JPH04290294A - Wire bonding method - Google Patents

Wire bonding method

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JPH04290294A
JPH04290294A JP5295991A JP5295991A JPH04290294A JP H04290294 A JPH04290294 A JP H04290294A JP 5295991 A JP5295991 A JP 5295991A JP 5295991 A JP5295991 A JP 5295991A JP H04290294 A JPH04290294 A JP H04290294A
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JP
Japan
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bonding
pad
wire
chip
laser beam
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Withdrawn
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JP5295991A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Morita
義裕 森田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/328Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by welding

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve reliability by irradiating a bonding chip with a laser beam to heat it to a predetermined temperature, and heating a connecting part of the pad to the wire to effectively connect them. CONSTITUTION:A wire 8 is positioned on a pad 2, and a joint 9 is pressed by a bonding chip 3 to vibrate the chip 3. Here, an arm 4 is vibrated, a command S is simultaneously sent to a controller 7, a predetermined position of the chip 3 is irradiated with a laser beam 5 from a laser beam output unit 6 to to the pad 2 while being heated. Thus, an irregularity in a heating temperature is eliminated, thereby obviating a bonding malfunction.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、基板に形成されたパッ
ドにワイヤをボンディングチップによって押圧し、該パ
ッドと該ワイヤとを拡散結合によって接合するワイヤボ
ンディング方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wire bonding method in which a bonding chip presses a wire against a pad formed on a substrate, and the pad and wire are bonded by diffusion bonding.

【0002】電子機器に用いられる内層パターンを有す
るセラミック基板では、改造または修復などによってセ
ラミック基板の表面にディスクリートワイヤを布設し、
ディスクリートワイヤによって信号の伝播路を形成する
ことが行われる。
[0002] In ceramic substrates having inner layer patterns used in electronic devices, discrete wires are laid on the surface of the ceramic substrate by modification or repair.
A signal propagation path is formed by discrete wires.

【0003】通常、このようなディスクリートワイヤの
布設はセラミック基板の表面に形成されたパッドにディ
スクリートワイヤの端部をボンディングすることで行わ
れている。
Usually, such discrete wires are laid by bonding the ends of the discrete wires to pads formed on the surface of a ceramic substrate.

【0004】近年、このようなボンディングとしては、
ディスクリートワイヤの端部をパッドに押圧させ、振動
を加えることで拡散結合により、端部をパッドに接合す
ることが行われるようになった。
[0004] In recent years, as such bonding,
By pressing the end of a discrete wire against a pad and applying vibration, it has become possible to join the end of a discrete wire to a pad through diffusion bonding.

【0005】[0005]

【従来の技術】従来は図3の従来の説明図に示すように
構成されていた。図3の(a)(b)(c) は構成図
である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a device has been constructed as shown in the conventional explanatory diagram of FIG. FIGS. 3(a), 3(b), and 3(c) are configuration diagrams.

【0006】図3の(a) に示すように、基板1 を
ヒータプレート10に積載し、ヒータプレート10から
矢印に示す加熱によって基板1 を所定温度に加熱する
一方、基板1 の表面1Aに形成されたパッド2 には
ワイヤ8 の端部を重ね合わせ、パッド2 にワイヤ8
 を重ね合わせた接合部9 をアーム4 の先端に固着
されたボンディングチップ3の先端によって所定の圧力
P により押圧するようにしたものである。
As shown in FIG. 3(a), the substrate 1 is placed on a heater plate 10, and the heater plate 10 heats the substrate 1 to a predetermined temperature by heating as indicated by the arrow. The end of the wire 8 is overlapped with the pad 2 which has been
The bonded portion 9 where the two are overlapped is pressed with a predetermined pressure P by the tip of the bonding chip 3 fixed to the tip of the arm 4.

【0007】また、アーム4 は加振機構11によって
加振され、矢印A の水平方向に振動するように形成さ
れている。このように接合部9 をボンディングチップ
3 によって押圧すると共に、振動を加え、更に、ヒー
タプレート10によって所定温度に加熱し、パッド2 
にワイヤ8の端部を拡散結合により接合することが行わ
れていた。
Further, the arm 4 is vibrated by a vibrating mechanism 11 and is formed to vibrate in the horizontal direction of arrow A. In this way, the bonding part 9 is pressed by the bonding chip 3, vibration is applied, and further, the heater plate 10 heats the bonding part 9 to a predetermined temperature, and the pad 2
Conventionally, the ends of the wires 8 were joined by diffusion bonding.

【0008】このようなヒータプレート10によって加
熱を行うことでは、基板1 全体を加熱することになり
、既に接続された半田の溶融, 熱膨張などによって基
板1 および基板1 に実装された電子部品に悪影響を
与えることになる。
By heating with such a heater plate 10, the entire board 1 is heated, and the electronic components mounted on the board 1 and the electronic components mounted on the board 1 are heated by melting solder that has already been connected, thermal expansion, etc. This will have a negative impact.

【0009】そこで、例えば、(b) に示すように、
パッド2 にレンズ12によって集束したレーザビーム
13を照射させ、接合部9 の加熱をレーザビーム13
の照射によって行うように、また、(c) に示すよう
に、窒素N などの不活性ガスを加熱した高温ガス15
をノズル14によって噴出させ、接合部9 の加熱を高
温ガス15によって行うようにすることで、接合部9 
を直接加熱し、電子部品および基板1 に対する熱によ
るダメージを極力軽減させるよう配慮することが行われ
ている。
Therefore, for example, as shown in (b),
The pad 2 is irradiated with a laser beam 13 focused by a lens 12, and the joint 9 is heated by the laser beam 13.
Also, as shown in (c), high-temperature gas 15 heated with an inert gas such as nitrogen N
is ejected by the nozzle 14 and the joint part 9 is heated by the high temperature gas 15.
Consideration is being given to directly heating the electronic components and the substrate 1 to minimize heat damage to the electronic components and the substrate 1.

【0010】また、このようなボンディングに於いては
、通常、接合部9 を加熱温度を150℃に加熱し、ボ
ンディングチップ3 による圧力P を約50〜100
gで行い、約60KHz振動数によって振動させること
により、線径30〜70μm のワイヤ8 の接合が行
われている。
In addition, in such bonding, the bonding portion 9 is usually heated to a temperature of 150° C., and the pressure P exerted by the bonding tip 3 is approximately 50 to 100° C.
By vibrating at a frequency of approximately 60 KHz, wires 8 having a wire diameter of 30 to 70 μm are bonded.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなレ
ーザビーム13の照射によってパッド2 を加熱するこ
と、または、高温ガス15によって接合部9 を加熱す
ることでは、基板1 および基板1に実装された電子部
品に悪影響を与えることを避けることができるが、パッ
ド2および接合部9 に於ける熱容量が小さいため、常
時、加熱温度を所定の温度に維持させることが困難で、
加熱温度の上下変動が大きくなり、特に、レーザビーム
5をパッド2 に照射する場合は、パッド2 に於ける
レーザビーム5の吸収率が悪いため、加熱効率が低くな
る。また、パッド2 の表面状態によっては、光の吸収
率が異なるので加熱温度が不安定となる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, heating the pad 2 by irradiating the laser beam 13 or heating the joint part 9 by the high-temperature gas 15 may cause problems in the substrate 1 and the mounting on the substrate 1. However, since the heat capacity of the pad 2 and the joint 9 is small, it is difficult to maintain the heating temperature at a predetermined temperature at all times.
The heating temperature fluctuates greatly, and especially when the laser beam 5 is irradiated to the pad 2, the absorption rate of the laser beam 5 in the pad 2 is poor, resulting in a low heating efficiency. Furthermore, depending on the surface condition of the pad 2, the light absorption rate differs, making the heating temperature unstable.

【0012】したがって、パッド2 とワイヤ8 の端
部とが完全に拡散接合されないことが生じ、接合不良に
よる障害が発生する問題を有していた。そこで、本発明
では、パッドとワイヤとの接合を確実にし、信頼性の向
上を図ることを目的とする。
Therefore, there is a problem in that the pad 2 and the end of the wire 8 are not completely bonded by diffusion bonding, resulting in problems due to poor bonding. Therefore, an object of the present invention is to ensure the bonding between the pad and the wire and to improve reliability.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図であり、図1に示すように、基板1 の表面1Aに形
成されたパッド2 と、所定方向A に加振されるアー
ム4 の先端部に設けられたボンディングチップ3 と
を備え、該パッド2 に接合すべきワイヤ8 を該パッ
ド2に重ね合わせることで該ボンディングチップ3 に
より所定の圧力P によって押圧し、該パッド2 と該
ワイヤ8 との接合部9 を所定温度に加熱することで
該パッド2 と該ワイヤ8 とを拡散結合によって接合
させるワイヤボンディング方法であって、前記ボンディ
ングチップ3 を所定温度に加熱させ、所定温度に加熱
された該ボンディングチップ3によって前記接合部9 
の加熱が行われるように、また、前記ボンディングチッ
プ3 にレーザビーム5 を照射するレーザビーム出力
部6 を具備し、該レーザビーム5 の照射によって該
ボンディングチップ3が所定温度に加熱されるように、
更に、前記ボンディングチップ3 の振動が開始された
時、前記圧接部9 の加熱を行うよう所定の指令S に
よって前記レーザビーム出力部6 から前記レーザビー
ム5 の照射を行うよう制御する制御部7 を具備し、
前記接合部9 の加熱が該ボンディングチップ3 の振
動に連動して行われるように構成する。
[Means for Solving the Problems] FIG. 1 is a diagram explaining the principle of the present invention. As shown in FIG. 1, a pad 2 formed on a surface 1A of a substrate 1 and an arm vibrated in a predetermined direction A A wire 8 to be bonded to the pad 2 is placed on the pad 2 and pressed by the bonding tip 3 with a predetermined pressure P. A wire bonding method in which the bonding chip 3 is heated to a predetermined temperature and the wire 8 is bonded to the pad 2 by diffusion bonding by heating the bonding portion 9 with the wire 8 to a predetermined temperature. The bonding tip 3 heated to
The bonding chip 3 is further provided with a laser beam output unit 6 for irradiating the bonding chip 3 with a laser beam 5, so that the bonding chip 3 is heated to a predetermined temperature by the irradiation of the laser beam 5. ,
Further, when the bonding chip 3 starts to vibrate, a control unit 7 is controlled to irradiate the laser beam 5 from the laser beam output unit 6 in response to a predetermined command S to heat the pressure welding part 9. Equipped with
The heating of the bonding portion 9 is performed in conjunction with the vibration of the bonding chip 3.

【0014】このように構成することによって前述の課
題は解決される。
[0014] With this configuration, the above-mentioned problem is solved.

【0015】[0015]

【作用】即ち、アーム4 によって加振されるボンディ
ングチップ3 をレーザビーム5 によって照射し、ボ
ンディングチップ3 を所定の温度に加熱させることで
パッド2とワイヤ8 との接合部9 の加熱が行えるよ
うにし、また、このような加熱はボンディングチップ3
 の振動に連動して行われ、ボンディングチップ3 が
振動している時は確実に加熱が行われるようにしたもの
である。
[Operation] That is, the bonding chip 3 , which is vibrated by the arm 4 , is irradiated with the laser beam 5 , and the bonding chip 3 is heated to a predetermined temperature, so that the bonding portion 9 between the pad 2 and the wire 8 can be heated. In addition, this kind of heating is applied to the bonding chip 3.
This is done in conjunction with the vibrations of the bonding chip 3, so that heating is performed reliably when the bonding chip 3 is vibrating.

【0016】このように構成すると、ボンディングチッ
プ3 自身の熱容量は前述のパッド2または接合部9 
に比較して容量が大となるため、加熱温度が所定の値に
安定させることができる。
With this configuration, the heat capacity of the bonding chip 3 itself is equal to that of the pad 2 or the bonding portion 9 described above.
Since the capacity is larger than that of , the heating temperature can be stabilized at a predetermined value.

【0017】また、ボンディングを行う時、ワイヤ8 
をパッド2 に位置決めし、ボンディングチップ3 に
よって押圧し、ボンディングチップ3 を振動させるこ
とで自動的に所定温度の加熱が行われることになり、確
実にワイヤ8 をパッド2 に接合させることが行える
Furthermore, when performing bonding, the wire 8
By positioning the wire 8 on the pad 2 , pressing it with the bonding tip 3 , and vibrating the bonding tip 3 , heating to a predetermined temperature is automatically performed, and the wire 8 can be reliably bonded to the pad 2 .

【0018】したがって、前述のような熱によるダメー
ジを除去すると共に、接合不良による障害がなくなり、
品質並びに信頼性の向上が図れる。
[0018] Therefore, damage caused by heat as described above is eliminated, and troubles due to poor bonding are also eliminated.
Quality and reliability can be improved.

【0019】[0019]

【実施例】以下本発明を図2を参考に詳細に説明する。 図2は本発明による一実施例の説明図、(a) は構成
図,(b)ボンディングチップの説明図,(c)はボン
ディングチップの温度上昇と時間との関係グラフである
。全図を通じて、同一符号は同一対象物を示す。
EXAMPLES The present invention will be explained in detail below with reference to FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram of an embodiment according to the present invention, (a) is a configuration diagram, (b) is an explanatory diagram of a bonding chip, and (c) is a graph of the relationship between the temperature rise of the bonding chip and time. The same reference numerals indicate the same objects throughout the figures.

【0020】図2の(a) に示すように、加振機構1
1によって矢印A の水平方向に加振されるアーム4 
にはボンディングチップ3 が設けられ、一方、基板1
 の表面1Aに形成されたパッド2 にはワイヤ8 の
端部を重ね合わせ、パッド2 にワイヤ8 を重ね合わ
せた接合部9 にボンディングチップ3 の先端を所定
の圧力P により押圧するようにしたものである。
As shown in FIG. 2(a), the vibration mechanism 1
Arm 4 is excited in the horizontal direction of arrow A by 1.
is provided with a bonding chip 3 , while the substrate 1 is provided with a bonding chip 3 .
The end of the wire 8 is overlapped with the pad 2 formed on the surface 1A of the bonding chip 3, and the tip of the bonding chip 3 is pressed with a predetermined pressure P against the joint 9 where the wire 8 is overlapped with the pad 2. It is.

【0021】また、ボンディングチップ3 の所定箇所
には、レーザビーム出力部6 からのレーザビーム5 
が照射されるように形成されている。そこで、接合部9
 を押圧し、駆動回路16からの指令S によって加振
機構11が駆動され、アーム4 を振動させると同時に
、指令S が制御部7 に送出され、制御部7 の制御
によって レーザビーム出力部6 からレーザビーム5
 が照射され、ボンディングチップ3 が加熱されよう
にしたものである。
Furthermore, a laser beam 5 from a laser beam output section 6 is placed at a predetermined location on the bonding chip 3.
is formed so that it is irradiated. Therefore, the joint 9
is pressed, and the excitation mechanism 11 is driven by the command S from the drive circuit 16 to vibrate the arm 4. At the same time, the command S is sent to the control section 7, and under the control of the control section 7, the vibration mechanism 11 is driven by the command S from the laser beam output section 6. laser beam 5
is irradiated to heat the bonding chip 3.

【0022】したがって、熱容量の大きなボンディング
チップ3 が所定の温度に加熱さることで接合部9 に
於ける加熱が行われことになり、加熱温度を所定の範囲
内に維持させることができ、従来のような加熱温度のバ
ラツキによる接合不良をなくすとが行える。
Therefore, the bonding chip 3 having a large heat capacity is heated to a predetermined temperature, thereby heating the bonding portion 9, and the heating temperature can be maintained within a predetermined range. It is possible to eliminate bonding defects caused by variations in heating temperature.

【0023】実際には、ボンディングチップ3 はチタ
ニウム・カーバイトTiC,タングステン・カーバイト
WC, アルミナ・セラミックAl2O3 などの材質
によって形成し、サイズは(b) に示すように、径D
 が約2mm 、長さL が約20mmであり、先端か
らの距離L1(5mm) の箇所のB 部にレーザビー
ム5 を照射させるようにした。
In reality, the bonding chip 3 is made of a material such as titanium carbide TiC, tungsten carbide WC, or alumina ceramic Al2O3, and its size is a diameter D as shown in (b).
is about 2 mm, the length L is about 20 mm, and the laser beam 5 is irradiated to part B at a distance L1 (5 mm) from the tip.

【0024】この場合、レーザビーム5 としは半導体
レーザを用い、波長810mm,スポット径1.0mm
,ワーク・ディスタンス40mm, 出力10W(連続
波) によって照射すると、(c)に示すレーザビーム
5 の照射時間(sec) を横軸、ボンディングチッ
プ3 の加熱温度の上昇温度( ℃) を縦軸としたグ
ラフで明らかなように、約1 秒の照射によってボンデ
ィングチップ3 を400 ℃に加熱させることができ
る。
In this case, a semiconductor laser is used as the laser beam 5, with a wavelength of 810 mm and a spot diameter of 1.0 mm.
, the work distance is 40 mm, and the output is 10 W (continuous wave).The horizontal axis is the irradiation time (sec) of the laser beam 5 shown in (c), and the vertical axis is the temperature rise in the heating temperature of the bonding chip 3 (°C). As is clear from the graph, the bonding chip 3 can be heated to 400° C. by irradiation for about 1 second.

【0025】そこで、ボンディングチップ3 を150
 ℃の温度に加熱することは、ボンディングチップ3 
のB 部にレーザビーム5 を0.2 〜0.3 秒間
照射させることで十分に行える。
Therefore, the bonding chip 3 is 150
Heating the bonding chip to a temperature of 3
It is sufficient to irradiate part B with the laser beam 5 for 0.2 to 0.3 seconds.

【0026】したがって、ボンディングチップ3 を所
定の温度に加熱し、更に、ボンディングチップ3 によ
って接合部9 を加熱することにより前述のような線径
50〜70μmのワイヤ3 の接合を容易に行うことが
できる。
Therefore, by heating the bonding tip 3 to a predetermined temperature and further heating the bonding portion 9 by the bonding tip 3, it is possible to easily bond the wires 3 having a wire diameter of 50 to 70 μm as described above. can.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ボンディングチップをレーザビームの照射によって所定
の温度に加熱させ、更に、ボンディングチップによって
パッドとワイヤとの接合部の加熱を行うことで、拡散結
合による接合を確実に行うようにすることができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
By heating the bonding chip to a predetermined temperature by irradiating the bonding chip with a laser beam, and further heating the bonding portion between the pad and the wire using the bonding chip, it is possible to reliably perform the bonding by diffusion bonding.

【0028】したがって、従来のような加熱による悪影
響を電子部品および基板に与えることのないように、し
かも、従来に比較して確実な接合を行うことができ、品
質並びに信頼性の向上が図れ、実用的効果は大である。
[0028] Therefore, it is possible to prevent electronic components and substrates from being adversely affected by heating as in the past, and moreover, it is possible to perform bonding more reliably than in the past, improving quality and reliability. The practical effects are great.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】  本発明の原理説明図[Figure 1] Diagram explaining the principle of the present invention

【図2】  本発明による一実施例の説明図[Fig. 2] Explanatory diagram of an embodiment according to the present invention

【図3】 
 従来の説明図
[Figure 3]
Conventional illustration

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1   基板                   
       1A  表面2   パッド     
                   3   ボン
ディングチップ
1 board
1A Surface 2 Pad
3 Bonding chip

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基板(1) の表面(1A)に形成さ
れたパッド(2) と、所定方向(A) に加振される
アーム(4) の先端部に設けられたボンディングチッ
プ(3) とを備え、該パッド(2) に接合すべきワ
イヤ(8) を該パッド(2) に重ね合わせることで
該ボンディングチップ(3) により所定の圧力(P)
 によって押圧し、該パッド(2)と該ワイヤ(8) 
との接合部(9) を所定温度に加熱することで該パッ
ド(2) と該ワイヤ(8) とを拡散結合によって接
合させるワイヤボンディング方法であって、前記ボンデ
ィングチップ(3) を所定温度に加熱させ、所定温度
に加熱された該ボンディングチップ(3) によって前
記接合部(9) の加熱が行われることを特徴とするワ
イヤボンディング方法。
Claim 1: A pad (2) formed on the surface (1A) of a substrate (1), and a bonding chip (3) provided at the tip of an arm (4) that is vibrated in a predetermined direction (A). By overlapping the wire (8) to be bonded to the pad (2) on the pad (2), a predetermined pressure (P) is applied by the bonding chip (3).
by pressing the pad (2) and the wire (8)
A wire bonding method in which the pad (2) and the wire (8) are bonded by diffusion bonding by heating the bonding part (9) to a predetermined temperature, the bonding chip (3) being heated to a predetermined temperature. A wire bonding method characterized in that the bonding portion (9) is heated by the bonding chip (3) heated to a predetermined temperature.
【請求項2】  請求項1の前記ボンディングチップ(
3) にレーザビーム(5)を照射するレーザビーム出
力部(6) を具備し、該レーザビーム(5) の照射
によって該ボンディングチップ(3) が所定温度に加
熱されることを特徴とするワイヤボンディング方法。
2. The bonding chip according to claim 1 (
3) A wire characterized in that the bonding chip (3) is heated to a predetermined temperature by the irradiation of the laser beam (5), and the bonding chip (3) is heated to a predetermined temperature by the irradiation of the laser beam (5). Bonding method.
【請求項3】  請求項1の前記ボンディングチップ(
3) の振動が開始された時、前記接合部(9) の加
熱を行うよう所定の指令(S) によって前記レーザビ
ーム出力部(6) から前記レーザビーム(5) の照
射が行われるよう制御する制御部(7)を具備し、前記
接合部(9) の加熱が該ボンディングチップ(3) 
の振動に連動して行われることを特徴とするワイヤボン
ディング方法。
3. The bonding chip according to claim 1 (
3) When the vibration starts, the laser beam output section (6) is controlled to irradiate the laser beam (5) with a predetermined command (S) to heat the joint section (9). the bonding chip (3);
A wire bonding method characterized by being performed in conjunction with the vibration of.
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