JPH04283709A - 光軸調整方法 - Google Patents
光軸調整方法Info
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- JPH04283709A JPH04283709A JP4712691A JP4712691A JPH04283709A JP H04283709 A JPH04283709 A JP H04283709A JP 4712691 A JP4712691 A JP 4712691A JP 4712691 A JP4712691 A JP 4712691A JP H04283709 A JPH04283709 A JP H04283709A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、バーコードスキャナや
電子写真印刷装置等の走査装置の光軸調整方法に係り、
特に光源から照射されてビーム整形用レンズ及びアパチ
ャーの中心孔を通過したビームの光強度分布を測定して
、光強度分布のバランスを取って調整することができる
光軸調整方法に関するものである。
電子写真印刷装置等の走査装置の光軸調整方法に係り、
特に光源から照射されてビーム整形用レンズ及びアパチ
ャーの中心孔を通過したビームの光強度分布を測定して
、光強度分布のバランスを取って調整することができる
光軸調整方法に関するものである。
【０００２】近来、バーコードスキャナや電子写真印刷
装置等の走査装置において、レーザビームを利用した装
置の光源に、従来利用されていたガスレーザに代わって
半導体レーザが使用されて、装置の小型化及びコストの
改善が進められている。
装置等の走査装置において、レーザビームを利用した装
置の光源に、従来利用されていたガスレーザに代わって
半導体レーザが使用されて、装置の小型化及びコストの
改善が進められている。
【０００３】しかしこの半導体レーザを使用した場合に
は、出射される光が楕円形の発散光であるために、レン
ズ等によって光を絞りビームにしなければならないが、
発散光であるために光軸が分からずレーザ光とレンズの
光軸を一致させることが困難であるので、この光軸を容
易に一致させることができる方法が望まれている。
は、出射される光が楕円形の発散光であるために、レン
ズ等によって光を絞りビームにしなければならないが、
発散光であるために光軸が分からずレーザ光とレンズの
光軸を一致させることが困難であるので、この光軸を容
易に一致させることができる方法が望まれている。
【０００４】
【従来の技術】図４はバーコードを読み取るスキャナ１
の内部を示す斜視透視図で、図に示すように、スキャナ
１は、光学ユニット２とデータ処理部３及び読取制御部
４で構成され、光学ユニット２は、例えば半導体レーザ
（例えばレーザ・ダイオード）で構成された光源２０ａ
，及びビーム整形用のレンズ２１ａから成る出射部２２
からの出射光が平面２７ａ及び凹面ミラー２３の中央部
に設けた小型の平面ミラー２７ｂで反射して、回転する
ポリゴンミラー２４によって走査ビームを放射して、走
査パターン形成ミラー２５ａ〜２５ｃで反射して異なる
角度方向の走査ビームを透過型ホログラムで形成された
読取窓２６から上方空間の物品５のバーコード５０を走
査するビーム走査機能， 及び商品５のバーコード５０
を走査した反射光を走査パターン形成ミラー２５ａ〜２
５ｃ，ポリゴンミラー２４， 凹面ミラー２３及び平面
ミラー２７ｃを経て受光センサ２８で読み取って電気信
号に変換する受光変換機能を有する。
の内部を示す斜視透視図で、図に示すように、スキャナ
１は、光学ユニット２とデータ処理部３及び読取制御部
４で構成され、光学ユニット２は、例えば半導体レーザ
（例えばレーザ・ダイオード）で構成された光源２０ａ
，及びビーム整形用のレンズ２１ａから成る出射部２２
からの出射光が平面２７ａ及び凹面ミラー２３の中央部
に設けた小型の平面ミラー２７ｂで反射して、回転する
ポリゴンミラー２４によって走査ビームを放射して、走
査パターン形成ミラー２５ａ〜２５ｃで反射して異なる
角度方向の走査ビームを透過型ホログラムで形成された
読取窓２６から上方空間の物品５のバーコード５０を走
査するビーム走査機能， 及び商品５のバーコード５０
を走査した反射光を走査パターン形成ミラー２５ａ〜２
５ｃ，ポリゴンミラー２４， 凹面ミラー２３及び平面
ミラー２７ｃを経て受光センサ２８で読み取って電気信
号に変換する受光変換機能を有する。
【０００５】バーコード５０は、図５に示すように、太
線と細線及びその間隔の大小の組み合わせで構成され、
これらの所定本数の順列によって文字，数字または記号
等が表示され、商品５の包装や容器に直接印刷されるか
、ラベル等に印刷されて商品５に貼付される。
線と細線及びその間隔の大小の組み合わせで構成され、
これらの所定本数の順列によって文字，数字または記号
等が表示され、商品５の包装や容器に直接印刷されるか
、ラベル等に印刷されて商品５に貼付される。
【０００６】ポリゴンミラー２４は、モータＭ１によっ
て回転し、例えば反射面が５面で１回転で５回の走査が
行われ、夫々の面が垂直方向に対して異なる角度で設け
られていて、異なる方向に光を反射して走査ビームが放
射される。ポリゴンミラー２４はモータＭ１及び光源２
０ａは読取制御部４に接続され、受光センサ２８はデー
タ処理部３を経由して読取制御部４に接続されている。 読取制御部４は図示省略した電子レジスタに接続されて
いる。また光学ユニット２，データ処理部３及び読取制
御部４は筺体１０に収容されている。
て回転し、例えば反射面が５面で１回転で５回の走査が
行われ、夫々の面が垂直方向に対して異なる角度で設け
られていて、異なる方向に光を反射して走査ビームが放
射される。ポリゴンミラー２４はモータＭ１及び光源２
０ａは読取制御部４に接続され、受光センサ２８はデー
タ処理部３を経由して読取制御部４に接続されている。 読取制御部４は図示省略した電子レジスタに接続されて
いる。また光学ユニット２，データ処理部３及び読取制
御部４は筺体１０に収容されている。
【０００７】データ処理部３は、スキャナ１の夫々の受
光センサ２８によって受光変換された電気信号を、図示
省略したセンサアンプ， アナログ／ディジタル （Ａ
／Ｄ） 変換回路及び２値化回路を経てバーコード信号
として認識する。
光センサ２８によって受光変換された電気信号を、図示
省略したセンサアンプ， アナログ／ディジタル （Ａ
／Ｄ） 変換回路及び２値化回路を経てバーコード信号
として認識する。
【０００８】従ってスキャナ１は、読取制御部４による
各部の制御によって、読取窓２６から放射された走査ビ
ームにより、オペレータが読取窓２６の上方空間領域を
所定方向に移動させた商品５のバーコード５０を走査し
、その反射光によってバーコード５０が読み取られてデ
ータが認識される。
各部の制御によって、読取窓２６から放射された走査ビ
ームにより、オペレータが読取窓２６の上方空間領域を
所定方向に移動させた商品５のバーコード５０を走査し
、その反射光によってバーコード５０が読み取られてデ
ータが認識される。
【０００９】ここにおいて、光源２０ａから出射される
光は、図６に示すように、楕円形の発散光であるため、
これを絞って効率良くビーム整形するために、レンズ２
１ａを使用しているが、光源２０ａから出射される光の
光軸とレンズ２１ａの光軸を一致させる必要があり、光
学ユニット２の製造時に光軸調整が行われるが、上記の
ように光源２０ａから出射される光が楕円形の発散光で
あるために光軸が分からず、図７に示すように、光源２
０ａである半導体レーザの発光面の中心位置とレンズ２
１ａの光軸を一致させる方法として、近似的に外形寸法
の機械的精度で合わせる方法が行われている。
光は、図６に示すように、楕円形の発散光であるため、
これを絞って効率良くビーム整形するために、レンズ２
１ａを使用しているが、光源２０ａから出射される光の
光軸とレンズ２１ａの光軸を一致させる必要があり、光
学ユニット２の製造時に光軸調整が行われるが、上記の
ように光源２０ａから出射される光が楕円形の発散光で
あるために光軸が分からず、図７に示すように、光源２
０ａである半導体レーザの発光面の中心位置とレンズ２
１ａの光軸を一致させる方法として、近似的に外形寸法
の機械的精度で合わせる方法が行われている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記従来方法によれば
、製造時に光源からの光の光軸とレンズの光軸を一致さ
せるのに、発散光の光軸が分からないために、光源から
の光の光軸とレンズの光軸を外形寸法の機械的精度で合
わせる方法等によって近似的に調整しており、従って高
い精度が得られず、更に高精度が必要な場合にはビーム
整形用のレンズの後にコリメートレンズ等によってビー
ムの整形を必要としているという問題点がある。
、製造時に光源からの光の光軸とレンズの光軸を一致さ
せるのに、発散光の光軸が分からないために、光源から
の光の光軸とレンズの光軸を外形寸法の機械的精度で合
わせる方法等によって近似的に調整しており、従って高
い精度が得られず、更に高精度が必要な場合にはビーム
整形用のレンズの後にコリメートレンズ等によってビー
ムの整形を必要としているという問題点がある。
【００１１】半導体レーザが光源に使用される以前のス
キャナでは、ガス・レーザが使用されており、その場合
には光軸の調整は比較的容易であったが、スキャナの小
型化やコストの改善のために、現在では半導体レーザが
普及しており、この問題点の解決が望まれている。
キャナでは、ガス・レーザが使用されており、その場合
には光軸の調整は比較的容易であったが、スキャナの小
型化やコストの改善のために、現在では半導体レーザが
普及しており、この問題点の解決が望まれている。
【００１２】本発明は、光源から照射されるビームの光
軸とビーム整形用レンズの光軸を容易に調整することが
できる光軸調整方法を提供することを目的としている。
軸とビーム整形用レンズの光軸を容易に調整することが
できる光軸調整方法を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】第１図は本発明の原理図
である。図において、２０は光源、２１はビーム整形用
レンズ、５０は被走査体、６は中心孔６０を有するアパ
チャーである。
である。図において、２０は光源、２１はビーム整形用
レンズ、５０は被走査体、６は中心孔６０を有するアパ
チャーである。
【００１４】従ってビーム整形用レンズ２１にアパチャ
ー６を予め組み合わせて、アパチャー６の中心孔６０を
ビーム整形用レンズ２１の光軸に合わせておき、光源２
０より照射してビーム整形用レンズ２１及びアパチャー
６の中心孔６０を通過したビームの断面の光強度分布を
測定して、中心に対して光強度分布のバランスをとるよ
うに構成されている。
ー６を予め組み合わせて、アパチャー６の中心孔６０を
ビーム整形用レンズ２１の光軸に合わせておき、光源２
０より照射してビーム整形用レンズ２１及びアパチャー
６の中心孔６０を通過したビームの断面の光強度分布を
測定して、中心に対して光強度分布のバランスをとるよ
うに構成されている。
【００１５】
【作用】まず、ビーム整形用レンズ２１とアパチャー６
を組み合わせて、予めアパチャー６の中心孔６０をビー
ム整形用レンズ２１の光軸に合わせておく。次に光源２
０から照射した光をビーム整形用レンズ２１とアパチャ
ー６の中心孔６０を通過させて、その通過したビームの
断面の光強度分布を測定して、中心に対して光強度分布
のバランスをとることによって、光軸を一致させること
ができるので、調整を容易に行うことができる。
を組み合わせて、予めアパチャー６の中心孔６０をビー
ム整形用レンズ２１の光軸に合わせておく。次に光源２
０から照射した光をビーム整形用レンズ２１とアパチャ
ー６の中心孔６０を通過させて、その通過したビームの
断面の光強度分布を測定して、中心に対して光強度分布
のバランスをとることによって、光軸を一致させること
ができるので、調整を容易に行うことができる。
【００１６】
【実施例】図２及び図３により本発明の一実施例を説明
する。図２は従来例で説明したスキャナに本発明を適用
した実施例を示す斜視図であり、図３は実施例の説明図
である。全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
する。図２は従来例で説明したスキャナに本発明を適用
した実施例を示す斜視図であり、図３は実施例の説明図
である。全図を通じて同一符号は同一対象物を示す。
【００１７】図２のレンズ２１ａ及び孔６０ａは、図１
のビーム整形用レンズ２１及び中心孔６０に夫々対応し
ている。 図２（ａ） に示すように、レンズ２１ａに中心に孔６
０ａを有するアパチャー（Ａｐｅｒ−ｔｕｒｅ）６ａ
を組み合わせてアセンブリ１０とし、アパチャー６ａの
孔６０ａの中心とレンズ２１ａの光軸を合わせておく。 方法としては Ｈｅ−Ｎｅガス・レーザ等のビームを利
用して光学的に合わせる方法、或いは外形寸法の機械的
精度で合わせる方法がある。
のビーム整形用レンズ２１及び中心孔６０に夫々対応し
ている。 図２（ａ） に示すように、レンズ２１ａに中心に孔６
０ａを有するアパチャー（Ａｐｅｒ−ｔｕｒｅ）６ａ
を組み合わせてアセンブリ１０とし、アパチャー６ａの
孔６０ａの中心とレンズ２１ａの光軸を合わせておく。 方法としては Ｈｅ−Ｎｅガス・レーザ等のビームを利
用して光学的に合わせる方法、或いは外形寸法の機械的
精度で合わせる方法がある。
【００１８】図２（ｂ） に示すアセンブリ１０におい
て、アパチャー６ａは着脱自在に組み合わされている。 また１１は市販されているスリット１２の振動を利用し
たビーム径測定器である。
て、アパチャー６ａは着脱自在に組み合わされている。 また１１は市販されているスリット１２の振動を利用し
たビーム径測定器である。
【００１９】アセンブリ１０に光源２０ａから出射した
レーザ光を入射して、出てきたビームの断面に矢印で示
すようにビーム径測定器１１を当てて、ビーム径測定器
１１に接続した図示していないオシロスコープで光強度
分布を見ながら光軸調整を行う。
レーザ光を入射して、出てきたビームの断面に矢印で示
すようにビーム径測定器１１を当てて、ビーム径測定器
１１に接続した図示していないオシロスコープで光強度
分布を見ながら光軸調整を行う。
【００２０】この時、図中矢印で示すように、光強度分
布は、ビームと垂直な面内でビーム径測定器１１のスリ
ット１２を正逆方向に±９０度回転させた範囲で観察し
、いずれの角度においても光強度分布の曲線が、図３（
ａ） に示すようにグラフの縦軸で線対称になれば、ビ
ームとレンズ２１ａの光軸は一致していることになる。
布は、ビームと垂直な面内でビーム径測定器１１のスリ
ット１２を正逆方向に±９０度回転させた範囲で観察し
、いずれの角度においても光強度分布の曲線が、図３（
ａ） に示すようにグラフの縦軸で線対称になれば、ビ
ームとレンズ２１ａの光軸は一致していることになる。
【００２１】またビームとレンズ２１ａの光軸がずれて
いる場合は、図３（ｂ） に示すような左右非対称にな
り、光源２０ａとレンズ２１ａの中心位置を調節して、
図３（ａ） のようなバランスがとれた分布になるよう
に調整する。
いる場合は、図３（ｂ） に示すような左右非対称にな
り、光源２０ａとレンズ２１ａの中心位置を調節して、
図３（ａ） のようなバランスがとれた分布になるよう
に調整する。
【００２２】またビーム断面の光強度分布を測定する位
置をフレネル回折域，即ち、アパチャー６ａから測定位
置までの距離を縮めて、レンズ２１ａに近づけることに
より、図３に示すように、分布の左右に山ができて左右
対称性の判断を容易に行うことができる。
置をフレネル回折域，即ち、アパチャー６ａから測定位
置までの距離を縮めて、レンズ２１ａに近づけることに
より、図３に示すように、分布の左右に山ができて左右
対称性の判断を容易に行うことができる。
【００２３】調整が終了した後は、アセンブリ１０から
アパチャー６ａを抜き取る。光学ユニット２によっては
、レンズ２１ａにアパチャーを装備してアセンブリとし
ているものもあり、その場合には、そのまま調整に使用
でき、調整が終了しても抜き取る必要はない。
アパチャー６ａを抜き取る。光学ユニット２によっては
、レンズ２１ａにアパチャーを装備してアセンブリとし
ているものもあり、その場合には、そのまま調整に使用
でき、調整が終了しても抜き取る必要はない。
【００２４】上記例ではバーコードスキャナの場合を説
明したが、電子写真印刷装置やファクシミリ等の書込み
／読取りスキャナの場合にも適用できることは勿論であ
る。
明したが、電子写真印刷装置やファクシミリ等の書込み
／読取りスキャナの場合にも適用できることは勿論であ
る。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ビ
ーム整形用レンズとアパチャーを組み合わせて、予めア
パチャーの中心孔をビーム整形用レンズの光軸に合わせ
ておき、光源から照射した光をビーム整形用レンズとア
パチャーの中心孔を通過させて、その通過したビームの
断面の光強度分布を測定して、中心に対して光強度分布
のバランスをとることによって、光軸を一致させること
ができるので、調整を容易に行うことができるという効
果がある。
ーム整形用レンズとアパチャーを組み合わせて、予めア
パチャーの中心孔をビーム整形用レンズの光軸に合わせ
ておき、光源から照射した光をビーム整形用レンズとア
パチャーの中心孔を通過させて、その通過したビームの
断面の光強度分布を測定して、中心に対して光強度分布
のバランスをとることによって、光軸を一致させること
ができるので、調整を容易に行うことができるという効
果がある。
【図１】 本発明の原理図
【図２】 本発明の実施例を示す斜視図
【図３】
実施例の説明図
実施例の説明図
【図４】 本発明が適用されるスキャナを示す斜視透
過図
過図
【図５】 バーコードの説明図
【図６】 半導体レーザの出射光の説明図
【図７】
従来例を示す説明図
従来例を示す説明図
Claims (3)
- 【請求項１】 光源（２０）より照射されたビームを
ビーム整形用レンズ（２１）によって整形する光学系の
、該光源（２０）より照射されたビームの光軸と該ビー
ム整形用レンズ（２１）の光軸とを調整する方法であっ
て、前記ビーム整形用レンズ（２１）に中心孔（６０）
を有するアパチャー（６） を予め組み合わせて、該ア
パチャー（６） の中心孔（６０）を該ビーム整形用レ
ンズ（２１）の光軸に合わせておき、前記光源（２０）
より照射して該ビーム整形用レンズ（２１）及び該アパ
チャー（６） の中心孔（６０）を通過したビームの断
面の光強度分布を測定して、中心に対して光強度分布の
バランスをとることを特徴とする光軸調整方法。 - 【請求項２】 前記ビームの断面の光強度分布を、該
ビームと垂直な面内で正逆回転方向に夫々９０度の範囲
で測定することを特徴とする請求項１の光軸調整方法。 - 【請求項３】 前記ビームの断面の光強度分布の測定
を、フレネル回折域で行うことを特徴とする請求項１或
いは請求項２の光軸調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047126A JP3070114B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光軸調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3047126A JP3070114B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光軸調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04283709A true JPH04283709A (ja) | 1992-10-08 |
| JP3070114B2 JP3070114B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=12766458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3047126A Expired - Lifetime JP3070114B2 (ja) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | 光軸調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3070114B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1396736A2 (en) | 1997-03-11 | 2004-03-10 | Nihon Kohden Corporation | Particle analyzer and composite lens formed by integrally joining plural lens elements of different focal points |
-
1991
- 1991-03-13 JP JP3047126A patent/JP3070114B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1396736A2 (en) | 1997-03-11 | 2004-03-10 | Nihon Kohden Corporation | Particle analyzer and composite lens formed by integrally joining plural lens elements of different focal points |
| EP1396737A2 (en) | 1997-03-11 | 2004-03-10 | Nihon Kohden Corporation | Particle analyzer and composite lens formed by integrally joining plural lens elements of different focal points |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3070114B2 (ja) | 2000-07-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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