention According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor is provided which has excellent electrostatic properties (especially electrostatic properties under severe conditions), provides clear and high-quality images, and has further excellent mechanical strength. can be obtained. It is particularly effective for scanning exposure methods using semiconductor laser light. Formula (Ia) or (I
By using a repeating unit containing a specific methacrylate component shown in b) in the resin of the present invention, the electrostatic properties are further improved.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  無機光導電材料、分光増感色素及び結
着樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真
感光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少な
くとも1種及び下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有
して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分
として30重量%以上と、−PO3 H2 、−SO3
 H、−COOH、−P(=O)(OH)R1 〔R1
 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を
表す)を表す〕及び環状酸無水物基から選択される少な
くとも1種の極性基を有する重合体成分として0.5〜
15重量%とを含有する樹脂。 【化1】 式(I)中、a1 、a2 は各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。R3 は炭化水
素基を表す。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、
上記樹脂〔A〕で示される特定の極性基のうちから選択
される少なくとも1種の極性基を含有する少なくとも1
つの重合体成分を含有することから成るAブロックと上
記樹脂〔A〕における一般式(I)で示される重合体成
分を少なくとも含有するBブロックとから構成されるA
Bブロック共重合体。
Claim 1. An electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material, a spectral sensitizing dye, and a binder resin, wherein the binder resin comprises at least one of the following resins [A] and the following: An electrophotographic photoreceptor comprising at least one resin [B]. Resin [A] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104,
30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as polymer components, -PO3 H2, -SO3
H, -COOH, -P(=O)(OH)R1 [R1
represents a hydrocarbon group or -OR2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride group.
15% by weight. embedded image In formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R3 represents a hydrocarbon group. ] Resin [B] has a weight average molecular weight of 2 x 104 to 1 x 106,
At least one polar group containing at least one kind of polar group selected from the specific polar groups shown in the resin [A] above.
A composed of an A block containing at least one polymer component and a B block containing at least a polymer component represented by the general formula (I) in the resin [A].
B block copolymer.
【請求項2】  上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示
される共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記
一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレ
ート成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴
とする請求項1記載の電子写真感光体。 【化2】 【化3】 式(Ia)及び(Ib)中、A1 及びA2 は互いに
独立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩
素原子、−COR4又は−COOR4 (R4 は炭素
数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1 及びB
2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合又
は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
2. The resin [A] is one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib) as the copolymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, characterized in that it contains at least one. [Formula 2] [Formula 3] In formulas (Ia) and (Ib), A1 and A2 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, -COR4 or -COOR4 (R4 is represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and B1 and B
2 represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each of which links -COO- to a benzene ring. ]
【請求項3】  上記樹脂〔B〕において、全共重合体
中に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、
上記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体
成分の総量に対し10重量%〜50重量%であることを
特徴とする請求項1又は2記載の電子写真感光体。
3. In the resin [B], the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the entire copolymer is
3. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the amount is 10% by weight to 50% by weight based on the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the resin [A].
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