JPH04285367A - シール構造 - Google Patents

シール構造

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JPH04285367A
JPH04285367A JP3074501A JP7450191A JPH04285367A JP H04285367 A JPH04285367 A JP H04285367A JP 3074501 A JP3074501 A JP 3074501A JP 7450191 A JP7450191 A JP 7450191A JP H04285367 A JPH04285367 A JP H04285367A
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JP
Japan
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piston
ring
groove
cylinder
seal
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JP3074501A
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JP2562738B2 (ja
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Koji Uchida
孝二 内田
Osamu Fushihara
伏原 修
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CKD Corp
Original Assignee
CKD Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、空圧シリンダや油圧シ
リンダなどの流体圧機器のシール構造に関し、特に、ピ
ストンの両面に作用する圧力差の変化にかかわらずピス
トンの摺動抵抗をほぼ一定に保つことができるシール構
造に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、流体圧シリンダ等の流体圧機器の
ピストンとシリンダの間のシールには、一般にはOリン
グが用いられているが、特に摺動抵抗を小さくしたい場
合にはY型パッキンやピストンリングが用いられている
【0003】
【発明が解決しようとする課題】Y型パッキンを用いた
場合の摺動抵抗を図3に基づいて説明すると、シリンダ
a内に僅な間隙を空けて嵌合するピストンbに形成され
たリング溝c内にY型パッキンdが嵌入されていて、リ
ング溝c内の右側にはピストンbの右側の高圧力P1が
作用し、リング溝c内の左側にはピストンbの左側の低
圧力P2が作用する。
【0004】そうすると、Y型パッキンdのシリンダa
と接触する部分の内周には高圧力P1がその部分をシリ
ンダaに押し付ける方向に作用し、外周には高圧力P1
から低圧力P1へ変化する圧力がその部分をシリンダa
から引き離す方向に作用する。
【0005】ここで、Y型パッキンdのシリンダaと接
触する部分の面積をAとすると、Y型パッキンdがシリ
ンダaに押し付けられる力Fpは次式で表される。   Fp=P1・A−(P1+P2)/2・A=(P1
−P2)/2・A故に、摩擦係数をμとすると、Y型パ
ッキンdによる摺動抵抗Fは次式で表される。 F=μ・Fp=μ・(P1−P2)/2・A
【0006
】したがって、高圧力側と低圧力側の圧力差P1−P2
が大きくなればなるほど摺動抵抗が大となってピストン
bの作動効率が低下する欠点があり、これが本発明の解
決すべき課題である。このことはピストンリングの場合
も同様である。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するための手段として、リング溝の底面とピスト
ンリングの内周との間に、ピストンリングへの接触位置
がピストンリングの幅方向の中心に規制されたシールリ
ングを設けた構成とした。
【0008】
【発明の作用及び効果】本発明は上記構成になり、ピス
トンリングをシリンダに押し付ける力の方向が、シール
リングがピストンリングに接触する位置を境にしてプラ
スとマイナスに変わるから、互いに相殺されて絶対値が
小さくなり、従って、ピストンの両側に作用する圧力差
が大きくてもピストンの摺動抵抗が小さく抑えられる効
果がある。
【0009】
【実施例】以下、本発明の第1実施例を図1に基づいて
説明する。シリンダa内に僅な間隙を空けて嵌合するピ
ストンbに形成されたリング溝c内にピストンリング1
が嵌入されていて、リング溝c内の右側にはピストンb
の右側の高圧力P1が作用し、リング溝c内の左側には
ピストンbの左側の低圧力P2作用しており、ピストン
リング1は左右の差圧によりリング溝cの左側に押し付
けられている。
【0010】リング溝cの底面には幅の狭い浅い溝4が
形成され、この溝4内には弾性材料からなる円形断面の
シールリング2が緊密に嵌入されていて、線Lにおいて
ピストンリング1の内周面と接触することにより、それ
より右側と左側とを完全に遮断しており、ピストンリン
グ1の内周面の線Lより右側の面積をA1、左側の面積
をA2とする。リング溝cの底面とピストンリング1の
内周面との間には、シールリング2の両側に、ばね3、
3が装着されていて、ピストンリング1をシリンダaの
内周面に押し付けている。
【0011】ここで、ピストンリング1とシリンダaの
間に作用する圧力分布は、高圧力P1から低圧力P2に
直線的に変化するから、シールリング2と接触する線L
と対応する位置における圧力をPsとする。また、リン
グ溝c内の線Lより右側には高圧力P1が、左側には低
圧力P2が、それぞれ作用するから、流体圧によつて、
線Lより右側においてピストンリング1をシリンダaに
押し付ける力をF1、線Lより左側においてピストンリ
ング1をシリンダaに押し付ける力をF2とすると、F
1、F2は、それぞれ次式で表される。   F1=P1・A1ー(P1+Ps)/2・A1=(
P1ーPs)/2・A1  F2=P2・A2ー(Ps
+P2)/2・A2=(P2−Ps)/2・A2なお、
Fsは次式で表される。 Fs=(P1ーP2)・A2/(A1+A2)+P2故
に、流体圧によってピストンリング1がシリンダaに押
し付けられる力は次式で表される。 F1+F2=(P1−P2)・(A1−A2)/2
【0
012】ピストンリング1にはさらに、ばね3、3の弾
圧力Fsが作用するから、ピストンリング1がシリンダ
aに押し付けられる力Fは次式で表される。 F=F1+F2+Fs ここで、シリンダaとピストンリング1との摩擦係数を
μとすると、ピストンbの摺動抵抗Tは次式で表される
。   T=μ・F=μ・{(P1−P2)・(A1−A2
)/2+Fs}
【0013】したがって、線Lがピスト
ンリング1の幅方向の中心に位置するとき、すなわち、
A1=A2の場合には T=μ・Fs となり、ピストンbの両側に作用する圧力差にかかわら
ず摺動抵抗の大きさは一定である。
【0014】次に、本考案の第2実施例を図2に基づい
て説明する。上記第1実施例において、A1=A2でな
くても、A1≒A2であれば T≒μ・Fs となり、ピストンbの摺動抵抗を小さく押さえることが
できる。
【0015】本実施例は、溝4の幅が広く、シールリン
グ2が溝4内を移動しうる点で上記第1実施例と相違す
る。すなわち、ピストンbの右側が高圧になつた場合に
は、シールリング2は図に実線で示すように溝4の左端
へ移動し、ピストンbの左側が高圧になつた場合には図
に鎖線で示すように溝4の右端へ移動するのであつて、
シールリング2の移動範囲は溝4の幅内に規制される。
【0016】したがつて、上記第1実施例のA1とA2
の差が一定範囲内に規制され、ピストンbの両側に作用
する圧力差によるピストンbの摺動抵抗の増大を抑制す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の断面図である。
【図2】本発明の第2実施例の断面図である。
【図3】従来例の断面図である。
【符号の説明】
a:シリンダ  b:ピストン  c:リング溝  1
:ピストンリング

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  ピストンの外周に形成したリング溝に
    ピストンリングを嵌入し、該ピストンリングをばね弾力
    によりシリンダの内周に弾接してシリンダとピストンと
    の間をシールするようにしたシール構造において、前記
    リング溝の底面とピストンリングの内周との間に、該ピ
    ストンリングへの接触位置が該ピストンリングの幅方向
    の中心に規制されたシールリングを設けたことを特徴と
    するシール構造。
JP3074501A 1991-03-13 1991-03-13 シール構造 Expired - Lifetime JP2562738B2 (ja)

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JP2562738B2 (ja) 1996-12-11

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