JPH0429359A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPH0429359A
JPH0429359A JP13396590A JP13396590A JPH0429359A JP H0429359 A JPH0429359 A JP H0429359A JP 13396590 A JP13396590 A JP 13396590A JP 13396590 A JP13396590 A JP 13396590A JP H0429359 A JPH0429359 A JP H0429359A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
memory element
glass plate
resin
package
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13396590A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Shizukuishi
誠 雫石
Hiroshi Tamura
宏 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP13396590A priority Critical patent/JPH0429359A/en
Publication of JPH0429359A publication Critical patent/JPH0429359A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable transmission property of a light with a desired wavelength to be improved by constituting a light-transmission member which covers a light- transmission member which covers a light-emitting part of a memory element and a synthetic resin which does not allow light to be transmitted which is filled with and hardened by potting for forming the memory element and a frame body which becomes a package for the memory element in one piece. CONSTITUTION:A glass plate 2 is closely adhered to a light-receiving surface of a memory element 3, a black epoxy resin 4 and a frame body 5 of the glass plate 2 are formed in one piece, and the entire body forms a package, thus enabling light to be emitted onto the memory element 3 from a part other than the glass plate 2 when performing packaging operation as well as after packaging to be screened completely. When packaging in a bright room, an undesirable erasure can be completely prevented due to leakage light by screening the glass plate 2 with a tape after packaging, thus enabling reliability of a product to be improved. Also, since the glass plate 2 with improved transmission of ultraviolet rays is used, deletion by an eraser can be performed efficiently, thus enabling transmission property of light with a desired wavelength to be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、EPROM (ErasableProgr
amarable  ROM)等の半導体装置に関し、
更に詳しくはこの種の半導体装置に好適なパッケージ構
造に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention is applicable to EPROM (Erasable Programmer)
Regarding semiconductor devices such as amarable ROM),
More specifically, the present invention relates to a package structure suitable for this type of semiconductor device.

[従来の技術] 前記EPROM等の半導体装置は、一gに耐湿性に優れ
たセラミックを用いてパッケージされていた。しかし、
需要が増大するにつれて使用形態も多岐にわたるように
なり、小型軽量化の要望が大になってきた。
[Prior Art] Semiconductor devices such as the EPROM have been packaged using ceramics with excellent moisture resistance. but,
As demand increases, usage patterns become more diverse, and there is a growing demand for smaller and lighter products.

そこで、前記要望に応えるため、更にコスト面の要請か
ら、セラミックパッケージに代えてプラスチックパッケ
ージ化する傾向にある。
Therefore, in order to meet the above-mentioned demands, and also due to cost considerations, there is a trend toward plastic packaging instead of ceramic packaging.

しかし、EPROMのように、光透過部を必要とする半
導体デバイスについてプラスチックパッケージ化を図る
場合は、一般の半導体装置と異なった特有の問題を解決
する必要がある。
However, when plastic packaging a semiconductor device that requires a light transmitting part, such as an EPROM, it is necessary to solve unique problems different from those of general semiconductor devices.

[発明が解決しようとする課題] 即ち、EPROMは、電気的に書き込まれた情報を紫外
線などの光照射により消去するものであるから、光照射
部はガラス等の光透過部材によりパッケージされている
。そして、プログラム後に光照射によりプログラムが消
去されないように、例えば明室で実装を行う際には光照
射部に言わば眼隠しのだめのテープを貼っていた。
[Problems to be Solved by the Invention] That is, since EPROM erases electrically written information by irradiation with light such as ultraviolet rays, the light irradiation part is packaged with a light-transmitting member such as glass. . To prevent the program from being erased by light irradiation after programming, for example, when mounting in a brightly lit room, a piece of tape was placed over the light irradiation area to cover the eyes.

従って、セラミックパッケージに代えてプラスチックパ
ッケージ化を図るには、光照射部以外は光遅閉性に優れ
た構造になすと共に、光遅閉性に優れた材質を選択し、
漏洩光による不所望な消去を防止する必要がある。
Therefore, in order to replace a ceramic package with a plastic package, the structure other than the light irradiation part should be made to have excellent light slow closing properties, and a material should be selected that has excellent light slow closing properties.
It is necessary to prevent unwanted erasure due to leaked light.

ちなみに、光透過を必要とする半導体装置にイメージセ
ンサ等があり、コスト低減等の理由によりプラスチック
パッケージ化が行われている。しかし、イメージセンサ
は撮影システム内で不要な外光から遮閉されるように取
り付けられ、しかも受光部にはレンズ系が設けられてい
るので、プラスチックパッケージ部材は可視光透過性樹
脂でモールドされているのが実状である。
Incidentally, image sensors and the like are semiconductor devices that require light transmission, and are packaged in plastic for reasons such as cost reduction. However, since the image sensor is installed in the imaging system so as to be shielded from unnecessary external light, and the light-receiving section is equipped with a lens system, the plastic package member is molded with a resin that transmits visible light. The reality is that there are.

ところが、EPROMの使用形態はイメージセンサと異
なり千差万別であり、装置外から漏れ込む光、装置内か
ら発生する例えばパイロ・ントランプの光等がEPRO
Mを照射する恐れが多分にある。このため、EPROM
のプラスチ・ツクパッケージ化については、光照射部以
外の光遅閉性を特に向上させなければならない。
However, unlike image sensors, EPROMs are used in a wide variety of ways; light leaking from outside the device, light emitted from inside the device, for example from a pylon lamp, etc.
There is a high risk of irradiation with M. For this reason, EPROM
For plastic packaging, it is necessary to particularly improve the light slow closing properties of parts other than the light irradiated parts.

又、プラスチックパッケージ化に際しては、高価な金型
を使用することなく、使用形態に合わせた形状や大きさ
のものを容易に生産できる構造が望ましい。
Furthermore, when producing plastic packaging, it is desirable to have a structure that allows for easy production of shapes and sizes that match the usage pattern without using expensive molds.

本発明は、前記実状に鑑みてなされたものであり、その
目的は樹脂封止である上に光遅閉性に優れ、且つ光照射
部について所望波長の光の透過性を向上させるようにし
た半導体装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor which is not only resin-sealed but also has excellent light slow closing properties, and which improves the transparency of light of a desired wavelength in the light irradiation part. The goal is to provide equipment.

[発明が解決しようとする課題] 本発明に係る前記目的は、電気的に書き込んだ情報を光
照射により消去する記憶素子の光照射部を光透過部材、
例えば紫外線透過率の優れたUVガラス等により遮閉す
るとともに、合成樹脂により所望形状に形成された枠体
と、この枠体中に固定された前記記憶素子との間をポツ
ティングにより充填固化した合成樹脂により一体化した
半導体装置により達成される。
[Problems to be Solved by the Invention] The object of the present invention is to replace the light irradiation part of the memory element for erasing electrically written information by light irradiation with a light transmitting member,
For example, a synthetic resin is sealed by UV glass with excellent ultraviolet transmittance, and filled and solidified by potting between a frame formed into a desired shape of synthetic resin and the memory element fixed in this frame. This is achieved by a semiconductor device integrated with resin.

更に前記目的は、前記光透過部材として例えば紫外線透
過率の優れた合成樹脂を適用し、該光透過合成樹脂、記
憶素子、枠体をポツティングにて充填固化した合成樹脂
により一体化することにより達成される。
Further, the above object is achieved by applying, for example, a synthetic resin with excellent ultraviolet transmittance as the light transmitting member, and integrating the light transmitting synthetic resin, the memory element, and the frame with the synthetic resin filled and solidified by potting. be done.

[作用1 即ち、前記構成の半導体装置によれば、記憶素子の照射
部が情報消去に適した紫外線透過率に優れたUVガラス
、合成樹脂にて覆われるのであるから、消去効率が良好
になる。
[Effect 1] In other words, according to the semiconductor device having the above structure, the irradiation part of the memory element is covered with UV glass or synthetic resin that has excellent ultraviolet transmittance and is suitable for erasing information, so erasing efficiency is improved. .

又、記憶素子、光透過部材、前記記憶素子を固定する枠
体とがポツティングにより充填固化される合成樹脂によ
り一体化されるのであるから、この合成樹脂に光透過不
能なものを用いることにより、不要な光を遮断すること
ができ、誤消去を防止することができる。更に、一体化
による耐湿性の向上を図ることもできる。
Furthermore, since the memory element, the light transmitting member, and the frame for fixing the memory element are integrated by a synthetic resin that is filled and solidified by potting, by using a synthetic resin that cannot transmit light, Unnecessary light can be blocked and erroneous erasing can be prevented. Furthermore, it is also possible to improve moisture resistance through integration.

記憶素子、枠体の一体化は、ポツティングにより充填固
化した合成樹脂により行われるので、高価な金型がふよ
うになり、生産コストの低減が可能になるとともに、各
種形状への変更と、小型軽量化とが容易になる。
The memory element and frame are integrated using synthetic resin that is filled and solidified by potting, which eliminates the need for expensive molds and reduces production costs. Weight reduction becomes easy.

[実施例] 以下、図面を参照して本発明を適用した半導体装置の一
実施例を説明する。
[Embodiment] An embodiment of a semiconductor device to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

尚、第1図は半導体装置の外観構造を示す斜視図、第2
図は一部切り欠き平面図、第3図は要部の断面図、第4
図は枠体の構造を示す斜視図である。
Note that Fig. 1 is a perspective view showing the external structure of the semiconductor device, and Fig. 2 is a perspective view showing the external structure of the semiconductor device.
The figure is a partially cutaway plan view, Figure 3 is a sectional view of the main part, and Figure 4 is a cross-sectional view of the main part.
The figure is a perspective view showing the structure of the frame.

本実施例の特徴は、本発明でいう半導体装置に相当する
例えばEPROMについて、パッケージの一部となる枠
体を熱可塑性の合成樹脂により成形し、該枠体中に配置
した記憶素子の受光面にガラスを密着すると共に、前記
ガラスの周辺、及び前記記憶素子と前記枠体とをボッテ
ィングにより注入した熱硬化性樹脂により一体化したこ
とにある。
The feature of this embodiment is that, for example, for an EPROM, which corresponds to the semiconductor device referred to in the present invention, the frame that becomes a part of the package is molded from thermoplastic synthetic resin, and the light-receiving surface of the memory element disposed in the frame. The glass is closely attached to the glass, and the periphery of the glass, the memory element, and the frame are integrated with a thermosetting resin injected by potting.

実施例の説明にあたっては、EPROMIの外観構造及
び内部構造について説明し、次いで製造方法、更に耐湿
性向上のための工夫等について説明する。
In explaining the embodiments, the external structure and internal structure of the EPROMI will be explained, followed by a manufacturing method, and furthermore, ideas for improving moisture resistance, etc. will be explained.

EPROMIの形状は、従来から多用されているデュア
ルインライン型でよいが、本実施例に示す構造はデュア
ルインライン型以外にも容易に適用することができる。
The shape of the EPROMI may be a dual in-line type, which has been widely used in the past, but the structure shown in this embodiment can be easily applied to a configuration other than the dual in-line type.

そこで、以下に述べる実施例では、当業者間においてミ
ニフラットパッケージと称されている形状への適用例を
説明する。
Therefore, in the embodiments described below, an example of application to a shape known to those skilled in the art as a mini-flat package will be described.

EPROMIの上面はぼ中央部はガラス板2で覆われ、
光透過可能な光照射部を構成する。
The upper surface of the EPROMI is covered with a glass plate 2 at the center.
It constitutes a light irradiation section that can transmit light.

ガラス板2の下面は、後述する記憶素子3の受光面に密
に接着され、該下面の一部とその垂直周囲、換言すれば
四角形の垂直断面2aの殆どは熱硬化性のエポキシ樹脂
4に接着している。このエポキシ樹脂4は、光透過を防
止するため黒色等に着色したものを用いる。
The lower surface of the glass plate 2 is tightly adhered to the light-receiving surface of a memory element 3, which will be described later, and a part of the lower surface and its vertical surroundings, in other words, most of the rectangular vertical cross section 2a, are covered with thermosetting epoxy resin 4. It's glued. This epoxy resin 4 is colored black or the like to prevent light transmission.

一方、EPROMIのパッケージ外周部は、前記ガラス
板2の表面、更に前記エポキシ樹脂4の表面に対し血筋
に構成されている。該血筋外周部は、EPROMIのパ
ッケージとなる枠体5であり、上パッケージ5a、下パ
ッケージ5bからなる。枠体5も光透過を防止するため
黒色に着色した合成樹脂により構成する。
On the other hand, the outer periphery of the EPROMI package is formed in a line with the surface of the glass plate 2 and further with the surface of the epoxy resin 4. The outer periphery of the blood line is a frame body 5 that serves as a package for EPROMI, and consists of an upper package 5a and a lower package 5b. The frame body 5 is also made of synthetic resin colored black to prevent light transmission.

該枠体5の構造については後に詳述するが、熱可塑性の
合成樹脂を用いて成形したものであり、上パッケージ5
aと下パッケージ5bとのほぼ中央位置から、記憶素子
3の外部接続端子となる多数のり一部6が導き出されて
いる。なお、当業者間においては、パッケージ外のリー
ドをアウターリード、パッケージ内をインナーリードと
称しているが、本実施例では説明の便宜のため単にリー
ドと称する。
The structure of the frame body 5 will be described in detail later, but it is molded using thermoplastic synthetic resin, and the upper package 5
A large number of glue portions 6, which serve as external connection terminals of the memory element 3, are led out from a substantially central position between the lower package 5b and the lower package 5b. Note that, among those skilled in the art, the leads outside the package are called outer leads, and the leads inside the package are called inner leads, but in this embodiment, for convenience of explanation, they are simply called leads.

次に、第2図及び第3図を参照してEPROM1の内部
構造について説明する。
Next, the internal structure of the EPROM 1 will be explained with reference to FIGS. 2 and 3.

記憶素子3の下面はパッケージ内のほぼ中央においてタ
ブ吊りリード7にボンディングされている。このボンデ
ィングは、導電可能になされるものであり、タブ吊りリ
ード7のリード7aを接地、或は所定の電位に保持して
安定動作を図るようになされている。
The lower surface of the memory element 3 is bonded to the tab suspension lead 7 approximately in the center of the package. This bonding is made to be electrically conductive, and the lead 7a of the tab suspension lead 7 is grounded or held at a predetermined potential to ensure stable operation.

また、記憶素子3の各ポンディングパッド8、換言すれ
ば外部接続端子と各インナーリードの先端部とは、第2
図及び第3図に示すようにボンディングワイヤー9にて
接続されている。
Further, each bonding pad 8 of the memory element 3, in other words, the external connection terminal and the tip of each inner lead are connected to the second
As shown in the figure and FIG. 3, they are connected by bonding wires 9.

このように固定された記憶素子3の上部、即ち受光面に
UV樹脂等の透明な接着剤を用いてガラス板2が密に接
着される。この接着厚さは、5〜20μm程度の微小な
ものであり、実質的に両者は一体になされている。尚ガ
ラス板2については、第5図の光透過特性aに示すよう
にUV(紫外線)透過率の優れたUVガラスが好適であ
る。
The glass plate 2 is tightly adhered to the upper part of the memory element 3 fixed in this way, that is, the light receiving surface using a transparent adhesive such as UV resin. This bonding thickness is minute, about 5 to 20 μm, and the two are substantially integrated. As for the glass plate 2, UV glass having excellent UV (ultraviolet) transmittance as shown in the light transmission characteristic a in FIG. 5 is suitable.

しかし、前記UVガラス以外に、UV透過樹脂をコーテ
ィング(10′μm程度)したガラス(光透過特性b)
、更に通常のUV硬化樹脂をコーティング(10μm程
度)したUVガラス(光透過特性C)、通常のUV硬化
樹脂(光透過特性d)を使用することもできる。
However, in addition to the above-mentioned UV glass, glass coated with UV-transparent resin (approximately 10'μm) (light transmission property b)
Furthermore, UV glass coated with a normal UV curable resin (about 10 μm) (light transmission property C) or a normal UV curable resin (light transmission property d) can also be used.

次に、前記記憶素子3とガラス板2との位置決め構造に
ついて説明する。
Next, a positioning structure between the memory element 3 and the glass plate 2 will be explained.

第2図および第4図に示すように、枠体5の内壁部の互
いに対向する位置に、位置決め部材10が設けられてい
る。
As shown in FIGS. 2 and 4, positioning members 10 are provided on the inner wall of the frame 5 at positions facing each other.

各位置決め部材10の先端面には、記憶素子3の対角線
上の角部を嵌合し位置決めするための第1の段差部10
a、ガラス板2の対角線上の角部を嵌合し位置決めする
ための第2の段差部10bが形成されている。
A first stepped portion 10 is provided on the tip end surface of each positioning member 10 for fitting and positioning a diagonal corner portion of the memory element 3.
a, a second stepped portion 10b is formed for fitting and positioning the diagonal corner portions of the glass plate 2;

記憶素子3の位置決めは、対角線上の2の角部を第1の
段差部10aに嵌合するだけでよく、この嵌合により横
方向の位置ずれが完全に阻止される。
To position the memory element 3, it is sufficient to simply fit the two diagonal corners into the first step portion 10a, and this fitting completely prevents lateral displacement.

また、ガラス板2の位置決めは、対角線上の2の角部を
第2の段差部10bに嵌合するだけでよい。この嵌合に
より、ガラス板2と記憶素子3との重ね合わせ位置が決
定されると共に、横方向の位置ずれが完全に阻止される
ことになる。
Furthermore, the glass plate 2 can be positioned simply by fitting the two diagonal corners to the second step portion 10b. This fitting determines the overlapping position of the glass plate 2 and the memory element 3, and also completely prevents lateral displacement.

EPROMIを製造する場合、リードフレームと枠体5
との位置合わせは、自動的かつ厳密にマ。
When manufacturing EPROMI, lead frame and frame 5
Alignment with Ma automatically and strictly.

われる。be exposed.

また、リードフレーム、該リードフレームl固定される
記憶素子3、その受光面に位置決めいれるガラス板2の
形状や大きさは設計時に判明している。従って、前記各
部材の形状や大きさにそわせて前記位置決め部材1oを
設け、かつ第1よよび第2の段差部10a、10bを形
成することにより、リードフレームからガラス板2の位
置y係を容易に決定し、かつ不所望な位置ずれを防廿す
ることができる。
Further, the shape and size of the lead frame, the memory element 3 fixed to the lead frame l, and the glass plate 2 positioned on the light-receiving surface of the lead frame are known at the time of design. Therefore, by providing the positioning member 1o in accordance with the shape and size of each member and forming the first and second step portions 10a and 10b, the positional relationship between the lead frame and the glass plate 2 can be adjusted. can be easily determined, and undesirable displacement can be prevented.

以上に本発明を適用したEPROMIの第1実施例を説
明したが、前記構造のEFROMIは下記のような注目
すべき効果を奏する。
The first embodiment of the EPROMI to which the present invention is applied has been described above, and the EFROMI with the above structure has the following notable effects.

即ち、記憶素子3の受光面にガラス板2が密に接着され
、ガラス板2と黒色のエポキシ樹脂4、枠体5止が一体
化され、全体がパッケージを構成している。
That is, the glass plate 2 is tightly adhered to the light-receiving surface of the memory element 3, and the glass plate 2, black epoxy resin 4, and frame 5 are integrated to form a package.

従って、実装作業時はもとより実装後においても、ガラ
ス板2以外から記憶素子3を照射しようとする光を完全
に遮閉することができる。明室において実装する場合、
実装後においても、ガラス板2をテープで遮閉すること
により、漏洩光による不所望な消去を完全に防止するこ
とができ、製品の信顛性が向上する。又、ガラス板2と
しで、第5図に示すように紫外線透過率の優れたものを
使用しているので、イレーザによる消去を効率よく行う
ことができる。
Therefore, not only during the mounting work but also after mounting, it is possible to completely block out light that attempts to irradiate the memory element 3 from sources other than the glass plate 2. When implementing in a bright room,
Even after mounting, by shielding the glass plate 2 with tape, undesired erasure due to leaked light can be completely prevented, improving the reliability of the product. In addition, since the glass plate 2 is made of a material having excellent ultraviolet transmittance as shown in FIG. 5, erasing by the laser can be performed efficiently.

また、第3図に明確に示されているように、枠体5の上
部表面とガラス板2の表面とは、高さhの段差がある。
Further, as clearly shown in FIG. 3, there is a step of height h between the upper surface of the frame 5 and the surface of the glass plate 2.

従って、例えば実装時においてEPROMIを逆さまに
置くようなことがあっても、ガラス表面に物品が当りに
くくなり、その表面が傷つき難くなる。この結果、ガラ
スの割れ、光の乱反射等が低減され、EPROMIの信
頬性が向上する。
Therefore, even if the EPROMI is placed upside down during mounting, for example, objects are less likely to hit the glass surface and the surface is less likely to be damaged. As a result, cracks in the glass, diffused reflection of light, etc. are reduced, and the reliability of the EPROMI is improved.

次に、第6図及び第7図を参照して前記EPROMの製
造方法を説明する。
Next, a method for manufacturing the EPROM will be explained with reference to FIGS. 6 and 7.

先ず、第6図を参照して第1の製造方法を説明する。尚
、EPROMIを構成する各部材の材質については、製
造方法の説明後に述べる。
First, the first manufacturing method will be explained with reference to FIG. The materials of each member constituting the EPROMI will be described after the manufacturing method is explained.

EPROMIの製造にあたっては、ステップS1 (以
下においてステップの記載を省略する)に示すように、
リードフレームを枠体5を成形するだめの金型(図示せ
ず)にセントする。
In manufacturing EPROMI, as shown in step S1 (the description of the step is omitted below),
The lead frame is placed in a mold (not shown) for forming the frame 5.

次いで金型に枠体5を成形するための熱可塑性樹脂とし
て、例えばABS樹脂、ベクトラ樹脂等を注入する。
Next, as a thermoplastic resin for molding the frame 5, for example, ABS resin, Vectra resin, etc. is injected into the mold.

そして、S2に示すように枠体5の成形を行い、その後
にS3に示すようにリードフレーム上に記憶素子3を接
着、即ちボンディングする。このボンディングはAgペ
ースト硬化により行われる。
Then, as shown in S2, the frame body 5 is formed, and then, as shown in S3, the memory element 3 is adhered, that is, bonded, onto the lead frame. This bonding is performed by Ag paste curing.

次に、S4に示すように、例えばAu線(金線)により
ワイヤーボンディングを行い、更にS5に示すようにU
V樹脂を用いてガラス板2を記憶素子3の受光面に接着
する。
Next, as shown in S4, wire bonding is performed using, for example, Au wire (gold wire), and further as shown in S5,
Glass plate 2 is bonded to the light-receiving surface of memory element 3 using V-resin.

この際、記憶素子3とガラス板2との位置決めは、前記
のようにして行われる。
At this time, the positioning of the memory element 3 and the glass plate 2 is performed as described above.

前記ガラス板2の接着が行われた後、枠体5の下部開放
部について、S6に示すように蓋体11を用いて閉塞す
る。
After the glass plate 2 is bonded, the open lower portion of the frame 5 is closed using the lid 11 as shown in S6.

該閉塞作業は、次工程において枠体5に注入される熱硬
化性樹脂、例えばエポキシ樹脂の流出を防止するために
行われる。
This closing operation is performed to prevent the thermosetting resin, such as epoxy resin, from flowing out, which will be injected into the frame 5 in the next step.

前記S6までの工程が終了した段階では、いわば箱型の
枠体5中に記憶素子3が宙ずり状態で配置されているこ
とになる。
At the stage where the steps up to S6 are completed, the memory element 3 is arranged in a so-called box-shaped frame 5 in a suspended state.

そして、S7においてエポキシ樹脂4を注入するのであ
るが、該注入は一定量のエポキシ樹脂4をポンティング
にて行うものであり、特別な金型を使用しない。
Then, in S7, the epoxy resin 4 is injected, but this injection is performed by pumping a certain amount of the epoxy resin 4, and no special mold is used.

ポンティング時のエポキシ樹脂4は液状であり、枠体5
と光電変換素子3との間に形成された中空部内を下方か
ら次第に充満するようになる。しかも液状であるから、
微小な空間、隙間にも浸透することになり、該浸透中に
気体がエポキシ樹脂中に混入せず、気泡等が発生しない
The epoxy resin 4 at the time of ponting is in a liquid state, and the frame body 5
The hollow space formed between the photoelectric conversion element 3 and the photoelectric conversion element 3 is gradually filled from below. Moreover, since it is liquid,
It penetrates into minute spaces and crevices, and during the penetration, gas does not get mixed into the epoxy resin, and bubbles and the like are not generated.

ここで注目すべきことは、注入するエポキシ樹脂4の量
を予め決定し、エポキシ樹脂4がガラス板20表面上ま
で流れないようにできることである。即ち、第3図に示
すように、ガラス板2の周囲の垂直面全域にわたってエ
ポキシ樹脂4が接着する程度に、エポキシ樹脂4の注入
量を調整する。
What should be noted here is that the amount of epoxy resin 4 to be injected can be determined in advance to prevent the epoxy resin 4 from flowing onto the surface of the glass plate 20. That is, as shown in FIG. 3, the injection amount of the epoxy resin 4 is adjusted to such an extent that the epoxy resin 4 adheres to the entire vertical surface around the glass plate 2.

この結果、ガラス板2の垂直面、その下面で記憶素子3
に接触していない面等がすべてエポキシ樹脂4に接触す
ることになる。
As a result, the memory element 3 is placed on the vertical surface of the glass plate 2 and the lower surface thereof.
All surfaces that are not in contact with the epoxy resin 4 will come into contact with the epoxy resin 4.

次ぎに、炉内に搬入されて、S8に示すように例えば1
50°C程度の温度で加熱され、エポキシ樹脂の硬化が
行われる。
Next, it is carried into the furnace, and as shown in S8, for example, 1
The epoxy resin is cured by heating at a temperature of about 50°C.

該硬化により、エポキシ樹脂4は金型を用いることなく
ほぼ平面になり、記憶素子3を封止するパッケージの一
部となる。
By this curing, the epoxy resin 4 becomes almost flat without using a mold, and becomes a part of the package that seals the memory element 3.

この段階では、前記リード6間を接続しているダムは切
断されておらず、いわば各リード6は短絡状態にある。
At this stage, the dam connecting the leads 6 is not cut, and each lead 6 is in a short-circuited state.

そこで、S9に示すようにダムの切断が行われ、次ぎの
工程SIOでリードの先端部の折り曲げ(リードフォー
ミング)が行われる。
Therefore, the dam is cut as shown in S9, and the leading end of the lead is bent (lead forming) in the next step SIO.

このようにして完成したEFROMIは、Sllに示す
ようにテスティング工程に移行し、所定の検査を経て良
否の判定が行われる。
The EFROMI completed in this way moves to a testing process as shown in Sll, and is judged to be good or bad through a predetermined inspection.

前記一連の製造工程から明かなように、EFROMIの
パッケージの一部となるエポキシ樹脂4のポジティング
は、金型なしに行われる。
As is clear from the series of manufacturing steps described above, the epoxy resin 4 that becomes part of the EFROMI package is placed without a mold.

しかも、エポキシ樹脂4について表面仕上げが不要にな
り、ボッティングに続いて硬化するのみでよい。
Furthermore, the epoxy resin 4 does not require surface finishing, and only needs to be cured following botting.

以上のように、高価な金型が不要である上に、作業工程
を短縮し得るので、作業効率の向上と製造コストの低減
とを図ることができる。
As described above, since an expensive mold is not required and the working process can be shortened, working efficiency can be improved and manufacturing costs can be reduced.

次に、第8図を参照して製造工程の第2例を説明する。Next, a second example of the manufacturing process will be described with reference to FIG.

尚、前記第1例と同様の工程には同一のステップナンバ
ーを付し、説明を省略する。
Incidentally, the same steps as in the first example are given the same step numbers, and the description thereof will be omitted.

Slから85までの製造工程は、前記第1例と同様であ
る。
The manufacturing steps from Sl to 85 are the same as in the first example.

S16では、前記工程S6で行われた蓋体11の取り付
けに代えて、エポキシ樹脂のコーティングを行い、該工
程に続いて炉内に搬入しS17に示すように硬化する。
In S16, instead of attaching the lid 11 in step S6, an epoxy resin coating is applied, and following this step, the product is carried into a furnace and hardened as shown in S17.

次いで、前記蓋体11に相当する部分を成形して組み立
てるのであるが、該成形にはベクトラ樹脂が用いられて
よい。
Next, a portion corresponding to the lid 11 is molded and assembled, and Vectra resin may be used for this molding.

以後、前記第1例と同様に89からSllに示す製造工
程を経て、EPROMが製造される。
Thereafter, the EPROM is manufactured through the manufacturing steps 89 to Sll in the same manner as in the first example.

以上の製造工程は、何れもミニフラットパッケージにな
されたEPROMの製造工程に関するものである。
The above manufacturing processes all relate to the manufacturing process of an EPROM made into a mini flat package.

しかし、パッケージ構造は多岐にわたるものであって、
EPROMをチップキャリアーパッケージに構成するこ
とができ、該チップキャリアーパッケージに本発明の構
造と製造方法を適用することもできる。
However, there are a wide variety of package structures, and
The EPROM can be configured in a chip carrier package, and the structure and manufacturing method of the present invention can also be applied to the chip carrier package.

第8図は、チップキャリアーパッケージにて構成された
EPROM20の一例を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of an EPROM 20 configured with a chip carrier package.

21はガラスエポキシ基板であり、凹部中央に記憶素子
22が固定され、その受光面に第1実施例で述べた光透
過特性を有するガラス板23が前記同様に密に接着され
ている。
Reference numeral 21 designates a glass epoxy substrate, in which a memory element 22 is fixed in the center of the recess, and a glass plate 23 having the light transmission characteristics described in the first embodiment is tightly adhered to the light receiving surface thereof in the same manner as described above.

前記エポキシ樹脂21の血筋外周部の上部には樹脂止め
枠24が取り付けられるので、ガラスエポキシ基板21
と樹脂止め枠24とにより、上部が開放されたいわば箱
体が形成される。
Since the resin retaining frame 24 is attached to the upper part of the blood line outer peripheral part of the epoxy resin 21, the glass epoxy substrate 21
and the resin stopper frame 24 form a so-called box body with an open top.

そして、箱体中の空間にエポキシ樹脂25を充填し、こ
れを固化した構造になされている。
The space inside the box body is filled with epoxy resin 25 and the resin is solidified.

次ぎに、第9図を参照して前記チップキャリアーパッケ
ージの製造工程を説明する。
Next, the manufacturing process of the chip carrier package will be explained with reference to FIG.

S21においてガラスエポキシ樹脂21をセットし、次
いでS22に示すように記憶素子22を取り付けるので
あるが、該取り付けは例えばAgペーストによって行わ
れる。
The glass epoxy resin 21 is set in S21, and then the memory element 22 is attached as shown in S22, and this attachment is performed using, for example, Ag paste.

次いで図示を省略したワイヤーのボンディング(S23
)が行われ、更にS24に示すようにガラス板23の接
着が行われる。
Next, wire bonding (S23, not shown) is performed.
), and then the glass plate 23 is bonded as shown in S24.

その後、S25において枠体24の取り付けが行われ、
更にS26においてエポキシ樹脂25の充填が行われる
After that, the frame body 24 is attached in S25,
Furthermore, filling with epoxy resin 25 is performed in S26.

該充填は前記同様にボッティングにて行われ、一定量が
充填された後、炉に搬入してS27に示すように硬化し
、次いでテスティング(32B)に移行する。
The filling is performed by botting in the same manner as described above, and after a certain amount is filled, it is carried into a furnace and hardened as shown in S27, and then the process moves to testing (32B).

以上のように、本発明のパッケージ構造、並びにその製
造方法は、ミニフラットパッケージのみでなくチップキ
ャリアーパッケージにも適用し得る。
As described above, the package structure and manufacturing method of the present invention can be applied not only to mini-flat packages but also to chip carrier packages.

ここで、前記EPROMI及び20を構成する各部材の
材質について説明する。
Here, the materials of each member constituting the EPROMI and 20 will be explained.

前記リード6、タブ吊りリード7となるリードフレーム
は、パッケージ寸法、リード端子数等を考慮して、板厚
t=0.15mmの42alloy材を使用し、表面メ
ツキはAg4μmで全面に施した。
The lead frame serving as the lead 6 and the tab hanging lead 7 was made of 42 alloy material with a plate thickness of t=0.15 mm, taking into consideration the package dimensions, the number of lead terminals, etc., and the entire surface was plated with Ag of 4 μm.

また、枠体5については、寸法精度、組立工程中の耐熱
性、該EFROMIをプリント配線基板(図示せず)へ
実装する際の半田耐熱性、熱膨張率、機械的強度等の信
顧性を考慮して材質決定する必要がある。
Regarding the frame 5, reliability such as dimensional accuracy, heat resistance during the assembly process, solder heat resistance when mounting the EFROMI on a printed wiring board (not shown), coefficient of thermal expansion, mechanical strength, etc. It is necessary to decide on the material taking this into account.

本実施例で枠体5及び蓋体11を成形するために使用し
た合成樹脂は、ポリプラスチック(株)製ヘクトラA−
410であるが、他にABS樹脂を通用してもよい。
The synthetic resin used to mold the frame 5 and lid 11 in this example was Hectra A-
410, but ABS resin may also be used.

また、ポツティング方式にて充填する合成樹脂4及び2
5は、密着性の良好な液状エポキシ樹脂を使用したが、
他にシリコン樹脂を適用してよい。
In addition, synthetic resins 4 and 2 are filled using the potting method.
5 used a liquid epoxy resin with good adhesion, but
Silicone resin may also be used.

前記構成のEPROMI及び20によれば、ガラス板2
及び23は紫外線透過性に優れ、しかも表面硬度が大で
あるため傷つきにくいので、信頬性が向上する。
According to the EPROMI and 20 having the above configuration, the glass plate 2
and No. 23 have excellent ultraviolet transmittance and have high surface hardness, making them less likely to be scratched, resulting in improved cheek quality.

また、ガラス板2の外周囲、その下側面の一部は接着性
の良好なエポキシ樹脂4によって一体化されているので
、ガラス板2とエポキシ樹脂4との界面に沿って記憶素
子3に至る水分等の侵入経路が形成されにくくなる。従
って、水分および湿気が浸潤しにくくなり、EPROM
I全体の耐湿性が向上する。
In addition, since the outer periphery of the glass plate 2 and a part of its lower surface are integrated with the epoxy resin 4 having good adhesive properties, it reaches the memory element 3 along the interface between the glass plate 2 and the epoxy resin 4. It becomes difficult to form an intrusion path for moisture and the like. Therefore, it becomes difficult for water and humidity to infiltrate, making it difficult for EPROM
I Improves overall moisture resistance.

ところで、前記EPROMに限らず、半導体装置にとっ
て耐湿性の向上は極めて重要な課題である。
By the way, improving moisture resistance is an extremely important issue not only for the EPROM but also for semiconductor devices.

そこで本発明者等は、耐湿性をより一層向上させるため
、パンケージとなる合成樹脂の材質およびパッケージ構
造について下記のような種々の工夫を行った。
Therefore, in order to further improve moisture resistance, the inventors of the present invention have devised various ideas as described below regarding the material of the synthetic resin serving as the pancage and the package structure.

即ち、ポ・ンティングにて充填される前記エポキシ樹脂
4.25に、乾燥剤を混入せしめるものである。該乾燥
剤としては、パッケージ中に浸潤する水分を吸収し得る
ものであればよく、例えばシリカゲルとして知られてい
るものを適用してよい。
That is, a desiccant is mixed into the epoxy resin 4.25 which is filled by pouring. The desiccant may be any desiccant as long as it can absorb moisture seeping into the package, such as what is known as silica gel.

更に、第9図に示すようなパッケージ構造になし、耐湿
性を向上させることができる。
Furthermore, by forming a package structure as shown in FIG. 9, moisture resistance can be improved.

即ち、イメージセンサ−30において、枠体31はヘク
トラ樹脂等の熱可塑性樹脂を成形したものである。
That is, in the image sensor 30, the frame 31 is molded from thermoplastic resin such as Hectra resin.

そして、枠体31の凹部、換言すれば内側の平面部に乾
燥剤層32を形成し、該乾燥剤層32に積層するように
してエポキシ樹脂33をボッティングにて充填する。
Then, a desiccant layer 32 is formed in the recessed part of the frame 31, in other words, in the inner plane part, and the epoxy resin 33 is filled by botting so as to be laminated on the desiccant layer 32.

尚、前記乾燥剤層32は、前記同様にシリカゲルを用い
てよく、層形成にあたっては粉末状、固化した状態の何
れであってもよい。
Note that the desiccant layer 32 may be made of silica gel in the same manner as described above, and the layer may be formed in either a powdered or solidified state.

枠体31はヘクトラ樹脂を成形したものであり、エポキ
シ樹脂33に比較して水分が浸潤しやすいものである。
The frame body 31 is molded from Hectra resin, which is more susceptible to moisture infiltration than the epoxy resin 33.

しかし、前記乾燥剤層32を形成することにより、枠体
31から水分が浸潤した場合、乾燥剤層32によってそ
れ以上の浸潤が低減、或は阻止されるようになる。
However, by forming the desiccant layer 32, when moisture infiltrates from the frame 31, the desiccant layer 32 reduces or prevents further infiltration.

仮に、エポキシ樹脂33まで水分が浸潤しても、その量
が大幅に低減される上に、エポキシ樹脂33は水分が浸
潤しにくいので、水分は光電変換素子34まで到達しに
くくなる。
Even if moisture were to infiltrate into the epoxy resin 33, the amount would be significantly reduced, and since the epoxy resin 33 is difficult for moisture to infiltrate, it would be difficult for the moisture to reach the photoelectric conversion element 34.

尚、記憶素子34の受光面には、前記実施例同様にガラ
ス板35が密に接着され、ガラス板35の外周部垂直面
の殆どがエポキシ樹脂33に接着している。
Note that a glass plate 35 is tightly adhered to the light receiving surface of the memory element 34, as in the previous embodiment, and most of the vertical surface of the outer peripheral portion of the glass plate 35 is adhered to the epoxy resin 33.

また、記憶素子34と各リード36とは、前記同様にワ
イヤーボンディングされている。
Further, the memory element 34 and each lead 36 are wire-bonded as described above.

前記パッケージ構造によれば、枠体31から浸潤する水
分は乾燥剤層32によって少なくとも低減される一方、
エポキシ樹脂33は水分が浸潤しにくいので、全体とし
て耐湿性が向上することになる。
According to the package structure, moisture infiltrating from the frame 31 is at least reduced by the desiccant layer 32;
Since the epoxy resin 33 is difficult to infiltrate with moisture, the moisture resistance is improved as a whole.

次ぎに、第10図を参照して耐湿性向上を可能にした他
のパッケージ構造を説明する。
Next, another package structure that enables improved moisture resistance will be described with reference to FIG.

即ち、イメージセンサ−40において、枠体41はベク
トラ樹脂等を用いて成形したものである。
That is, in the image sensor 40, the frame body 41 is molded using Vectra resin or the like.

そして、枠体41の内側にパッケージの一部となる樹脂
をボッティングにより充填するのであるが、その充填が
例えば3層になされる。
Then, the inside of the frame 41 is filled with resin that will become a part of the package by botting, and the filling is done in three layers, for example.

最下層の樹脂層42と最上層の樹脂1i44とは、水分
が浸潤しにくい樹脂にて構成され、中間層43は前記樹
脂層42.44に比較して水分が浸潤しやすい層であっ
てよい。
The lowermost resin layer 42 and the uppermost resin layer 1i44 are made of a resin that is difficult to infiltrate with water, and the intermediate layer 43 may be a layer that is more easily infiltrated with water than the resin layers 42 and 44. .

前記樹脂層42.44を形成する樹脂としては、例えば
エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が好適である。また、前
記中間層43を構成する樹脂としては、例えば3次元架
橋したアクリル樹脂、ゼオライト等のモルキュラーシー
プ材を混入したエポキシやシリコンアクリル樹脂等が好
適である。尚、45は記憶素子であり、その受光面には
ガラス板46が密に接着され、記憶素子45とリード4
7とはワイヤーボンディングされている。
As the resin forming the resin layers 42 and 44, for example, epoxy resin, silicone resin, etc. are suitable. Further, as the resin constituting the intermediate layer 43, for example, three-dimensionally crosslinked acrylic resin, epoxy mixed with molecular sheep material such as zeolite, silicone acrylic resin, etc. are suitable. Note that 45 is a memory element, and a glass plate 46 is tightly adhered to the light-receiving surface of the memory element.
7 is wire bonded.

前記パッケージ構造のEFROM40は、枠体41から
水分が浸潤しても樹脂層42により低減される。
In the EFROM 40 having the package structure, even if water infiltrates from the frame 41, the resin layer 42 reduces the amount of water infiltrated.

一方、パッケージ表面で水分を含んだ大気に接する部分
は、水分が浸潤しにくいは樹脂層44によって構成され
ている。しかも、樹脂層44にエポキシ樹脂を用いた場
合は、ガラス板46との接着性が良好であるから、ガラ
ス板46の界面を伝わる侵入経路が形成されにくく、こ
れらが相まって耐湿性が向上する。
On the other hand, the portion of the package surface that comes into contact with the moisture-containing atmosphere is constituted by a resin layer 44, which is difficult for moisture to infiltrate. Moreover, when an epoxy resin is used for the resin layer 44, it has good adhesion to the glass plate 46, so that an intrusion path passing through the interface of the glass plate 46 is less likely to be formed, and these factors combine to improve moisture resistance.

以上の実施例は、何れも光透過部にガラス板が適用され
ているが、光透過特性dについて説明したように、UV
硬化樹脂を用いて構成してもよい。
In each of the above embodiments, a glass plate is applied to the light transmitting portion, but as explained about the light transmitting characteristic d, UV
It may also be constructed using a cured resin.

その構造を第12図を参照して説明する。なお、光透退
部以外の構成は特に限定されるものではないので、第3
図に示した構造、符号等を援用する。
Its structure will be explained with reference to FIG. Note that the configuration other than the light transmitting part is not particularly limited, so the third
The structures, symbols, etc. shown in the figures are used.

即ち、光透過部材100としてUV硬化樹脂を板状(厚
さ0.5mm程度)に形成したものが適用されている。
That is, as the light transmitting member 100, a UV cured resin formed into a plate shape (about 0.5 mm thick) is used.

この場合、UV硬化樹脂を予め板状に形成しておけば、
前記同様の工程により前記同様の構造になすことができ
、効果についても同様である。 又、UV硬化樹脂を板
状に形成せず、液状段階で記憶素子3上に積層し、次い
で硬化するようにしてもよい。この場合、光透過部の表
面は必ずしも平坦にならず、第12図に点線で示すよう
な形状になることもあるが、消去の際はイレーザにより
意識的に紫外線を照射するので、平坦でなくても情報消
去を行うことができる。
In this case, if the UV curing resin is formed into a plate shape in advance,
The same structure as above can be achieved by the same steps as above, and the effects are also the same. Alternatively, the UV curable resin may not be formed into a plate shape, but may be laminated on the memory element 3 in a liquid state and then cured. In this case, the surface of the light-transmitting part is not necessarily flat, and may take the shape shown by the dotted line in Figure 12, but during erasing, ultraviolet rays are consciously irradiated by the eraser, so it is not flat. Information can be deleted even if the

以上に本発明の詳細な説明したが、本発明は前記に限定
されるものではなく、種々の変形が可能である。
Although the present invention has been described in detail above, the present invention is not limited to the above, and various modifications are possible.

例えば、ポツティングにて充填されるエポキシ樹脂は黒
色に着色されているが、それ以外の色でもよい。
For example, the epoxy resin filled by potting is colored black, but it may be of any other color.

更に、光透過材としては、前記ガラス板に限定されず色
フィルタ、プリズムを適用してよく、その他に石英、方
解石、蛍石、電気光学効果を有するKDP、ADP等の
光学材料を適用することができる。
Further, the light transmitting material is not limited to the glass plate, but may be a color filter or a prism, and other optical materials such as quartz, calcite, fluorite, KDP or ADP having an electro-optic effect may also be used. I can do it.

[発明の効果] 以上に説明したように、本発明に係る半導体装置は、記
憶素子の受光面にUVガラス、UV硬化樹脂等の紫外線
透過に優れた光透過材を密着すると共に、前記記憶素子
を熱可塑性樹脂を用いて成形した枠体中に位置決めし、
かつ前記枠体と前記記憶素子及び前記光透過材をポツテ
ィングにて注入される熱硬化性樹脂によって一体化した
ものである。
[Effects of the Invention] As explained above, in the semiconductor device according to the present invention, a light transmitting material excellent in transmitting ultraviolet light, such as UV glass or UV curing resin, is closely adhered to the light receiving surface of the memory element, and the memory element is positioned in a frame molded using thermoplastic resin,
Further, the frame body, the memory element, and the light transmitting material are integrated by a thermosetting resin injected by potting.

前記構成によれば、光透過材が紫外線透過に優れ、且つ
枠体、熱硬化性樹脂の光遅閉性が優れているので、紫外
線照射による情報消去を確実に行い得ると共に、不要な
光が遮断されるので、不測に情報消去が行われず、信軌
性が向上する。
According to the above configuration, the light transmitting material has excellent UV transmission, and the frame body and thermosetting resin have excellent light slow closing properties, so that information can be reliably erased by UV irradiation, and unnecessary light can be blocked. Therefore, information is not erased unexpectedly and reliability is improved.

又、パッケージの一部となる熱硬化性樹脂はポンティン
グにより注入されるので、パッケージの一部が金型を用
いることなく所望形状に構成されることになり、製造コ
ストの大幅な低減と、小型軽量化を図ることができる。
In addition, since the thermosetting resin that will become part of the package is injected by pouring, part of the package can be configured into the desired shape without using a mold, which significantly reduces manufacturing costs. It is possible to reduce the size and weight.

更に、光透過材は接着性の優れた熱硬化性樹脂によって
一体化されるので、光透過材と熱硬化性樹脂との界面に
於ける接着が良好になり、樹脂封止であるにも関わらず
、水分、湿気の浸潤が低減して耐湿性が向上する。
Furthermore, since the light-transmitting material is integrated with a thermosetting resin that has excellent adhesive properties, the adhesion at the interface between the light-transmitting material and the thermosetting resin is good, and even though it is resin-sealed, In addition, the infiltration of water and humidity is reduced and moisture resistance is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明を適用した半導体装置の外観構造を示す
斜視図、 第2図は半導体装置の一部切り欠き平面図、第3図は要
部の断面図、 第4図は枠体の構造を示す斜視図、 第5図は紫外線透過特性を示す特性図、第6図及び第7
図は半導体装置の製造工程図、第8図は半導体装置の他
の例を示す断面図、第9図は半導体装置の他の製造工程
図、第10図及び第11図は耐湿性向上を図る半導体装
置の断面図、 第12図は光透過部材の他の例を示す半導体装置の断面
図である。 図中の符号; 1.20,30,40 :EPROM 2.23,35,45,100:光透過部材3.22.
34,45:記憶素子 4.25,33,43:エポキシ樹脂 5.21,31,41:枠体 6:リード 7:タブ吊りリード 8:ボンディングパッド 9:ボンディングワイヤー 10:位置決め部材 10a、10b:第1及び第2の段差部11:M体 32:乾燥剤層 42.43.44:樹脂層。 第1 図 第4図 n 第 図 λ(nm) 第6図 第 図 第8図 第9図
Fig. 1 is a perspective view showing the external structure of a semiconductor device to which the present invention is applied, Fig. 2 is a partially cutaway plan view of the semiconductor device, Fig. 3 is a cross-sectional view of the main part, and Fig. 4 is a frame body. A perspective view showing the structure, Figure 5 is a characteristic diagram showing ultraviolet transmission characteristics, Figures 6 and 7
The figure is a manufacturing process diagram of a semiconductor device, Figure 8 is a cross-sectional view showing another example of a semiconductor device, Figure 9 is a diagram of another manufacturing process of a semiconductor device, and Figures 10 and 11 are diagrams for improving moisture resistance. Cross-sectional view of semiconductor device FIG. 12 is a cross-sectional view of a semiconductor device showing another example of a light transmitting member. Codes in the figure; 1.20, 30, 40: EPROM 2.23, 35, 45, 100: light transmitting member 3.22.
34, 45: Memory element 4. 25, 33, 43: Epoxy resin 5. 21, 31, 41: Frame 6: Lead 7: Tab hanging lead 8: Bonding pad 9: Bonding wire 10: Positioning member 10a, 10b: First and second stepped portions 11: M body 32: Desiccant layer 42, 43, 44: Resin layer. Fig. 1 Fig. 4 n Fig. λ (nm) Fig. 6 Fig. 8 Fig. 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】 [1]電気的に書き込んだ情報を光照射により消去する
記憶素子と、該記憶素子の少なくとも光照射部を覆う光
透過部材と、該光透過部材と前記記憶素子及び記憶素子
のパッケージとなる枠体とを一体化するためポッティン
グにて充填固化した光透過不能の合成樹脂とにより構成
した半導体装置。 [2]前記光透過部材は、所望波長の光を透過する光透
過特性を有していることを特徴とする前記請求項[1]
記載の半導体装置。 [3]電気的に書き込んだ情報を光照射により消去する
記憶素子と、該記憶素子の少なくとも光照射部に密着す
るように形成した合成樹脂からなる光透過部材と、該光
透過部材と前記記憶素子及び記憶素子のパッケージとな
る枠体とを一体化するためポッティングにて充填固化し
た光透過不能の合成樹脂とにより構成した半導体装置。
[Scope of Claims] [1] A memory element that erases electrically written information by light irradiation, a light transmitting member that covers at least a light irradiated portion of the memory element, the light transmitting member, the memory element, and the memory. A semiconductor device made of a synthetic resin that cannot transmit light and is filled and solidified by potting to integrate with a frame that serves as a package for the device. [2] The above-mentioned claim [1], wherein the light transmitting member has a light transmitting property that transmits light of a desired wavelength.
The semiconductor device described. [3] A memory element in which electrically written information is erased by light irradiation, a light transmitting member made of synthetic resin formed in close contact with at least the light irradiated portion of the memory element, and the light transmitting member and the memory. A semiconductor device made of a synthetic resin that cannot transmit light and is filled and solidified by potting to integrate the element and a frame that serves as a package for the memory element.
JP13396590A 1990-05-25 1990-05-25 Semiconductor device Pending JPH0429359A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13396590A JPH0429359A (en) 1990-05-25 1990-05-25 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13396590A JPH0429359A (en) 1990-05-25 1990-05-25 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0429359A true JPH0429359A (en) 1992-01-31

Family

ID=15117225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13396590A Pending JPH0429359A (en) 1990-05-25 1990-05-25 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0429359A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4710797A (en) Erasable and programable read only memory devices
JP3173586B2 (en) All-mold solid-state imaging device and method of manufacturing the same
US20090127690A1 (en) Package and Manufacturing Method for a Microelectronic Component
US4766095A (en) Method of manufacturing eprom device
JP2000173947A (en) Plastic package
US4460915A (en) Plastic package for radiation sensitive semiconductor devices
US7178235B2 (en) Method of manufacturing an optoelectronic package
JPH0429359A (en) Semiconductor device
JPH02229453A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JPH07183415A (en) Semiconductor device and manufacture thereof
JPH0429358A (en) Semiconductor device
JPH07335982A (en) Semiconductor device and its manufacture
JPH02201960A (en) Semiconductor device
JPH0529663A (en) Photosemiconductor device and resin sealing method thereof
JPH02203561A (en) Manufacture of semiconductor device
JPH0590549A (en) Solid-state image sensing element and manufacture thereof
JPS6083337A (en) Manufacture of semiconductor device
JPS61189656A (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2687707B2 (en) Light receiving semiconductor device and assembling method thereof
JPH02260463A (en) Semiconductor device
JPS6062279A (en) Solid-state image pickup device
JP2001068741A (en) Semiconductor light emitting device
JPS60211962A (en) Semiconductor device
JPH079951B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JPS63257251A (en) Semiconductor device