JPH04254927A - Optical recording medium - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- -1 acryloyloxy group Chemical group 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 4
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical group CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONCICIKBSHQJTB-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ONCICIKBSHQJTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(phenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1CCCCC1 BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to optical recording media.
【0002】0002
【従来の技術】レーザ光を照射して情報の記録、再生、
消去を行なうための記録媒体として、ガラスやプラスチ
ックなどの基板上に記録層を形成したものが知られてい
る。[Prior art] Recording, reproducing information, etc. by irradiating laser light,
As recording media for erasing, media in which a recording layer is formed on a substrate such as glass or plastic are known.
【0003】このような記録媒体を形成するに際して、
記録層の材料開発のみならず、記録層との接着性が良好
でありまた記録層の酸化などによる劣化を防止し機械的
損傷を防ぎ記録媒体の信号品質の劣化を防止する有機系
保護層の開発は極めて重要である。現在、有機高分子系
保護層を施した記録媒体としては記録層表面に紫外線硬
化性樹脂の層を施したもの、例えば特開昭61−120
360号公報や特開昭61−133067号公報などが
知られている。両面記録、再生、消去可能な光ディスク
においては、これらの有機保護層を施した記録層付の基
板を2枚相対向させて接着剤で貼合せた構造として用い
られている。[0003] When forming such a recording medium,
In addition to developing materials for the recording layer, we are developing an organic protective layer that has good adhesion with the recording layer, prevents deterioration of the recording layer due to oxidation, prevents mechanical damage, and prevents deterioration of the signal quality of the recording medium. Development is extremely important. At present, recording media provided with an organic polymer protective layer include those in which a layer of ultraviolet curable resin is provided on the surface of the recording layer.
360, Japanese Patent Laid-Open No. 61-133067, etc. are known. In optical disks capable of double-sided recording, reproduction, and erasing, two substrates each having a recording layer and having an organic protective layer are used in a structure in which these two substrates are placed facing each other and bonded together with an adhesive.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の有機
系保護層を用いて作成した光記録媒体にレーザ光を照射
して記録、再生を行なった場合、記録媒体の信号品質に
とり重要なビットエラーレートが上昇してエラーが発生
するなど記録特性が低下し必ずしも実用的といえないと
いう問題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, when an optical recording medium made using a conventional organic protective layer is irradiated with a laser beam for recording and reproduction, bit errors, which are important for the signal quality of the recording medium, occur. There was a problem that recording characteristics deteriorated, such as an increase in rate and the occurrence of errors, making it not necessarily practical.
【0005】即ち、特開昭61−120360号公報は
放射線硬化性塗料の残存応力について規定してあるが、
その要点は接着性の向上にある。しかしながら接着性の
向上が必ずしも実用媒体の保護材として有効であるとい
いがたく、また実施例においても実際の媒体として実用
特性であるビットエラーレートなどについて何ら開示さ
れていない。[0005] That is, although JP-A-61-120360 specifies the residual stress of radiation-curable paint,
The key point is to improve adhesion. However, it is difficult to say that improved adhesion is necessarily effective as a protective material for a practical medium, and even in the examples, nothing is disclosed about the bit error rate, which is a practical characteristic for an actual medium.
【0006】また特開昭61−133067号公報は光
磁気材料への使用に限定して、特に水分、酸素による劣
化を防止するための放射線硬化形化合物を紫外線により
硬化させることを主張したものである。しかしながら該
特許は紫外線硬化形材料が全て良好な特性を示すと主張
する所に力点がある。しかし単に紫外線硬化形材料であ
ることのみで媒体保護材として実用性があるといいがた
い。また具体例ではC/N特性について例示しているが
、実際にビットエラーが発生するか否かを判定するエラ
ーレートについては何ら開示されていない。[0006] Furthermore, JP-A-61-133067 claims that radiation-curable compounds are cured by ultraviolet rays to prevent deterioration caused by moisture and oxygen, and are limited to use in magneto-optical materials. be. However, the patent emphasizes that all UV curable materials exhibit good properties. However, it is difficult to say that it is practical as a media protection material simply because it is an ultraviolet curable material. Further, although the specific example illustrates the C/N characteristic, nothing is disclosed about the error rate for determining whether or not a bit error actually occurs.
【0007】本発明は、かかる在来技術の諸欠点に鑑み
創案されたものであり、その目的は記録層に対する保護
性に優れた有機保護層を備えてなる光記録媒体を提供す
ることにある。The present invention was devised in view of the various drawbacks of the conventional techniques, and its purpose is to provide an optical recording medium comprising an organic protective layer with excellent protection for the recording layer. .
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
基板と記録層と有機系保護層を少くとも備えた光記録媒
体であって、該有機系保護層が重合性モノマを主成分と
する化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からなり、該有機
系保護層の伸ビが10%以上であることを特徴とする光
記録媒体により達成される。[Means for Solving the Problems] The purpose of the present invention is to
An optical recording medium comprising at least a substrate, a recording layer, and an organic protective layer, the organic protective layer being a cured layer of an actinic radiation-curable resin composition containing a polymerizable monomer as a main component, This is achieved by an optical recording medium characterized in that the elongation of the protective layer is 10% or more.
【0009】本発明において使用される基板および記録
層としては特に限定はなく公知のものが使用できる。The substrate and recording layer used in the present invention are not particularly limited, and known ones can be used.
【0010】基板としてはポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネートおよびエポキシ樹脂などのプラスチッ
クやガラスなどが使用でき、その厚さは通常10μm〜
5mmの範囲である。基板は通常ディスク状で使用され
るが、テープ状、シート状あるいはカード状で用いるこ
ともできる。The substrate is polymethyl methacrylate,
Plastics such as polycarbonate and epoxy resin, glass, etc. can be used, and the thickness is usually 10 μm ~
The range is 5mm. The substrate is usually used in the form of a disk, but it can also be used in the form of a tape, sheet, or card.
【0011】記録層としては例えば下記のものが挙げら
れるが、これらに限定されない。Examples of the recording layer include, but are not limited to, those listed below.
【0012】(1)基板上にTe化合物系記録膜や光磁
気系記録膜を直接形成したもの、(2)基板上にSiO
、SiO2 、SIALON、Si3 N4 、Ta2
O2 、GeO2 、ZnSおよびMgOなどの無機
系保護膜を形成した後、上述の記録膜を形成したもの、
(3)基板上に無機系保護膜、記録膜および無機系保護
膜をこの順で形成したもの。(1) A Te compound recording film or a magneto-optical recording film is directly formed on a substrate, (2) A SiO
, SiO2, SIALON, Si3 N4, Ta2
After forming an inorganic protective film such as O2, GeO2, ZnS and MgO, the above-mentioned recording film is formed.
(3) An inorganic protective film, a recording film, and an inorganic protective film are formed on a substrate in this order.
【0013】(4)基板上に無機系保護膜、記録膜およ
び無機系保護膜を形成した後、Al、Ni、Cr、Au
、Ti、Taなどの金属やそれらの合金などからなる反
射膜を形成したもの。(4) After forming an inorganic protective film, a recording film and an inorganic protective film on the substrate, Al, Ni, Cr, Au
A reflective film made of metals such as , Ti, Ta, or alloys thereof.
【0014】記録層は公知の方法により形成することが
でき、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィングなどにより行なうことができる。The recording layer can be formed by a known method, such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.
【0015】記録膜の厚さは10nm〜100nmの範
囲で用いることができ、より高い記録感度を得るために
は10〜50nmの範囲が好ましい。また無機系保護膜
および反射膜の厚さは通常10nm〜1000nmの範
囲で使用できる。The thickness of the recording film can range from 10 nm to 100 nm, and is preferably from 10 to 50 nm in order to obtain higher recording sensitivity. Further, the thickness of the inorganic protective film and the reflective film can generally be used within a range of 10 nm to 1000 nm.
【0016】本発明の記録媒体は半導体レーザやストロ
ボ光などの記録光の照射により、記録膜に熱的または光
学的に検知可能な物性の変化、あるいは形態の変化を生
ぜしめることによって記録を行なうことができるもので
ある。The recording medium of the present invention performs recording by causing a thermally or optically detectable change in physical properties or a change in form in the recording film by irradiation with recording light such as a semiconductor laser or strobe light. It is something that can be done.
【0017】本発明による有機系保護膜は重合性モノマ
を主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層からな
り、該有機系保護層の伸ビがJIS K6301の引
張試験による伸ビで10%以上からなるものであるが、
より好ましくは30%以上である。10%未満の場合は
ビットエラーレートの上昇など媒体の信頼性が低下し十
分な保護性が得られない。一方伸ビの上限については特
に制限はないが機械的損傷に対する十分な保護性を重視
する場合などには300%以下にすることが好ましい。The organic protective film according to the present invention is composed of a cured layer of an actinic radiation-curable resin composition containing a polymerizable monomer as a main component, and the elongation of the organic protective layer is determined by the tensile test according to JIS K6301. Consisting of 10% or more,
More preferably it is 30% or more. If it is less than 10%, the reliability of the medium decreases, such as an increase in bit error rate, and sufficient protection cannot be obtained. On the other hand, there is no particular restriction on the upper limit of the elongation, but in cases where sufficient protection against mechanical damage is important, it is preferable to set it to 300% or less.
【0018】本発明において使用される重合性モノマと
しては、1例として1分子中に1個の重合性二重結合を
有する化合物が挙げられる。An example of the polymerizable monomer used in the present invention is a compound having one polymerizable double bond in one molecule.
【0019】これらの化合物としてはアクリロイルオキ
シ基又はメタアクリロイルオキシ基(以下、両方の基を
総称して(メタ)アクリロイルオキシ基と記載する)を
有する化合物が好ましく用いられ、その具体例としては
以下に示すアクリレートを挙げることができる。即ち一
価アルコールの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する
(メタ)アクリル酸エステル類:メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキ
シル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(
メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル誘導体の
(メタ)アクリレート、1H・1H・5H−オクタフル
オロペンチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。As these compounds, compounds having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group (hereinafter, both groups are collectively referred to as a (meth)acryloyloxy group) are preferably used, and specific examples thereof are as follows. The following acrylates can be mentioned. That is, (meth)acrylic acid esters having a (meth)acryloyloxy group of a monohydric alcohol: methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (
Examples include meth)acrylate, (meth)acrylate of a tetrahydrofurfuryl derivative, and 1H.1H.5H-octafluoropentyl (meth)acrylate.
【0020】また有機系保護層の硬化性の向上や伸ビの
調整を行なう目的で、前述のモノマと共重合可能な他の
モノマを混合して用いることができる。これらの共重合
可能なモノマの例としては1分子中に2個以上の重合性
二重結合を有する化合物が挙げられる。その具体例とし
ては下記の(a)〜(f)の(メタ)アクリレートを挙
げることができる。Further, for the purpose of improving the curability of the organic protective layer and adjusting the elongation, other monomers that can be copolymerized with the above-mentioned monomers can be used in combination. Examples of these copolymerizable monomers include compounds having two or more polymerizable double bonds in one molecule. Specific examples thereof include the following (meth)acrylates (a) to (f).
【0021】(a)ジイソシアネート化合物と2個以上
のアルコール性水酸基を有する化合物を予め反応させて
得られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにア
ルコール性水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させ
て得られる1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル
オキシ基を有するウレタン(メタ)アクリレート類:具
体例としては、根上工業(株)製の商品名であるアート
シジンUN−6060P、UN−1101T、UN−5
200、UN−1255、UN−9000PEP、UN
−9000Hなど、(b)炭素数2〜12のアルキレン
グリコールの(メタ)アクリル酸ジエステル類:エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(
メタ)アクリレートなど。(a) One molecule obtained by reacting a terminal isocyanate group-containing compound obtained by reacting a diisocyanate compound and a compound having two or more alcoholic hydroxyl groups in advance with an alcoholic hydroxyl group-containing (meth)acrylate. Urethane (meth)acrylates having two or more (meth)acryloyloxy groups in them: Specific examples include Artosidine UN-6060P, UN-1101T, and UN-5, which are trade names manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.
200, UN-1255, UN-9000PEP, UN
-9000H, etc. (b) (meth)acrylic acid diesters of alkylene glycol having 2 to 12 carbon atoms: ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth) acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(
(meth)acrylate, etc.
【0022】(c)ポリオキシアルキレングリコールの
(メタ)アクリル酸ジエステル類:ジエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(
メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ
)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレートなど、(d)多価アルコールの2個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリル酸
ポリエステル類:ペンタエリスリトールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート
、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
など、(e)ビスフェノールAあるいはビスフェノール
Aの水素化物のエチレンオキシドおよびプロピレンオキ
シド付加物の(メタ)アクリル酸ジエステル類。(c) (meth)acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol: diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(
(d) having two or more (meth)acryloyloxy groups of a polyhydric alcohol, such as meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, etc. meth)acrylic acid polyesters: pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, etc. (e) (meth)acrylic acid diesters of bisphenol A or bisphenol A hydride adducts with ethylene oxide and propylene oxide.
【0023】(f)分子中に2個以上のエポキシ基を有
する化合物にアクリル酸又はメタクリル酸を反応させて
得られる分子内に2個以上の(メタ)アクリロイルオキ
シ基を有するエポキシ(メタ)アクリレート類。(f) Epoxy (meth)acrylate having two or more (meth)acryloyloxy groups in the molecule obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid or methacrylic acid. kind.
【0024】本発明の有機系保護層は前述のごとく、J
ISK6301の引張試験による伸ビが10%以上であ
ることを必須条件とする化学線硬化性樹脂組成物である
。この観点から十分な伸ビが得られる共重合可能なモノ
マとしては一分子中に2個の(メタ)アクリロイルオキ
シ基を有する化合物を用いることができる。また記録層
に対し特に優れた接着性を示す化合物群としてはウレタ
ン(メタ)アクリレート類を用いることができる。これ
ら共重合可能なモノマを配合する割合としては、一分子
中に2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノ
マを、少くとも配合した組成物中の重合性モノマ総量の
5重量%以上として用いることが好ましい。またより好
ましくは10重量%以上使用するのがよい。特に好まし
いアクリルモノマの配合例としては上記一分子中に1個
の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート又はベンジルアクリレート90
〜60重量%と一分子中に2個の(メタ)アクリロイル
オキシ基を有する(a)群のウレタン(メタ)アクリレ
ート中アートレジンUN−6060P10〜40重量%
の混合系が挙げられる。As mentioned above, the organic protective layer of the present invention has J
This is an actinic radiation curable resin composition that requires an elongation of 10% or more in the ISK6301 tensile test. From this point of view, a compound having two (meth)acryloyloxy groups in one molecule can be used as a copolymerizable monomer that provides sufficient elongation. Urethane (meth)acrylates can also be used as a group of compounds that exhibit particularly excellent adhesion to the recording layer. As for the ratio of blending these copolymerizable monomers, the monomer having two (meth)acryloyloxy groups in one molecule is used in an amount of at least 5% by weight or more of the total amount of polymerizable monomers in the blended composition. It is preferable. More preferably, it is used in an amount of 10% by weight or more. A particularly preferred blending example of the acrylic monomer is 2-hydroxypropyl acrylate or benzyl acrylate 90, which has one (meth)acryloyloxy group in one molecule.
Art resin UN-6060P 10 to 40% by weight in urethane (meth)acrylate of group (a) having 2 (meth)acryloyloxy groups in one molecule and 60% by weight
A mixed system of
【0025】本発明で用いる化学線硬化性樹脂組成物中
には1種または2種以上の光重合開始剤を加えることが
できる。光重合開始剤としては従来公知のものが使用で
き、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、p−ジメ
チルアミノプロピオフェノンなどのケトン系、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ−
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイ
ン系、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメ
チルチウラムジスルフィドなどのスルフィド系、チオキ
サン、2−メチルチオキサンなどのチオキサン系、ベン
ゾインパーオキサイドジ−t−ブチルパーオキサイドな
どのパーオキサイド系などが挙げられる。光重合開始剤
の使用量は重合性モノマ組成物100重量部に対して0
.01〜10重量部が適当である。One or more photopolymerization initiators may be added to the actinic radiation-curable resin composition used in the present invention. Conventionally known photopolymerization initiators can be used, such as ketones such as acetophenone, benzophenone, and p-dimethylaminopropiophenone, benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether.
benzoin series such as ter, benzoin isopropyl ether, sulfide series such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide, thioxane series such as thioxane and 2-methylthioxane, and peroxides such as benzoin peroxide and di-t-butyl peroxide. Examples include systems. The amount of photopolymerization initiator used is 0 with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer composition.
.. 01 to 10 parts by weight is suitable.
【0026】また本発明で用いる化学線硬化性樹脂組成
物には、製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防止するた
めに、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエー
テル、2,5−t−ブチルハイドロキノンなどの公知の
熱重合防止剤を加えることができる。添加量は重合性化
合物総重量に対し、0.001〜0.1重量%が好まし
い。電子線またはガンマ線を硬化手段とする場合には、
必ずしも重合開始剤を使用する必要はない。The actinic radiation-curable resin composition used in the present invention also contains hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,5-t-butylhydroquinone, etc. in order to prevent thermal polymerization during production and dark reaction during storage. A known thermal polymerization inhibitor can be added. The amount added is preferably 0.001 to 0.1% by weight based on the total weight of the polymerizable compound. When using electron beams or gamma rays as a curing method,
It is not always necessary to use a polymerization initiator.
【0027】本発明に用いる化学線硬化性樹脂組成物に
は塗工性を改良するためにシリコーン系材料などからな
るレベリング材を加えることができ、また必要に応じて
帯電防止剤など他の添加剤を加えることもできる。さら
に塗工時の作業性向上や塗工膜厚のコントロールのため
にアルコール系溶剤、酢酸エステル系溶剤、ケトン系溶
剤などの有機溶剤を配合することもできる。[0027] The actinic radiation-curable resin composition used in the present invention may contain a leveling material such as a silicone material to improve coating properties, and may also contain other additives such as an antistatic agent, if necessary. Agents can also be added. Furthermore, organic solvents such as alcohol solvents, acetate ester solvents, ketone solvents, etc. can also be blended to improve workability during coating and control coating film thickness.
【0028】本発明の化学線硬化性樹脂組成物の硬化層
は、基板上に形成した記録層上に該組成物を通常の方法
で塗布した後、化学線、すなわち紫外線、電子線あるい
はガンマ線などの活性エネルギー線を照射して硬化する
。The cured layer of the actinic radiation-curable resin composition of the present invention is prepared by applying actinic radiation, ie, ultraviolet rays, electron beams, gamma rays, etc., onto a recording layer formed on a substrate by applying the composition in a conventional manner. It is cured by irradiation with active energy rays.
【0029】硬化性組成物の塗布方法は周知の方法によ
って行なえばよく、例えばスピンコーティング、バーコ
ーティング、ロールコーティング、スプレーコーティン
グ、グラビアコーティング、スリットダイコーティング
などが用いられる。The curable composition may be applied by any known method, such as spin coating, bar coating, roll coating, spray coating, gravure coating, slit die coating, etc.
【0030】硬化層の厚さとしては0.5μm〜30μ
mの範囲が好ましく、より好ましくは1μm〜10μm
である。[0030] The thickness of the hardened layer is 0.5 μm to 30 μm.
The range of m is preferable, and more preferably 1 μm to 10 μm.
It is.
【0031】次に本発明の光記録媒体の構成1例を製造
する方法を説明する。すなわち、まず基板上にスパッタ
リング法などにより無機系保護膜、記録膜、無機系保護
膜および/反射膜を順次形成する。次に該反射膜上に本
発明の重合性モノマを主成分とする化学線硬化性樹脂組
成物を均一に塗布した後、該塗布面から紫外線ランプを
用いて紫外線を照射して組成物を硬化することにより光
記録媒体が得られる。
〔JIS K6301の引張試験による伸ビの評価〕
■試験片の作成
化学線硬化性樹脂組成物をN2 雰囲気下で強度140
0mJ/cm2 の高圧水銀灯で硬化し、形状はタンベ
ル状、形別は3号形、平行部分の厚さは0.3mmの試
験片を各組成物について4個作成した。Next, a method for manufacturing one example of the structure of the optical recording medium of the present invention will be explained. That is, first, an inorganic protective film, a recording film, an inorganic protective film, and a reflective film are sequentially formed on a substrate by sputtering or the like. Next, an actinic radiation-curable resin composition containing the polymerizable monomer of the present invention as a main component is uniformly applied onto the reflective film, and then the coated surface is irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet lamp to cure the composition. By doing so, an optical recording medium is obtained. [Evaluation of elongation by JIS K6301 tensile test]
■Preparation of test piece An actinic radiation curable resin composition with a strength of 140 in an N2 atmosphere
For each composition, four test pieces were prepared by curing with a high-pressure mercury lamp of 0 mJ/cm2, each having a tumble-shaped shape, a No. 3 shape, and a parallel portion thickness of 0.3 mm.
【0032】■伸ビの測定および計算方法JISK63
01に従った。■Measurement and calculation method of elongation JISK63
I followed 01.
【0033】〔記録特性の評価方法〕記録方法は2−7
変調ポジション記録で、繰返しは1.5T(3.7MH
z)の単一信号を1万回繰返しオーバライトし、その後
、2−7ランダムパターンを1回オーバライトしてビッ
トエラーレートを測定した。測定条件は下記の通りであ
る。[Method for evaluating recording characteristics] The recording method is 2-7.
Modulation position recording, repetition rate is 1.5T (3.7MH
A single signal of z) was repeatedly overwritten 10,000 times, and then a 2-7 random pattern was overwritten once to measure the bit error rate. The measurement conditions are as follows.
【0034】
基板:ISO準処フォーマットディスク,130mmφ
評価機の光学系:λ=830nm,N=0.53基板回
転数:1800rpm
記録パワー:20mW
消去パワー:10mW
記録パルス幅:50nSSubstrate: ISO standard format disk, 130mmφ
Optical system of evaluation machine: λ = 830 nm, N = 0.53 Substrate rotation speed: 1800 rpm Recording power: 20 mW Erasing power: 10 mW Recording pulse width: 50 nS
【0035】[0035]
【実施例】以下実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれらに限定されない。[Examples] The present invention will be explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
【0036】実施例1
JIS K6301の引張り試験による伸ビを測定す
るために下記の化学線硬化性樹脂組成物の試験片を作成
した。得られた試験片の伸ビは130%であった。Example 1 Test pieces of the following actinic radiation curable resin composition were prepared in order to measure the elongation according to the tensile test according to JIS K6301. The elongation of the obtained test piece was 130%.
【0037】[化学線硬化性樹脂組成物の構成]アート
レジンUN−6060P(根上工業(株)製ウレタンア
クリレート)30重量部、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート70重量部、を混合した液に1−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン(イルガキュア184,チ
バガイギー社製)5重量部を混合溶解して、紫外線硬化
性樹脂保護層組成物とした。[Composition of actinic radiation curable resin composition] 1-hydroxy added to a liquid mixture of 30 parts by weight of Artresin UN-6060P (urethane acrylate manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.) and 70 parts by weight of 2-hydroxypropyl acrylate. 5 parts by weight of cyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) were mixed and dissolved to obtain an ultraviolet curable resin protective layer composition.
【0038】実施例2
実施例1で用いた紫外線硬化性樹脂保護層組成物の代り
に下記の組成物を使用した他は実施例1と全く同様にし
て伸ビ測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビ
は180%であった。Example 2 A test piece for measuring elongation was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the following composition was used in place of the ultraviolet curable resin protective layer composition used in Example 1. The elongation of the obtained test piece was 180%.
【0039】[化学線硬化性樹脂組成物の構成]アート
レジンUN6060P
30重量部ベンジ
ルアクリレート(ビスコート160,大阪有機化学工業
(株)製)
70重量部イルガキュア1
84
5重量部実施例3
厚さ1.2mm、直径13cm、1.6μmピッチのス
パイラル状のグループ付ポリカーボネート基板を毎分3
0回転しながら、アルゴンガス圧0.5Paの条件で水
晶振動子で膜厚をモニタしながらスパッタリング法で下
記の記録層形成基板積層体を作成した。[Composition of actinic radiation curable resin composition] Art Resin UN6060P
30 parts by weight benzyl acrylate (Viscoat 160, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
70 parts by weight Irgacure 1
84
5 parts by weight Example 3 A polycarbonate substrate with spiral groups having a thickness of 1.2 mm, a diameter of 13 cm, and a pitch of 1.6 μm is processed at 3 parts per minute.
The following recording layer forming substrate laminate was prepared by sputtering while monitoring the film thickness with a crystal resonator under the condition of 0 rotation and argon gas pressure of 0.5 Pa.
【0040】すなわち、基板上に200nmのZnSと
SiO2 の混合層(モル比80:20)、20nmの
Pd3 Sb17Te50Ge30の混合層、20nm
のZnSとSiO2 の混合層(モル比80:20)、
80nmのAl層を順次形成することにより記録層形成
基板積層体を得た。次に、得られた記録層形成基板積層
体上に実施例1で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を硬
化後の膜厚が8μmになるように塗布し、N2 雰囲気
下で強度1400mJ/cm2 の高圧水銀灯を照射し
て保護層を完全に硬化して光記録媒体を作成した。That is, on the substrate, a 200 nm mixed layer of ZnS and SiO2 (molar ratio 80:20), a 20 nm mixed layer of Pd3 Sb17Te50Ge30,
A mixed layer of ZnS and SiO2 (molar ratio 80:20),
A recording layer forming substrate laminate was obtained by sequentially forming 80 nm Al layers. Next, the ultraviolet curable resin composition prepared in Example 1 was applied onto the obtained recording layer forming substrate laminate so that the film thickness after curing was 8 μm, and the strength was 1400 mJ/cm2 in an N2 atmosphere. The protective layer was completely cured by irradiation with a high-pressure mercury lamp to create an optical recording medium.
【0041】得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、10−5台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
80℃、相対湿度80%の環境下に200時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく10−5台以下で何ら劣化は見られな
かった。When the bit error rate of the obtained optical recording medium was measured, a value of 10 -5 or less was obtained. This value can be said to be sufficient for an optical recording medium. After being left in an environment of 80 DEG C. and 80% relative humidity for 200 hours, it was taken out and the same measurement was performed again. The bit error rate was also below 10@-5 and no deterioration was observed.
【0042】実施例4
実施例2で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を保護層と
して用いた他は実施例3と全く同様にして光記録媒体を
作成した。Example 4 An optical recording medium was prepared in exactly the same manner as in Example 3, except that the ultraviolet curable resin composition prepared in Example 2 was used as a protective layer.
【0043】得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、10−5台以下の値が得られ
た。この値は光記録媒体として十分な値といえる。更に
80℃、相対湿度80%の環境下に200時間放置した
後取り出し、再び同様の測定をしたところ、ビットエラ
ーレートは同じく10−5台以下で何ら劣化は見られな
かった。When the bit error rate of the obtained optical recording medium was measured, a value of 10 -5 or less was obtained. This value can be said to be sufficient for an optical recording medium. After being left in an environment of 80 DEG C. and 80% relative humidity for 200 hours, it was taken out and the same measurement was performed again. The bit error rate was also below 10@-5 and no deterioration was observed.
【0044】比較例1
実施例1で作成した紫外線硬化性樹脂組成物の代りに下
記組成物を使用した他は実施例1と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは3%
であった。Comparative Example 1 A test piece for measuring elongation was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the following composition was used in place of the ultraviolet curable resin composition prepared in Example 1. The elongation of the obtained test piece was 3%.
Met.
【0045】[化学線硬化性樹脂組成物の構成]アート
レジンUN6060P
30重量部ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート(ライトアクリレート
NP−A,共栄社油脂化学工業(株)製)
20重量部2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート
50重量部イルガキュア184
5重量部比較例2
実施例1で使用した紫外線硬化性樹脂組成物の代りに下
記組成物を使用した他は実施例1と全く同様にして伸ビ
測定用試験片を作成した。得られた試験片の伸ビは5%
であった。[Composition of actinic radiation curable resin composition] Art Resin UN6060P
30 parts by weight neopentyl glycol diacrylate (light acrylate NP-A, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
20 parts by weight 2-hydroxypropyl acrylate
50 parts by weight Irgacure 184
5 parts by weight Comparative Example 2 A test piece for measuring elongation was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the following composition was used instead of the ultraviolet curable resin composition used in Example 1. The elongation of the obtained test piece was 5%.
Met.
【0046】[化学線硬化性樹脂組成物の構成]アート
レジンUN6060P
30重量部ライト
アクリレートNP−A
20重量部ビスコ
ート160
50重
量部イルガキュア184
5重量部比較例3
比較例1で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を保護層と
して使用した他は実施例3と全く同様にして光記録媒体
を作成した。得られた光記録媒体についてビットエラー
レートを測定したところ、10−2台に大きく劣化して
おり、記録信号の再生が不可能であった。以上により本
発明によらない紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返
しによる信号劣化は大きいことが明らかである。[Composition of actinic radiation curable resin composition] Art Resin UN6060P
30 parts by weight Light acrylate NP-A
20 parts by weight Viscoat 160
50 parts by weight Irgacure 184
5 parts by weight Comparative Example 3 An optical recording medium was prepared in exactly the same manner as in Example 3, except that the ultraviolet curable resin composition prepared in Comparative Example 1 was used as a protective layer. When the bit error rate of the obtained optical recording medium was measured, it was significantly degraded to 10-2, and it was impossible to reproduce the recorded signal. From the above, it is clear that in the UV-curable resin protective layer composition not according to the present invention, signal deterioration due to repetition is large.
【0047】比較例4
比較例2で作成した紫外線硬化性樹脂組成物を使用した
他は実施例3と全く同様にして光記録媒体を作成した。
得られた光記録媒体についてビットエラーレートを測定
したところ、10−2台に大きく劣化しており、記録信
号の再生が不可能であった。以上により本発明によらな
い紫外線硬化性樹脂保護層組成物では繰返しによる信号
劣化は大きいことが明らかである。Comparative Example 4 An optical recording medium was prepared in exactly the same manner as in Example 3, except that the ultraviolet curable resin composition prepared in Comparative Example 2 was used. When the bit error rate of the obtained optical recording medium was measured, it was significantly degraded to 10-2, and it was impossible to reproduce the recorded signal. From the above, it is clear that in the UV-curable resin protective layer composition not according to the present invention, signal deterioration due to repetition is large.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明は、上述のごとく記録層および伸
ビが10%以上である化学線硬化性樹脂組成物からなる
保護層を設けることにより記録層の保護性に優れ良好な
信号品質を示す光記録媒体を実現するものである。Effects of the Invention As described above, the present invention provides excellent protection for the recording layer and good signal quality by providing a recording layer and a protective layer made of an actinic radiation-curable resin composition having an elongation of 10% or more. The optical recording medium shown in FIG.
Claims (1)
えた光記録媒体であって、該有機系保護層が重合性モノ
マを主成分とする化学線硬化性樹脂組成物の硬化層から
なり、該有機系保護層の伸ビが10%以上であることを
特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium comprising at least a substrate, a recording layer, and an organic protective layer, the organic protective layer being a cured layer of an actinic radiation-curable resin composition containing a polymerizable monomer as a main component. An optical recording medium characterized in that the organic protective layer has an elongation of 10% or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3014418A JPH04254927A (en) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3014418A JPH04254927A (en) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | Optical recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04254927A true JPH04254927A (en) | 1992-09-10 |
Family
ID=11860473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3014418A Pending JPH04254927A (en) | 1991-02-05 | 1991-02-05 | Optical recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04254927A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1178479A3 (en) * | 2000-08-01 | 2002-05-15 | TDK Corporation | Optical information medium |
EP1168320A3 (en) * | 2000-06-26 | 2002-05-22 | TDK Corporation | Optical information medium, method of manufacture, recording/reading method, and inspecting method |
EP2180473A1 (en) * | 2007-08-22 | 2010-04-28 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording medium |
-
1991
- 1991-02-05 JP JP3014418A patent/JPH04254927A/en active Pending
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