JPH04294886A - Method for controlling engraving - Google Patents

Method for controlling engraving

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JPH04294886A
JPH04294886A JP3130795A JP13079591A JPH04294886A JP H04294886 A JPH04294886 A JP H04294886A JP 3130795 A JP3130795 A JP 3130795A JP 13079591 A JP13079591 A JP 13079591A JP H04294886 A JPH04294886 A JP H04294886A
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engraving
pulse
roller
pulses
standard
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Yuichi Morita
勇一 森田
Setsuo Tsuda
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Abstract

PURPOSE:To improve the precision of the engraving of enlargement and reduction by deciding the positioning of the engraving pattern with the standard clock pulse number generated with the frequency higher than the standard pulse. CONSTITUTION:The standard clock pulse of the frequency higher than the standard pulse is generated, the positioning of the engraving pattern is decided with the standard clock pulse number. Because the standard clock pulse is synchronized with every generation of the standard pulse, even if it is on the way during one rotation, both are corresponded without the slipping state. Therefore, if the encorder of high percussion is not presented, the enlargement and reduction or the fine adjustment of the length to be worked, etc., can be executed beyond the range of resolution of the pulse encorder.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を用いて製版
材料に凹凸加工を施すレーザ製版加工装置において、原
稿パターンにもとづいて製版材料の彫刻位置を拡大また
は縮小しながら制御する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for controlling the engraving position of a plate-making material while enlarging or contracting it based on a document pattern in a laser plate-making apparatus that uses a laser beam to create irregularities on a plate-making material.

【0002】0002

【従来の技術】例えば特公昭55−17702号公報や
特開昭58−3795号公報は、レーザ加工方式の彫刻
方法を開示している。レーザ製版加工過程で、原稿パタ
ーンを円周方向に縮小したり、あるいは円周方向に拡大
するとき、または印刷工程で、彫刻ローラの外径と印刷
ローラの外径が異なっているとき、製版加工時に、原稿
パターンの位置データは、調整係数によって調整された
後、彫刻パターンのデータとなる。
2. Description of the Related Art For example, Japanese Patent Publication No. 55-17702 and Japanese Patent Application Laid-open No. 58-3795 disclose engraving methods using laser processing. When the document pattern is reduced or expanded in the circumferential direction during the laser engraving process, or when the outer diameter of the engraving roller and the printing roller are different during the printing process, the engraving roller is different from the outer diameter of the printing roller. Sometimes, the position data of the original pattern becomes the data of the engraving pattern after being adjusted by the adjustment coefficient.

【0003】したがって調整係数は、画像伝送システム
の分野で、原像と受信像とを相似とするため協同係数と
対応しており、縮小または拡大の係数のほか、彫刻ロー
ラと印刷ローラとの外径の違いを調整する係数を含んで
いるものとして定義できる。
[0003] Therefore, in the field of image transmission systems, the adjustment coefficient corresponds to a cooperation coefficient to make the original image and the received image similar. It can be defined as including a coefficient that adjusts for differences in diameter.

【0004】製版加工段階で、読み取りローラ上で原稿
パターンの周方向位置や彫刻ローラ上での周方向の彫刻
位置は、回転走査方式の下で、ロータリ式のパルスエン
コーダによって検出される。このため、加工精度は、そ
れらのパルスエンコーダの分解能によって決定されるこ
とになる。
At the plate-making stage, the circumferential position of the document pattern on the reading roller and the circumferential engraving position on the engraving roller are detected by a rotary pulse encoder under a rotation scanning system. Therefore, machining accuracy is determined by the resolution of these pulse encoders.

【0005】例えば、0.1〔%〕単位で加工パターン
の位置決めを行う場合に、彫刻ローラのパルスエンコー
ダ側で1パルス当たり1000パルス以上のパルス列が
必要となる。このような高分解能のパルスエンコーダの
製作が技術上困難であることから、簡易な彫刻用位置決
め制御方法が望まれている。
For example, when positioning a machining pattern in units of 0.1%, a pulse train of 1000 pulses or more per pulse is required on the pulse encoder side of the engraving roller. Since manufacturing such a high-resolution pulse encoder is technically difficult, a simple positioning control method for engraving is desired.

【0006】[0006]

【発明の目的】したがって、本発明の目的は、回転走査
方式のレーザ製版加工において、高分解能のパルスエン
コーダを利用しないで、拡大縮小に必要な精度で彫刻制
御を可能とすることである。
OBJECTS OF THE INVENTION Therefore, it is an object of the present invention to enable engraving control with the precision necessary for enlarging and reducing, without using a high-resolution pulse encoder, in a rotary scanning laser engraving process.

【0007】[0007]

【発明の解決手段】上記目的の下に、本発明は、彫刻ロ
ーラの基準パルスより高い周波数の基準クロックパルス
を発生させておき、彫刻パターンの位置決めを基準クロ
ックパルス数によって決定するようにしている。
In view of the above object, the present invention generates a reference clock pulse having a higher frequency than the reference pulse of the engraving roller, and determines the positioning of the engraving pattern by the number of reference clock pulses. .

【0008】[0008]

【実施例】図1は、レーザ製版加工装置100の全体的
な構成を示している。コントローラ1は、本発明の彫刻
制御方法に基づいてレーザ光9の出力を制御するために
、レーザ発振器2に接続されており、また彫刻ローラ3
の回転、共通ヘッド6の送り、読み取りローラ11の回
転を制御するために、モータ5、8、13にそれぞれ接
続されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows the overall configuration of a laser engraving processing apparatus 100. The controller 1 is connected to a laser oscillator 2 in order to control the output of the laser beam 9 based on the engraving control method of the present invention, and is also connected to the engraving roller 3.
are connected to motors 5, 8, and 13, respectively, to control the rotation of the common head 6, the feed of the common head 6, and the rotation of the reading roller 11.

【0009】彫刻ローラ3と読み取りローラ11とは、
中心軸で平行に配置されており、コントローラ1によっ
て常に同期状態で回転するよう制御される。彫刻ローラ
3、読み取りローラ11の回転量およびモータ8の回転
数は、それらに連結されたロータリ形式のパルスエンコ
ーダ4、7、12によって検出され、パルス列としてコ
ントローラ1に送り込まれる。
The engraving roller 3 and the reading roller 11 are
They are arranged parallel to each other around the central axis, and are controlled by the controller 1 to always rotate in a synchronous state. The rotation amount of the engraving roller 3 and the reading roller 11 and the rotation speed of the motor 8 are detected by rotary type pulse encoders 4, 7, and 12 connected to them, and sent to the controller 1 as a pulse train.

【0010】ここでパルスエンコーダ12のパルス間隔
に対応する読み取りローラ11の周方向長さと、パルス
エンコーダ4のパルス間隔に対応する彫刻ローラ4の周
方向長さとは、同じになるように設定されている。
Here, the circumferential length of the reading roller 11 corresponding to the pulse interval of the pulse encoder 12 and the circumferential length of the engraving roller 4 corresponding to the pulse interval of the pulse encoder 4 are set to be the same. There is.

【0011】そして、モータ8は、送りねじ軸14を回
転させることによって、送りナット15と一体の共通ヘ
ッド6を平行な彫刻ローラ3と読み取りローラ11との
間で共通ヘッド6に固定されたスキャナ10およびミラ
ー16を読み取り方向に移動させる。
By rotating the feed screw shaft 14, the motor 8 moves the common head 6, which is integrated with the feed nut 15, between the parallel engraving roller 3 and the reading roller 11 into the scanner fixed to the common head 6. 10 and mirror 16 in the reading direction.

【0012】なお、スキャナ10は、読み取りローラ1
1の円周面に取り付けられた原稿17の原稿パターン1
8を光学的に読み取り、電気的な原稿データ(読み取り
出力信号)に変換してコントローラ1に送り込んでいる
。また、ミラー16は、レーザ光9を彫刻ローラ3の周
面に導き、彫刻ローラ3の周面に取り付けられた製版材
料19に彫刻パターン20にもとづいて必要な凹凸の製
版加工を行っていく。
Note that the scanner 10 has a reading roller 1
Original pattern 1 of original 17 attached to the circumferential surface of 1
8 is optically read, converted into electrical original data (read output signal), and sent to the controller 1. Further, the mirror 16 guides the laser beam 9 to the circumferential surface of the engraving roller 3, and performs plate-making processing to create necessary irregularities on the plate-making material 19 attached to the circumferential surface of the engraving roller 3 based on the engraving pattern 20.

【0013】また、コントローラ1は、内部にクロック
発振回路21、クロックカウンタ22、彫刻位置決め用
のカウンタ23を備えている。図3は、その一例を示し
ている。
The controller 1 also includes a clock oscillation circuit 21, a clock counter 22, and a counter 23 for engraving positioning. FIG. 3 shows an example.

【0014】クロック発振回路21は、周波数の設定器
24によって設定された周波数の基準クロックパルスを
発生し、クロックカウンタ22の入力端およびアンドゲ
ート27の一方の入力端に送り込んでいる。アンドゲー
ト27は、他方の入力端でクロックカウンタ22の出力
を受けて、彫刻位置決め用のカウンタ23の入力端に送
り込んでいる。なお、クロックカウンタ22およびカウ
ンタ23のカウント値は、調整係数にもとづいて、設定
器24、25によってそれぞれ設定される。
The clock oscillation circuit 21 generates a reference clock pulse of a frequency set by the frequency setter 24 and sends it to the input terminal of the clock counter 22 and one input terminal of the AND gate 27. The AND gate 27 receives the output of the clock counter 22 at its other input terminal and sends it to the input terminal of a counter 23 for engraving positioning. Note that the count values of the clock counter 22 and the counter 23 are set by setters 24 and 25, respectively, based on the adjustment coefficient.

【0015】次に図3は、本発明の彫刻制御方法にもと
づいて原稿パターン18を拡大し、修正後の彫刻パター
ン20を得る順序をパルス列との関連で示している。
Next, FIG. 3 shows the order in which the original pattern 18 is enlarged and a corrected engraving pattern 20 is obtained based on the engraving control method of the present invention in relation to a pulse train.

【0016】加工時に、コントローラ1は、モータ5、
13の回転速度を制御することによって、彫刻ローラ3
および読み取りローラ11を同期状態で回転させる。こ
のとき、パルスエンコーダ4は、彫刻ローラ3の回転走
査開始位置を原点位置として1回転を等分割する基準パ
ルスを発生し、コントローラ1の内部のクロックカウン
タ22の一方の入力端に送り込んでいる。
During machining, the controller 1 controls the motor 5,
By controlling the rotational speed of the engraving roller 3
and the reading rollers 11 are rotated in a synchronous state. At this time, the pulse encoder 4 generates a reference pulse that equally divides one rotation with the rotation scan start position of the engraving roller 3 as the origin position, and sends it to one input terminal of the clock counter 22 inside the controller 1.

【0017】一方、クロック発振回路21は、基準パル
スよりも充分に高い周波数で基準クロックパルスを継続
的に発生している。ここで、0.1〔%〕単位で原稿パ
ターン18を拡大するとき、基準クロックパルスの必要
な周波数は、1つの基準パルス当り1000パルス以上
のパルスを払い出す値に設定されなければならない。運
転開始後、モータ5、8、13が定常回転に達した時点
で、コントローラ1は、クロックカウンタ22やカウン
タ23に対しカウント開始指令を与える。
On the other hand, the clock oscillation circuit 21 continuously generates a reference clock pulse at a frequency sufficiently higher than that of the reference pulse. Here, when enlarging the original pattern 18 in units of 0.1 [%], the necessary frequency of the reference clock pulse must be set to a value that delivers 1000 pulses or more per one reference pulse. After the start of operation, when the motors 5, 8, and 13 reach steady rotation, the controller 1 gives a count start command to the clock counter 22 and the counter 23.

【0018】そこでクロックカウンタ22は、基準クロ
ックパルスの計数を開始し、計数中に“H”レベルの出
力を発生しているが、所定のカウント値例えば「100
0」だけ計数した時点で、計数動作を中止し、“L”レ
ベルの出力を発生し、アンドゲート27の一方に送り込
む。なお、所定のカウント値は、設定器25によって予
め設定されている。このあと、次の基準パルスがクロッ
クカウンタ22に入力されると、クロックカウンタ22
は、再び計数動作を開始し、所定のカウント値「100
0」まで計数し、計数動作を中止して、続く基準パルス
の到達を待つ。
Then, the clock counter 22 starts counting the reference clock pulses and generates an "H" level output during counting, but when a predetermined count value, for example "100" is generated, the clock counter 22 starts counting reference clock pulses.
At the point when only "0" has been counted, the counting operation is stopped and an "L" level output is generated and sent to one side of the AND gate 27. Note that the predetermined count value is set in advance by the setting device 25. After this, when the next reference pulse is input to the clock counter 22, the clock counter 22
starts the counting operation again and reaches the predetermined count value "100".
0'', stop the counting operation, and wait for the next reference pulse to arrive.

【0019】このようにして、クロックカウンタ22は
、2つの基準パルスの区間で、基準クロックパルスを計
数し、次の基準パルスの到達前に所定のカウント値を計
数して、停止することによって、計数動作を基準パルス
と同期して行っていく。
In this manner, the clock counter 22 counts the reference clock pulses in the interval between two reference pulses, counts a predetermined count value before the arrival of the next reference pulse, and then stops. The counting operation is performed in synchronization with the reference pulse.

【0020】一方、クロックカウンタ22が所定のカウ
ント値に到達するまでの間、“H”レベルの出力を発生
しているため、基準クロックパルスは、アンドゲート2
7の他方の入力から入り、彫刻位置決め用のカウンタ2
3の入力ともなっている。彫刻位置決め用のカウンタ2
3は、クロックカウンタ22の計数動作中にのみ、基準
クロックパルスの計数動作を行い、設定器25によって
設定された所定のカウント値に達した時点で、1つの彫
刻基準パルスを発生し、この彫刻基準パルスで自己リセ
ットし、次の計数に備える。ここで、カウンタ23の所
定のカウント値は、クロックカウンタ22の〔所定のカ
ウント値「1000」×調整係数〕によって求められ、
例えば拡大のために「1015」として設定される。し
たがって彫刻基準パルスは、基準パルスの発生と同期し
ながら、「1015」の基準クロックパルス毎に払いだ
され、回転走査の原点位置から円周方向に時間的に経過
する過程で、調整係数分だけ比例配分的にずれて発生し
ている。もちろん、このずれ量は、拡大のための増分と
対応している。
On the other hand, since the clock counter 22 generates an "H" level output until it reaches a predetermined count value, the reference clock pulse is generated by the AND gate 2.
Counter 2 for engraving positioning enters from the other input of 7.
It also serves as the input for 3. Counter 2 for engraving positioning
3 performs a reference clock pulse counting operation only during the counting operation of the clock counter 22, and when a predetermined count value set by the setting device 25 is reached, one engraving reference pulse is generated, and this engraving is performed. It self-resets with the reference pulse and prepares for the next count. Here, the predetermined count value of the counter 23 is obtained by [predetermined count value "1000" x adjustment coefficient] of the clock counter 22,
For example, it is set as "1015" for enlargement. Therefore, the engraving reference pulse is sent out every 1015 reference clock pulses in synchronization with the generation of the reference pulse, and in the process of elapsed time in the circumferential direction from the origin position of the rotation scan, the engraving reference pulse is sent out by the adjustment coefficient. It is occurring on a proportional basis. Of course, this amount of shift corresponds to the increment for expansion.

【0021】そこで、コントローラ1は、スキャナ10
の回転走査によって読み込まれた原稿パターン18の変
化点と対応する基準パルスを原点位置からのパルス数と
して読み込み、このパルス数に対応する彫刻基準パルス
を特定し、この彫刻基準バルスの発生時点でレーザ発振
器2の出力を調整し、レーザ光9のエネルギーによって
、製版材料19の加工深さを変化させ、製版材料19の
表面に凹凸面を形成していく。したがって修正後の彫刻
パターン20は、原稿パターン18に対して原点位置か
ら比例配分された状態で少しずつ拡大され、ずれた状態
となっている。
[0021] Therefore, the controller 1 controls the scanner 10.
The reference pulse corresponding to the change point of the original pattern 18 read by the rotational scanning is read as the number of pulses from the origin position, the engraving reference pulse corresponding to this number of pulses is specified, and the laser is The output of the oscillator 2 is adjusted, and the processing depth of the plate-making material 19 is changed by the energy of the laser beam 9, thereby forming an uneven surface on the surface of the plate-making material 19. Therefore, the modified engraving pattern 20 is gradually enlarged and shifted in proportion to the original pattern 18 from the original position.

【0022】原稿データは、イメージスキャナ28、外
部記憶装置29やCAD30などから取り込むこともで
きる。なお、凸部は、印圧による変形防止のために、周
囲にショルダー部(斜面部)をともなって形成される。 このショルダー部の形成のために、コントローラ1はシ
ョルダー部の幅分だけのカウント数を先読みしている。
The original data can also be imported from the image scanner 28, external storage device 29, CAD 30, or the like. Note that the convex portion is formed with a shoulder portion (slope portion) around the periphery to prevent deformation due to printing pressure. In order to form this shoulder part, the controller 1 reads in advance a count number corresponding to the width of the shoulder part.

【0023】[0023]

【0024】上記実施例は、原稿パターン18の位置を
基準パルスの発生位置で読み込み、また彫刻のための位
置決めを彫刻基準パルスの発生位置から決定している。 したがって、2つの基準パルスの間での位置読み取りや
、2つの彫刻基準パルスの間での位置決めは存在しない
In the above embodiment, the position of the original pattern 18 is read at the generation position of the reference pulse, and the positioning for engraving is determined from the generation position of the engraving reference pulse. Therefore, there is no position reading between two reference pulses or positioning between two engraving reference pulses.

【0025】しかし、読み取りあるいは彫刻のための位
置決めは、原稿パターン18の変化点をアンドゲート2
7の出力としての基準クロックパルス数として読み込む
こともでき、また彫刻加工のための位置決めは、基準ク
ロックパルス数に調整係数を掛けた値に対応するアンド
ゲート27の出力としてのカウンタ23の基準クロック
パルス数によって決定することもできる。この場合に、
アンドゲート27の出力としての基準クロックパルスは
、いずれも基準パルスの発生毎に同期状態となっている
から、彫刻ローラ3や読み取りローラ11の1回転毎の
同期状態に比較して、同期のずれ量は、少なくてすむ。
However, for positioning for reading or engraving, changing points of the original pattern 18 are determined by using the AND gate 2.
The reference clock pulse number of the counter 23 can also be read as the output of the AND gate 27 corresponding to the value obtained by multiplying the reference clock pulse number by the adjustment coefficient for positioning for engraving. It can also be determined by the number of pulses. In this case,
The reference clock pulses as the output of the AND gate 27 are all in a synchronized state every time the reference pulse is generated, so compared to the synchronized state of each rotation of the engraving roller 3 and the reading roller 11, there is a difference in synchronization. The amount is small.

【0026】また、上記実施例は、彫刻基準パルスの発
生手段を説明の便宜上カウンタによって説明しているが
、これと同じ機能は、ソフトウエアのプログラムの分野
で実現することもできる。
Further, in the above embodiment, the means for generating the engraving reference pulse is explained as a counter for convenience of explanation, but the same function can also be realized in the field of a software program.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明では、高い精度のエンコーダが存
在しなくても、拡大縮小や加工長さの微調整などがパル
スエンコーダの分解能の範囲を越えて可能となる。特に
、基準パルスよりも高い周波数の基準クロックパルスが
基準パルスの発生毎に同期した状態でパルス変換されて
いくため、1回転中での誤差の累積がなく、2つの基準
パルスの発生区間内で誤差量が最小限度に抑えられる。
According to the present invention, even if a highly accurate encoder is not available, scaling and fine adjustment of machining length can be performed beyond the resolution range of a pulse encoder. In particular, since the reference clock pulse with a higher frequency than the reference pulse is converted into a pulse in synchronization every time the reference pulse is generated, there is no accumulation of errors during one rotation, and within the generation interval of the two reference pulses. The amount of error is minimized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】レーザ製版加工装置の概略的なブロック線図で
ある。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a laser engraving apparatus.

【図2】パルス変換部分のブロック線図である。FIG. 2 is a block diagram of a pulse conversion section.

【図3】原稿パターンおよび調整後の彫刻パターンに対
応するパルス列のタイムチャート図である。
FIG. 3 is a time chart of pulse trains corresponding to a document pattern and an adjusted engraving pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  コントローラ 2  レーザ発振器 3  彫刻ローラ 6  共通ヘッド 9  レーザ光 10  スキャナ 11  読み取りローラ 14  送りねじ軸 18  原稿パターン 19  製版材料 20  彫刻パターン 21  クロック発振回路 22  クロックカウンタ 23  彫刻位置決め用のカウンタ 100  レーザ製版加工装置 1 Controller 2 Laser oscillator 3 Engraving roller 6 Common head 9 Laser light 10 Scanner 11 Reading roller 14 Feed screw shaft 18 Manuscript pattern 19 Plate making materials 20 Engraving pattern 21 Clock oscillation circuit 22 Clock counter 23 Counter for engraving positioning 100 Laser engraving processing equipment

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  原稿データにもとづいて彫刻ローラの
周面上の製版材料にレーザ光により彫刻するレーザ製版
加工装置において、彫刻ローラの回転と同期する基準パ
ルスより高い周波数の基準クロックパルスを発生させ、
上記基準パルスと同期をとりながら基準クロックパルス
数の調整係数倍毎に彫刻基準パルスを作成しておき、こ
の彫刻基準パルスのパルス数に対応する彫刻ローラの円
周上の原点からの位置で彫刻ローラ上の製版材料をレー
ザ光により彫刻することを特徴とする彫刻制御方法。
Claim 1: In a laser engraving processing device that engraves a engraving material on the peripheral surface of an engraving roller with a laser beam based on original data, a reference clock pulse having a higher frequency than a reference pulse synchronized with the rotation of the engraving roller is generated. ,
While synchronizing with the above reference pulse, engraving reference pulses are created for each adjustment factor times the number of reference clock pulses, and engraving is performed at a position from the origin on the circumference of the engraving roller that corresponds to the number of pulses of this engraving reference pulse. An engraving control method characterized by engraving a plate-making material on a roller with a laser beam.
JP3130795A 1991-03-22 1991-03-22 Engraving control method Expired - Lifetime JP3048676B2 (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296644A (en) * 2000-04-14 2001-10-26 Dainippon Printing Co Ltd Image-processing apparatus and printing cylinder forming method
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