JPH04297596A - Plating device for film-or tape-like material - Google Patents

Plating device for film-or tape-like material

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Publication number
JPH04297596A
JPH04297596A JP6167791A JP6167791A JPH04297596A JP H04297596 A JPH04297596 A JP H04297596A JP 6167791 A JP6167791 A JP 6167791A JP 6167791 A JP6167791 A JP 6167791A JP H04297596 A JPH04297596 A JP H04297596A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roller
tape
plating
dipping
adjusted
Prior art date
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Pending
Application number
JP6167791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirobumi Ishida
博文 石田
Kazuhiro Taniguchi
和広 谷口
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EEJA Ltd
Original Assignee
Electroplating Engineers of Japan Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04297596A publication Critical patent/JPH04297596A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide such plating device which can treat a thin tape-like material made of a synthetic resin without applying so much high tension thereto and without generating slack, etc., and allows the simple change of the treating time only with the necessary cells. CONSTITUTION:The plating cells 2, pretreating cell 3 and post treating cell 4 respectively having introducing rollers 8, immersing rollers 7 and delivery rollers 9 are continuously provided. The delivery rollers of the respective treating cells are uniaxially driven in order to deal with the tension and the slack, etc., of the tape-like material M. The device is so constituted that the height positions of the immersing rollers of the necessary cells can be adjusted and the immersion time can be adjusted only with the necessary cells.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、テープ状物に連続し
てメッキを施すメッキ装置に関し、殊に合成樹脂製のフ
ィルムによるテープ状物について好適なメッキ装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plating apparatus for continuously plating tape-like objects, and particularly to a plating apparatus suitable for tape-like objects made of synthetic resin films.

【0002】0002

【従来の技術】フィルム状のテープ状物にメッキを施す
必要のある場合の例としては、半導体製法の一つである
TAB技術に関連したものが挙げられる。すなわち、T
AB技術では長尺のフィルムキャリアをエンドレス的に
用いて実装加工を行うが、このフィルムキャリアは、合
成樹脂製のテープ状のフィルム上に薄い銅箔でリードパ
ターンを貼り付け、このリードパターンに金等のメッキ
を施したもので、このフィルムキャリアの製造工程にお
いてフィルム状のテープ状物へのメッキ処理が必要とな
る。
2. Description of the Related Art Examples of cases in which it is necessary to plate a film-like tape-like material include those related to TAB technology, which is one of the semiconductor manufacturing methods. That is, T
In AB technology, the mounting process is performed using an endless long film carrier, but this film carrier is a tape-shaped film made of synthetic resin with a lead pattern pasted with thin copper foil, and this lead pattern is coated with gold. In the manufacturing process of this film carrier, it is necessary to plate the film-like tape-like material.

【0003】ところで、TAB技術自体は比較的古くよ
り提案された技術であるが、その実用化はつい最近のこ
とである。そして、これに伴って前述のフィルムキャリ
アへのメッキ処理についても技術的課題が生じて来た。 すなわち、フィルムキャリアは、薄いフィルムがキャリ
アとなっているために、送りの際に大きなテンションが
掛かると薄い銅箔のリードパターンに変形等の不良原因
が生じてしまったり、あるいは弛みが生じて処理時間の
管理が不安定になってしまう。したがって、、各種のメ
ッキ槽や処理槽を連続させて通過させるための“送り”
について十分な配慮がなされたメッキ装置が要求される
By the way, although the TAB technology itself has been proposed for a relatively long time, its practical application has only recently occurred. Along with this, technical problems have also arisen regarding the plating process for the film carrier mentioned above. In other words, since the film carrier is a thin film, if a large amount of tension is applied during feeding, the lead pattern of the thin copper foil may become deformed or cause defects, or may become loose, making it difficult to process. Time management becomes unstable. Therefore, "feeding" is used to pass through various plating tanks and processing tanks in succession.
A plating equipment with sufficient consideration is required.

【0004】また、長尺のテープ状物にエンドレス的に
メッキするについては、それ特有の処理効率乃至速度の
問題がある。すなわち、メッキ金属の種類、例えば金メ
ッキと半田メッキ、あるいは同一のメッキ金属でもメッ
キ液の組成やメッキ厚等の種々のメッキ条件により各槽
での処理時間、特にメッキ槽での処理時間が大きく異な
ってくる。したがって、効率よく処理するためには、処
理時間を必要な槽だけについて相対的に変えることので
きるメッキ装置が要求される。
[0004] Furthermore, endless plating on a long tape-like object has its own problems in processing efficiency and speed. In other words, the processing time in each tank, especially the processing time in the plating tank, varies greatly depending on the type of plating metal, such as gold plating and solder plating, or even for the same plating metal, depending on various plating conditions such as the composition of the plating solution and the plating thickness. It's coming. Therefore, for efficient processing, a plating apparatus is required that can relatively change the processing time only for the necessary tanks.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】したがって、この発明
は、フィルム状のテープ状物に余り大きなテンションを
掛けることなしに、しかも弛み等が生じることがなく、
さらに、処理時間を必要な槽だけについて簡単に変える
ことのできるようなフィルム状のテープ状物用のメッキ
装置の提供を目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention provides a film-like tape-like material without applying too much tension and without causing loosening or the like.
A further object of the present invention is to provide a plating apparatus for film-like tape-like materials in which the processing time can be easily changed for only the necessary tanks.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、この発明によるメッキ装置は、メッキ槽の前
後に各種の処理槽が連続して設けられると共に、各槽に
は導入ローラ、浸漬ローラ、及び導出ローラが順番に設
けられており、そしてメッキ対象であるフィルム状のテ
ープ状物が導入ローラ及び導出ローラに対しては上面に
沿い浸漬ローラに対しては下面に沿うようにして送られ
るようになっているもので、各槽の導出ローラが一軸の
駆動軸でそれぞれ駆動されるようになっている。そして
、処理時間を必要な槽だけについて相対的に変えるため
に、必要な槽について浸漬ローラの液面に対する高さ位
置が調整可能とされ、この高さ位置調整により浸漬時間
が調整できるようにされ、また、必要な槽について浸漬
ローラの水平方向位置が調整可能とされ、この水平方向
位置調整により浸漬時間が調整可能とされ、あるいは、
必要な槽について浸漬ローラの液面に対する高さ位置が
調整可能とされる共に、浸漬ローラの水平方向位置が調
整可能とされ、これら高さ位置調整及び水平方向位置調
整の組合せにより浸漬時間が調整可能とされている。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the plating apparatus according to the present invention is provided with various processing tanks successively provided before and after the plating tank, and each tank is provided with an introduction roller, A dipping roller and a lead-out roller are provided in order, and the film-like tape-like material to be plated is arranged along the upper surface of the lead-in roller and the lead-out roller and along the bottom surface of the dipping roller. The lead-out rollers of each tank are each driven by a single drive shaft. In order to relatively change the processing time only for the required tanks, the height position of the immersion roller relative to the liquid level can be adjusted for the required tanks, and the immersion time can be adjusted by adjusting the height position. In addition, the horizontal position of the dipping roller can be adjusted for the required tank, and the dipping time can be adjusted by adjusting the horizontal position, or,
For the required tank, the height position of the dipping roller relative to the liquid level can be adjusted, and the horizontal position of the dipping roller can be adjusted, and the dipping time can be adjusted by a combination of these height position adjustments and horizontal position adjustments. It is considered possible.

【0007】[0007]

【作用】このメッキ装置は、各処理ゾーンの導出ローラ
をそれぞれ駆動させて短い細切れの距離間隔で送り力を
与えることにより、テープ状物に余り大きなテンション
を与えないようにし、また、各導出ローラの駆動力を一
軸の駆動軸で与えて各導出ローラ間に回転速度差を生じ
ないようにすることにより、テープ状物の弛み等を防止
している。
[Function] This plating device drives the lead-out rollers in each processing zone and applies feeding force at short distance intervals to prevent excessive tension from being applied to the tape-like material. The tape-like material is prevented from loosening by applying the driving force of 1 through a single drive shaft so as to prevent a difference in rotational speed between the respective lead-out rollers.

【0008】また、必要な槽について浸漬時間を調整す
ることにより処理時間の調整を行うようにしているもの
で、浸漬時間の調整が単に浸漬ローラの高さ位置乃至水
平位置の調整という極めて簡単な作業だけで済むので、
処理時間の調整を簡単に行える。
[0008] Furthermore, the processing time is adjusted by adjusting the dipping time for the required tank, and the dipping time can be adjusted by simply adjusting the height or horizontal position of the dipping roller. All you have to do is work,
Processing time can be easily adjusted.

【0009】[0009]

【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。このフ
ィルム状のテープ状物用のメッキ装置1は、図1に示す
ように、3個のメッキ槽2(2a,2b,2c)の前後
に複数の前処理槽3,3,……乃至後処理槽4.4.…
…を連続的に設け、さらに乾燥層4d及び処理槽列の両
端に供給リール5と巻取りリール6等を設けてなってい
る。
[Embodiments] Examples of the present invention will be described below. As shown in FIG. 1, this plating apparatus 1 for film-like tape-like materials includes a plurality of pre-treatment tanks 3, 3, . . . Processing tank 4.4. …
... are provided continuously, and furthermore, a supply reel 5, a take-up reel 6, etc. are provided at both ends of the drying layer 4d and the processing tank row.

【0010】各処理槽2.3.4は、金メッキに要する
浸漬時間を基準に他の槽に較べやや長めとされ、浸漬ロ
ーラ7が2個設けられているメッキ槽2cを除いて、導
入ローラ8、浸漬ローラ7、及び導出ローラ9をそれぞ
れ一つずつ備えており、これらの各ローラに対し、メッ
キ対象である合成樹脂製の薄いテープ状物Mが、導入ロ
ーラ8び導出ローラ9に対しては上面に沿い浸漬ローラ
7に対しては下面に沿って送られて行くようになってい
る。
Each treatment tank 2.3.4 has a slightly longer immersion time than other tanks based on the immersion time required for gold plating, and except for the plating tank 2c, which is provided with two immersion rollers 7, the introduction roller 8, one immersion roller 7 and one lead-out roller 9 are provided, and a thin tape-like material M made of synthetic resin to be plated is applied to each of these rollers, and a thin tape-like material M made of synthetic resin is applied to the lead-in roller 8 and lead-out roller 9. The material is fed along the upper surface and to the dipping roller 7 along the lower surface.

【0011】また、図2に示すように、メッキ槽2cも
含めて各処理槽2.3.4ごとに導出ローラ9が駆動さ
れている。これにより、短い細切れの距離間隔で送り力
が与えられ、テープ状物Mに余り大きなテンションを与
えずに済むことになる。また、各導出ローラ9の駆動力
は、一軸、つまり駆動モータ10に接続された1本の駆
動軸11により駆動されており、各導出ローラ9が常に
同じ回転速度を保つことにより、テープ状物Mに弛みが
生じないようにされている。
Further, as shown in FIG. 2, a lead-out roller 9 is driven for each processing tank 2.3.4 including the plating tank 2c. As a result, the feeding force is applied at short distance intervals, and it is not necessary to apply too much tension to the tape-like material M. Further, the driving force of each lead-out roller 9 is driven by one axis, that is, one drive shaft 11 connected to a drive motor 10, and by keeping each lead-out roller 9 always at the same rotational speed, the tape-shaped material can be M is made so that there is no slack.

【0012】また、各処理槽2.3.4は、水洗槽を除
いて、その浸漬ローラ7が、メッキ槽2cについて図3
に示すような構造により、液面Lに対する高さ位置を調
整できるようになっている。具体的には、浸漬ローラ7
の回転軸7sの各端を保持する軸受け7mがベース板1
2に固定され、このベース板12の両端がガイド部材1
3に形成された一対のガイド溝13g,13gにより嵌
合・保持されており、ガイド部材13,13に螺合して
いる押しネジ14を緩めるとベース板12の上下動が可
能となり、蝶ネジ14を締めるとその高さ位置で固定さ
れるようになっている。尚、高さ位置は、ベース板12
に設けられた高さ目盛り15により確認できるようにさ
れている。
[0012] Also, in each processing tank 2.3.4, except for the washing tank, the immersion roller 7 is
With the structure shown in , the height position relative to the liquid level L can be adjusted. Specifically, the dipping roller 7
The bearings 7m that hold each end of the rotating shaft 7s are the base plate 1.
2, and both ends of this base plate 12 are fixed to the guide member 1.
The base plate 12 can be moved up and down by loosening the push screws 14 screwed into the guide members 13 and 13, and the base plate 12 can be moved up and down. 14, it will be fixed at that height position. In addition, the height position is the base plate 12
This can be confirmed by a height scale 15 provided at the top.

【0013】さらに、特にメッキ槽2cについては、高
さ位置だけでなく一方の浸漬ローラ7についてその水平
方向位置も調整できるようになっている。具体的には、
前記と同様の構造でガイド部材13,13が上下一対の
補助ガイド部材16,16により嵌合・保持されており
、図示せぬ押しネジを緩めるとガイド部材13,13の
水平動が可能となり、締めるとその位置で固定されるよ
うになっている。尚、図3は導出側の浸漬ローラ7につ
いて調整機構を与えた例を示しているが、導入側の浸漬
ローラ7に調整機構を設けるようにしてもよいし、また
両浸漬ローラ7,7について調整機構を設けることもで
きる。
Furthermore, especially regarding the plating tank 2c, not only the height position but also the horizontal position of one of the dipping rollers 7 can be adjusted. in particular,
With the same structure as above, the guide members 13, 13 are fitted and held by a pair of upper and lower auxiliary guide members 16, 16, and when a push screw (not shown) is loosened, the guide members 13, 13 can be moved horizontally, When tightened, it will stay in place. Although FIG. 3 shows an example in which an adjustment mechanism is provided for the immersion roller 7 on the output side, it is also possible to provide an adjustment mechanism for the immersion roller 7 on the introduction side, or for both immersion rollers 7, 7. An adjustment mechanism may also be provided.

【0014】このようにしたのは、駆動モータ10の速
度を一定にしたままで、つまり必要のない槽については
浸漬時間(処理時間)を変えることなく、必要な槽につ
いてだけ浸漬時間を変えて、メッキ条件により要求され
る処理時間を与え得るようにするためである。
This is done by keeping the speed of the drive motor 10 constant, that is, by changing the immersion time only for necessary tanks without changing the immersion time (processing time) for unnecessary tanks. This is to make it possible to provide the processing time required by the plating conditions.

【0015】すなわち、図4に示すように、浸漬ローラ
7の高さ位置を高くして液面Lに近づけると(想像線で
示す状態)、テープ状物Mはより短い距離でメッキ槽2
(2a,2b)を通過するので浸漬時間を短くでき、逆
に、浸漬ローラ7の高さ位置を低くして液面Lより大き
く離した状態にすると(実線で示す状態)、テープ状物
Mは大きく曲がってより長い距離でメッキ槽2(2a,
2b)を通過するので浸漬時間を長くすることができる
。例えば、浸漬ローラ7の直径が300mm、その高さ
調整範囲が150mmで送り速度が500mm/分であ
るとすると、最短と最長とでは約2分程度の浸漬時間差
を与えることができる。この時間差は、一番浸漬時間の
長い金メッキの浸漬時間が約3分であることからすると
十分に有効な時間差となる。
That is, as shown in FIG. 4, when the height of the dipping roller 7 is raised to bring it closer to the liquid level L (the state shown by the imaginary line), the tape-like material M is moved to the plating tank 2 at a shorter distance.
(2a, 2b), the immersion time can be shortened, and conversely, if the height position of the immersion roller 7 is lowered to a state that is greater than the liquid level L (state shown by the solid line), the tape-like material M is bent greatly and moves over a longer distance to plating tank 2 (2a, 2a,
2b), the immersion time can be increased. For example, if the dipping roller 7 has a diameter of 300 mm, a height adjustment range of 150 mm, and a feed speed of 500 mm/min, it is possible to provide a difference in dipping time of about 2 minutes between the shortest and longest lengths. This time difference is a sufficiently effective time difference considering that the gold plating, which has the longest dipping time, has a dipping time of about 3 minutes.

【0016】メッキ槽2cの場合には、図5に示すよう
に、この浸漬時間の調整を浸漬ローラ7の水平位置を変
えることによってもなし得る。すなわち、浸漬ローラ7
の水平位置を変えて導入ローラ8及び導出ローラ9に対
する傾斜関係を小さくすると浸漬時間が長くなり、逆に
すると浸漬時間が短くなる。この場合には、両浸漬ロー
ラ7を水平動できる距離が最大で600mmとすると約
30秒の浸漬時間差を与えることができる。尚、浸漬ロ
ーラ7の高さ位置の調整を行っていない水洗槽について
は、水洗水の液面の高さが調整できるようになっており
、この液面の高さ調整により浸漬時間を調整するように
なっている。
In the case of the plating bath 2c, the immersion time can also be adjusted by changing the horizontal position of the immersion roller 7, as shown in FIG. That is, the dipping roller 7
If the horizontal position of the roller is changed to reduce the inclination relative to the introduction roller 8 and the extraction roller 9, the immersion time will be increased, and vice versa, the immersion time will be shortened. In this case, if the maximum horizontal movement distance of both dipping rollers 7 is 600 mm, a dipping time difference of about 30 seconds can be provided. For washing tanks in which the height position of the dipping roller 7 is not adjusted, the height of the washing water level can be adjusted, and the soaking time can be adjusted by adjusting the liquid level. It looks like this.

【0017】[0017]

【発明の効果】この発明によるメッキ装置は、以上説明
してきたように、各処理ゾーンの導出ローラがそれぞれ
一軸の駆動軸で駆動されるようになっているのでテープ
状物に余り大きなテンションを掛けることなく、しかも
弛み等を生じることなく処理でき、例えばTAB技術に
おけるフィルムキャリアのメッキを正確に行うことでき
る。また、浸漬ローラの高さ位置を調整することにより
必要な槽についてだけ浸漬時間を調整することができる
ので、メッキ条件により浸漬時間の変更を必要としない
槽については必要最小限の浸漬時間で済み、全体として
処理効率を向上させることができる。
[Effects of the Invention] As explained above, in the plating apparatus according to the present invention, the lead-out rollers of each processing zone are each driven by a single drive shaft, so that excessive tension is not applied to the tape-like object. Furthermore, the process can be performed without causing any loosening or the like, and for example, plating of a film carrier in TAB technology can be performed accurately. In addition, by adjusting the height position of the dipping roller, the dipping time can be adjusted only for the necessary tanks, so for tanks that do not require changing the dipping time depending on the plating conditions, the dipping time can be kept to the minimum necessary. , overall processing efficiency can be improved.

【0018】[0018]

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】この発明によるメッキ装置の側面図である。FIG. 1 is a side view of a plating apparatus according to the present invention.

【図2】図1のメッキ装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the plating apparatus of FIG. 1;

【図3】浸漬ローラの高さ位置調整構造を示す斜視図で
ある。
FIG. 3 is a perspective view showing a height position adjustment structure of a dipping roller.

【図4】浸漬ローラの高さ位置調整の状態を示す説明図
である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing the state of height position adjustment of the dipping roller.

【図5】浸漬ローラの高さ位置調整の状態を示す説明図
である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing the state of height position adjustment of the dipping roller.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……メッキ装置 2……メッキ処理層 3……前処理層 4……後処理層 7……浸漬ローラ 8……導入ローラ 9……導出ローラ 11……駆動軸 M……テープ状物 1...Plating equipment 2...Plating layer 3...Pre-treatment layer 4...Post-processing layer 7...Immersion roller 8...Introduction roller 9... Leading out roller 11... Drive shaft M...Tape-like material

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  メッキ槽の前後に各種の処理槽が連続
して設けられると共に、各槽には導入ローラ、浸漬ロー
ラ、及び導出ローラが順番に設けられており、そしてメ
ッキ対象であるフィルム状のテープ状物が導入ローラ及
び導出ローラに対しては上面に沿い浸漬ローラに対して
は下面に沿うようにして送られるようになっているフィ
ルム状のテープ状物用のメッキ装置において、各槽の導
出ローラを一軸の駆動軸でそれぞれ駆動するようにし且
つ、必要な槽について浸漬ローラの液面に対する高さ位
置を調整可能とし、この高さ位置調整により浸漬時間を
調整するようにしたことを特徴とするフィルム状のテー
プ状物用のメッキ装置。
Claim 1: Various processing tanks are successively provided before and after the plating tank, and each tank is provided with an introduction roller, an immersion roller, and a take-out roller in this order, and a film-like material to be plated. In a plating device for film-like tape-like materials, the tape-like material is fed along the upper surface to the introduction roller and the output roller and along the lower surface to the dipping roller. Each of the lead-out rollers is driven by a single drive shaft, and the height position of the dipping roller relative to the liquid level can be adjusted for the required tank, and the dipping time can be adjusted by adjusting the height position. Features: Plating equipment for film-like and tape-like materials.
【請求項2】  メッキ槽の前後に各種の処理槽が連続
して設けられると共に、各槽には導入ローラ、浸漬ロー
ラ、及び導出ローラが順番に設けられており、そしてメ
ッキ対象であるフィルム状のテープ状物が導入ローラ及
び導出ローラに対しては上面に沿い浸漬ローラに対して
は下面に沿うようにして送られるようになっているフィ
ルム状のテープ状物用のメッキ装置において、各槽の導
出ローラを一軸の駆動軸でそれぞれ駆動するようにし且
つ、必要な槽について浸漬ローラの水平方向位置を調整
可能とし、この水平方向位置調整により浸漬時間を調整
するようにしたことを特徴とするフィルム状のテープ状
物用のメッキ装置。
[Claim 2] Various processing tanks are successively provided before and after the plating tank, and each tank is provided with an introduction roller, an immersion roller, and a lead-out roller in order, and a film-like material to be plated. In a plating device for film-like tape-like materials, the tape-like material is fed along the upper surface to the introduction roller and the output roller and along the lower surface to the dipping roller. Each of the lead-out rollers is driven by a single drive shaft, and the horizontal position of the dipping roller can be adjusted for the required tank, and the dipping time is adjusted by adjusting the horizontal position. Plating equipment for film-like tape-like materials.
【請求項3】  メッキ槽の前後に各種の処理槽が連続
して設けられると共に、各槽には導入ローラ、浸漬ロー
ラ、及び導出ローラが順番に設けられており、そしてメ
ッキ対象であるフィルム状のテープ状物が導入ローラ及
び導出ローラに対しては上面に沿い浸漬ローラに対して
は下面に沿うようにして送られるようになっているフィ
ルム状のテープ状物用のメッキ装置において、各槽の導
出ローラを一軸の駆動軸でそれぞれ駆動するようにし且
つ、必要な槽について浸漬ローラの液面に対する高さ位
置を調整可能とすると共に、浸漬ローラの水平方向位置
を調整可能とし、これら高さ位置調整及び水平方向位置
調整の組合せにより浸漬時間を調整するようにしたこと
を特徴とするフィルム状のテープ状物用のメッキ装置。
3. Various processing tanks are successively provided before and after the plating tank, and each tank is provided with an introduction roller, an immersion roller, and a take-out roller in order, and a film-like material to be plated. In a plating device for film-like tape-like materials, the tape-like material is fed along the upper surface to the introduction roller and the output roller and along the lower surface to the dipping roller. Each of the lead-out rollers is driven by a single drive shaft, and the height position of the dipping roller relative to the liquid level can be adjusted for the required tank, and the horizontal position of the dipping roller can be adjusted, and these heights can be adjusted. A plating device for film-like tape-like materials, characterized in that the dipping time is adjusted by a combination of position adjustment and horizontal position adjustment.
JP6167791A 1991-03-26 1991-03-26 Plating device for film-or tape-like material Pending JPH04297596A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110042447A (en) * 2019-05-30 2019-07-23 鹰潭中臻铜业有限公司 A kind of copper wire annealing tin machine

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4985484A (en) * 1972-12-22 1974-08-16

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4985484A (en) * 1972-12-22 1974-08-16

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110042447A (en) * 2019-05-30 2019-07-23 鹰潭中臻铜业有限公司 A kind of copper wire annealing tin machine

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