JPH04250921A - 水溶液系放電加工液 - Google Patents

水溶液系放電加工液

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JPH04250921A
JPH04250921A JP41853190A JP41853190A JPH04250921A JP H04250921 A JPH04250921 A JP H04250921A JP 41853190 A JP41853190 A JP 41853190A JP 41853190 A JP41853190 A JP 41853190A JP H04250921 A JPH04250921 A JP H04250921A
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JP
Japan
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electrical discharge
discharge machining
aqueous
rust
machining fluid
Prior art date
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Pending
Application number
JP41853190A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenzo Yokoyama
横山 健三
Masaaki Nakanishi
中西 雅秋
Masahiro Noda
昌宏 野田
Hisashi Yamada
久 山田
Takeshi Yatomi
弥富 剛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Yushiro Chemical Industry Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、防錆添加剤を含有する
水溶液系放電加工液に関する。更に詳しくいえば、放電
加工に水溶液系放電加工液を用いる場合において、被加
工物や加工設備に対する防錆性能に優れるとともに、加
工能率の向上を図ることができる水溶液系放電加工液に
関する。
【0002】
【従来の技術】放電加工は、絶縁媒体である放電加工液
中において、加工用電極と導電性の被加工物との間で火
花放電を行わせ、被加工物の形彫、開孔又は切断などを
行う加工法である。従来は、放電加工に使用する放電加
工液としてはケロシンが用いられていたが、ケロシンは
引火性が強く、火災発生の危険性が高いという欠点があ
ったので、近年では不燃性の水溶液系放電加工液が使用
されるようになった。このような水溶液系放電加工液と
しては、水、グリコール類や糖類等の多価アルコール類
の水溶液、多価アルコール類の誘導体の水溶液、ポリエ
ーテル類の水溶液又はこれらの混合物などの水溶液など
が挙げられる。
【0003】上記のような水溶液系放電加工液は、その
中にイオン性の不純物が蓄積して比抵抗が低下すること
があり、比抵抗が低下すると水溶液系放電加工液が絶縁
媒体としての機能を衷失し、放電加工ができなくなる。 したがって、このような水溶液系放電加工液を用いる場
合には、その比抵抗を一定の範囲(10×103〜30
0×103Ω・cm)に菅理する必要がある。水溶液系
放電加工液の比抵抗を管理する方法としては、イオン交
換樹脂による処理が一般的に行われている。
【0004】上記のような不燃性の水溶液系放電加工液
は、水を主成分としているので、被加工物や加工設備に
錆を発生させるおそれがある。その対策として、水溶液
系放電加工液に防錆添加剤を添加することが提案されて
いる(例えば、特開昭51−147096号公報には亜
硝酸ナトリウムとトリエタノールアミンが、特開昭57
−132931号公報には多価アルコールおよびヒドロ
キシアルキルエーテルから選ばれる1種以上の物質が、
特開昭61−188022号公報には1,1,1−トリ
ス(ヒドロキシメチル)エタンが、特開昭62−241
616号公報にはD−ソルビトールとエチレンオキサイ
ド残基を5〜50モル%含む非イオン性界面活性剤が、
特開昭62−251012号公報にはD−ソルビトール
とトリエタノールアミンが開示されている)。
【0005】特開昭51−147096号公報に記載さ
れている防錆添加剤および特開昭53−12597号公
報に記載されている防錆添加剤は、イオン交換樹脂に吸
着されやすく、イオン交換樹脂による処理を行うと水溶
液系放電加工液から防錆添加剤が除去されてしまうとい
う問題点があった。
【0005】また、特開昭51−147096号公報に
記載されている防錆添加剤および特開昭53−1259
7号公報に記載されている防錆添加剤は、防錆添加剤自
体が比抵抗を著しく低下させ、加工特性に影響を与える
などの問題点があった。また、これらの公報に記載され
ている防錆添加剤は、それら自体が比抵抗を著しく低下
させ、加工特性に影響を与えるなどの問題点もあった。
【0006】一方、従来からイオン交換樹脂に吸着され
難い防錆添加剤もあった(たとえば特開昭57−132
931号公報、特開昭60−23932号公報、特開昭
61−188022号公報、特開昭62−241616
号公報、特開昭62−251012号公報参照)。しか
しながら、これらの文献に記載されている防錆添加剤は
十分な防錆効果を有するものではなく、かつ、含まれる
有機物質の量が多いために、燃焼した時に液中の炭酸イ
オンが増加し、イオン交換樹脂に対する負荷が大きくな
るため、イオン交換樹脂の消費が増大するという問題も
あった。
【0007】このように、水溶液系放電水溶液系放電加
工液に使用する防錆添加剤は、防錆力が優れているとと
もに、イオン交換樹脂に吸着されにくいこと、さらに水
溶液系放電加工液の比抵抗を著しく低下させないことな
どの特性、さらに含まれる有機物の量の少ないことを満
足する必要があるが、従来の防錆添加剤にはこのような
特性をすべて満たすものはないのが実状である。
【0008】
【発明が解決しようとする問題点】したがって、本発明
は防錆力に優れるとともに、イオン交換樹脂に吸着され
にくく、かつ水溶液系放電加工液の比抵抗を低下させる
ことのない防錆添加剤を含有する水溶液電加工液を提供
することを目的とする。
【0009】
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、ベンゾ
トリアゾールが微量で優れた防錆効果を与えることに着
目し、ベンゾトリアゾールが水に対して難溶性であるた
め微量のグリコール類の誘導体、ポリエーテル又はこれ
らの混合物を溶剤として水に溶解させて放電加工に使用
したところ、優れた防錆力を発揮するとともに、イオン
交換樹脂に吸着されにくく、かつ比抵抗を低下させるこ
とがないことを見いだして本発明を完成した。
【0010】すなわち、本発明は、ベンゾトリアゾール
もしくはベンゾトリアゾール誘導体から選ばれる1種ま
たは2種以上と、グリコール類や糖類等の多価アルコー
ル類、多価アルコールの誘導体、ポリエーテルから選ば
れる1種または2種以上を含有することを特徴とする水
溶液系放電加工液である。
【0011】(ベンゾトリアゾール) 本発明におけるベンゾトリアゾールもしくはベンゾトリ
アゾール誘導体としては、ベンゾトリアゾール、トリル
トリアゾール(4又は5−メチルベンゾトリアゾール)
、4−エチルベンゾトリアゾール、5−エチルベンゾト
リアゾール、4−n−プロピルベンゾトリアゾール、5
−イソプロピルベンゾトリアゾール、4−n−ブチルベ
ンゾトリアゾール、5−t−ブチルベンゾトリアゾール
、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−
ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリ
アゾール、4又は5−カルボキシベンゾトリアゾール、
及びカルボキシベンゾトリアゾールのメチル、ブチル、
オクチルエステル等が挙げられる。
【0012】上記のベンゾトリアゾールもしくはベンゾ
トリアゾール誘導体から選ばれる1種又は2種以上の物
質の濃度は、水溶液系放電工液中に0.005〜0.2
重量%の範囲である。この濃度が0.005重量%未満
では、防錆効果が不十分となり、濃度が0.2重量%を
越えると、放電加工中に生成する炭酸イオンの濃度が上
昇し、比抵抗を調整するイオン交換樹脂の消費が多くな
り、作業性が低下するばかりでなく不経済となるからで
ある。
【0013】(多価アルコール) 本発明におけるグリコール類や糖類等の多価アルコール
、多価アルコールの誘導体及びポリエーテルとしては、
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリ
ン、マンニット、D−ソルビトール、澱粉糖、キシリッ
ト、マルチトール、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール等を用いることができる。前記多価ア
ルコール、多価アルコールの誘導体及びポリエーテルか
ら選ばれる1種又は2種以上の化合物の濃度は、水溶液
系放電加工液中に0.005〜0.2重量%の範囲であ
ることが適当である。この濃度が0.005重量%未満
では、前記ベンゾトリアゾールもしくはベンゾトリアゾ
ール誘導体の水に対する溶解性を促進する効果がなくな
り、また、濃度が0.2重量%を越えると放電加工中に
生じる炭酸イオンが上昇して、比抵抗を調整するイオン
交換樹脂の消費が増大するからである。
【0014】(任意成分) 本発明の水溶液系放電加工液は、上記の必須成分以外に
、界面活性剤および消泡剤等を適宜使用することができ
る。
【0015】
【実施例】以下に本発明の実施例について述べるが、下
記の実施例は説明のためのものであって、本発明を制限
するためのものではない。まず、本発明の実施例1〜1
0の水溶液系放電加工液の組成を表1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】本発明の水溶液系放電加工液の性能を明ら
かにするため、防錆性能試験を行った。防錆性能試験の
方法を下記に示す。500ミリリットルのビーカーに試
料液400ミリリットルを採り、試験片(SKDH:生
材、1×30×50mm)を懸垂して浸漬した後、マグ
ネットスタラーで撹拌し(回転数60rpm)、24時
間後の発錆度合いを評価した。評価の表示は、次のとお
りである。A級は錆発生度が0%のもの、B級は錆発生
度が1〜10%のもの、C級は錆発生度が11〜25%
のもの、D級は錆発生度が26〜50%のもの、E級は
錆発生度が51〜100%のものを表わす。
【0018】性能試験の結果を表2に示す。なお、第2
表中の比較例A〜Eは、下記の公知防錆添加剤を含有す
る放電水溶液系放電加工液である。 比較例A:亜硝酸ナトリウム(0.2重量%)、トリエ
タノールアミン(0.2重量%)を含有する、特開昭5
1−147096号公報に記載の放電水溶液系放電加工
液。 比較例B:1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エ
タン(0.2%)を含有する、特開昭61−18802
2号公報に記載の放電水溶液系放電加工液。 比較例C:プロピレングリコール(5重量%)を含有す
る、特開昭57−132931号公報に記載の放電水溶
液系放電加工液。 比較例D:グリセリン(1重量%)を含有する、特開昭
57−132931号公報に記載の放電水溶液系放電加
工液。 比較例E:D−ソルビトール(0.1重量%)、ステア
リルアルコールエチレンオキサイド8モル付加物(0.
0005重量%)を含有する、特開昭62−24161
6号公報に記載の放電水溶液系放電加工液。
【0019】
【表2】
【0020】〔応用例1〕実施例1の試料液を水溶液系
放電加工液として使用し、ワイヤカット放電加工機の比
抵抗値を100,000Ω・cmにセットして次の加工
条件で加工を行った。 使用機械    :ワイヤカット放電加工機ワイヤ  
    :0.2mmφ真鍮被加工材    :SKD
11 加工速度    :120mm2/分 24時間加工後、被加工材の表面に錆は全く発生せず、
加工も安定していた。セカンドカットに入れた時も発錆
がないため、ワイヤが切れ難く、作業性が向上すると共
に、仕上げ面にもすじがつかなかった。また、比抵抗値
を100,000Ω・cm以上に調整できるイオン交換
樹脂(2リットル)の通算加工時間は、120時間であ
った。
【0021】〔応用例2〕実施例5の試料液を水溶液系
放電加工液として使用し、応用例1と同一の加工条件で
加工を行った結果、被加工物の表面に錆は全く発生せず
、加工も安定していた。セカンドカット時に入れた時も
発錆がないため、ワイヤが切れ難く、作業性が向上する
と共に、仕上げ面にもすじがつかなかった。また、比抵
抗値を100,000Ω・cm以上に調整できるイオン
交換樹脂(2リットル)の通算加工時間は70時間であ
った。
【0022】〔応用例3〕比較例Bの試料液を水溶液系
放電加工液として使用し、応用例1と同一の加工条件で
加工を行った結果、比抵抗値を100,000Ω・cm
以上に調整できるイオン交換樹脂(2リットル)の通算
加工時間は20時間であった。
【0023】
【発明の効果】本発明の水溶液系放電加工液は、強力な
防錆力を有する。更に、本発明の水溶液系放電加工液は
、水溶液系放電加工液の比抵抗を著しく低下するような
障害もなく、かつ、イオン交換樹脂に吸着される程度も
わずかであり、しかもイオン交換樹脂と反応する性質も
軽微である。したがって、本発明の水溶液系放電加工液
を用いることにより、従来の水溶液系放電加工液では達
成できなかった防錆性と加工能率の向上を両立すること
ができる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】グリコールや糖類等の多価アルコール類、
    多価アルコール類の誘導体及びポリエーテルから選ばれ
    る1種又は2種以上の化合物とを含有する水溶液系放電
    加工液において、ベンゾトリアゾールもしくはベンゾト
    リアゾール誘導体から選ばれる1種又は2種以上の化合
    物を含有することを特徴とする水溶液系放電加工液。
  2. 【請求項2】ベンゾトリアゾールもしくはベンゾトリア
    ゾール誘導体から選ばれる1種又は2種以上の化合物の
    濃度が、0.005〜0.2重量%である請求頂1に記
    載の水溶液系放電加工液。
  3. 【請求項3】グリコール類や糖類等の多価アルコール類
    、多価アルコール類誘導体及びポリエーテルから選ばれ
    る1種又は2種以上の化合物の濃度が、0.005〜0
    .2重量%である請求頂1又は2に記載の水溶液系放電
    加工液。
JP41853190A 1990-12-28 1990-12-28 水溶液系放電加工液 Pending JPH04250921A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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