JPH04304697A - Manufacture of ceramic multilayer wiring board - Google Patents

Manufacture of ceramic multilayer wiring board

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JPH04304697A
JPH04304697A JP6971191A JP6971191A JPH04304697A JP H04304697 A JPH04304697 A JP H04304697A JP 6971191 A JP6971191 A JP 6971191A JP 6971191 A JP6971191 A JP 6971191A JP H04304697 A JPH04304697 A JP H04304697A
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JP
Japan
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wiring board
multilayer wiring
pattern
paste
ceramic multilayer
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Application number
JP6971191A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Okano
和之 岡野
Tatsuo Ogawa
立夫 小川
Mariko Ishikawa
真理子 石川
Ryo Kimura
涼 木村
Hideyuki Okinaka
秀行 沖中
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a method which manufactures a ceramic multilayer wiring board having an excellent surface evenness. CONSTITUTION:An insulation layer 5 or a conductor pattern 4 is installed on a heat resistant board. A conductor paste is printed and dried in pattern-shaped on the base film 3 and forms the conductor pattern 4. After the formation of the pattern 4, an insulation paste is printed and coated in such a fashion that it may cover the pattern 4 and dried, thereby forming a transfer sheet 9. The transfer sheet 9 to which a through hole 6a which penetrates the insulation layer is for at its specified position is laid out on the aforesaid heat resistant board and it is heated and contact-bonded and filled with a via conductor 6 from the rear side of the base film 3. And then, base film is peelded off. A ceramic multilayer wiring board is manufactured by repeating this process serveral times.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明はセラミック多層配線基板
の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a ceramic multilayer wiring board.

【0002】0002

【従来の技術】相互に接続された配線パターン層の3次
元的な配列を内部に有するセラミック多層配線基板は、
以下に述べるような方法によって製造される。
2. Description of the Related Art A ceramic multilayer wiring board has a three-dimensional array of interconnected wiring pattern layers inside.
It is manufactured by the method described below.

【0003】第1の方法は、いわゆるグリーンシート多
層法と呼ばれる方法であって、セラミックグリーンシー
ト上に導電体パターンが形成されたものに適当に貫通孔
を穿孔し、この孔に導電体を充填してビアホールとした
ものを位置合わせして何枚か重ね、加圧して一体化させ
た後、脱バインダ,焼成などの熱処理を施して緻密化さ
せるというプロセスに従う製造方法である(特公昭40
−8458号公報,特公昭55−7720号公報,特公
昭55−8837号公報,特公昭61−45876号公
報参照)。この方法では材料の焼結時に成形体の3次元
的な収縮が起こる。
The first method is the so-called green sheet multilayer method, in which a conductor pattern is formed on a ceramic green sheet, and a through hole is appropriately drilled, and the hole is filled with a conductor. This is a manufacturing method that follows the process of aligning and stacking several layers to form via holes, applying pressure to integrate them, and then applying heat treatment such as removing the binder and firing to make them denser.
(See Japanese Patent Publication No. 8458, Japanese Patent Publication No. 55-7720, Japanese Patent Publication No. 55-8837, and Japanese Patent Publication No. 61-45876). In this method, three-dimensional shrinkage of the compact occurs during sintering of the material.

【0004】第2の方法は、一般に厚膜印刷法と呼ばれ
る方法であって、焼結された基板上に導電体ペーストや
絶縁体ペーストを印刷,乾燥,焼成するというプロセス
を繰り返すことによって多層化を行うというものである
(特公昭57−19599号公報参照)。ビアホールの
形成は、絶縁体ペーストのパターン状印刷やフォトプロ
セス,レーザーの照射などによって行われる(特公昭5
9−29160号公報参照)。これらの他、上記二者の
組合せによるものなど、多くの製造方法が提案されてい
る。
The second method is generally called the thick film printing method, and is a method that repeats the process of printing, drying, and baking conductor paste or insulator paste on a sintered substrate to create a multilayer structure. (Refer to Japanese Patent Publication No. 57-19599). Via holes are formed by pattern printing of insulating paste, photo process, laser irradiation, etc.
9-29160). In addition to these, many other manufacturing methods have been proposed, including a combination of the above two methods.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述のように、グリー
ンシート多層法においては焼成時に収縮が起こるため、
意図したパターンの配置を崩すことなく製造するために
は、グリーンシートを作成するためのスラリー組成や粉
体の分散状態、あるいはシートの厚み,加圧条件などが
極めて精密に制御されなければならない。これが実現さ
れないと、焼成体にそりやうねりが生じ、さらに大きな
問題として各層間の位置ずれによるビアホールの導通不
良が起こる。また、実装密度を向上させるためにより微
細な回路パターンが要求される場合に、このような焼成
による収縮は生産歩留まり上致命的な問題点となる。
[Problems to be Solved by the Invention] As mentioned above, in the green sheet multilayer method, shrinkage occurs during firing;
In order to manufacture green sheets without disrupting the intended pattern arrangement, the composition of the slurry used to create the green sheets, the dispersion state of the powder, the thickness of the sheets, the pressure conditions, etc. must be controlled extremely precisely. If this is not achieved, warpage or waviness will occur in the fired body, and an even bigger problem will be poor conduction in via holes due to misalignment between layers. Further, when a finer circuit pattern is required to improve packaging density, such shrinkage due to firing becomes a fatal problem in terms of production yield.

【0006】一方、厚膜印刷法は、このようなグリーン
シート多層法の問題点を解決することができる。何故な
らば、この工法によれば焼成時の2次元方向における成
形体の寸法変化がなく、パターンの配置やビアホールの
位置がずれることがないからである。しかしながら、こ
の方法では導電体パターンの逆パターンを絶縁体ペース
トで形成するというやり方(特公昭57−54956号
公報,特公昭58−26680号公報)を行った上で、
さらに導電体パターン上に絶縁層を複数回印刷しなけれ
ば、表面が平坦で信頼性のある多層基板は得られない。 さらに、必要な層数だけ焼成を繰り返すということは、
導電体および絶縁体にそれらの焼成と同様な条件の熱履
歴を繰り返し与えなければならないという不都合を生じ
る。すなわち、導電体材料の絶縁層への拡散による絶縁
抵抗の劣化,熱による変質など、信頼性の観点から極め
て好ましくないという問題点を有する。
On the other hand, the thick film printing method can solve the problems of the green sheet multilayer method. This is because, according to this construction method, there is no dimensional change in the molded body in the two-dimensional direction during firing, and the pattern arrangement and the position of the via hole do not shift. However, in this method, a reverse pattern of the conductive pattern is formed using an insulating paste (Japanese Patent Publication No. 57-54956, Japanese Patent Publication No. 58-26680).
Furthermore, unless an insulating layer is printed multiple times on the conductor pattern, a reliable multilayer board with a flat surface cannot be obtained. Furthermore, repeating firing for the required number of layers means that
This results in the inconvenience that the conductor and insulator must be repeatedly subjected to thermal history under conditions similar to those used for firing them. That is, there are problems such as deterioration of insulation resistance due to diffusion of the conductive material into the insulating layer and deterioration due to heat, which are extremely undesirable from the viewpoint of reliability.

【0007】また、厚膜印刷法の利点、つまりパターン
のずれが起こらないということを生かしながら、その欠
点を改善する方法として、焼結基板上に導電体パターン
を形成した後に絶縁体グリーンシートを重ねて圧着し、
さらに導電体パターンを印刷した後、前記絶縁体グリー
ンシートを重ねて圧着するという工程を繰り返して積層
体を形成し、その後熱処理を行うというプロセスが、特
開平1−100997号公報に示されている。しかしな
がら、この方法には、導電体パターン層によって生じる
絶縁体層上の段差をなくすことができず、積層数が多く
なったときに導電体パターンの印刷に支障をきたすだけ
でなく、例えば、非常に平滑な表面が要求されるセラミ
ック多層基板を製造することができないという問題点が
ある。
[0007] In addition, as a method to improve the disadvantages of the thick film printing method while taking advantage of the advantage of not causing pattern displacement, an insulator green sheet is applied after forming a conductor pattern on a sintered substrate. Overlap and crimp,
JP-A-1-100997 discloses a process in which a conductive pattern is further printed, the insulating green sheets are stacked and pressure bonded, and a laminate is formed by repeating the process, followed by heat treatment. . However, this method cannot eliminate the level difference on the insulator layer caused by the conductor pattern layer, which not only hinders the printing of the conductor pattern when the number of laminated layers increases, but also causes problems such as However, there is a problem in that it is not possible to manufacture ceramic multilayer substrates that require a smooth surface.

【0008】本発明は、上記従来の課題を解決し、表面
の平坦性に優れたセラミック多層基板を生産性良く提供
すること及び、極めて精巧なビアホール形成方法を歩留
まり良く安価に作成できるセラミック多層配線基板の製
造方法を提供することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a ceramic multilayer substrate with excellent surface flatness with high productivity, and a ceramic multilayer wiring that can be produced at low cost with a high yield using an extremely sophisticated method for forming via holes. The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing a substrate.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、ベースフィルム上に導電体ペーストをパター
ン状に印刷,乾燥して導電体パターンを形成した後それ
を覆うように絶縁体ペーストを印刷または塗布し乾燥し
て絶縁層を形成することにより転写シートを構成し、耐
熱性基板上に前記転写シートを配置し加熱圧着して前記
導電体パターン及び絶縁層を転写した後に前記ベースフ
ィルムを剥離する工程を繰り返し、前記導電体パターン
及び絶縁層を複数層積層するセラミック多層配線基板の
製造方法を提供するものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention prints a conductor paste in a pattern on a base film, dries it to form a conductor pattern, and then pastes an insulator to cover it. A transfer sheet is formed by printing or coating and drying to form an insulating layer, and after the transfer sheet is placed on a heat-resistant substrate and heat-pressed to transfer the conductor pattern and the insulating layer, the base film is transferred. The present invention provides a method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board, in which a plurality of the conductor patterns and insulating layers are laminated by repeating the peeling process.

【0010】また、本発明は上記方法において、転写シ
ートの所定の位置に貫通孔を形成し、かつ圧着された転
写シートのベースフィルム裏面側から貫通孔内に導電体
ペーストもしくは導電体粉末を充填し、ベースフィルム
を剥離することでビアホールを形成するものである。
[0010] Furthermore, in the above method, the present invention includes forming a through hole at a predetermined position of the transfer sheet, and filling the through hole with conductive paste or conductive powder from the back side of the base film of the pressed transfer sheet. Then, the via hole is formed by peeling off the base film.

【0011】[0011]

【作用】本発明は、転写シートを製造する際に導電体パ
ターンを絶縁体層が覆うように形成されるため、絶縁体
ペーストの流動によって導電体パターンの凹凸が平滑化
され、さらにこれを熱転写してベースフィルムを剥離し
た面が積層体の表面を構成するので、得られるセラミッ
ク多層配線基板の表面平坦性が極めて向上する。また、
ビアホールを充填する工程が熱転写工程の一部として構
成されているため工程の短縮を行うことができる。
[Operation] In the present invention, when manufacturing a transfer sheet, an insulating layer is formed to cover a conductive pattern, so the unevenness of the conductive pattern is smoothed by the flow of the insulating paste, and this is further thermally transferred. Since the surface from which the base film is peeled constitutes the surface of the laminate, the surface flatness of the resulting ceramic multilayer wiring board is greatly improved. Also,
Since the process of filling the via hole is configured as part of the thermal transfer process, the process can be shortened.

【0012】0012

【実施例】以下、本発明の一実施例のセラミック多層配
線基板について説明する。
[Embodiment] A ceramic multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention will be described below.

【0013】(実施例1)本発明によるセラミック多層
配線基板製造の第1の実施例を図1(a)〜(e)、図
2(a)〜(c)を参照して説明する。図1(a)〜(
e)は、各工程におけるセラミック多層配線基板の断面
図、図2(a)〜(c)は転写シートの製造工程を示す
断面図である。
(Embodiment 1) A first embodiment of manufacturing a ceramic multilayer wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1(a) to (e) and FIGS. 2(a) to (c). Figures 1(a)-(
e) is a cross-sectional view of the ceramic multilayer wiring board in each step, and FIGS. 2(a) to (c) are cross-sectional views showing the manufacturing process of the transfer sheet.

【0014】まず、転写シート9の製造工程について、
図2(a)〜(c)を参照しながら説明する。ベースフ
ィルム3上に銀ペーストをパターン状にスクリーン印刷
し、乾燥して膜厚15〜20μmの導電体パターン4を
形成した(図2(a)参照)。本実施例ではベースフィ
ルムとして、寸法精度がよく安価なPETフィルム(東
レ製、厚み75μm)を用いた。また本実施例では、導
電体として市販の銀ペースト(昭栄化学製、H−456
6)、絶縁体ペーストとしてアルミナを主成分とするガ
ラス−セラミック粉末を、ブチラール樹脂とフタル酸ジ
オクチルおよびブチルカルビトールを相溶させたビヒク
ルに分散させたものを用いた。この導電体パターン4を
覆うように98×98mmの大きさで前述の絶縁体ペー
ストをスクリーン印刷し、乾燥を行って絶縁体層5を形
成した。絶縁体層5の膜厚および導電体パターン4のあ
る部分とない部分の段差は、絶縁体ペーストの粘度や印
刷条件に依存するが、本実施例ではスクリーン印刷版,
スキージ形状および硬度,スキージ速度などを調節する
ことにより、一回の印刷でそれぞれ約55μm,約5μ
mとなるようにした。ピンホールの発生による絶縁体の
絶縁劣化を避けるために印刷,乾燥は二回行った。この
ようにして絶縁体層5の厚み約100μm、前述の段差
が約3μmである転写シート9が得られた(図2(b)
参照)。この転写シート9の導電体パターン4のランド
部分に、炭酸ガスレーザーを用いて貫通孔6aをあけ、
図2(c)に示す転写シート9が得られた。本実施例で
はレーザーのパワーと照射条件を適当に調節して貫通孔
6a径を約0.2mmとしたが、本発明者等の実験によ
れば約0.05mm程度の大きさの孔径を得ることも可
能あった。言うまでもなく、貫通孔6aをあけるにはそ
の他の種々な穿孔方法、例えばパンチング,ドリルなど
を利用してもよい。
First, regarding the manufacturing process of the transfer sheet 9,
This will be explained with reference to FIGS. 2(a) to 2(c). Silver paste was screen printed in a pattern on the base film 3 and dried to form a conductor pattern 4 with a film thickness of 15 to 20 μm (see FIG. 2(a)). In this example, an inexpensive PET film (manufactured by Toray Industries, Ltd., thickness 75 μm) with good dimensional accuracy was used as the base film. In addition, in this example, a commercially available silver paste (manufactured by Shoei Chemical Co., Ltd., H-456) was used as a conductor.
6) As an insulating paste, a glass-ceramic powder containing alumina as a main component was used, which was dispersed in a vehicle in which butyral resin, dioctyl phthalate, and butyl carbitol were made compatible. The above-mentioned insulating paste was screen printed to cover the conductor pattern 4 in a size of 98 x 98 mm, and dried to form an insulating layer 5. The thickness of the insulating layer 5 and the level difference between the part with the conductive pattern 4 and the part without it depend on the viscosity of the insulating paste and the printing conditions, but in this example, the screen printing plate,
By adjusting the squeegee shape, hardness, squeegee speed, etc., each print can print approximately 55μm and 5μm, respectively.
m. Printing and drying were performed twice to avoid deterioration of the insulation due to pinholes. In this way, a transfer sheet 9 was obtained in which the thickness of the insulating layer 5 was about 100 μm and the above-mentioned level difference was about 3 μm (FIG. 2(b)).
reference). A through hole 6a is made in the land portion of the conductor pattern 4 of this transfer sheet 9 using a carbon dioxide laser.
A transfer sheet 9 shown in FIG. 2(c) was obtained. In this embodiment, the diameter of the through hole 6a was set to approximately 0.2 mm by appropriately adjusting the laser power and irradiation conditions, but according to experiments conducted by the present inventors, a hole diameter of approximately 0.05 mm was obtained. It was also possible. Needless to say, various other drilling methods such as punching, drilling, etc. may be used to form the through hole 6a.

【0015】次に図1(a)〜(e)を用いて説明する
。まず100×100mm、厚さ0.6mmの96%ア
ルミナ基板1上に、前述のベースフィルム3と導電体パ
ターン4と絶縁体層5とからなり、これに貫通孔6aを
形成した転写シート9を配置し、40kg/cm2、1
00℃、10秒の条件で熱圧着する。絶縁体層5の大き
さは98×98mmであった(図1(b)参照)。次に
、転写シート9の貫通孔6aに前述と同様な銀ペースト
を用いてスクリーン印刷と同じ要領でスキージによって
充填し、ビア導体6とする。すなわち、この際にベース
フィルム3がマスクの代用としての働きを行うわけであ
る。 このときのスキージング動作は、一方向だけでも十分で
あるが、逆向きの二方向、好ましくは四方向にわたって
繰り返すと、より完全に充填が行える。このようにして
ビア導体6の充填を行った後、ベースフィルム3を剥離
した状態が図2(c)である。ベースフィルム3の剥離
は、前述のような市販の厚膜導体ペーストを用いた場合
には、ビア導体6の充填後ペーストが乾燥しないうちに
行ったほうがよいが、導電体粉末を別の方法で充填する
場合にはこの限りではない。
Next, explanation will be given using FIGS. 1(a) to 1(e). First, on a 96% alumina substrate 1 of 100 x 100 mm and 0.6 mm thick, a transfer sheet 9 consisting of the above-mentioned base film 3, conductor pattern 4, and insulator layer 5 with through holes 6a formed therein is placed. Placed, 40kg/cm2, 1
Thermocompression bonding is performed at 00°C for 10 seconds. The size of the insulator layer 5 was 98×98 mm (see FIG. 1(b)). Next, the through holes 6a of the transfer sheet 9 are filled with the same silver paste as described above using a squeegee in the same manner as screen printing to form via conductors 6. That is, at this time, the base film 3 functions as a substitute for a mask. At this time, it is sufficient to perform the squeezing operation in only one direction, but if the squeezing operation is repeated in two opposite directions, preferably in four directions, more complete filling can be achieved. After filling the via conductors 6 in this manner, the base film 3 is peeled off, as shown in FIG. 2(c). When using a commercially available thick-film conductor paste as described above, it is better to peel off the base film 3 before the paste dries after filling the via conductors 6. This does not apply when filling.

【0016】さらに、転写シート9の配置,熱圧着,ビ
ア導体6の充填およびベースフィルム3の剥離を前述と
同様に4回繰り返すことによって、図1(e)に示す積
層体が得られた。この状態での積層体表面の平坦性は±
5μmであった。これを大気中で、常温から100℃ま
で約15分、その後昇温速度30℃/hで520℃まで
昇温、その温度で3時間保持した後放冷するというプロ
ファイルで脱バインダを行った後、大気中、ベルト炉で
ピーク温度890℃、保持時間10分の熱処理を施した
。これらの熱処理により得られたセラミック多層配線基
板の表面平坦性は±3μmであって絶縁層5の亀裂や導
電体パターン4の断線および導電体パターン4間の導通
不良などは認められなかった。
Further, the arrangement of the transfer sheet 9, thermocompression bonding, filling of the via conductor 6, and peeling of the base film 3 were repeated four times in the same manner as described above, to obtain the laminate shown in FIG. 1(e). The flatness of the laminate surface in this state is ±
It was 5 μm. After removing the binder in the atmosphere, the temperature was raised from room temperature to 100°C for about 15 minutes, then raised to 520°C at a rate of 30°C/h, held at that temperature for 3 hours, and then left to cool. , heat treatment was performed in the air in a belt furnace at a peak temperature of 890° C. and a holding time of 10 minutes. The surface flatness of the ceramic multilayer wiring board obtained by these heat treatments was ±3 μm, and no cracks in the insulating layer 5, disconnections in the conductive patterns 4, or poor continuity between the conductive patterns 4 were observed.

【0017】以上のように本実施例によれば96%アル
ミナ基板1の片方の面に、表面平滑性に優れた内層導体
4層,表層導体1層のセラミック多層配線基板を形成す
ることができる。このセラミック多層配線基板は、従来
の厚膜多層法によるセラミック多層配線基板と同様な特
性、すなわち高強度,高放熱性などを有していることは
言うまでもない。また、容易に類推できるように、より
高密度の実装という要請から導体層数を増加させること
は、絶縁体ペーストおよび導電体ペースト中の無機粉体
の性質や有機バインダおよび可塑剤の性質、それらの配
合比を考慮することにより行うことができる。本実施例
で作成した導電体パターン4は最小線幅が100μm、
線間が125μmであったので前述のようにスクリーン
印刷を適用したが、さらに精密なパターンが必要な場合
にはオフセット印刷やフォトリソグラフィーの技術が適
用できる。
As described above, according to this embodiment, a ceramic multilayer wiring board having four inner conductor layers and one surface conductor layer with excellent surface smoothness can be formed on one side of the 96% alumina substrate 1. . Needless to say, this ceramic multilayer wiring board has the same characteristics as the conventional ceramic multilayer wiring board produced by the thick film multilayer method, such as high strength and high heat dissipation. In addition, as can be easily inferred, increasing the number of conductor layers due to the requirement for higher density packaging depends on the properties of the inorganic powder, the organic binder and plasticizer in the insulator paste and conductor paste, and the properties of the organic binder and plasticizer. This can be done by considering the blending ratio of. The conductor pattern 4 created in this example has a minimum line width of 100 μm,
Since the line spacing was 125 μm, screen printing was applied as described above, but if a more precise pattern is required, offset printing or photolithography techniques can be applied.

【0018】(実施例2)本発明の第2の実施例を図3
(a)〜(e)を参照しながら説明する。図3(a)〜
(e)は、図1(a)〜(e)と同様、各工程における
セラミック多層配線基板の断面図を示す。
(Embodiment 2) A second embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be explained with reference to (a) to (e). Figure 3(a)~
1(e) shows a cross-sectional view of the ceramic multilayer wiring board at each step, similar to FIGS. 1(a) to 1(e).

【0019】まず、本実施例に用いる転写シート9の製
造について述べる。本実施例の導電体は酸化銅ペースト
であって、実施例1で使用した銀と同程度の抵抗値(2
〜3mΩ/□)を得るためには乾燥膜厚を40μmと厚
くしなければならないため、転写シート9を作るために
次のような方法を用いた。つまり、本実施例の転写シー
ト9では、導電体ペーストとして酸化銅粉末(試薬、半
井化学製)を前述と同様のビヒクルに分散させたものを
用いて、膜厚40μmの導電体パターン4を形成した後
、このパターンの逆パターンのスクリーン印刷版で絶縁
体ペーストを印刷して、その後実施例1と同様に絶縁体
ペーストの印刷を行い、絶縁体層5の厚み約130μm
、導電体パターンのある部分とない部分の段差が約3μ
mである転写シート9を得た。次に、この転写シート9
の導電体パターン4のランド部分に、実施例1と同様の
方法で貫通孔6aをあけ、転写シート9を得た。
First, the production of the transfer sheet 9 used in this embodiment will be described. The conductor in this example is a copper oxide paste, which has a resistance similar to that of the silver used in Example 1 (2
~3 mΩ/□), the dry film thickness had to be increased to 40 μm, so the following method was used to make the transfer sheet 9. That is, in the transfer sheet 9 of this example, a conductive pattern 4 having a thickness of 40 μm is formed using a conductive paste in which copper oxide powder (reagent, manufactured by Hanui Chemical Co., Ltd.) is dispersed in the same vehicle as described above. After that, an insulating paste was printed using a screen printing plate with a reverse pattern to this pattern, and then the insulating paste was printed in the same manner as in Example 1, so that the thickness of the insulating layer 5 was about 130 μm.
, the difference in level between the part with the conductor pattern and the part without it is about 3μ.
A transfer sheet 9 having a size of m was obtained. Next, this transfer sheet 9
A through hole 6a was made in the land portion of the conductor pattern 4 in the same manner as in Example 1 to obtain a transfer sheet 9.

【0020】まず100×100mm、厚さ0.8mm
の99%アルミナ基板1上に、アルミナを主成分とする
ガラス−セラミック粉末を、ブチラール樹脂とアジピン
酸ジオクチルおよびブチルカルビトールを相溶させたビ
ヒクルに分散させた絶縁体ペーストを98×98mmの
大きさにスクリーン印刷して乾燥し、膜厚30μmの絶
縁体層2を設けた(図3(a))。この上に前述の絶縁
体層5の大きさが98×98mmの転写シート9を配置
し、40kg/cm2、100℃、3秒の条件で熱圧着
した(図3(b))。
[0020] First, 100×100mm, thickness 0.8mm
An insulating paste with a size of 98 x 98 mm is placed on a 99% alumina substrate 1 of This was then screen printed and dried to form an insulator layer 2 with a thickness of 30 μm (FIG. 3(a)). The transfer sheet 9 having the aforementioned insulating layer 5 having a size of 98 x 98 mm was placed on top of this, and thermocompression bonded at 40 kg/cm 2 , 100° C., and 3 seconds (FIG. 3(b)).

【0021】次に、転写シート9の貫通孔6aに前述と
同じ酸化銅ペーストを用いて実施例1と同じ要領で充填
する(図3(c))。このようにしてビア導体6の充填
を行った後、ベースフィルム3を剥離した状態が図3(
d)である。
Next, the through holes 6a of the transfer sheet 9 are filled with the same copper oxide paste as described above in the same manner as in Example 1 (FIG. 3(c)). Figure 3 (
d).

【0022】さらに、転写シート9の配置,熱圧着,ビ
アの充填およびベースフィルムの剥離を前述と同様に4
回繰り返すことによって、図3(e)に示す積層体が得
られた。この状態での積層体表面の平坦性は±3μmで
あった。これを実施例1と同様なプロファイルで脱バイ
ンダを行った後、水素気流中350℃で3時間の還元を
行って酸化銅を銅に変化させた。この後、窒素中、ベル
ト炉でピーク温度890℃、保持時間10分の熱処理を
施した。これらの熱処理により得られたセラミック多層
配線基板の表面平坦性は±1.5μmであって絶縁層の
亀裂や配線パターンの断線および配線層間の導通不良な
どは認められなかった。
Furthermore, the arrangement of the transfer sheet 9, thermocompression bonding, filling of vias, and peeling of the base film were performed in the same manner as described above.
By repeating the process several times, a laminate shown in FIG. 3(e) was obtained. The flatness of the surface of the laminate in this state was ±3 μm. The binder was removed using the same profile as in Example 1, and then reduction was performed at 350° C. for 3 hours in a hydrogen stream to convert copper oxide to copper. Thereafter, heat treatment was performed in a belt furnace in nitrogen at a peak temperature of 890° C. for a holding time of 10 minutes. The surface flatness of the ceramic multilayer wiring board obtained by these heat treatments was ±1.5 μm, and no cracks in the insulating layer, disconnections in the wiring pattern, or poor conductivity between wiring layers were observed.

【0023】以上のように、本実施例によれば、導電体
パターン4の膜厚が大きい場合においても、実施例1と
同様、表面の平坦性に優れたセラミック多層配線基板を
製造できることがわかる。このセラミック多層配線基板
もまた従来の厚膜多層法によるセラミック多層配線基板
と同様な特性、すなわち高強度,高放熱性などを有して
いることは言うまでもない。また、容易に類推できるよ
うに、より高密度の実装という要請から導体層数を増加
させることは、絶縁体ペーストおよび導電体ペースト中
の無機粉体の性質や有機バインダおよび可塑剤の性質、
それらの配合比を考慮することにより行うことができる
。本実施例で作成した導電体パターン4は最小線幅が1
00μm、線間が125μmであったので前述のように
スクリーン印刷を適用したが、さらに精密なパターンが
必要な場合にはオフセット印刷やフォトリソグラフィの
技術が適用できる。
As described above, it can be seen that according to this example, a ceramic multilayer wiring board with excellent surface flatness can be manufactured as in Example 1 even when the thickness of the conductive pattern 4 is large. . It goes without saying that this ceramic multilayer wiring board also has the same characteristics as the conventional ceramic multilayer wiring board produced by the thick film multilayer method, such as high strength and high heat dissipation. Furthermore, as can be easily inferred, increasing the number of conductor layers due to the demand for higher density packaging is due to
This can be done by considering their blending ratio. The conductor pattern 4 created in this example has a minimum line width of 1
00 μm and the line spacing was 125 μm, so screen printing was applied as described above, but if a more precise pattern is required, offset printing or photolithography techniques can be applied.

【0024】(実施例3)本発明の第3の実施例を図4
(a)〜(h)を参照して説明する。図4(a)〜(h
)は、各工程におけるセラミック多層配線基板の断面図
を示す。まず100×100mm、厚さ0.8mmのス
テアタイト基板10上に実施例2と同じ絶縁体ペースト
で同様な絶縁体層2を形成した(図4(a))。次に、
(b)において基板1および絶縁体層2を貫通する貫通
孔7aを炭酸ガスレーザーを用いて穿孔した後、従来の
真空吸着を利用したビア充填装置(岩谷産業(株))を
用いて実施例2に示した酸化銅ペーストを貫通孔7aに
充填し、ビア導体7とした(図4(c))。これの径は
0.3mmとなるようにレーザーの条件を設定した。充
填された酸化銅ペーストを乾燥した後、ビア導体7と位
置合わせを行って実施例2と同様な転写シート9を配置
し同様の条件で熱転写した(図4(d))。その後、図
4(e),(f)に示すように実施例2と同じプロセス
を経て、図4(g)に示す積層体を得た。さらに、ステ
アタイト基板10の裏面にビア導体7に位置合わせして
導電体パターン8を印刷形成し、図4(h)に示す積層
体とした。導電体パターン8のペーストは、市販の酸化
銅ペースト(京都エレックス製、DD−3100)に硼
硅酸ガラス粉末(日本電気ガラス製、GA−1)を酸化
銅に対して2.5wt%添加したものを用いた。ガラス
の添加は、導電体パターン8のステアタイト基板10に
対する接着力を考慮した措置である。この後、実施例2
と同じプロセスで熱処理を行い、前記二つの実施例と同
様表面平坦性に優れたセラミック多層配線基板が得られ
た。 言うまでもなく、本実施例のセラミック多層配線基板も
、絶縁層5の亀裂,欠陥、あるいは導電体パターン4の
間の導通不良などは全く認められなかった。
(Embodiment 3) A third embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be explained with reference to (a) to (h). Figures 4(a) to (h)
) shows cross-sectional views of the ceramic multilayer wiring board at each step. First, a similar insulating layer 2 was formed using the same insulating paste as in Example 2 on a steatite substrate 10 of 100×100 mm and 0.8 mm thick (FIG. 4(a)). next,
In (b), a through hole 7a penetrating the substrate 1 and the insulator layer 2 was drilled using a carbon dioxide laser, and then a conventional via filling device using vacuum suction (manufactured by Iwatani Sangyo Co., Ltd.) was used to perform the example. The through hole 7a was filled with the copper oxide paste shown in No. 2 to form the via conductor 7 (FIG. 4(c)). The laser conditions were set so that the diameter of this was 0.3 mm. After drying the filled copper oxide paste, it was aligned with the via conductor 7, a transfer sheet 9 similar to that in Example 2 was placed, and thermal transfer was performed under the same conditions (FIG. 4(d)). Thereafter, as shown in FIGS. 4(e) and 4(f), the same process as in Example 2 was carried out to obtain the laminate shown in FIG. 4(g). Furthermore, a conductor pattern 8 was printed on the back surface of the steatite substrate 10 in alignment with the via conductor 7, resulting in a laminate shown in FIG. 4(h). The paste for conductor pattern 8 was prepared by adding 2.5 wt% of borosilicate glass powder (GA-1, Nippon Electric Glass) to a commercially available copper oxide paste (DD-3100, manufactured by Kyoto Elex) based on copper oxide. I used something. The addition of glass is a measure taken in consideration of the adhesive strength of the conductor pattern 8 to the steatite substrate 10. After this, Example 2
Heat treatment was carried out in the same process as above, and a ceramic multilayer wiring board with excellent surface flatness as in the above two examples was obtained. Needless to say, in the ceramic multilayer wiring board of this example, no cracks or defects in the insulating layer 5 or poor continuity between the conductor patterns 4 were observed at all.

【0025】本実施例では、基板裏面の導電体パターン
8として酸化銅ペーストを用いて熱処理を一括で行った
が、このステアタイト基板10に対する密着力が不十分
である場合には、図4(g)の段階で上記一連の熱処理
を行い、その後市販の銅ペーストで導電体パターン8を
形成し窒素中で焼成するというプロセスを行うこともで
きる。この時、必要に応じてソルダーレジストあるいは
保護材としてのガラスペーストを施しておいてもよい。
In this embodiment, copper oxide paste was used as the conductive pattern 8 on the back side of the substrate, and heat treatment was performed all at once. However, if the adhesion to the steatite substrate 10 is insufficient, as shown in FIG. It is also possible to carry out a process in which the series of heat treatments described above are performed in step g), and then the conductor pattern 8 is formed using a commercially available copper paste and fired in nitrogen. At this time, a solder resist or a glass paste as a protective material may be applied as necessary.

【0026】本実施例の(d)の工程において、ビアホ
ールの個数が多く、その径が小さいため位置合わせ精度
が要求されるような場合には、図6(a)〜(h)に示
した製造方法を適用して行うことができる。すなわち、
図6(a)において、ステアタイト基板1上に配線とラ
ンドを兼ねた導電体パターン4′を形成した後、これの
逆パターンを絶縁体ペーストで形成して絶縁体層2とす
る。次に図6(b)で導電体パターン4′の指定された
位置に炭酸ガスレーザーで貫通孔7aを形成し、その後
図6(c)以下に示すように、本実施例と同様な方法で
製造する。このようにすれば、転写シート9との位置合
わせ時のズレによるビア導体7の導通不良が防止できる
。ここで、容易に考えられるように、導電体パターン4
′の膜厚が大きくない場合には、前述のような絶縁体ペ
ーストによる逆パターン印刷は必要なく、導電体パター
ン4′の印刷乾燥後直ちに転写シート9の熱圧着を行っ
てもよい。
In the step (d) of this embodiment, when the number of via holes is large and their diameters are small, alignment accuracy is required, as shown in FIGS. 6(a) to (h). This can be done by applying a manufacturing method. That is,
In FIG. 6(a), a conductor pattern 4' serving as wiring and a land is formed on a steatite substrate 1, and then a reverse pattern of this is formed with an insulator paste to form an insulator layer 2. Next, as shown in FIG. 6(b), a through hole 7a is formed in the designated position of the conductor pattern 4' using a carbon dioxide laser, and then as shown in FIG. Manufacture. In this way, poor conduction of the via conductor 7 due to misalignment with the transfer sheet 9 can be prevented. Here, as can be easily considered, the conductor pattern 4
If the film thickness of conductor pattern 4' is not large, there is no need to print the reverse pattern using insulating paste as described above, and thermocompression bonding of transfer sheet 9 may be carried out immediately after printing and drying of conductor pattern 4'.

【0027】以上のように本実施例によればステアタイ
ト基板10の両方の面に表面平滑性に優れた内層導体4
層,表層導体2層のセラミック多層配線基板を形成する
ことができる。この多層配線基板は、従来の厚膜多層法
によるセラミック多層配線基板と同様な特性、すなわち
高強度,高放熱性などを有していることは言うまでもな
い。また、容易に類推できるように、より高密度の実装
という要請から導体層数を増加させることは、絶縁体ペ
ーストおよび導電体ペースト中の無機粉体の性質や有機
バインダおよび可塑剤の性質、それらの配合比を考慮す
ることにより行うことができる。本実施例で作成した導
電体パターン4は最小線幅が100μm、線間が125
μmであったので前述のようにスクリーン印刷を適用し
たが、さらに精密なパターンが必要な場合にはオフセッ
ト印刷やフォトリソグラフィーの技術が適用できる。
As described above, according to this embodiment, the inner layer conductor 4 having excellent surface smoothness is formed on both sides of the steatite substrate 10.
A ceramic multilayer wiring board having two layers of surface conductors can be formed. Needless to say, this multilayer wiring board has characteristics similar to those of the conventional ceramic multilayer wiring board produced by the thick film multilayer method, such as high strength and high heat dissipation. In addition, as can be easily inferred, increasing the number of conductor layers due to the requirement for higher density packaging depends on the properties of the inorganic powder, the organic binder and plasticizer in the insulator paste and conductor paste, and the properties of the organic binder and plasticizer. This can be done by considering the blending ratio of. The conductor pattern 4 created in this example has a minimum line width of 100 μm and a line spacing of 125 μm.
Since the size was μm, screen printing was applied as described above, but if a more precise pattern is required, offset printing or photolithography techniques can be applied.

【0028】(実施例4)本発明の第4の実施例を図5
(a)〜(h)を参照しながら説明する。図5(a)〜
(h)は、図1(a)〜(e)と同様、各工程における
セラミック多層配線基板の断面図を示す。まず100×
100mm、厚さ0.6mmの96%アルミナ基板1に
、アルミナを主成分とするガラス−セラミック粉末を、
ブチラール樹脂とアジピン酸ジオクチルおよびブチルカ
ルビト−ルを相溶させたヒビクルに分散させた絶縁体ペ
ースト98×98mmの大きさにスクリーン印刷して乾
燥する工程を2回、表と裏に施すことにより、膜厚20
μmの絶縁体層2を設けた(図5(a))。言うまでも
なく、この工程において図6(a)に示すような絶縁体
層2と導電体層の組合せを設けてもよい。次に、実施例
3と同様に96%アルミナ基板1と絶縁体層2を貫通す
る貫通孔7aを炭酸ガスレーザーで穿孔し、同様な方法
で酸化銅ペーストを充填してビア導体7とした(図5(
b))。以下、実施例3と同様に転写シート9の熱圧着
,ビアの充填,ベースフィルム3の剥離を繰り返すこと
により図5(f)に示す積層体を得た。さらに、以上の
プロセスを96%アルミナ基板1の裏面に対して繰り返
し行い、図5(g)に示す積層体を得た。これを実施例
2と同じ方法で熱処理し、前記実施例1〜3と同様表面
平坦性に優れたセラミック多層配線基板が得られた。 言うまでもなく、本実施例のセラミック多層配線基板も
、絶縁層5の亀裂,欠陥あるいは導電体パターン4間の
導通不良などは全く認められなかった。
(Embodiment 4) A fourth embodiment of the present invention is shown in FIG.
This will be explained with reference to (a) to (h). Figure 5(a)~
1(h) shows a cross-sectional view of the ceramic multilayer wiring board at each step, similar to FIGS. 1(a) to 1(e). First 100×
Glass-ceramic powder containing alumina as a main component was placed on a 96% alumina substrate 1 of 100 mm and 0.6 mm thick.
An insulating paste prepared by dispersing butyral resin, dioctyl adipate, and butyl carbitol in a compatible vehicle is screen printed on a size of 98 x 98 mm and dried twice on the front and back sides. Thickness 20
An insulator layer 2 of μm thickness was provided (FIG. 5(a)). Needless to say, in this step, a combination of the insulating layer 2 and the conductive layer as shown in FIG. 6(a) may be provided. Next, as in Example 3, a through hole 7a penetrating the 96% alumina substrate 1 and the insulator layer 2 was bored using a carbon dioxide laser, and a copper oxide paste was filled in the same manner to form a via conductor 7 ( Figure 5 (
b)). Thereafter, in the same manner as in Example 3, thermocompression bonding of the transfer sheet 9, filling of vias, and peeling of the base film 3 were repeated to obtain the laminate shown in FIG. 5(f). Furthermore, the above process was repeated on the back surface of the 96% alumina substrate 1 to obtain a laminate shown in FIG. 5(g). This was heat-treated in the same manner as in Example 2, and a ceramic multilayer wiring board having excellent surface flatness as in Examples 1 to 3 was obtained. Needless to say, in the ceramic multilayer wiring board of this example, no cracks or defects in the insulating layer 5 or poor continuity between the conductor patterns 4 were observed.

【0029】本実施例では、転写シート9の積層工程図
5(d),(c),(f)の繰り返しを96%アルミナ
基板1の片面ごとに行っているが、容易に考えられるよ
うに両面一層ずつ同時に行ってもなんら差し支えない。 また、本実施例および実施例3では耐熱性基板の穿孔を
レーザーを用いて行っているが、あらかじめグリーンシ
ートに穿孔した後焼成された基板を用いてもよい。この
場合には、孔中にペーストが流れこまないような印刷版
を使用する。
In this embodiment, steps (d), (c), and (f) in the lamination process of the transfer sheet 9 are repeated for each side of the 96% alumina substrate 1. There is no problem in doing it on both sides one layer at a time. Further, in this example and Example 3, the heat-resistant substrate is perforated using a laser, but a substrate that has been previously perforated in a green sheet and then fired may be used. In this case, use a printing plate that does not allow paste to flow into the holes.

【0030】以上のように本実施例によれば96%アル
ミナ基板1の両方の面に表面平滑性に優れた内層導体8
層、表層導体2層のセラミック多層配線基板を形成する
ことができる。この多層配線基板は、従来の厚膜多層法
によるセラミック多層配線基板と同様な特性、すなわち
高強度,高放熱性などを有していることは言うまでもな
い。また、容易に類推できるように、より高密度の実装
という要請から導体層数を増加させることは、前述の実
施例と同様に行うことができる。
As described above, according to this embodiment, the inner layer conductor 8 having excellent surface smoothness is provided on both surfaces of the 96% alumina substrate 1.
A ceramic multilayer wiring board having two layers of surface conductors can be formed. Needless to say, this multilayer wiring board has characteristics similar to those of the conventional ceramic multilayer wiring board produced by the thick film multilayer method, such as high strength and high heat dissipation. Further, as can be easily inferred, increasing the number of conductor layers in response to the request for higher density packaging can be done in the same manner as in the above-described embodiments.

【0031】以上の実施例に対する比較として、図1(
e)に示した構造のものを実施例1で使用したのと同様
のペーストを用いてスクリーン印刷法でアルミナ基板上
に形成したビア導体6を形成するのが困難で、絶縁体ペ
ーストによって孔が塞がれてしまうというケースが多発
した。また、積層数が増えるにつれ内部導体のある部分
とない部分の段差が非常に大きくなり、4層目の導電体
パターン4を印刷する際にはこの段差による印刷障害の
ためかすれや断線が発生した。熱処理を行ったものにつ
いては、段差のある部分での絶縁層5や導電体パターン
4の裂断が多く、ビア導体6の導通不良も多発していた
As a comparison with the above embodiments, FIG.
With the structure shown in e), it was difficult to form the via conductor 6 formed on the alumina substrate by the screen printing method using the same paste as used in Example 1, and the holes were formed by the insulating paste. There were many cases where it was blocked. Additionally, as the number of laminated layers increases, the difference in level between areas with and without internal conductors becomes extremely large, and when printing the conductor pattern 4 of the fourth layer, printing problems caused by this level difference caused blurring and disconnections. . Regarding those subjected to heat treatment, the insulating layer 5 and the conductive pattern 4 were often torn at portions with steps, and conduction failures of the via conductors 6 were also frequently observed.

【0032】上記実施例中では、転写シートがすべて図
2(c)に示した形のものを使用したが、必要によって
は図2(b)に示したタイプも使用してよい。例えば、
とりたててビア導体6の必要がない図1(d)に示す積
層体の第1層や、図3(c)に示す積層体の第1層など
はこのタイプを使用できる一例である。ただし、図1(
c)あるいは図3(d)におけるビア導体6が、基板へ
の熱放散を目的とする場合にはこの限りではない。また
、図2(c)に示したタイプで導電体パターン4のない
もの、すなわち絶縁体層5のみで構成された転写シート
9も本発明で使用して差し支えない。これは、例えば図
1(e),図3(c),図4(g)などにおいて最上層
にビア孔だけを形成する必要のある場合などに利用でき
るものである。
In the above embodiments, all the transfer sheets were of the type shown in FIG. 2(c), but the type shown in FIG. 2(b) may also be used if necessary. for example,
The first layer of the laminate shown in FIG. 1(d), which does not require the via conductor 6, and the first layer of the laminate shown in FIG. 3(c) are examples where this type can be used. However, in Figure 1 (
c) or when the via conductor 6 in FIG. 3(d) is intended for heat dissipation to the substrate, this is not the case. Further, a transfer sheet 9 of the type shown in FIG. 2(c) without the conductor pattern 4, that is, a transfer sheet 9 composed only of the insulator layer 5, may also be used in the present invention. This can be used, for example, when only via holes need to be formed in the uppermost layer, such as in FIGS. 1(e), 3(c), and 4(g).

【0033】なお本発明で使用できる各種の材料につい
て、上記実施例中に示されたものはほんの一例に過ぎな
い。例えば、転写シート9のベースフィルム3としては
、寸法精度や表面の平滑さなどの観点からPET以外に
もポリイミドやその他の有機フィルムが支障なく利用で
きる。絶縁層5としては、通常市販されているガラスセ
ラミックや、従来絶縁物として多用されるフォルステラ
イト,エンスタタイト,ドロマイトなどの粉末を使用す
ることができる。また、ペーストを作るためのビヒクル
成分は、熱転写性を損なわない限り通常のセラミック粉
末のプロセッシングや厚膜印刷ペーストで多用される樹
脂,可塑剤および溶剤を使用して差し支えない。基板は
上記実施例中では96%アルミナ板とステアタイト板を
用いたが、積層体部分を構成する材料の熱処理条件など
によってこの他にも炭化ケイ素板,石英ガラス板,フォ
ルステライト板,窒化アルミニウム板およびホーロー鋼
板など広汎な耐熱性基板を使用することができる。
[0033] Regarding the various materials that can be used in the present invention, those shown in the above embodiments are merely examples. For example, as the base film 3 of the transfer sheet 9, from the viewpoint of dimensional accuracy and surface smoothness, other than PET, polyimide or other organic films can be used without any problem. As the insulating layer 5, commercially available glass ceramics or powders of forsterite, enstatite, dolomite, etc., which are conventionally frequently used as insulators, can be used. Further, as vehicle components for making the paste, resins, plasticizers, and solvents commonly used in conventional ceramic powder processing and thick film printing pastes may be used as long as thermal transferability is not impaired. The substrate used in the above example was a 96% alumina plate and a steatite plate, but depending on the heat treatment conditions of the material constituting the laminate, silicon carbide plates, quartz glass plates, forsterite plates, and aluminum nitride plates may also be used. A wide variety of heat resistant substrates can be used, including plate and enameled steel.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、耐熱性基
板上に平坦性に極めて優れたセラミック多層配線基板を
生産性良く製造する方法と極めて位置合わせ精度の高い
ビアホール形成方法を提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, the present invention provides a method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board with excellent flatness on a heat-resistant substrate with high productivity, and a method for forming via holes with extremely high alignment accuracy. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】(a)〜(e)は本発明の一実施例におけるセ
ラミック多層配線基板の製造工程を示す断面図
[Fig. 1] (a) to (e) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a ceramic multilayer wiring board in one embodiment of the present invention.

【図2】
(a)〜(c)は本発明の一実施例における転写シート
の製造工程を示す断面図
[Figure 2]
(a) to (c) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a transfer sheet in one embodiment of the present invention.

【図3】(a)〜(e)は本発明の第2の実施例におけ
るセラミック多層配線基板の製造工程を示す断面図
FIGS. 3(a) to 3(e) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a ceramic multilayer wiring board in a second embodiment of the present invention.

【図
4】(a)〜(h)は本発明の第3の実施例におけるセ
ラミック多層配線基板の製造工程を示す断面図
FIG. 4 (a) to (h) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a ceramic multilayer wiring board in a third embodiment of the present invention.

【図5】
(a)〜(h)は本発明の第4の実施例におけるセラミ
ック多層配線基板の製造工程を示す断面図
[Figure 5]
(a) to (h) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a ceramic multilayer wiring board in a fourth embodiment of the present invention.

【図6】(a
)〜(h)は本発明の第3の実施例におけるセラミック
多層配線基板の製造工程を示す断面図
[Figure 6] (a
) to (h) are cross-sectional views showing the manufacturing process of a ceramic multilayer wiring board in the third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  96%アルミナ基板 2  絶縁体層 3  ベースフィルム 4,4′,8  導電体パターン 5  絶縁体層 6,7  ビア導体 6a,7a  貫通孔 9  転写シート 10  ステアタイト基板 1. 96% alumina substrate 2 Insulator layer 3 Base film 4, 4', 8 Conductor pattern 5 Insulator layer 6,7 Via conductor 6a, 7a Through hole 9 Transfer sheet 10 Steatite substrate

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ベースフィルム上に導電体ペーストをパタ
ーン状に印刷,乾燥して導電体パターンを形成した後そ
れを覆うように絶縁体ペーストを印刷または塗布し乾燥
して絶縁層を形成することにより転写シートを構成し、
耐熱性基板上に前記転写シートを配置し、加熱圧着して
前記導電体パターン及び絶縁層を転写した後に前記ベー
スフィルムを剥離する工程を繰り返し、前記導電体パタ
ーン及び絶縁層を複数層積層するセラミック多層配線基
板の製造方法。
Claim 1: After printing a conductive paste in a pattern on a base film and drying it to form a conductive pattern, printing or applying an insulating paste to cover it and drying it to form an insulating layer. A transfer sheet is constructed by
The process of arranging the transfer sheet on a heat-resistant substrate, applying heat and pressure to transfer the conductor pattern and insulating layer, and then peeling off the base film is repeated, thereby laminating a plurality of conductor patterns and insulating layers. A method for manufacturing a multilayer wiring board.
【請求項2】転写シートの所定の位置に貫通孔を形成し
ていることを特徴とする請求項1記載のセラミック多層
配線基板の製造方法。
2. The method of manufacturing a ceramic multilayer wiring board according to claim 1, wherein through holes are formed at predetermined positions of the transfer sheet.
【請求項3】耐熱性基板上にあらかじめ絶縁体ペースト
と導電体ペーストを印刷または塗布し、乾燥した厚膜層
を形成することを特徴とする請求項1記載のセラミック
多層配線基板の製造方法。
3. The method of manufacturing a ceramic multilayer wiring board according to claim 1, wherein the insulating paste and the conductive paste are printed or applied on the heat-resistant substrate in advance to form a dried thick film layer.
【請求項4】圧着された転写シートのベースフィルム裏
面側から貫通孔内に導電体ペーストもしくは導電体粉末
を充填し、ベースフィルムを剥離することでビアホール
を形成することを特徴とする請求項2記載のセラミック
多層配線基板の製造方法。
(4) A via hole is formed by filling a conductive paste or a conductive powder into the through hole from the back side of the base film of the pressed transfer sheet and peeling off the base film. The method for manufacturing the ceramic multilayer wiring board described above.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1289355A1 (en) * 2000-06-07 2003-03-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing ceramic substrate

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