JPH04250919A - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
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- JPH04250919A JPH04250919A JP46391A JP46391A JPH04250919A JP H04250919 A JPH04250919 A JP H04250919A JP 46391 A JP46391 A JP 46391A JP 46391 A JP46391 A JP 46391A JP H04250919 A JPH04250919 A JP H04250919A
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Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放電加工装置の特にパル
ス電源に関するものである。
ス電源に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、放電加工機において、電極と被加
工体の形成する加工間隙の近くに放電用コンデンサを設
け、該コンデンサの放電回路にオン・オフスイッチを挿
入してスイッチのオン導通によってコンデンサ放電を行
なうようにした装置が知られている。
工体の形成する加工間隙の近くに放電用コンデンサを設
け、該コンデンサの放電回路にオン・オフスイッチを挿
入してスイッチのオン導通によってコンデンサ放電を行
なうようにした装置が知られている。
【０００３】これは電極と被加工体の加工間隙が形成さ
れる機械装置と加工パルスを供給する電源装置とが離隔
された位置に配置される場合に、電源装置と加工間隙と
の間が長いケーブルをもって接続され、ケーブルのイン
ダクタンス及びキャパシタンス等が供給加工パルスに影
響して波高値を高く出来なかったり、供給パルスの波形
が歪んだり振動的になったりする欠点を改良するために
提案されたものであるが、前記放電用コンデンサは所望
する放電エネルギに対応して静電容量を設定し、又前記
スイッチはスイッチオンによりコンデンサ放電を起動す
るために作動させ、コンデンサ放電が終了してからスイ
ッチオフするように作動させるものであり、加工間隙に
エネルギ効率の高い矩形波パルスの供給が出来ず、繰返
し周波数を大きく制御することができない欠点がある。 又加工間隙の近くにコンデンサを設けてもコンデンサと
加工間隙を接続するリード線のインダクタンスは長さに
比例した値が存在し、この値に比例してスイッチオフに
より電流遮断すると電流が振動し、振動数、振動エネル
ギ、及び減衰振動が増大することは避けられない。
れる機械装置と加工パルスを供給する電源装置とが離隔
された位置に配置される場合に、電源装置と加工間隙と
の間が長いケーブルをもって接続され、ケーブルのイン
ダクタンス及びキャパシタンス等が供給加工パルスに影
響して波高値を高く出来なかったり、供給パルスの波形
が歪んだり振動的になったりする欠点を改良するために
提案されたものであるが、前記放電用コンデンサは所望
する放電エネルギに対応して静電容量を設定し、又前記
スイッチはスイッチオンによりコンデンサ放電を起動す
るために作動させ、コンデンサ放電が終了してからスイ
ッチオフするように作動させるものであり、加工間隙に
エネルギ効率の高い矩形波パルスの供給が出来ず、繰返
し周波数を大きく制御することができない欠点がある。 又加工間隙の近くにコンデンサを設けてもコンデンサと
加工間隙を接続するリード線のインダクタンスは長さに
比例した値が存在し、この値に比例してスイッチオフに
より電流遮断すると電流が振動し、振動数、振動エネル
ギ、及び減衰振動が増大することは避けられない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
欠点を改良して、加工間隙に矩形波パルスを波高値を高
く供給でき、繰返し周波数を任意に大きく制御できるよ
うにすることを目的として提案されたものである。
欠点を改良して、加工間隙に矩形波パルスを波高値を高
く供給でき、繰返し周波数を任意に大きく制御できるよ
うにすることを目的として提案されたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は加工間隙
の近くに直流電源によって充電されるコンデンサを設け
、該コンデンサと加工間隙の間にオン・オフパルス発生
用のスイッチと抵抗の直列回路を複数個並列に挿入し、
且つ前記直列回路のリード線を所要の間隔を隔てゝ保持
する手段を設けたことを特徴とするものである。
の近くに直流電源によって充電されるコンデンサを設け
、該コンデンサと加工間隙の間にオン・オフパルス発生
用のスイッチと抵抗の直列回路を複数個並列に挿入し、
且つ前記直列回路のリード線を所要の間隔を隔てゝ保持
する手段を設けたことを特徴とするものである。
【０００６】又前記直列回路を耐食性材料で包んで加工
タンク内に固定し、各直列回路のリード線を所要の間隔
を隔てゝ加工台に固定したことを特徴とする。又スイッ
チと抵抗の直列回路において、１つのスイッチに複数の
抵抗を接続し、各抵抗のリード線を所要の間隔を隔てゝ
保持するようにしたことを特徴とする。又抵抗体として
ＺｒＯ２＋ＣａＯ ＋ＲｕＯ２、ＳｉＯ２＋ＲｕＯ２、
もしくはＳｉ＋ＲｕＯ２粉体よりなる粉体抵抗を用いた
ことを特徴とする。
タンク内に固定し、各直列回路のリード線を所要の間隔
を隔てゝ加工台に固定したことを特徴とする。又スイッ
チと抵抗の直列回路において、１つのスイッチに複数の
抵抗を接続し、各抵抗のリード線を所要の間隔を隔てゝ
保持するようにしたことを特徴とする。又抵抗体として
ＺｒＯ２＋ＣａＯ ＋ＲｕＯ２、ＳｉＯ２＋ＲｕＯ２、
もしくはＳｉ＋ＲｕＯ２粉体よりなる粉体抵抗を用いた
ことを特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明は前記のように加工間隙の近くに直流電
源によって充電されるコンデンサを設け、該コンデンサ
と加工間隙の間にオン・オフパルス発生用のスイッチと
抵抗の直列回路を複数組並列に挿入して成るものである
から、加工間隙には矩形波パルスを波高値を高めて、繰
返しを任意に大きく制御して供給でき、又前記直列回路
を複数個並列に接続し、その合成パルスを加工間隙に供
給するようにしたことにより各直列回路の抵抗を大きく
設計できるから、パルス電流の立上り立下り特性（Ｌ／
Ｒ）を改善することができ、又各直列回路のリード線を
所要の間隔を隔てゝ保持する手段を設けたから、各直列
回路のリード線に流れる相互誘導による起電力を小さく
して振動エネルギ及び減衰振動を小さくすることができ
る。又これらの相互効果によって矩形波の改善ができ、
デューティの増大ができる。したがって加工間隙にはエ
ネルギ効率の高い矩形波パルスを波高値を高め繰返し周
波数を高めて供給でき、加工速度、加工精度を向上させ
ることができる。
源によって充電されるコンデンサを設け、該コンデンサ
と加工間隙の間にオン・オフパルス発生用のスイッチと
抵抗の直列回路を複数組並列に挿入して成るものである
から、加工間隙には矩形波パルスを波高値を高めて、繰
返しを任意に大きく制御して供給でき、又前記直列回路
を複数個並列に接続し、その合成パルスを加工間隙に供
給するようにしたことにより各直列回路の抵抗を大きく
設計できるから、パルス電流の立上り立下り特性（Ｌ／
Ｒ）を改善することができ、又各直列回路のリード線を
所要の間隔を隔てゝ保持する手段を設けたから、各直列
回路のリード線に流れる相互誘導による起電力を小さく
して振動エネルギ及び減衰振動を小さくすることができ
る。又これらの相互効果によって矩形波の改善ができ、
デューティの増大ができる。したがって加工間隙にはエ
ネルギ効率の高い矩形波パルスを波高値を高め繰返し周
波数を高めて供給でき、加工速度、加工精度を向上させ
ることができる。
【０００８】
【実施例】以下図面の一実施例により本発明を説明する
。図１において、１は電極、２は被加工体で、相対向す
ることにより加工間隙を形成する。３は加工間隙の近く
に設けられ、端子４に接続する図示しない直流電源によ
って充電される比較的容量の大きいコンデンサで、これ
を直流電源として加工間隙にエネルギを供給する。５１
、５２、５３は ＦＥＴ高速スイッチで、オン・オフス
イッチングによって加工パルスを発生する。６１、６２
、６３は電流波高値を設定する抵抗で、インダクタンス
分の少ない無誘導抵抗を用いる。スイッチ５１と抵抗６
１の直列回路、同様に５２と６２の直列回路及び５３と
６３の直列回路は、各々並列にして電源コンデンサ３と
加工間隙を結ぶ回路に挿入され、その合成パルスを加工
間隙に供給する。７は各直列回路と加工間隙を接続する
リード線を互いに所定の間隔を隔てゝ望ましくは平行に
保持するホルダー、８は各スイッチ５１〜５３を同期し
てオン・オフスイッチング制御するゲートパルス発生回
路の接続端子である。
。図１において、１は電極、２は被加工体で、相対向す
ることにより加工間隙を形成する。３は加工間隙の近く
に設けられ、端子４に接続する図示しない直流電源によ
って充電される比較的容量の大きいコンデンサで、これ
を直流電源として加工間隙にエネルギを供給する。５１
、５２、５３は ＦＥＴ高速スイッチで、オン・オフス
イッチングによって加工パルスを発生する。６１、６２
、６３は電流波高値を設定する抵抗で、インダクタンス
分の少ない無誘導抵抗を用いる。スイッチ５１と抵抗６
１の直列回路、同様に５２と６２の直列回路及び５３と
６３の直列回路は、各々並列にして電源コンデンサ３と
加工間隙を結ぶ回路に挿入され、その合成パルスを加工
間隙に供給する。７は各直列回路と加工間隙を接続する
リード線を互いに所定の間隔を隔てゝ望ましくは平行に
保持するホルダー、８は各スイッチ５１〜５３を同期し
てオン・オフスイッチング制御するゲートパルス発生回
路の接続端子である。
【０００９】以上において、大容量コンデンサ３はパル
スの発生用ではなく加工間隙近くに設けた平滑用の直流
電源として利用するものであり、大容量の数 １００μ
Ｆ〜 １００００μＦ程度のコンデンサを用いる。この
コンデンサ３の電圧をスイッチ５１〜５３のオン・オフ
スイッチングによって加工間隙に加工パルスを供給する
が、端子８に供給するパルス発生回路の制御パルスの設
定制御によって加工間隙に発生する放電パルスのパルス
幅τｏｎ及び休止幅τｏｆｆ の制御が任意にでき、１
０−１μｓ〜 １０３μｓ程度の広範囲に亘って所望の
パルスを発生させることができる。しかもこの発生加工
パルスは大容量コンデンサ３を直流電源としてスイッチ
５１〜５３をオン・オフスイッチングすることによって
発生するものであるから、矩形波パルスを発生供給する
ことができる。図２のＡは矩形波パルスを示す。
スの発生用ではなく加工間隙近くに設けた平滑用の直流
電源として利用するものであり、大容量の数 １００μ
Ｆ〜 １００００μＦ程度のコンデンサを用いる。この
コンデンサ３の電圧をスイッチ５１〜５３のオン・オフ
スイッチングによって加工間隙に加工パルスを供給する
が、端子８に供給するパルス発生回路の制御パルスの設
定制御によって加工間隙に発生する放電パルスのパルス
幅τｏｎ及び休止幅τｏｆｆ の制御が任意にでき、１
０−１μｓ〜 １０３μｓ程度の広範囲に亘って所望の
パルスを発生させることができる。しかもこの発生加工
パルスは大容量コンデンサ３を直流電源としてスイッチ
５１〜５３をオン・オフスイッチングすることによって
発生するものであるから、矩形波パルスを発生供給する
ことができる。図２のＡは矩形波パルスを示す。
【００１０】又コンデンサ３を充電する電源電圧はタッ
プ切換等により調整するが、放電加工に必要な５０Ｖ〜
３００Ｖ程度の範囲で調整設定し、この設定電圧によ
り加工間隙に流す放電電流波高値Ｉｐに対応して電流制
御に所要の抵抗値を設定するが、複数（３個）の抵抗６
１〜６３を並列に挿入して電流を分流することにより各
分流回路の抵抗値は１つの抵抗を用いる場合の３倍の高
抵抗（Ｒ）を用い、各回路から加工間隙に各々 １／３
の分流電流を合流して所要の電流を流すことができる
。
プ切換等により調整するが、放電加工に必要な５０Ｖ〜
３００Ｖ程度の範囲で調整設定し、この設定電圧によ
り加工間隙に流す放電電流波高値Ｉｐに対応して電流制
御に所要の抵抗値を設定するが、複数（３個）の抵抗６
１〜６３を並列に挿入して電流を分流することにより各
分流回路の抵抗値は１つの抵抗を用いる場合の３倍の高
抵抗（Ｒ）を用い、各回路から加工間隙に各々 １／３
の分流電流を合流して所要の電流を流すことができる
。
【００１１】一方、コンデンサ３を加工間隙の近くに設
け、最短リード線で加工間隙に接続したことによって放
電回路のインダクタンスＬは極力小さく設計されている
。そしてスイッチ５１〜５３と抵抗６１〜６３及び加工
間隙に至るリード線の各直列回路に存在するインダクタ
ンス分は複数回路に分けてもリード線の長さが等しいと
するとインダクタンスＬは変わらない。
け、最短リード線で加工間隙に接続したことによって放
電回路のインダクタンスＬは極力小さく設計されている
。そしてスイッチ５１〜５３と抵抗６１〜６３及び加工
間隙に至るリード線の各直列回路に存在するインダクタ
ンス分は複数回路に分けてもリード線の長さが等しいと
するとインダクタンスＬは変わらない。
【００１２】しかしながら放電の立上り立下り特性の時
定数Ｔ＝Ｌ／Ｒが前記のように回路抵抗Ｒを大きくする
ことによって各直列回路共に約 １／３ 程度になるか
ら、各直列回路を周期ゲートしてオン・オフ制御したと
き加工間隙に流れる合成パルス電流は急峻な立上り立下
り特性を有する矩形波パルスを供給することができる。 したがって加工条件の設定に当りτｏｎ、τｏｆｆ を
サブミクロンの微小パルス幅に設定しても充分に追従す
る高周波パルス放電を容易に安定して行なわせることが
できる。
定数Ｔ＝Ｌ／Ｒが前記のように回路抵抗Ｒを大きくする
ことによって各直列回路共に約 １／３ 程度になるか
ら、各直列回路を周期ゲートしてオン・オフ制御したと
き加工間隙に流れる合成パルス電流は急峻な立上り立下
り特性を有する矩形波パルスを供給することができる。 したがって加工条件の設定に当りτｏｎ、τｏｆｆ を
サブミクロンの微小パルス幅に設定しても充分に追従す
る高周波パルス放電を容易に安定して行なわせることが
できる。
【００１３】又各直列回路と加工間隙を接続するリード
線は、ホルダー７によって所定の間隔をもって望ましく
は平行に保持されているから、各直列回路のリード線に
流れる相互誘導による起電力を極力小さくして振動エネ
ルギ及び減衰振動を小さくすることができ、スイッチ５
１〜５３のオフによる電流遮断時の振動を急速に短時間
に減衰し加工間隙の絶縁回復を早めるから、休止時間を
短くして次のパルス放電を発生することができ、放電の
繰返し周波数を高めることができる。図２のＢは遮断時
の減衰振動を示す。
線は、ホルダー７によって所定の間隔をもって望ましく
は平行に保持されているから、各直列回路のリード線に
流れる相互誘導による起電力を極力小さくして振動エネ
ルギ及び減衰振動を小さくすることができ、スイッチ５
１〜５３のオフによる電流遮断時の振動を急速に短時間
に減衰し加工間隙の絶縁回復を早めるから、休止時間を
短くして次のパルス放電を発生することができ、放電の
繰返し周波数を高めることができる。図２のＢは遮断時
の減衰振動を示す。
【００１４】なお抵抗体６１〜６３には無誘導抵抗を用
いることによってインダクタンス分を少なくし、発生す
るパルス電流の波形を改善することができるが、ＺｒＯ
２＋ ＣａＯ＋ＲｕＯ２、ＳｉＯ２＋ＲｕＯ２、ＲｕＯ
２＋Ｓｉ等の半導体特性をもつ粉末を用いた粉体抵抗を
利用することによってインダクタンス分を減少させるこ
とができる。各々 １５０〜 ２００Ｗで１〜 １００
Ω程度の抵抗体が容易に得られる。
いることによってインダクタンス分を少なくし、発生す
るパルス電流の波形を改善することができるが、ＺｒＯ
２＋ ＣａＯ＋ＲｕＯ２、ＳｉＯ２＋ＲｕＯ２、ＲｕＯ
２＋Ｓｉ等の半導体特性をもつ粉末を用いた粉体抵抗を
利用することによってインダクタンス分を減少させるこ
とができる。各々 １５０〜 ２００Ｗで１〜 １００
Ω程度の抵抗体が容易に得られる。
【００１５】図３はスイッチ及び抵抗体より或る直列回
路を被加工体を固定する放電加工機の加工タンク内の加
工台の下に固定して設けた実装状態を示す斜視図で、図
４がその側断面図である。スイッチと抵抗の直列回路は
耐食性材料のＴｉ、ＴｉＭｇ等を主体とした金属とかセ
ラミックス材料で包み、所要の間隔を保って各直列回路
からリード線１０を導出する。耐食性材料でモールドし
た直列回路９は加工台下の加工タンク１２に固定して導
出するリード線１０を所定の間隔を保ったまま平行に張
って加工台１１に固定する。
路を被加工体を固定する放電加工機の加工タンク内の加
工台の下に固定して設けた実装状態を示す斜視図で、図
４がその側断面図である。スイッチと抵抗の直列回路は
耐食性材料のＴｉ、ＴｉＭｇ等を主体とした金属とかセ
ラミックス材料で包み、所要の間隔を保って各直列回路
からリード線１０を導出する。耐食性材料でモールドし
た直列回路９は加工台下の加工タンク１２に固定して導
出するリード線１０を所定の間隔を保ったまま平行に張
って加工台１１に固定する。
【００１６】このように構成することによって加工タン
ク内に固定して設けられた直列回路９は、加工液によっ
て強制的に冷却され放熱効果が高められ、最短リード線
１０によって加工間隙に接続されることにより、リード
線に存在するインダクタンス成分を最小に設計すること
ができる。又各リード線１０は加工台１１との間に所定
の間隔で平行に張設されるので、リード線相互間の電磁
誘導による起電力を低減させることができる。尚、耐食
性材で包んだ直列回路９は、複数の回路を一体にモール
ド構造にすることなく、各直列回路を１つづつ耐食性材
で包んだ分離構造にすることができ、加工タンク１２及
び加工台１１間への取付交換にはその方が便利である。 又電極を取付支持する加工ヘッド１４へのリード線１３
は１本線を利用するが、ヘッド１４に所定の間隔を保っ
て固定できる場合は回路数に応じた本数のリード線を所
定間隔を保って平行に配線するとよい。
ク内に固定して設けられた直列回路９は、加工液によっ
て強制的に冷却され放熱効果が高められ、最短リード線
１０によって加工間隙に接続されることにより、リード
線に存在するインダクタンス成分を最小に設計すること
ができる。又各リード線１０は加工台１１との間に所定
の間隔で平行に張設されるので、リード線相互間の電磁
誘導による起電力を低減させることができる。尚、耐食
性材で包んだ直列回路９は、複数の回路を一体にモール
ド構造にすることなく、各直列回路を１つづつ耐食性材
で包んだ分離構造にすることができ、加工タンク１２及
び加工台１１間への取付交換にはその方が便利である。 又電極を取付支持する加工ヘッド１４へのリード線１３
は１本線を利用するが、ヘッド１４に所定の間隔を保っ
て固定できる場合は回路数に応じた本数のリード線を所
定間隔を保って平行に配線するとよい。
【００１７】図５は１つのスイッチ１５に対して複数の
抵抗１６を並列に組合せてユニット化した例で、各抵抗
体１６の出力リード線は各々を所定の間隔を保って平行
に保持する。
抵抗１６を並列に組合せてユニット化した例で、各抵抗
体１６の出力リード線は各々を所定の間隔を保って平行
に保持する。
【００１８】図６は各抵抗体１７をセラミック等の間隔
子１８によって所定の間隔をもって組立てユニット化し
たもので、各抵抗体１７のリード線は所定の間隔をもっ
て平行に保持する。ユニット化することによって組合せ
交換が容易にできる。
子１８によって所定の間隔をもって組立てユニット化し
たもので、各抵抗体１７のリード線は所定の間隔をもっ
て平行に保持する。ユニット化することによって組合せ
交換が容易にできる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように、本発明は加工間隙の近く
に直流電源によって充電されるコンデンサを設け、該コ
ンデンサと加工間隙の間にオン・オフパルス発生用のス
イッチと抵抗の直列回路を複数組並列に挿入し、且つ前
記各直列回路のリード線を所要の間隔を隔てゝ平行に保
持する手段を設けてなるものであるから、加工間隙には
矩形波パルスを波高値を高め、繰返し周波数を高めて供
給することができる。
に直流電源によって充電されるコンデンサを設け、該コ
ンデンサと加工間隙の間にオン・オフパルス発生用のス
イッチと抵抗の直列回路を複数組並列に挿入し、且つ前
記各直列回路のリード線を所要の間隔を隔てゝ平行に保
持する手段を設けてなるものであるから、加工間隙には
矩形波パルスを波高値を高め、繰返し周波数を高めて供
給することができる。
【００２０】又コンデンサを加工間隙の近くに設け、最
短リード線で加工間隙に接続したこによって放電回路の
インダクタンスＬを極力小さく設計でき、又スイッチと
抵抗の直列回路を複数個並列に接続し、その合成パルス
を加工間隙に供給するようにしたことにより各直列回路
の抵抗Ｒを大きく設計できるから、パルス電流の立上り
立下り特性の時定数Ｔ＝Ｌ／Ｒを小さくすることができ
、加工間隙には急峻な立上り立下り特性を有する矩形波
パルスを供給することができる。したがって加工条件の
設定に当たりτｏｎ、τｏｆｆ をサブミクロンの微小
パルス幅に設定しても充分に追従する高周波パルス放電
を容易に安定して行わせることができる。
短リード線で加工間隙に接続したこによって放電回路の
インダクタンスＬを極力小さく設計でき、又スイッチと
抵抗の直列回路を複数個並列に接続し、その合成パルス
を加工間隙に供給するようにしたことにより各直列回路
の抵抗Ｒを大きく設計できるから、パルス電流の立上り
立下り特性の時定数Ｔ＝Ｌ／Ｒを小さくすることができ
、加工間隙には急峻な立上り立下り特性を有する矩形波
パルスを供給することができる。したがって加工条件の
設定に当たりτｏｎ、τｏｆｆ をサブミクロンの微小
パルス幅に設定しても充分に追従する高周波パルス放電
を容易に安定して行わせることができる。
【００２１】又各直列回路のリード線を所要の間隔で平
行に保持する手段を設けたから、リード線に流れる相互
誘導による起電力を小さくし電流遮断時の振動を小さく
することができ、振動を急速に減衰させることができる
から、加工間隙の絶縁回復を早め休止時間を短くして次
のパルス放電を発生することができ、放電の繰返し周波
数を高めることができる。
行に保持する手段を設けたから、リード線に流れる相互
誘導による起電力を小さくし電流遮断時の振動を小さく
することができ、振動を急速に減衰させることができる
から、加工間隙の絶縁回復を早め休止時間を短くして次
のパルス放電を発生することができ、放電の繰返し周波
数を高めることができる。
【００２２】したがって本発明によれば、加工間隙にエ
ネルギ効率の高い矩形波パルスを波高値を高め繰返し周
波数を高めて供給することができ、加工速度、加工精度
を向上させ、サブミクロンの微細パルスにより超精密加
工をすることができる。
ネルギ効率の高い矩形波パルスを波高値を高め繰返し周
波数を高めて供給することができ、加工速度、加工精度
を向上させ、サブミクロンの微細パルスにより超精密加
工をすることができる。
【００２３】尚、本発明は叙上の実施例に限定されるも
のでなく、本発明の目的の範囲内において上記の説明か
ら当業者が容易に想到し得るすべての変更実施例を包摂
するものである。
のでなく、本発明の目的の範囲内において上記の説明か
ら当業者が容易に想到し得るすべての変更実施例を包摂
するものである。
【図１】本発明の一実施例の回路図である。
【図２】パルス電流遮断時の減衰振動を示す波形図であ
る。
る。
【図３】他の実施例の電源装置の実装状態を示す斜視図
である。
である。
【図４】図３の側断面図である。
【図５】他の実施例の一部構造図である。
【図６】更に他の実施例の一部構造図である。
１ 電極
２ 被加工体
３ コンデンサ
５１，５２，５３ スイッチ
６１，６２，６３ 抵抗
７ ホルダ
８ 接続端子
９ 直列回路
１０ リード線
１１ 加工台
１２ 加工タンク
１３ リード線
１４ 加工ヘッド
１５ スイッチ
１６，１７ 抵抗体
Claims (7)
- 【請求項１】 電極（１） と被加工体（２） 間の
加工間隙にパルス放電を発生させて加工する放電加工装
置において、前記加工間隙の近くに直流電源によって充
電されるコンデンサ（３） を設け、該コンデンサと加
工間隙の接続回路に、オン・オフパルス発生用のスイッ
チ（５１，５２，５３）と抵抗（６１，６２，６３）の
直列回路（９） を複数組並列に挿入し、且つ前記各直
列回路のリード線を所要の間隔を隔てゝ保持する手段を
設けたことを特徴とする放電加工装置。 - 【請求項２】 各直列回路を耐食性材料で包んで加工
タンク内に固定し、各直列回路のリード線（１０）を所
要の間隔を隔てゝ加工台に固定したことを特徴とする請
求項１に記載の放電加工装置。 - 【請求項３】 耐食性材料としてＴｉもしくはＴｉＭ
ｇを主体とした材料を用いたことを特徴とする請求項２
に記載の放電加工装置。 - 【請求項４】 耐食性材料としてセラミックス材を用
いたことを特徴とする請求項２に記載の放電加工装置。 - 【請求項５】 スイッチと抵抗の組合せにより成る直
列回路（９） が複数個並列に挿入されるようにユニッ
ト化したことを特徴とする請求項１に記載の放電加工装
置。 - 【請求項６】 スイッチと抵抗の直列回路において、
１つのスイッチに複数の抵抗を接続し、各抵抗のリード
線を所要の間隔を隔てゝ保持するようにしたことを特徴
とする請求項１に記載の放電加工装置。 - 【請求項７】 抵抗体としてＺｒＯ２＋ＣａＯ ＋Ｒ
ｕＯ２、ＳｉＯ２＋ＲｕＯ２、もしくはＳｉ＋ＲｕＯ２
粉体よりなる粉体抵抗を用いたことを特徴とする請求項
１に記載の放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP46391A JPH04250919A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP46391A JPH04250919A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 放電加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04250919A true JPH04250919A (ja) | 1992-09-07 |
Family
ID=11474493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP46391A Pending JPH04250919A (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04250919A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9843068B2 (en) | 2009-02-27 | 2017-12-12 | Sony Corporation | Nonaqueous electrolyte secondary battery |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP46391A patent/JPH04250919A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9843068B2 (en) | 2009-02-27 | 2017-12-12 | Sony Corporation | Nonaqueous electrolyte secondary battery |
| US10403926B2 (en) | 2009-02-27 | 2019-09-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Nonaqueous electrolyte secondary battery |
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