JPH04286797A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPH04286797A
JPH04286797A JP3076845A JP7684591A JPH04286797A JP H04286797 A JPH04286797 A JP H04286797A JP 3076845 A JP3076845 A JP 3076845A JP 7684591 A JP7684591 A JP 7684591A JP H04286797 A JPH04286797 A JP H04286797A
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JP
Japan
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data
memory cell
line
data set
type mos
Prior art date
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Pending
Application number
JP3076845A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akihiko Takahata
高畠 明彦
Shinichi Uramoto
浦本 紳一
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH04286797A publication Critical patent/JPH04286797A/en
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To write plural words of data in the lump. CONSTITUTION:At least one data setting line 12 transmitting a data setting signal is provided in the memory cell array of the semiconductor storage device, and N type MOS transistors 9a and 9b is added to the inside of memory cells 14a and 14b as a data writing circuit controlled with a data setting signal.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関し
、特にそのメモリセル及びデータの設定線に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly to memory cells and data setting lines thereof.

【0002】0002

【従来の技術】図8は従来の半導体記憶装置の1つであ
るスタティック型ランダム・アクセス・メモリ(以下、
SRAMと称す)を含めた半導体記憶装置の一般的な構
成を概略的に示したものである。図8において、21は
アドレスバッファ、22はアドレスデコーダ、23はメ
モリセルアレイ、24は制御回路、25はデータの入出
力回路である。制御回路24は、アドレスの入出力及び
データの入出力の制御をそれぞれ制御線31,32を通
して行っている。メモリセルアレイ23には、1ビット
分のデータを記憶するメモリセル34が行及び列からな
るマトリクス状に配列されており、図に示すように、各
メモリセル34上を、上下に2本1組のビット線1a,
1b、左右にワード線2が通過している。
2. Description of the Related Art FIG. 8 shows a static random access memory (hereinafter referred to as "static random access memory") which is one of conventional semiconductor memory devices.
1 schematically shows a general configuration of a semiconductor memory device including an SRAM (SRAM). In FIG. 8, 21 is an address buffer, 22 is an address decoder, 23 is a memory cell array, 24 is a control circuit, and 25 is a data input/output circuit. The control circuit 24 controls address input/output and data input/output through control lines 31 and 32, respectively. In the memory cell array 23, memory cells 34 that store one bit of data are arranged in a matrix consisting of rows and columns. bit line 1a,
1b, word lines 2 are passing on the left and right.

【0003】SRAMの場合、メモリセルアレイ23を
構成するメモリセル34は一般的には図7に示すような
構成になっている。図7において、1a,1bはビット
線であり、これらはそれぞれN型のMOSトランジスタ
7を通して記憶ノード6a,6bに接続されている。N
型MOSトランジスタの7のゲートはワード線2に接続
され、N型MOSトランジスタ7のオン,オフはワード
線2により制御される。メモリセル34内部において、
3は電源電位、4は基準電位を表し、5a,5bは高抵
抗の負荷素子、8a,8bはN型のMOSトランジスタ
を表している。
In the case of an SRAM, memory cells 34 constituting the memory cell array 23 generally have a configuration as shown in FIG. In FIG. 7, bit lines 1a and 1b are connected to storage nodes 6a and 6b through N-type MOS transistors 7, respectively. N
The gate of the N type MOS transistor 7 is connected to the word line 2, and the ON/OFF state of the N type MOS transistor 7 is controlled by the word line 2. Inside the memory cell 34,
3 represents a power supply potential, 4 represents a reference potential, 5a and 5b represent high resistance load elements, and 8a and 8b represent N-type MOS transistors.

【0004】次に動作について説明する。データの書き
込み及び読み出しはワード線2の電位が“H”となる時
、N型MOSトランジスタ7が導通状態になることによ
り、ビット線1a,1bを通じて行われる。なお、ビッ
ト線1aではデータが、ビット線1bではデータの反転
値が入出力される。そしてワード線2の電位が“L”の
時には、メモリセル34内でデータが保持される。
Next, the operation will be explained. Writing and reading of data is performed through bit lines 1a and 1b by turning on N-type MOS transistor 7 when the potential of word line 2 becomes "H". Note that data is input/output to the bit line 1a, and an inverted value of the data is input/output to the bit line 1b. When the potential of the word line 2 is "L", data is held within the memory cell 34.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のSRAMは以上
のように構成されているので、データの書き込みは1ワ
ード分ずつ行う必要があり、複数のワードの書き込みの
ためには、ワード数分の回数の書き込み動作が必要であ
り、一度にデータの書き込みができないという問題点が
あった。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional SRAM is configured as described above, it is necessary to write data one word at a time. There was a problem that multiple write operations were required and data could not be written all at once.

【0006】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、複数ワード分の特定のデータ
を一度に書き込むことを可能とした半導体記憶装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that allows multiple words of specific data to be written at once. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体記
憶装置は、メモリセルアレイ内に少なくとも1本以上の
データ設定信号を伝達するデータセット線を新たに設け
、メモリセルの内部あるいは外部に、データ設定信号に
より制御されるデータ書き込み回路を付け加え、上記デ
ータ設定信号を活性化することにより、上記データセッ
ト線の通過するメモリセルのそれぞれに、あらかじめ設
定したデータを書き込むようにしたものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention newly provides a data set line for transmitting at least one data setting signal within a memory cell array, and provides a data set line for transmitting at least one data setting signal to the inside or outside of the memory cell. A data write circuit controlled by a setting signal is added, and by activating the data setting signal, preset data is written into each memory cell through which the data set line passes.

【0008】[0008]

【作用】この発明による半導体記憶装置は、データ設定
信号を活性化することより、複数ワードに対応するメモ
リセルの内部あるいは外部に設けたデータ書き込み回路
が同時に動作し、上記データセット線の通過する複数の
メモリセルの各々にあらかじめ設定されたデータが書き
込まれる。
[Operation] In the semiconductor memory device according to the present invention, by activating the data setting signal, the data writing circuits provided inside or outside the memory cells corresponding to a plurality of words operate simultaneously, and the data writing circuits provided inside or outside the memory cells corresponding to a plurality of words operate simultaneously. Preset data is written into each of the plurality of memory cells.

【0009】[0009]

【実施例】図1(a) 及び図1(b) は、この発明
の第1の実施例による半導体記憶装置における、SRA
Mのメモリセルアレイを構成するメモリセルの回路構成
を示す図である。両図において、1a,1bはデータを
伝達するためのビット線であり、N型のMOSトランジ
スタ7を介してそれぞれ記憶ノード6a,6bに接続さ
れている。N型MOSトランジスタ7のゲートは行選択
信号が伝達されるワード線2に接続されており、N型M
OSトランジスタ7のオン,オフはワード線2上を通る
信号により制御される。メモリセル内部において、3は
電源電位、4は基準電位であり、5a,5bは高抵抗負
荷素子、8a,8bはN型MOSトランジスタである。 ここまでの構成は従来のSRAMのメモリセルの構成と
同じものとなっている。
[Embodiment] FIGS. 1(a) and 1(b) show SRA in a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of memory cells forming an M memory cell array. In both figures, 1a and 1b are bit lines for transmitting data, and are connected to storage nodes 6a and 6b, respectively, via an N-type MOS transistor 7. The gate of the N-type MOS transistor 7 is connected to the word line 2 to which the row selection signal is transmitted.
ON/OFF of the OS transistor 7 is controlled by a signal passing on the word line 2. Inside the memory cell, 3 is a power supply potential, 4 is a reference potential, 5a and 5b are high resistance load elements, and 8a and 8b are N-type MOS transistors. The configuration up to this point is the same as that of a conventional SRAM memory cell.

【0010】本実施例のメモリセルが従来のSRAMの
メモリセルの構成と異なるのは、メモリセルの内部に、
N型のMOSトランジスタ9a,9bが加わり、さらに
メモリセルの外部にN型MOSトランジスタ9aあるい
はN型MOSトランジスタ9bのゲートに接続された、
データ設定信号を伝達するためのデータセット線12が
加わった点である。N型MOSトランジスタ9a,9b
のドレインはそれぞれ記憶ノード6a,6bに接続され
、N型MOSトランジスタ9a,9bのソースは両者と
も基準電位4に接続されている。
The structure of the memory cell of this embodiment differs from the conventional SRAM memory cell in that the structure of the memory cell is
N-type MOS transistors 9a and 9b are added, and further connected to the gate of the N-type MOS transistor 9a or the N-type MOS transistor 9b outside the memory cell.
This is the addition of a data set line 12 for transmitting data setting signals. N-type MOS transistors 9a, 9b
are connected to storage nodes 6a and 6b, respectively, and sources of N-type MOS transistors 9a and 9b are both connected to reference potential 4.

【0011】また、図1(a) ではN型MOSトラン
ジスタ9a,9bのゲートは、それぞれ基準電位4,デ
ータセット線12に接続され、一方、図1(b) では
これとは逆にN型MOSトランジスタ9a,9bのゲー
トはそれぞれデータセット線12,基準電位4に接続さ
れている。図1(a) の点線で囲った部分をメモリセ
ル14a、図1(b) の点線で囲った部分をメモリセ
ル14bとする。
Furthermore, in FIG. 1(a), the gates of N-type MOS transistors 9a and 9b are connected to the reference potential 4 and the data set line 12, respectively, while in FIG. 1(b), on the contrary, the gates of N-type MOS transistors 9a and 9b are The gates of MOS transistors 9a and 9b are connected to data set line 12 and reference potential 4, respectively. A portion surrounded by a dotted line in FIG. 1(a) is a memory cell 14a, and a portion surrounded by a dotted line in FIG. 1(b) is a memory cell 14b.

【0012】また、図2は図1(a),図1(b) の
メモリセルによりなる半導体記憶装置の構成を概略的に
示すものである。図2の構成が従来の装置の構成と比較
して異なる点は、メモリセルアレイ内にデータセット線
12が加わり、さらに制御回路24より該メモリセルア
レイ23のデータセット線12にデータ設定信号を伝達
するためのデータ設定制御線33が加わった点である。
FIG. 2 schematically shows the structure of a semiconductor memory device including the memory cells shown in FIGS. 1(a) and 1(b). The configuration of FIG. 2 is different from the configuration of a conventional device in that a data set line 12 is added within the memory cell array, and a data setting signal is further transmitted from the control circuit 24 to the data set line 12 of the memory cell array 23. This is because a data setting control line 33 has been added for this purpose.

【0013】以下、上述のように構成された半導体記憶
装置の動作について説明する。ワード線2とビット線1
a,1bによる通常のデータの書き込み動作については
、従来のSRAMのものと全く同じであるので、ここで
はその説明は省略する。
The operation of the semiconductor memory device configured as described above will be explained below. word line 2 and bit line 1
The normal data writing operation by a and 1b is exactly the same as that of a conventional SRAM, so its explanation will be omitted here.

【0014】以下、図1(a),図1(b) のメモリ
セルの、データセット線12によるデータ設定動作につ
いて説明する。まず、図1(a) のメモリセル14a
のデータ設定動作について説明する。データセット線1
2上の信号が“H”となり、ワード線2の信号が“L”
である時、N型MOSトランジスタ9bが導通状態とな
り、N型MOSトランジスタ7,9aは非導通状態であ
るので、記憶ノード6bに基準電位“L”が伝えられ、
記憶ノード6aの電位は“H”となる。よって、メモリ
セル14aには“1”のデータが書き込まれる。その後
、データセット線12の信号が“L”となっても、メモ
リセル14に記憶されているデータ“1”は保持される
The data setting operation of the memory cells shown in FIGS. 1(a) and 1(b) using the data set line 12 will be explained below. First, the memory cell 14a in FIG. 1(a)
The data setting operation will be explained below. Data set line 1
The signal on word line 2 becomes “H” and the signal on word line 2 becomes “L”
When , the N-type MOS transistor 9b is in a conductive state and the N-type MOS transistors 7 and 9a are in a non-conductive state, so that the reference potential "L" is transmitted to the storage node 6b.
The potential of storage node 6a becomes "H". Therefore, data "1" is written into the memory cell 14a. Thereafter, even if the signal on the data set line 12 becomes "L", the data "1" stored in the memory cell 14 is held.

【0015】次に、図1(b) のメモリセル14bの
データ設定動作について説明する。データセット線12
上の信号が“H”となり、ワード線2の信号が“L”で
ある時、N型MOSトランジスタ9aが導通状態となり
、N型MOSトランジスタ7,9bは非導通状態にある
ので、記憶ノード6aに基準電位“L”が伝えられ、記
憶ノード6bの電位は“H”となる。よって、メモリセ
ル14bには“0”のデータが書き込まれる。その後、
データセット線12の信号が“L”となっても、メモリ
セル14bに記憶されているデータ“0”は保持される
Next, the data setting operation of the memory cell 14b in FIG. 1(b) will be explained. Data set line 12
When the upper signal becomes "H" and the signal on the word line 2 is "L", the N-type MOS transistor 9a becomes conductive and the N-type MOS transistors 7 and 9b are non-conductive, so that the storage node 6a The reference potential "L" is transmitted to the storage node 6b, and the potential of the storage node 6b becomes "H". Therefore, data "0" is written into the memory cell 14b. after that,
Even if the signal on the data set line 12 becomes "L", the data "0" stored in the memory cell 14b is held.

【0016】上記のように、本実施例によれば、データ
セット線の信号を“H”とすることにより、SRAMの
通常の書き込み動作によらずに、メモリセルに“1”あ
るいは“0”のデータを書き込むことができる。この場
合、図1(a),図1(b) に示すように、N型MO
Sトランジスタ9a,9bのゲートのうち、どちらを基
準電位に接続し、他方をデータセット線に接続するかを
選択することにより、書き込まれるデータが“1”であ
るか“0”であるかを決定することができる。
As described above, according to this embodiment, by setting the data set line signal to "H", "1" or "0" is written to the memory cell without the normal writing operation of the SRAM. data can be written. In this case, as shown in Figures 1(a) and 1(b), N-type MO
By selecting which of the gates of S transistors 9a and 9b is connected to the reference potential and the other to the data set line, it is possible to determine whether the data to be written is "1" or "0". can be determined.

【0017】また、図3は上記のメモリセル14a,1
4bにより構成されたメモリセルアレイの一部を示す図
である。図において、上段,中段,及び下段の4個ずつ
のメモリセルはそれぞれ第1ワード,第2ワード,及び
第3ワード分のメモリセルであり、それぞれ1本のワー
ド線2を共有している。各ワードとも4ビットのデータ
を記憶できる構成になっている。また、図における12
個のメモリセルは1本のデータセット線12を共有して
いる。
FIG. 3 also shows the memory cells 14a, 1
4b is a diagram illustrating a part of a memory cell array configured by 4b. In the figure, four memory cells in the upper, middle, and lower rows are memory cells for a first word, a second word, and a third word, respectively, and each shares one word line 2. Each word is configured to be able to store 4 bits of data. Also, 12 in the figure
The memory cells share one data set line 12.

【0018】図3の12個のメモリセルにビット線1a
,1bによりデータを書き込む場合には、それぞれのワ
ード線2を順番に活性化して、1ワードずつデータを書
き込まなければならないが、データセット線12を活性
化すれば全メモリセルにあらかじめ設定したデータを一
度に書き込むことができる。例えば、図3の構成のメモ
リセルアレイでは、第1ワードに“1111”,第2ワ
ードに“0000”,第3ワードには“1010”のデ
ータを一度に書き込むことができる。
Bit line 1a is connected to 12 memory cells in FIG.
, 1b, it is necessary to activate each word line 2 in order and write data one word at a time, but if the data set line 12 is activated, the preset data is written to all memory cells. can be written at once. For example, in the memory cell array having the configuration shown in FIG. 3, it is possible to write data "1111" into the first word, "0000" into the second word, and "1010" into the third word all at once.

【0019】このように本実施例によれば、複数ワード
分のメモリセルに同一のデータセット線12を共有させ
、それぞれのメモリセルにおいて、N型MOSトランジ
スタ9a,9bのゲートのどちらを基準電位に接続し、
他方をデータセット線に接続するかを選択すれば、デー
タセット線の信号を“H”とすることにより、これらの
データセット線を共有する全メモリセルに、一度に任意
のデータを書き込むことができるようになる。
As described above, according to this embodiment, memory cells for a plurality of words share the same data set line 12, and in each memory cell, which of the gates of the N-type MOS transistors 9a and 9b is set to the reference potential. connect to
If you choose to connect the other side to the data set line, by setting the data set line signal to "H", you can write any data at once to all memory cells that share these data set lines. become able to.

【0020】また、データセット線12の数を増やし、
各メモリセルにおいて、図1の9a,9bに相当するN
型MOSトランジスタを、追加したデータセット線1本
につき2個ずつ追加すれば、2種類以上のデータの書き
込みが可能となる。
Furthermore, the number of data set lines 12 is increased,
In each memory cell, N corresponding to 9a and 9b in FIG.
By adding two type MOS transistors for each added data set line, it becomes possible to write two or more types of data.

【0021】図4にその一例を示す。即ち図4は本発明
の第1の実施例の応用例による半導体記憶装置のメモリ
セルの回路構成を示すものであり、図において、図1(
a) ,(b) と同一符号は同一部分を示している。 図4の構成においては、図1(a) ,(b) の構成
に、さらに、N型MOSトランジスタ10a,10bと
データセット線13が追加されているのが特徴である。 従って、図4の構成では2種類のデータの書き込みが可
能であり、データセット線12上の信号を“H”とする
ことにより、メモリセルに“1”のデータが書き込むこ
とができ、また、データセット線13上の信号を“H”
とすることにより、メモリセルに“0”のデータを書き
込むことができる。
An example is shown in FIG. That is, FIG. 4 shows a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to an application example of the first embodiment of the present invention.
The same reference numerals as in a) and (b) indicate the same parts. The configuration of FIG. 4 is characterized by the addition of N-type MOS transistors 10a, 10b and a data set line 13 to the configurations of FIGS. 1(a) and 1(b). Therefore, in the configuration of FIG. 4, it is possible to write two types of data, and by setting the signal on the data set line 12 to "H", data "1" can be written to the memory cell. The signal on the data set line 13 is set to “H”
By doing so, it is possible to write "0" data into the memory cell.

【0022】また、図5はこの発明の第2の実施例によ
る半導体記憶装置における、メモリセル及びその周辺の
回路構成を示している。図において、図1(a) ,(
b) と同一符号は同一または相当部分を示しており、
本実施例のメモリセルが、従来のSRAMのメモリセル
の構成と異なるのは、メモリセル34の外部にデータ書
き込み用の回路17を設け、これを記憶ノード6a,6
bのいずれか一方に接続するように構成した点である。 データ書き込み用回路17はN型MOSトランジスタ1
6により構成され、N型MOSトランジスタ16のゲー
トはデータセット線12に接続され、ソースは基準電位
4に接続され、ドレインは記憶ノード6a,6bのいず
れか一方に接続されている。このデータ書き込み用回路
17を記憶ノード6aに接続した場合には、データセッ
ト線12の信号が“H”の時にメモリセルにデータ“0
”が書き込まれ、データ書き込み用回路17を記憶ノー
ド6bに接続した場合には、データセット線12の信号
が“H”の時にデータ“1”が書き込まれる。
FIG. 5 shows a memory cell and its peripheral circuit configuration in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. In the figure, Figure 1(a), (
b) The same reference numerals indicate the same or equivalent parts,
The structure of the memory cell of this embodiment differs from the conventional SRAM memory cell in that a data writing circuit 17 is provided outside the memory cell 34, and this is connected to the memory nodes 6a and 6.
b. The data write circuit 17 is an N-type MOS transistor 1
The gate of the N-type MOS transistor 16 is connected to the data set line 12, the source is connected to the reference potential 4, and the drain is connected to either one of the storage nodes 6a and 6b. When this data writing circuit 17 is connected to the storage node 6a, when the signal on the data set line 12 is "H", data "0" is stored in the memory cell.
” is written and the data writing circuit 17 is connected to the storage node 6b, data “1” is written when the signal on the data set line 12 is “H”.

【0023】従って、本実施例においても、上記第1の
実施例と同様に、複数ワード分のメモリセルに同一のデ
ータセット線を共有させ、それぞれのメモリセルにおい
て、データ書き込み用の回路17を記憶ノード6a,6
bのどちらのノードに接続するかを任意選択すれば、デ
ータセット線12の信号を“H”とすることにより、デ
ータセット線を共有する全メモリセルに、一度に任意の
データを書き込むことができる。
Therefore, in this embodiment as well, similarly to the first embodiment, the memory cells for a plurality of words share the same data set line, and the data writing circuit 17 is configured in each memory cell. Storage nodes 6a, 6
By arbitrarily selecting which node of b to connect to, by setting the signal of the data set line 12 to "H", it is possible to write any data at once to all memory cells that share the data set line. can.

【0024】また、データセット線,及びデータ書き込
み用の回路の追加により、データセット線を共有する全
メモリセルに、2種類以上のデータを書き込むことが可
能となる。図6にその一例を示す。即ち図6は発明の第
2の実施例の応用例としての半導体集積回路のメモリセ
ル及びその周辺の回路構成を示すものであり、図におい
て、図5と同一符号は同一または相当部分を示し、2本
のデータセット線12,13と2個の書き込み用回路1
7a,17bを備えているのが特徴である。従って、図
6の構成では、2種類のデータの書き込みが可能であり
、データセット線12上の信号を“H”にすることによ
り、データ書き込み回路17bを介してメモリセル34
に“1”のデータを書き込むことができ、また、データ
セット線13上の信号を“H”にすることにより、デー
タ書き込み用回路17aを介してメモリセルに“0”の
データを書き込むことができる。
Furthermore, by adding a data set line and a circuit for writing data, it becomes possible to write two or more types of data to all memory cells that share the data set line. An example is shown in FIG. That is, FIG. 6 shows a memory cell and its peripheral circuit configuration of a semiconductor integrated circuit as an application example of the second embodiment of the invention. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 5 indicate the same or corresponding parts, Two data set lines 12, 13 and two write circuits 1
It is characterized by having 7a and 17b. Therefore, in the configuration of FIG. 6, it is possible to write two types of data, and by setting the signal on the data set line 12 to "H", the data is transferred to the memory cell 34 via the data write circuit 17b.
By setting the signal on the data set line 13 to "H", data of "0" can be written to the memory cell via the data writing circuit 17a. can.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
、半導体記憶装置のメモリセル内に少なくとも1本以上
のデータ設定信号を伝達するデータセット線を設け、さ
らにメモリセルの内部あるいは外部に、データ設定信号
により制御されるデータ書き込み回路を設けるようにし
たので、データ設定信号を活性化することにより、あら
かじめ設定した複数ワード分のデータを一度に複数のメ
モリセルに書き込むことができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, a data set line for transmitting at least one data setting signal is provided in a memory cell of a semiconductor memory device, and a data set line is provided inside or outside the memory cell. Since a data write circuit controlled by a data setting signal is provided, by activating the data setting signal, multiple words of data set in advance can be written to multiple memory cells at once. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】この発明の第1の実施例による半導体記憶装置
のメモリセルの回路構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第1の実施例による半導体記憶装置
のメモリセルの回路構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図3】この発明の第1の実施例による半導体記憶装置
のメモリセルアレイの構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of a memory cell array of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図4】この発明の第1の実施例の応用例による半導体
記憶装置のメモリセルの回路構成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to an applied example of the first embodiment of the present invention.

【図5】この発明の第2の実施例による半導体記憶装置
のメモリセルの回路構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the invention.

【図6】この発明の第2の実施例の応用例による半導体
記憶装置のメモリセルの回路構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a circuit configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to an applied example of the second embodiment of the present invention.

【図7】従来の半導体記憶装置の1つであるSRAMの
メモリセルの一般的な回路構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a general circuit configuration of a memory cell of an SRAM, which is one of conventional semiconductor memory devices.

【図8】従来の半導体記憶装置の1つであるSRAMの
一般的な構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a general configuration of an SRAM, which is one of conventional semiconductor memory devices.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a    ビット線 1b    ビット線 2      ワード線 3      電源電位 4      基準電位 5      高抵抗負荷素子 7      N型MOSトランジスタ8a    N
型MOSトランジスタ 8b    N型MOSトランジスタ 9a    N型MOSトランジスタ 9b    N型MOSトランジスタ 10a  N型MOSトランジスタ 10b  N型MOSトランジスタ 16    N型MOSトランジスタ 12    データセット線 13    データセット線 17a,17b    データ書き込み用回路21  
  アドレスバッファ 22    アドレスデコーダ 23    メモリセルアレイ 24    制御回路 25    入出力回路 31    制御線 32    制御線 33    データ設定制御線 34    メモリセル
1a Bit line 1b Bit line 2 Word line 3 Power supply potential 4 Reference potential 5 High resistance load element 7 N-type MOS transistor 8a N
type MOS transistor 8b N type MOS transistor 9a N type MOS transistor 9b N type MOS transistor 10a N type MOS transistor 10b N type MOS transistor 16 N type MOS transistor 12 Data set line 13 Data set lines 17a, 17b Data writing circuit 21
Address buffer 22 Address decoder 23 Memory cell array 24 Control circuit 25 Input/output circuit 31 Control line 32 Control line 33 Data setting control line 34 Memory cell

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  メモリセルアレイ,アドレス入出力線
,アドレスデコーダ,データ入出力回路を備えた半導体
記憶装置であって、上記メモリセルアレイ内に、データ
を伝達するためのビット線と、行選択信号を伝達するた
めの複数のワード線と、データ設定信号を伝達するため
の少なくとも1つ以上のデータセット線とを備え、上記
メモリセルアレイを構成するメモリセルの内部あるい外
部に、上記データ設定信号により制御され,メモリセル
に特定データを書き込む回路を備え、上記データ設定信
号を活性化することにより、上記データセット線を共有
するメモリセルのそれぞれにあらかじめ設定したデータ
を書き込むようにしたことを特徴とする半導体記憶装置
1. A semiconductor memory device comprising a memory cell array, an address input/output line, an address decoder, and a data input/output circuit, wherein the memory cell array includes a bit line for transmitting data and a row selection signal. A plurality of word lines for transmitting a data setting signal and at least one or more data set line for transmitting a data setting signal are provided, and the data setting signal is transmitted to the inside or outside of the memory cells constituting the memory cell array. The data set line is controlled by a circuit that writes specific data to the memory cells, and by activating the data setting signal, preset data is written to each of the memory cells that share the data set line. semiconductor storage device.
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