JPH04262359A - 真空紫外光源 - Google Patents

真空紫外光源

Info

Publication number
JPH04262359A
JPH04262359A JP14904091A JP14904091A JPH04262359A JP H04262359 A JPH04262359 A JP H04262359A JP 14904091 A JP14904091 A JP 14904091A JP 14904091 A JP14904091 A JP 14904091A JP H04262359 A JPH04262359 A JP H04262359A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultraviolet light
discharge
discharge chamber
vacuum ultraviolet
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP14904091A
Other languages
English (en)
Inventor
Setsuo Suzuki
鈴木 節雄
Etsuo Noda
悦夫 野田
Osamu Morimiya
森宮 脩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP14904091A priority Critical patent/JPH04262359A/ja
Publication of JPH04262359A publication Critical patent/JPH04262359A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、放電プラズマからの放
射光を利用し、紫外光を発生するための真空紫外光源に
関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば、SiH4 (モノシランガス
)を光で直接解離させてアモルファスシリコン薄膜を形
成する場合には、真空紫外光を用いる必要がある。
【0003】一般に、波長が180nm以下の真空紫外
光を発生させる光源装置としては、図10に示された「
パイ型放電管」と呼ばれるものがよく知られている。
【0004】この種の真空紫外光源は筒状の放電管1を
備えている。この放電管1内には軸方向に離間する位置
に電極2および電極3が配置されている。放電管1の一
端の側端壁には紫外光を外部へ取り出すための透過窓4
が設けられている。また、放電管1の外側には冷媒が通
流するための冷媒通路5が設けられている。この放電管
1内は十分に排気され、その後に放電管1内に希ガス,
水素または重水素が所定の圧力を一定に維持し得る量だ
け供給される。電極2と電極3の間で発生する放電に必
要なパワーは、電源装置6から供給される。この電源装
置6は、直流電源7を使って蓄積コンデンサ8を充電し
、スイッチ9で、電極2および電極3にパルス電圧を印
加する。
【0005】電極2と電極3との間にパルス電圧が印加
されると、この電極2と電極3間でパルス放電が行われ
る。この放電に伴なって発生するプラズマから照射され
る紫外光は、透過窓4を介して取り出される。
【0006】しかし、上述の如く構成された従来の真空
紫外光源には次のような問題がある。すなわち、高出力
の紫外光を得るためには、電流の立上がりが早く、しか
もピーク電流の値が大きな「高密度放電」が要求される
。しかし、上記構成の従来装置では、電流値を大きく設
定すると、放電が不安定になる故に、「高密度放電」を
安定に維持することが達成できない欠点があった。また
、従来の装置では、広い放電空間内に放電プラズマを空
間的に一様に、かつ安定に生成できないため、取り出せ
る紫外光ビームの径も大きくてもせいぜい直径30mm
程度で比較的小さい。従って、これが原因でその真空紫
外光源としての使用範囲が大幅に制限されてしまう問題
もあった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の真
空紫外光源においては、真空紫外光の放射効率ならびに
その出力が低いのみならず、紫外光ビームの大口径化を
図ることが困難であった。そこで本発明の目的は、高放
射効率,高出力,長寿命でしかも真空紫外光ビームの大
口径化を図ることのできる真空紫外光源を提供すること
にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】前述の諸問題を解決し上
記の目的を達成するために、本発明に係る真空紫外光源
は、つぎの各要素により構成されている。すなわち、放
電室と、この放電室内に配置された板状の陽極と、この
放電室内にその陽極とは離間して対向配置された複数の
中空陰極と、これら中空陰極の内側空間に上記の中空陰
極とは絶縁状態にそれぞれ配置された補助電極と、この
放電室内の圧力を所定に保ちながら上記の各中空陰極の
内側空間を経由させた後にこの放電室を通る経路でガス
を通流させる手段と、上記の各中空陰極と各補助電極と
の間で予備放電を起こさせた後に上記の各中空陰極とそ
の陽極との間で主放電を行なわせるためのパワーを供給
する電源装置と、この放電室内での放電で発生したプラ
ズマから放射される紫外光を外部へ取り出すための紫外
光取出し手段とを備えている。
【0009】
【作用】取り出すことのできる紫外光のビーム径を大き
くするためには、放電室内における放電プラズマ生成領
域を広く確保する必要がある。このためには電極面積を
広くとる必要がある。しかし一方、この電極面積を広く
すると、放電プラズマの空間的不均一性が発生する。ま
た、さらには放電が不安定となり、結果的に「出力・放
射効率」の低下を招く。
【0010】本発明の光源では、少なくとも陰極が複数
に分割されて、かつこれらの分割された陰極は回路上で
直流的に分離された状態で配設されている。上述のよう
に、少なくとも陰極を複数に分割したことによって、広
い放電空間内に放電プラズマを空間的に一様すなわち均
一に、かつ安定に生成させることができる。また、取り
出せる紫外光ビームの大口径化も同時に実現できる。さ
らに本発明装置では、陰極が複数の中空陰極により構成
されているので、この結果、放電を安定化させることが
容易となるとともに、「放射効率」の向上ならびに、出
力値の増大が可能となる。また、本発明では各中空陰極
に補助電極が設けられ、これら中空陰極と補助電極との
間で「予備放電」が行われた後に「主放電」に移行され
るように設定されている。このため、放電電流の「立上
がり時間」を短縮することができる。一般に、放電プラ
ズマから真空紫外光を取り出すためには、「立上がり時
間」が短く、しかもピーク電流の大きな放電が要求され
る。例えば、真空紫外光(キセノンガス使用時)の共鳴
線である147nmの波長の光を放電プラズマから取り
出す場合を例にとると、共鳴線の励起エネルギーは8.
4eV であるので、電子の平均エネルギーを大きくす
ることにより共鳴線の励起速度を速め、励起原子密度を
大きくとる必要がある。そのためには、立上がりが早く
、しかも電流ピーク値の大きなパルス放電が有効である
。特に、電流の立上がり時においては電子の平均エネル
ギーが高いので電離速度が大きい、したがって、できる
だけ電流の立上がり時間は短い方が望ましい。実験的な
検討によれば、パルス放電の電流半値幅は1マイクロ秒
程度以下がよい。また、各中空陰極と各補助電極との間
での予備放電は、主放電電流の立上がり時間の短縮化に
寄与する。なお、大きな電流を流し続けると「グロー放
電モード」から「アーク放電モード」に変化し、電子の
平均エネルギーが低くなるとともに励起速度が低下する
。したがって、アーク放電が発生する前に放電を停止し
なければ、放電電力は真空紫外光放射にとっては無駄な
電力として消費され、その結果、放射効率の低下をもた
らす。一般に、グロー放電モードからアーク放電モード
への移行時間は、ガスの種類およびガス圧力により異な
るが、約0.1μs 〜1μs 程度である。したがっ
て、パルス放電電流幅は長くても1μs 以内である必
要がある。このパルス放電電流幅を上記の時間内に抑え
ることは回路的に実現が可能である。
【0011】
【実施例】図1には、本発明の一実施例に係る真空紫外
光源の概略的な構成が示されている。
【0012】本発明装置は、その内部に放電室Pを形成
する容器11を備えている。この容器11は、円筒壁1
2と、この円筒壁12の両端開口部を気密に閉塞する閉
塞壁13および閉塞壁14とにより構成されている。こ
の閉塞壁13の中央部は、放電室Pの中心点を基準にし
て図中の上方に後退した形状に形成されている。また、
この後退した部分に壁の一部を形成する関係に弗化マグ
ネシウム,弗化リチウムおよび弗化カルシウムなどの材
料で形成された透過窓15が装着されている。この閉塞
壁14の透過窓15に対向する部分は、放電室Pの中心
点を基準にして図中の下方に後退した形状に形成されて
いる。この後退部分の内面には、透過窓15に対向して
凹面反射鏡16が装着されている。
【0013】放電室P内で、凹面反射鏡16の位置を境
にした図中の右側空間には、板状に形成された陽極17
が配置されている。
【0014】次の図2に示される如くに、この陽極17
はまた円筒壁12の軸心線と直交する方向に延長した形
状に設けられている。この陽極17の背面の中央近傍に
は導電棒18の一端側が接続され、この導電棒18の他
端側は円筒壁12を絶縁状態に,かつ気密に閉塞壁14
の透過窓15を貫通した状態でこの円筒壁の外部に導か
れている。
【0015】その閉塞壁14の周縁部には、陽極17の
延長された長手方向の面と平行する線上には、5個の孔
(図2参照)が並列に形成されている。これら孔の内縁
には1対1の関係に円筒体19の一端側が気密に接続さ
れている。そして、これら5本の円筒体19の他端側は
、円筒壁12の軸心線と平行に図1中の下方に延びた後
、L字型に折れ曲がり、その先端部20はガス供給源(
不図示)に接続されている。
【0016】各円筒体19内で、閉塞壁14に近い部分
には、それぞれ中空陰極21が装着されている。これら
中空陰極21は、放電室P側に位置する端部が放電室P
との境界から所定距離だけ後退するように位置決めされ
た状態で、支持部材22を介して円筒体19の内面に固
定されている。各々の中空陰極21の内部には、中空陰
極21と同心的に補助電極24が配置されている。これ
ら補助電極24の外周面は、絶縁層25によって覆われ
ている。なお、補助電極24は、図1中の上端部だけが
露出状態になっている。そして、各補助電極24は、図
1中の下端側が円筒体19の周壁を気密に,かつ絶縁状
態に貫通して外部に導かれている。
【0017】各中空陰極21の外周面と各円筒体19の
内周面との間には、前述の支持部材22によって冷媒通
路26がそれぞれ形成され、これら冷媒通路26はそれ
ぞれ冷媒案内管27および冷媒案内管28に接続されて
いる。さらに、これら冷媒案内管27および冷媒案内管
28は、冷媒供給源(不図示)に接続されている。
【0018】前記閉塞壁14の周縁部で、陽極17に対
向する位置にはガス排出管29が通じている。したがっ
て、本装置では、図1中の破線矢印30が示すように、
各円筒体19に作動ガスが供給される。この作動ガスは
各中空陰極21内を通っり放電室P内に流れ込み、その
後にガス排出管29を通って外部に排出される。
【0019】本実施例では、ヘリウムガスが90%以上
、キセノンガスが10%以下の混合ガスを供給するガス
供給系が使われている。このガス供給系は放電室P内の
圧力を所定圧に保ちながら上記混合ガスを連続的に供給
するように構成されている。
【0020】前述の陽極17,各中空電極21および各
補助電極24は,それぞれ電源装置31に接続されてい
る。この電源装置31は、直流電源(不図示)の出力端
間に蓄積コンデンサ32,抵抗34を直列に接続すると
ともに、上記の直列回路の両端間にはサイラトロンスイ
ッチ35が接続されている。そして、このサイラトロン
スイッチ35と抵抗34との接続点は陽極17に接続さ
れているともに、蓄積コンデンサ32の容量より小さい
容量のピーキングコンデンサ36を介して中空陰極21
に接続されている。また、蓄積コンデンサ32と抵抗3
4との接続点が各蓄積コンデンサ32の容量より小さい
容量のコンデンサ36’が補助電極24Kに接続されて
いる。また、サイラトロンスイッチ35に充電周期に同
期するトリガー信号Tが与えられるように構成されてい
る。
【0021】次に、上記のように構成された真空紫外光
発生装置の動作を説明する。
【0022】まず最初に、放電室P内が図示しない真空
ポンプにより十分に排気される。次は、図示しないガス
供給装置により作動ガスが供給される。この作動ガスは
、各中空陰極21内を通って放電室P内に流れ込み、そ
の後に、ガス排出管29を通って排出される。また、冷
媒供給装置により冷媒通路26に冷媒,例えば水が流さ
れる。
【0023】続いて、直流電源(不図示)を投入する。 この電源投入に伴って蓄積コンデンサ32が共振充電さ
れる。そして、所定のタイミングが到来すると、サイラ
トロンスイッチ35にトリガ信号Tが与えられる。サイ
ラトロンスイッチ35がオン(ON)されると、各補助
電極24と各中空陰極21との間で放電が起こり、ピー
キングコンデンサー36が充電され、その結果、陽極1
7と各中空陰極21との間で「グロー放電」が起こる。 この放電によって放電室P内にプラズマが発生する。こ
のプラズマが放射した紫外光は、その一部は透過窓15
に直接に向かって進行し、他の一部は凹面反射鏡16で
反射されて透過窓15へ向かって進行する。したがって
その結果、透過窓15から真空紫外光が外部に向かって
放射される。
【0024】この場合、陰極は直流的に分離された複数
の中空陰極21によって構成されているので、広い放電
空間内に放電プラズマを空間的に一様に,かつ安定に生
成させることができる。したがって、取り出せる紫外光
ビームの大口径化が実現できる。また、陰極を複数の中
空陰極21で構成しているので、放電を安定化させるこ
とが容易であり、その結果、放射効率の向上ならびに出
力の向上が実現可能となる。すなわち、中空陰極放電の
安定性はガスの種類,圧力,電極形状によっても左右さ
れるが、図8に示されるようにキセノンガスにヘリウム
ガスを約90%以上混合された場合には、中空陰極放電
の安定化が実現可能となる。また実験によれば、キセノ
ンガスが数%程度の場合に147nm紫外光の放射強度
が最大値を示すことが確認された。
【0025】図9にはキセノン(Xe)ガスが約1%の
場合と、キセノンガスが100%の場合の、147nm
放射強度の比較がグラフで示されている。同じ投入電力
50Wで比較すると、キセノンガスが約1%のときの1
47nm放射強度の方が約2.5倍程度増加しているこ
とが判る。また、その時の放電電力で比較すると、キセ
ノンガスが100%のときは60W程度で放電が不安定
となり、電力投入が不可能となる。それに対して、キセ
ノンガスが約1%のときには少なくとも3倍以上の電力
投入が可能であることが判る。  以上の結果から、中
空陰極放電を安定に、かつ高電力密度で行なわせるには
、少なくともヘリウムガスを90%以上混合すればよい
ことがわかる。
【0026】また、各中空陰極21に補助電極24が設
けられた構成をとり、これら中空陰極21と補助電極2
4との間で予備放電を行わせた後に,主放電に移行させ
るように制御されている。このため、放電電流の立ち上
がり時間を短くできる。
【0027】また、実施例のように透過窓15を放電室
Pの中心点から離れる方向に位置させておくと、透過窓
15を構成している部材がプラズマの荷電粒子によって
損傷されることを抑制することが可能であり、よって、
光源としての長寿命化が図られる。また、本実施例のよ
うにプラズマを境にし、透過窓15に対向するように凹
面反射鏡16が設けられた構成にすると、放射損失を半
減させることができるので、出力の増加を図ることがで
きる。上記に加えて、本実施例に示すように凹面反射鏡
16を放電室Pの中心点から離れる方向に配設させてお
くと、凹面反射鏡16を構成する部材がプラズマの荷電
粒子によって損傷されることを抑制することが可能とな
り、その結果として光源の長寿命化を図ることができる
【0028】また、本実施例のように、中空陰極21の
先端部を放電室Pとの境界位置より後退させておくこと
により、スパッタで叩き出された電極材料が放電室Pに
侵入して電子温度が低下し、励起速度の低下を招いて真
空紫外光の放射が低下することを防止できる。
【0029】また、本実施例のように、電源装置31を
容量移行型のパルス回路で構成することにより、光源装
置の全体を小型化することができる。さらにはピーキン
グコンデンサの容量を小さく設定することによって、パ
ルス幅を狭くすることが可能であり、よって放射効率を
向上することができる。
【0030】なお、本発明は上述の実施例に限られるも
のではなく種々の変形実施が可能である。たとえば、凹
面反射鏡16を、図3に示されるように、その周縁部が
閉塞壁14の内面と面一になるように配設されてもよい
。また、凹面反射鏡に限らず、図4に示すように平板型
の反射鏡41を用いてもよい。
【0031】さらに、陰極グローが中空陰極21の上流
側(例えば、ガスの配管系)まで移行し、陰極でのエネ
ルギ損失が増加してその放射効率が低下するのを防止す
るために、図5,図6および図7に示されるように、中
空陰極21の上流側の内径を数ミリに絞り、可能なかぎ
り中空陰極21の内部にプラズマを閉じ込めるために補
助リング42,43および44を取り付けてもよい。
【0032】また、中空陰極の形状は特に円筒形に限ら
れるものではなく、多角形筒でもよい。その数も5個に
限られない。また、陽極は分割されていてもよい。
【0033】さらに作動ガスは、キセノンガスに対しヘ
リウムガスを90%以上混合した混合ガスに限らない。 例えば「希ガス」すなわちヘリウム,ネオン,アルゴン
,クリプトンおよびキセノン等の各ガスの内で少なくと
も2種類以上を組み合わせた混合ガスが採用された場合
でも、最も電離電圧の高いガスが90%以上混合されて
いれば安定な中空陰極放電が達成できる。よって、「希
ガス」の共鳴線からの真空紫外光を効率良く取り出すこ
とができる。また、「希ガス」と他のガス、たとえば窒
素,酸素および水素等のガスを混合したガスを採用して
も同様な効果が得られる。
【0034】その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で
種々の変形ができる。
【0035】例えば、放電室内に発生する放電が拡散す
ることを防ぐために仕切り壁等によって放電を包囲する
ことも可能である。また、中空陰極の放電室側の先端位
置を、放電室の壁面より突出した位置に設置してもよい
【0036】
【発明の効果】以上、本発明によれば、大口径で,大出
力,しかも高効率でかつ長寿命な真空紫外光源を実現し
提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る真空紫外光源の一部断
面と配線を表わす概略構成図である。
【図2】前図中のA−A線に沿って切断された部分を矢
印方向に見た断面図である。
【図3】本発明の真空紫外光源の実施例に係る変形例を
表わす断面図である。
【図4】本発明の真空紫外光源の実施例に係る変形例を
表わす断面図である。
【図5】本発明の真空紫外光源の実施例に係る変形例を
表わす断面図である。
【図6】本発明の真空紫外光源の実施例に係る変形例を
表わす断面図である。
【図7】本発明の真空紫外光源の実施例に係る変形例を
表わす断面図である。
【図8】ヘリウムガス中のキセノンガス比と,147n
m真空紫外光放射強度との関係を示すグラフ図である。
【図9】投入される電力と,147nm真空紫外光放射
強度との関係を示すグラフ図である。
【図10】従来の真空紫外光源の要部の構成を示す概略
構成図である。
【符号の説明】
P…放電室、11…容器、12…円筒壁、13,14…
閉塞壁、15…透過窓、16…凹面反射鏡、17…陽極
、19…円筒体、21…中空陰極、24…補助電極、3
1…電源装置、32…蓄積コンデンサ、36…ピーキン
グコンデンサ、42,43,44…補助リング。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  低圧ガス中でパルス放電を行わせ、こ
    の放電で発生したプラズマから紫外光を取り出すように
    構成された真空紫外光源であって、放電空間としての放
    電室と、上記の放電室内に配置された板状の陽極と、前
    記放電室内に前記陽極とは離間して対向配置された複数
    の中空陰極と、これら中空陰極の内側空間に上記中空陰
    極とは絶縁状態にそれぞれ配置された補助電極と、前記
    放電室内の圧力を所定に保つため前記各中空陰極の内側
    空間を経由させた後に前記放電室を通る経路でガスを通
    流させる手段と、前記各中空陰極と前記各補助電極との
    間で予備放電を起こさせた後に上記各中空陰極と前記陽
    極との間で主放電を行なわせるためのパワーを供給する
    電源装置と、前記放電室内での放電で発生したプラズマ
    から放射される紫外光を外部へ取り出すための紫外光取
    出し手段と、により構成されていることを特徴とする真
    空紫外光源。
  2. 【請求項2】  前記紫外光取出し手段は、前記放電室
    の壁の一部を構成するように設けられた紫外光透過窓と
    、前記放電室内に前記透過窓に対向して設けられた反射
    鏡とで構成されていることを特徴とする、請求項1に記
    載の真空紫外光源。
  3. 【請求項3】  前記中空陰極は、前記放電室側の先端
    位置を上記放電室の壁面より突出した位置に配設されて
    いることを特徴とする、請求項1に記載の真空紫外光源
  4. 【請求項4】  前記中空陰極は、その上流側が下流側
    にくらべて実質的に小径に形成されていることを特徴と
    する、請求項1に記載の真空紫外光源。
  5. 【請求項5】  前記補助電極は、前記放電室側の先端
    部を除いて全体が絶縁体で被覆されていることを特徴と
    する、請求項1に記載の真空紫外光源。
  6. 【請求項6】  前記ガスを通流させる手段は、希ガス
    を含む少なくとも2種類以上の混合ガスで,かつ電離電
    圧が最も高い希ガスを85パーセント以上含む混合ガス
    を前記放電室内に供給することを特徴とする、請求項1
    に記載の真空紫外光源。
  7. 【請求項7】  前記放電室の内側において、前記板状
    の陽極と,これに対向配置された複数の中空陰極との間
    に、前記紫外光透過窓と平行な位置に所定の大きさの孔
    部を有し、発生する放電を限定的に包囲するための仕切
    り壁を備えることを特徴とする、請求項1に記載の真空
    紫外光源。
JP14904091A 1990-06-22 1991-06-21 真空紫外光源 Pending JPH04262359A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14904091A JPH04262359A (ja) 1990-06-22 1991-06-21 真空紫外光源

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2-162710 1990-06-22
JP16271090 1990-06-22
JP14904091A JPH04262359A (ja) 1990-06-22 1991-06-21 真空紫外光源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04262359A true JPH04262359A (ja) 1992-09-17

Family

ID=26479048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14904091A Pending JPH04262359A (ja) 1990-06-22 1991-06-21 真空紫外光源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04262359A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08315771A (ja) * 1995-05-19 1996-11-29 Agency Of Ind Science & Technol 高輝度化ランプおよびランプの高輝度化方法
JP2007335130A (ja) * 2006-06-13 2007-12-27 Orc Mfg Co Ltd 紫外連続スペクトルランプおよび点灯装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08315771A (ja) * 1995-05-19 1996-11-29 Agency Of Ind Science & Technol 高輝度化ランプおよびランプの高輝度化方法
JP2007335130A (ja) * 2006-06-13 2007-12-27 Orc Mfg Co Ltd 紫外連続スペクトルランプおよび点灯装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0463815B1 (en) Vacuum ultraviolet light source
US5247534A (en) Pulsed gas-discharge laser
US5247531A (en) Apparatus for preionizing apulsed gas laser
US6408052B1 (en) Z-pinch plasma X-ray source using surface discharge preionization
US4713585A (en) Ion source
JPH0896767A (ja) 誘電体バリア放電ランプ装置
KR20020035493A (ko) 가스방전으로부터 극자외선 방사선 및 연 엑스-방사선을생성하기 위한 장치
US5057740A (en) Photoemissive trigger for backlighted thyratron switches
Lomaev et al. Cylindrical glow-discharge-pumped excimer lamps
Hasama et al. 50 J discharge-pumped XeCl laser
JPH04262359A (ja) 真空紫外光源
JPH06338302A (ja) 誘電体バリヤ放電ランプ
JP4563807B2 (ja) ガス放電ランプ
Panchenko et al. Barrier-discharge-excited coaxial excilamps with the enhanced pulse energy
CN100482030C (zh) 用于产生远紫外线和软x射线的装置
JP2006164648A (ja) プラズマイグナイタ及びこれを搭載した装置
US4680770A (en) Dual beam gas ion laser
JP2005519437A (ja) 電子ビーム励起を有する放電光源
US5569976A (en) Ion emmiter based on cold cathode discharge
Gleizer et al. Optimization of a low-pressure hollow-anode electrical discharge for generation of high-current electron beams
Azarov et al. Xe laser pumped by fast electrons generated in a barrier discharge
Bakeev et al. Hollow Cathode Glow Discharge Initiation in a Fore-Vacuum Plasma–Cathode Electron Source
Jacquot et al. Negative ion production in large volume source with small deposition of cesium
Urai et al. High-repetition-rate operation of the wire ion plasma source using a novel method
Tarasenko et al. Energy parameters and stability of the discharge in a nonchain, self-sustained-discharge-pumped HF laser