JPH04293235A - プラズマ発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高周波プラズマを利用し
て基板をエッチングもしくはＣＶＤ等の生膜処理をする
装置で、詳しくはスループット向上のためアノード兼基
板ホルダの両面に基板を保持し、各々の面に対向するカ
ソードに高周波電力を供給して高周波プラズマを発生し
、基板を処理するプラズマ発生装置に係り、特にアノー
ド兼基板ホルダの両側に発生するプラズマの相互干渉防
止に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１に示すように１つの反応室１内に平
行する２つのカソード２，３とこれに対応する１つのア
ノード兼基板ホルダ７を有するプラズマ発生装置では、
アノード兼基板ホルダ７の両側に発生するプラズマが相
互干渉し、放電が不安定になったり、各々の側の放電の
独立性が減少したりすることで、エッチングやＣＶＤな
ど意図する処理の制御性が悪化する。

【０００３】従来は、アノード兼基板ホルダ７の両側に
発生するプラズマの相互干渉を防止・低減するためにア
ノード兼基板ホルダ７の面積を拡大したり、反応室１側
壁にシールド板を取付けるなどの構成となっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来例にあっては
、反応室１内の構造を複雑にし、パーティクルの発生，
コストアップの要因となる上、電極の形状、大きさ、ガ
ス導入方法などに応じて設計変更せざるを得ないという
課題がある。

【０００５】本発明の目的は、反応室内に、平行する２
つのカソードとこれに対応する１つのアノード兼基板ホ
ルダが収納され、カソードに高周波電力を供給しプラズ
マを発生させるプラズマ発生装置において、アノード兼
基板ホルダの両側に発生するプラズマの相互干渉を防止
もしくは低減することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明装置は上記の課題
を解決し上記の目的を達成するため、図１に示すように
反応室１内に、基板８，９を両面に保持したアノード兼
基板ホルダ７を設置し、このアノード兼基板ホルダ７の
両面に対向して平行にカソード２，３を配置し、前記反
応室１内を排気口６より排気しつつガス導入口４，５よ
り反応ガスを流通させ、前記アノード兼基板ホルダ７と
両カソード２，３間に高周波電力を印加して高周波プラ
ズマを発生させ、前記基板８，９を処理するプラズマ発
生装置において、前記両カソード２，３に高周波電源１
０の高周波電力を交互にパルス的に供給する構成とする
。

【０００７】

【作用】このように両カソード２，３に高周波電力を交
互にパルス的に供給することにより、アノード兼基板ホ
ルダ７の両側に発生するプラズマの相互干渉を防止もし
くは低減できることになる。

【０００８】

【実施例】図１は本発明装置の１実施例の構成を示す簡
略断面図、図２はその作用の説明図である。１は反応室
、７はこの反応室１内に設置されたアノード兼基板ホル
ダで、その両面に基板８，９が保持されている。このア
ノード兼基板ホルダ７の両面に対向して平行にカソード
２，３が配置されている。

【０００９】４，５はガス導入口で、それぞれカソード
２，３に連通している。６は排気口で、これに連結され
た排気装置（図示せず）により反応室１内を排気する。 １０はアノード兼基板ホルダ７と両カソード２，３間に
それぞれ整合器１１，１２を介して接続された制御器付
き高周波電源であり、両カソード２，３に高周波電力を
交互にパルス的に供給する。

【００１０】上記の構成において反応室１内を排気口６
より排気しつつ反応ガスをガス導入口４，５からカソー
ド２，３を通して反応室１内に流入させる。制御器付き
高周波電源１０の高周波電力が整合器１１，１２を通じ
て２つのカソード２，３に供給される。高周波電力は、
図２に示すように一方のカソード２と他方のカソード３
に交互にパルス的に供給され、プラズマが発生する。

【００１１】１つのアノード兼基板ホルダ７をカソード
２側とカソード３側で同時に使用することがないので、
プラズマの相互干渉は発生しない。また、例えば図２で
一方のカソード２への電力オフと他方のカソード３への
電力オンの間にデッドタイムΔｔを設けることにより、
プラズマの相互干渉防止効果を更に高めることが可能で
ある。

【００１２】なお、本発明で用いたパルス放電プラズマ
の発生技術は従来より１つの反応室内に１対のアノード
とカソードを有するプラズマ発生装置において使用され
ることがあるが、その目的はアフタグロープラズマによ
って電子温度の低いプラズマを発生させたり、大電流パ
ルス放電による高温高密度のプラズマを発生させること
にあり、本発明のように１つの反応室内に２つのカソー
ドと１つのアノードを有するプラズマ発生装置において
、プラズマの相互干渉防止を図るためには用いられてい
ないのが現状である。

【００１３】

【発明の効果】上述のように本発明によれば、■２つの
カソード２，３へ交互に高周波電力を供給し、１つの反
応室１内にプラズマを発生させる場合にプラズマの相互
干渉を防止することができる。■プラズマの相互干渉が
なくなることで、従来使用されていたシールド板が不要
になり、またアノード電極を不必要に拡大する必要がな
くなり、反応室構造が単純になる。これはパーティクル
の低減やコスト低減につながる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明装置の１実施例の構成を示す簡略断面図
である。

【図２】その作用の説明図である。

【符号の説明】

１　　　　　　反応室 ２，３　　カソード ４，５　　ガス導入口 ６　　　　　　排気口 ７　　　　　　アノード兼基板ホルダ ８，９　　基板 １０　　　　制御器付き高周波電源

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　反応室（１）内に、基板（８，９）を
   両面に保持したアノード兼基板ホルダ（７）を設置し、
   このアノード兼基板ホルダ（７）の両面に対向して平行
   にカソード（２，３）を配置し、前記反応室（１）内を
   排気口（６）より排気しつつガス導入口（４，５）より
   反応ガスを流通させ、前記アノード兼基板ホルダ（７）
   と両カソード（２，３）間に高周波電力を印加して高周
   波プラズマを発生させ、前記基板（８，９）を処理する
   プラズマ発生装置において、前記両カソード（２，３）
   に高周波電源（１０）の高周波電力を交互にパルス的に
   供給する構成とすることを特徴とするプラズマ発生装置
   。
2. 【請求項２】　　アノード兼基板ホルダ（７）に対し制
   御器付き高周波電源（１０）を各カソード（２，３）に
   接続してなる請求項１のプラズマ発生装置。
3. 【請求項３】　　一方のカソード（２）への電力オフと
   他方のカソード（３）への電力オンの間にデットタイム
   （Δｔ）を設けることを特徴とする請求項１，２のプラ
   ズマ発生装置。