JPH04251962A - Method for designing semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Method for designing semiconductor integrated circuit deviceInfo
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- JPH04251962A JPH04251962A JP3001024A JP102491A JPH04251962A JP H04251962 A JPH04251962 A JP H04251962A JP 3001024 A JP3001024 A JP 3001024A JP 102491 A JP102491 A JP 102491A JP H04251962 A JPH04251962 A JP H04251962A
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- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[発明の目的][Object of the invention]
【0002】0002
【産業上の利用分野】この発明は、スタンダ−ドセル方
式もしくはゲ−トアレイ方式を用いたビルディングブロ
ック方式の半導体集積回路装置の設計方法に関し、特に
機能ブロック内にセルが配置される前後にブロックの形
状あるいは配置位置が修正可能な設計方法に関する。[Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for designing a building block type semiconductor integrated circuit device using a standard cell type or a gate array type. This invention relates to a design method in which the shape or placement position can be modified.
【0003】0003
【従来の技術】従来の半導体集積回路装置の設計方法に
おいては、フロアプラン、ブロック配置、ブロック間配
線と直線的に処理を進行していた。ブロックの配置位置
などの修正が生じた場合は、処理の始めに戻って同一処
理を行っていた。また、実現すべき機能をチップ(半導
体集積回路装置)上のどの領域に割り当てるかを決める
フロアプランの途中では、セル配置やセル間配線を考慮
したブロックの最終的形状が予測できなかった。このた
めフロアプランにおいて、セルを過剰に割り当ててしま
ったブロックと不足しているブロックが生じても、最終
的な配線が終わる以前ではチップ形状の予測ができなか
った。これにより、結局最後まで処理を実行してから、
再び始めに戻りフロアプランを変えてやり直さなければ
ならなかった。2. Description of the Related Art In a conventional method for designing a semiconductor integrated circuit device, processing proceeds linearly from floor planning, block arrangement, and interconnection between blocks. When a correction is made to the arrangement position of a block, etc., the process returns to the beginning and the same process is performed. Furthermore, during the floor planning process, which determines which area on a chip (semiconductor integrated circuit device) to allocate the functions to be implemented, it was not possible to predict the final shape of the block, taking into account cell placement and inter-cell wiring. For this reason, even if some blocks have too many cells allocated to them and others lack cells in the floor plan, it is not possible to predict the chip shape before the final wiring is completed. This allows the process to run to the end, and then
I had to go back to the beginning and change the floor plan and start over.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の半
導体集積回路装置の設計方法では、修正が生じた場合は
最後まで処理を実行してから、再び始めに戻りフロアプ
ランを変えてやり直していた。このため、最終的なチッ
プ形状の予測を得るまでに時間がかかるという問題があ
った。[Problem to be Solved by the Invention] As described above, in the conventional design method for semiconductor integrated circuit devices, when a modification occurs, the process is executed to the end, and then the process is returned to the beginning and the floor plan is changed and the process is restarted. Ta. Therefore, there is a problem in that it takes time to obtain a final prediction of the chip shape.
【0005】この発明は、このような従来の事情に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、セル
配置の前後でブロックを会話的に修正可能とすることに
より、最終的なチップ形状の予測を短時間で得ることが
できる半導体集積回路装置の設計方法を提供することに
ある。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and its purpose is to improve the final chip by allowing blocks to be modified interactively before and after cell placement. It is an object of the present invention to provide a method for designing a semiconductor integrated circuit device that allows prediction of the shape to be obtained in a short time.
【0006】[発明の構成][Configuration of the invention]
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成させるた
め、この発明は、スタンダ−ドセル方式もしくはゲ−ト
アレイ方式を用いたビルディングブロック方式によって
半導体集積回路装置を設計する際に、半導体集積回路装
置が有する各機能を実現するブロックのおおよその配置
位置及びこのブロック内に配置すべきセルを初期フロア
プランで決定し、この初期フロアプランに基づいてブロ
ックの面積及び形状を予測して表示し、表示されたブロ
ックの形状あるいは配置位置を会話的に修正可能とし、
さらに予測あるいは修正された前記ブロック内にセルを
配置して表示し、セル配置が終了して表示されたブロッ
クの形状あるいは配置位置を会話的に修正可能とするこ
とを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a method for designing a semiconductor integrated circuit device using a building block method using a standard cell method or a gate array method. The approximate placement position of the block that realizes each function of the block and the cells to be placed in this block are determined in an initial floor plan, and the area and shape of the block are predicted and displayed based on this initial floor plan. The shape or placement position of the created block can be modified interactively,
Furthermore, cells are arranged and displayed within the predicted or corrected blocks, and the shape or arrangement position of the displayed block can be modified interactively after cell arrangement is completed.
【0008】[0008]
【作用】この発明は、フロアプランを二つのフェ−ズに
分ける。第一のフロアプランでは、全自動または一部人
手による指定により、全ての機能をチップ上のどの領域
で実現するかを決定する。これと同時に、各機能を実現
するブロックのおおまかな配置位置と、各ブロック内に
配置すべきセルを決定する。決定したこれらの情報に基
づいて、セルを配置するために必要とされるブロックの
面積及び形状を予測して表示する。ブロックの形状ある
いは配置位置の修正を行う場合には、表示されたフロア
プランの画面を見ながら会話的に行う。[Operation] This invention divides the floor plan into two phases. In the first floor plan, it is determined in which areas on the chip all functions will be implemented, either fully automatically or partially manually. At the same time, the approximate placement positions of blocks that implement each function and the cells to be placed within each block are determined. Based on the determined information, the area and shape of the block required for arranging the cell are predicted and displayed. When modifying the shape or placement position of a block, do so interactively while looking at the displayed floor plan screen.
【0009】第二のフロアプランでは、第一のフロアプ
ランで予想したブロックにセルを配置して表示する。配
置されたセルの過不足に応じて、ブロックの形状あるい
は配置位置の修正をフロアプランの画面を見ながら会話
的に行う。In the second floor plan, cells are arranged and displayed in the blocks predicted in the first floor plan. Depending on the excess or deficiency of placed cells, the shape or placement position of the block is modified interactively while looking at the floor plan screen.
【0010】0010
【実施例】次に、この発明の実施例を図面を参照しなが
ら説明する。
第一実施例
図1は、この発明の半導体集積回路装置の設計方法に係
わる第一実施例の処理フローである。同図において、ス
テップ11乃至ステップ16が第一のフロアプランであ
り、ステップ17及びステップ11からの繰り返しが第
二のフロアプランである。第一のフロアプランにより、
ブロックの面積及び形状を予想して表示し、さらに修正
を行う。第二のフロアプランにより、予想して表示され
たブロックにセルを配置し、セルの配置状態に応じてさ
らにブロックの形状あるいは配置位置の修正を行う。Embodiments Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First Embodiment FIG. 1 shows a processing flow of a first embodiment of the method for designing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. In the figure, steps 11 to 16 are the first floor plan, and step 17 and the repetition from step 11 are the second floor plan. With the first floor plan,
The area and shape of the block are predicted and displayed, and further corrections are made. Based on the second floor plan, cells are placed in predicted and displayed blocks, and the shape or placement position of the blocks is further corrected depending on the placement state of the cells.
【0011】まず、自動またはユーザにより、チップ上
にブロックが作成される(ステップ11)。次に、実現
すべき機能をブロックのどこにレイアウトするかの指定
をユ−ザから受付ける。すなわち、第一のインタラクテ
ィブフロアプランを行う(ステップ12)。なお、どこ
にレイアウトするかの全指定を自動で行うこともできる
。この後、ユ−ザから指定を受けなかった機能をどのブ
ロックに実現するかの割当と、このブロックに配置すべ
きセルを自動で決定する。いわゆる、第一のフロアプラ
ン自動決定を行う(ステップ13)。以上で、初期フロ
アプランが終了する。First, a block is created on the chip automatically or by the user (step 11). Next, the user designates where in the block the functions to be implemented are to be laid out. That is, a first interactive floor plan is performed (step 12). It is also possible to automatically specify where to layout everything. Thereafter, it automatically determines which block should implement the function that has not been specified by the user, and which cells should be placed in this block. A so-called first automatic floor plan determination is performed (step 13). This completes the initial floor plan.
【0012】この初期フロアプランの結果を基に、各ブ
ロックの面積及び形状を予測する(ステップ14)。そ
して、予めユ−ザによって定義されたフロアプラン上の
ブロックの重心に、予測したブロックの重心を重ねてフ
ロアプランを表示する(ステップ15)。この段階でス
テップ16におけるブロックの修正のみでは所望の結果
が得られる見込みがなく、ブロック数の変更や実現すべ
きブロックの変更が必要と設計者が判断した場合は、ス
テップ11またはステップ12に戻り、第一のインタラ
クティブフロアプランを行う。表示されたブロックの形
状あるいは配置位置の修正で、所望の結果が得られそう
だと判断した場合は、会話的に修正を行う(ステップ1
6)。ステップ16における修正によっても所望の結果
が得られなかった場合は、ステップ11またはステップ
12に戻る。以上で、第一のフロアプランが終了する。Based on the results of this initial floor plan, the area and shape of each block are predicted (step 14). Then, the floor plan is displayed with the predicted center of gravity of the block superimposed on the center of gravity of the block on the floor plan previously defined by the user (step 15). At this stage, if the designer determines that it is unlikely that the desired result will be obtained by modifying the blocks in step 16 alone, and that it is necessary to change the number of blocks or the blocks to be realized, return to step 11 or step 12. , do the first interactive floor plan. If you judge that the desired result can be obtained by modifying the shape or placement position of the displayed block, make the modification interactively (Step 1)
6). If the desired result is not obtained even after the modification in step 16, the process returns to step 11 or step 12. This completes the first floor plan.
【0013】所望の結果が得られた場合は、各ブロック
内のセル配置を行う(ステップ17)。セル配置が終わ
ったブロックをフロアプランへ読み込んで表示する。こ
の表示においてセルの過不足などがあり、ブロックの修
正が必要な場合は、ステップ11、12あるいはステッ
プ16に戻り、会話的に修正を行う。これにより、第二
のフロアプランを行うことができる。ステップ17にお
けるブロック内のセル配置の後、全ブロックを統合して
チップ全体の配線を行う(ステップ18及びステップ1
9)。If the desired result is obtained, cell placement within each block is performed (step 17). Load the block whose cells have been placed into the floor plan and display it. If there is an excess or deficiency of cells in this display and the block needs to be corrected, the process returns to steps 11, 12 or step 16 and corrections are made interactively. This allows a second floor plan to be performed. After arranging cells within the block in step 17, all blocks are integrated and wiring for the entire chip is performed (step 18 and step 1).
9).
【0014】第二実施例
図2に、この発明の第二実施例の処理フローを示す。第
二実施例では、第一実施例におけるブロック内のセル配
置の後、ブロック内配線を行う、いわゆる分割配置・分
割配線を行う。図2において、第一のフロアプランとな
るステップ11乃至ステップ16は、第一実施例と同様
な処理である。Second Embodiment FIG. 2 shows the processing flow of a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, after the cell placement within the block in the first embodiment, intra-block wiring is performed, so-called split placement and split wiring. In FIG. 2, steps 11 to 16, which constitute the first floor plan, are the same processing as in the first embodiment.
【0015】ステップ16でのブロック修正の後、一部
のブロック内のセル配置・セル間配線を行う(ステップ
21及びステップ22)。この結果をフロアプランに読
み込み、ブロック構成上問題がある場合は、ステップ1
6に戻ってこのブロックまたはその他のブロックの形状
あるいは配置位置の修正を行う。修正を行った場合は、
修正したブロック内のセル配置からやり直す。従ってス
テップ21及びステップ22で行う処理は、特にブロッ
ク全体の構成に大きな影響を与えるブロックを優先した
方が効果が大きい。ステップ16乃至ステップ22の繰
り返しにより、第二のフロアプランを行うことができる
。全てのブロック内のセル配置・セル間配線が終わった
後、全ブロックの統合及びブロック間配線を行う(ステ
ップ23及びステップ24)。After the block modification in step 16, cell placement and inter-cell wiring within some blocks are performed (steps 21 and 22). Load this result into the floor plan, and if there is a problem with the block configuration, step 1
Returning to step 6, the shape or arrangement position of this block or other blocks is corrected. If you have made any corrections,
Start over from the cell placement in the corrected block. Therefore, the processing performed in steps 21 and 22 is more effective if priority is given to blocks that have a particularly large influence on the overall block configuration. A second floor plan can be performed by repeating steps 16 to 22. After cell placement and inter-cell wiring in all blocks are completed, all blocks are integrated and inter-block wiring is performed (steps 23 and 24).
【0016】第三実施例
図3に、この発明の第三実施例の処理フローを示す。同
図において、第一のフロアプランとなるステップ11乃
至ステップ15は、第一及び第二実施例と同様な処理で
ある。第三実施例では、第一及び第二実施例におけるス
テップ16に代わり、ステップ31が備えられている。
すなわち、第一及び第二実施例で行ったブロックの形状
・配置位置の修正に加え、ブロック内で実現すべき機能
の変更も行うことができる。実現すべき機能が変更にな
るとチップの最終面積・形状も変わる。第三実施例では
、これに対応して新しい機能を実現したときのブロック
の面積・形状を予測して表示する(ステップ31)。
これにより、第一のフロアプランに戻る必要がない。所
望のフロアプランができるまで第二のフロアプランのみ
で修正し、所望のフロアプランが得られた後、ブロック
内のセル配置からチップ全体の配線へと進む(ステップ
17乃至ステップ19)。Third Embodiment FIG. 3 shows the processing flow of a third embodiment of the present invention. In the figure, steps 11 to 15, which constitute the first floor plan, are the same processes as in the first and second embodiments. In the third embodiment, step 31 is provided in place of step 16 in the first and second embodiments. That is, in addition to modifying the shape and arrangement position of the blocks as in the first and second embodiments, it is also possible to modify the functions to be realized within the blocks. When the functions to be realized change, the final area and shape of the chip also change. In the third embodiment, the area and shape of the block when the new function is realized is predicted and displayed (step 31). This eliminates the need to return to the first floor plan. Only the second floorplan is modified until the desired floorplan is obtained, and after the desired floorplan is obtained, the process proceeds from cell placement within the block to wiring for the entire chip (steps 17 to 19).
【0017】[0017]
【発明の効果】以上のように、この発明の半導体集積回
路装置の設計方法によれば、ブロック内セル配置の前後
に、会話的にブロックの形状あるいは配置位置を修正す
ることができる。これにより、所望するチップ形状を短
時間で予測し、かつフロアプランの最終的な結果と所望
するチップ形状との差を少なくすることができる。As described above, according to the method for designing a semiconductor integrated circuit device of the present invention, it is possible to interactively modify the shape or arrangement position of a block before and after arranging cells within the block. This makes it possible to predict the desired chip shape in a short time and to reduce the difference between the final result of the floor plan and the desired chip shape.
【図1】この発明の第一実施例の処理フロ−である。FIG. 1 is a processing flow of a first embodiment of this invention.
【図2】この発明の第二実施例の処理フロ−である。FIG. 2 is a processing flow of a second embodiment of the present invention.
【図3】この発明の第三実施例の処理フロ−である。FIG. 3 is a processing flow of a third embodiment of the present invention.
Claims (1)
アレイ方式を用いたビルディングブロック方式によって
半導体集積回路装置を設計する際に、半導体集積回路装
置が有する各機能を実現するブロックのおおよその配置
位置及びこのブロック内に配置すべきセルを初期フロア
プランで決定し、この初期フロアプランに基づいてブロ
ックの面積及び形状を予測して表示し、表示されたブロ
ックの形状あるいは配置位置を会話的に修正可能である
ことを特徴とする半導体集積回路装置の設計方法。Claim 1: When designing a semiconductor integrated circuit device using a building block method using a standard cell method or a gate array method, the approximate placement position of the blocks that realize each function of the semiconductor integrated circuit device and this Cells to be placed within a block are determined by an initial floor plan, the area and shape of the block are predicted and displayed based on this initial floor plan, and the shape or placement position of the displayed block can be modified interactively. A method for designing a semiconductor integrated circuit device characterized by the following.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3001024A JPH04251962A (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Method for designing semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3001024A JPH04251962A (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Method for designing semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04251962A true JPH04251962A (en) | 1992-09-08 |
Family
ID=11490000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3001024A Pending JPH04251962A (en) | 1991-01-09 | 1991-01-09 | Method for designing semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04251962A (en) |
-
1991
- 1991-01-09 JP JP3001024A patent/JPH04251962A/en active Pending
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