JPH04248500A - Fixation treatment device of radioactive gas - Google Patents

Fixation treatment device of radioactive gas

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JPH04248500A
JPH04248500A JP1217591A JP1217591A JPH04248500A JP H04248500 A JPH04248500 A JP H04248500A JP 1217591 A JP1217591 A JP 1217591A JP 1217591 A JP1217591 A JP 1217591A JP H04248500 A JPH04248500 A JP H04248500A
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JP
Japan
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shielding
container
radioactive gas
treatment device
main body
Prior art date
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Application number
JP1217591A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryokichi Igarashi
五十嵐 良 吉
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a safe, economic and highly reliable fixation treatment device of radioactive gas by making handling works of the treatment device itself that becomes a radiation source after fixation treatment of the radioactive gas, to be of much safer and easier one, at the same time, by enabling effective heat removal of ion injection electrodes during fixation treatment operation and of decay heat during storage period, respectively. CONSTITUTION:A treatment device itself 60 is arranged in an upwardly opening shielded vessel 70 that is shielding radiation, as well as penetrating grooves 90 through which pipings.wirings 61 from the treatment device itself pass through are formed at an end surface of the opening of the shielded vessel, slantly to straightly progressing direction of radiation which is generated from the treatment device itself, and finally a shielding lid 80 is put on an end part of the opening of the shielded vessel in order to cover whole circumference of the treatment device itself 60 with shielding bodies 70 and 80.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、核燃料再処理工場等で
発生した放射性ガスをイオン化し、そのガスイオンを金
属組織中に注入して固定化するようにした放射性ガス固
定化処理装置、特に固定化処理操作を終えた後の処理装
置本体に対する取り扱いの便を図った放射性ガス固定化
処理装置に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a radioactive gas immobilization processing device that ionizes radioactive gas generated in a nuclear fuel reprocessing plant, etc., and injects the gas ions into a metal structure for immobilization. The present invention relates to a radioactive gas immobilization processing apparatus that facilitates handling of the processing apparatus body after the immobilization processing operation is completed.

【0002】0002

【従来の技術】核燃料再処理工場等の原子力施設におい
ては、有害な量の放射能が環境に放出された場合、その
影響が広範囲かつ長期間にわたる可能性があるため、他
の一般産業に比べて安全性の確保が厳しく義務づけられ
ている。例えば、使用済核燃料からウランとプルトニウ
ムを回収する核燃料再処理工場では、使用済核燃料の剪
断工程や溶解工程等において、核分裂生成物を含む放射
性ガスが発生する。このうち、最も問題となる可能性の
ある放射性ガスは、クリプトン85(以下Kr−85と
略称する)であり、このKr−85は、半減期が約10
.7年と非常に長いため、これを長期間安全に貯蔵でき
るようにした技術の開発が進められている。
[Prior Art] In nuclear facilities such as nuclear fuel reprocessing plants, if a harmful amount of radioactivity is released into the environment, the effects may be wide-ranging and long-lasting, compared to other general industries. There is a strict obligation to ensure safety. For example, in a nuclear fuel reprocessing plant that recovers uranium and plutonium from spent nuclear fuel, radioactive gases containing fission products are generated during the spent nuclear fuel shearing and melting processes. Of these, the radioactive gas that is most likely to cause problems is krypton-85 (hereinafter abbreviated as Kr-85), which has a half-life of approximately 10
.. Seven years is a very long time, so efforts are being made to develop technology that will allow it to be stored safely for a long period of time.

【0003】現在までに開発されている前記放射性ガス
の貯蔵方法としては、放射性ガスを高圧ボンベ等の圧力
容器に貯蔵するようにした高圧ボンベ貯蔵法、Kr−8
5をゼオライトに吸着させるようにしたゼオライト吸着
法、放射性ガスをイオン化して金属組織中に注入するよ
うにしたイオン注入法等が一般に知られている。
[0003] The radioactive gas storage methods that have been developed to date include the high-pressure cylinder storage method in which the radioactive gas is stored in a pressure container such as a high-pressure cylinder, and the Kr-8 storage method.
Generally known methods include a zeolite adsorption method in which 5 is adsorbed on zeolite, an ion implantation method in which a radioactive gas is ionized and injected into the metal structure, and the like.

【0004】しかし、前記高圧ボンベ貯蔵法は、放射性
ガスを貯蔵する貯蔵容器の耐圧試験を定期的に行なうこ
とが義務づけられているため、貯蔵ガスをその都度別の
容器に移し替える必要があり、繁雑な作業が要求される
。また、ゼオライト吸着法は、Kr−85を高温・高圧
下で処理操作しなければならないため、実用化するまで
に数多くの問題がある。これに対し、イオン注入法は、
常温・低圧下での処理操作が可能であるため、前述した
高圧ボンベ貯蔵法やゼオライト吸着法び比較して経済性
及び安定性の面で有利であるといえる。
[0004] However, in the high-pressure cylinder storage method, since it is mandatory to periodically conduct a pressure test of the storage container storing the radioactive gas, it is necessary to transfer the stored gas to a different container each time. Requires complicated work. Furthermore, since the zeolite adsorption method requires processing of Kr-85 at high temperature and high pressure, there are many problems before it can be put to practical use. On the other hand, ion implantation method
Since treatment can be performed at room temperature and low pressure, it can be said to be advantageous in terms of economy and stability compared to the above-mentioned high-pressure cylinder storage method and zeolite adsorption method.

【0005】図6は、上述したイオン注入法により放射
性ガスを固定化処理する従来の一般的な放射性ガス固定
化処理装置を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a conventional general radioactive gas immobilization processing apparatus that immobilizes radioactive gas by the above-mentioned ion implantation method.

【0006】同図において、1は放射性ガスを固定化す
る密閉構造の固体化容器であり、この固定化容器1は、
円筒状のイオン注入電極2と、このイオン注入電極2の
下部にリング状の絶縁体3aを介して結合された陽極底
4と、前記イオン注入電極2の上部に絶縁体3bを介し
て結合された連結用の陽極フランジ5と、この陽極フラ
ンジ5の上面にボルトとナット(図示せず)により締付
け固定された陽極蓋6とから構成されている。
In the figure, reference numeral 1 denotes a solidification container with a closed structure for immobilizing radioactive gas, and this immobilization container 1 has the following features:
A cylindrical ion implantation electrode 2, an anode bottom 4 connected to the lower part of the ion implantation electrode 2 through a ring-shaped insulator 3a, and an anode bottom 4 connected to the upper part of the ion implantation electrode 2 through an insulator 3b. The anode flange 5 is composed of an anode flange 5 for connection, and an anode cover 6 which is tightened and fixed to the upper surface of the anode flange 5 with bolts and nuts (not shown).

【0007】前記陽極蓋6には、吸気管7及び排気管8
が接続され、排気管8に接続した真空ポンプ(図示せず
)で放射性ガスを吸気管7より固定化容器1内に導入す
るように構成されている。そして、前記固定化容器1内
には、円筒状のスパッタ電極9が設けられ、このスパッ
タ電極9にスパッタ電源10から1KV以上の電圧を、
また前記イオン注入電極2にイオン注入電源11から1
KV以下の電圧を夫々印加することにより、固定化容器
1内に導入された放射性ガスを固定化処理するように構
成されている。
The anode cover 6 has an intake pipe 7 and an exhaust pipe 8.
is connected, and radioactive gas is introduced into the immobilization container 1 through the intake pipe 7 using a vacuum pump (not shown) connected to the exhaust pipe 8. A cylindrical sputter electrode 9 is provided in the immobilization container 1, and a voltage of 1 KV or more is applied to the sputter electrode 9 from a sputter power source 10.
Further, from the ion implantation power supply 11 to the ion implantation electrode 2,
The radioactive gas introduced into the immobilization container 1 is immobilized by applying a voltage of KV or less to each of them.

【0008】なお、前記スパッタ電極9の上部には、水
冷管12が陽極蓋6の中央開口に設けられたハーメチッ
クシールを有する絶縁体13を貫通して接続されている
A water-cooled tube 12 is connected to the upper part of the sputtering electrode 9 through an insulator 13 having a hermetic seal provided in the central opening of the anode cover 6.

【0009】このように構成にされた放射性ガス固定化
処理装置においては、固定化容器1内のガス圧力とイオ
ン注入電極2及びスパッタ電極9に印加される電圧が適
当な条件を満たすと固定化容器1内でグロー放電が発生
し、このグロー放電によって固定化容器1内の放射性ガ
スがイオン化することが知られている。
In the radioactive gas immobilization processing apparatus configured as described above, immobilization occurs when the gas pressure in the immobilization container 1 and the voltage applied to the ion implantation electrode 2 and the sputtering electrode 9 satisfy appropriate conditions. It is known that a glow discharge occurs within the container 1 and that the radioactive gas within the immobilization container 1 is ionized by this glow discharge.

【0010】例えば、固定化容器1内のガス圧力を10
−1〜10−3Torr に設定維持した状態で、イオ
ン注入電極2に1KV以下の電圧を、スパッタ電極9に
1KV以上の電圧をそれぞれ連続的に印加すると、固定
化容器1内の放射性ガスはグロー放電でよってイオン化
され、図7に示すように、ガスイオン14となってスパ
ッタ電極9の方に加速され、スパッタ電極9の表面に衝
突する。この時、スパッタ電極9からはスパッタ金属1
5が飛び出し、対向するイオン注入電極2の表面に衝突
して金属累積層16を形成する。また、一部のガスイオ
ン14は、図8に示すように、イオン注入電極2の方に
加速され、イオン注入電極2の表面に形成された金属累
積層16内に注入される。
For example, the gas pressure inside the immobilization container 1 is set to 10
When a voltage of 1 KV or less is continuously applied to the ion implantation electrode 2 and a voltage of 1 KV or more to the sputtering electrode 9 while maintaining the setting at -1 to 10-3 Torr, the radioactive gas in the immobilization container 1 glows. The gas is ionized by the discharge, becomes gas ions 14, is accelerated toward the sputter electrode 9, and collides with the surface of the sputter electrode 9, as shown in FIG. At this time, the sputtered metal 1 is transferred from the sputtered electrode 9.
5 fly out and collide with the surface of the opposing ion implantation electrode 2 to form a metal accumulation layer 16. Further, some of the gas ions 14 are accelerated toward the ion implantation electrode 2 and injected into the metal accumulation layer 16 formed on the surface of the ion implantation electrode 2, as shown in FIG.

【0011】従って、このような操作を固定化容器1内
の放射性ガスがなくなるまで行なうことにより、Kr−
85等の放射性ガスをイオン注入電極2の表面に形成さ
れたスパッタ金属15の金属累積層16内に注入固定化
することができ、Kr−85を長期間安全に貯蔵するこ
とが可能となる。
[0011] Therefore, by performing such operations until the radioactive gas in the immobilization container 1 is exhausted, Kr-
A radioactive gas such as Kr-85 can be injected and fixed into the metal cumulative layer 16 of the sputtered metal 15 formed on the surface of the ion implantation electrode 2, making it possible to safely store Kr-85 for a long period of time.

【0012】また、固定化容器1で放射性ガスを固定化
処理する際、イオン注入電極2が発熱するため、この熱
を効果的に取り除き、常に一定の温度条件に保持する必
要がある。このため、図6に示すように、イオン注入電
極2の外側に水冷槽17を設けてイオン注入電極2を効
率的に冷却するよう構成されている。
[0012] Furthermore, when the radioactive gas is immobilized in the immobilization container 1, the ion implantation electrode 2 generates heat, so it is necessary to effectively remove this heat and maintain constant temperature conditions at all times. For this reason, as shown in FIG. 6, a water cooling tank 17 is provided outside the ion implantation electrode 2 to efficiently cool the ion implantation electrode 2.

【0013】ところで、放射性ガスの固定化処理操作を
終えた後の固定化容器1は、固定化プロセスラインから
切り離され、貯蔵施設に搬送されて放射能レベルが十分
に減衰するまで貯蔵保管される。このため、放射性ガス
の固定化処理操作終了後から貯蔵保管に至るまでの固定
化容器1の取扱い作業(プロセスラインからの切り離し
作業、運搬作業、容器の保管作業等)は、固定化容器1
自体が高レベルの放射能を持っているため、マニピュレ
ータ等の遠隔作業機器を用いて行なうことが考えられて
いた。
By the way, the immobilization container 1 after completing the radioactive gas immobilization treatment operation is separated from the immobilization process line, transported to a storage facility, and stored until the radioactivity level is sufficiently attenuated. . Therefore, handling work of the immobilization container 1 from the end of the radioactive gas immobilization treatment operation to storage and storage (such as separation from the process line, transportation work, container storage work, etc.) is carried out on the immobilization container 1.
Because it itself has a high level of radioactivity, it was thought that it could be carried out using remote work equipment such as manipulators.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
如くマニピュレータ等の遠隔操作機器を用いて固定化容
器1の取り扱いを行う場合、その設備に膨大な費用がか
かってしまい、その実現が難しい。
[Problems to be Solved by the Invention] However, when handling the immobilization container 1 using a remote control device such as a manipulator as in the past, a huge amount of equipment is required and it is difficult to realize this method.

【0015】また、固定化処理後の固定化容器1を貯蔵
保管する際には、固定化容器1の腐食を防止するために
、水冷槽17内の冷却水を抜いた状態で貯蔵保管しなけ
ればならず、一方、放射性ガスを金属累積層16内に長
期間安定に封じ込めておくためには、貯蔵保管時に金属
累積層16から放出される放射性ガスの崩壊熱を除去で
きる状態にしておく必要がある。
Furthermore, when storing the immobilization container 1 after the immobilization treatment, the cooling water in the water cooling tank 17 must be drained before storage in order to prevent corrosion of the immobilization container 1. On the other hand, in order to stably confine radioactive gas within the metal accumulation layer 16 for a long period of time, it is necessary to maintain a state in which the decay heat of the radioactive gas released from the metal accumulation layer 16 during storage can be removed. There is.

【0016】しかしながら、このようにイオン注入電極
2の外側に設けられた水冷槽17から冷却水を抜いた状
態で固定化容器1を貯蔵保管すると、金属累積層16が
形成されているイオン注入電極2と大気との間に空隙が
でき、水冷槽17内が断熱層となってしまう。このため
、貯蔵保管時に金属累積層16から放出される放射性ガ
スの崩壊熱を効率的に除去することができず、崩壊熱に
よる金属累積層16の温度上昇によって放射性ガスが固
定化容器1内に放出される可能性があり、安全上好まし
くなかった。また、崩壊熱除去を行なうためには、例え
ばフレオンガス冷却装置等の強制冷却装置を固定化容器
1に別途取り付ける必要があり、経済的にも好ましくな
いといった問題点があった。
However, if the immobilization container 1 is stored with the cooling water removed from the water cooling tank 17 provided outside the ion implantation electrode 2, the ion implantation electrode on which the metal cumulative layer 16 is formed will A gap is formed between the water cooling tank 2 and the atmosphere, and the inside of the water cooling tank 17 becomes a heat insulating layer. For this reason, the decay heat of the radioactive gas released from the metal accumulation layer 16 during storage cannot be efficiently removed, and the radioactive gas flows into the immobilization container 1 due to the temperature rise of the metal accumulation layer 16 due to the decay heat. There is a possibility of release, which is not desirable from a safety standpoint. In addition, in order to remove the decay heat, it is necessary to separately attach a forced cooling device such as a Freon gas cooling device to the immobilization container 1, which is also economically undesirable.

【0017】本発明はこのような点に鑑みなされたもの
で、放射性ガスの固定化処理後における放射線源となっ
た処理装置本体の取り扱い作業を安全且つ容易なものと
なし、しかも固定化処理操作時にはイオン注入電極を、
貯蔵保管時には崩壊熱を夫々効率よく除熱でき、従って
安全かつ経済的で信頼性が高い放射性ガス固定化処理装
置を提供することを目的とする。
The present invention has been developed in view of the above points, and makes it possible to safely and easily handle the main body of the processing apparatus that is a radiation source after immobilization of radioactive gas, and to improve the immobilization process. Sometimes ion implantation electrodes,
It is an object of the present invention to provide a radioactive gas fixation processing device that can efficiently remove decay heat during storage and is therefore safe, economical, and highly reliable.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、密閉構造の固定化容器内に放射性ガスを導
入し、前記固定化容器内に設けられたイオン注入電極及
びスパッタ電極に高電圧を印加してグロー放電を発生さ
せ、前記放射性ガスをグロー放電によりイオン化して該
ガスイオンを前記イオン注入電極の表面に形成されたス
パッタ金属の金属累積層中に注入固定化するようにした
放射性ガス固定化処理装置において、この処理装置本体
を上方に開口した放射線を遮蔽する遮蔽容器内に配置す
るとともに、この遮蔽容器の開口端面に前記処理装置本
体からの配管・配線を通過させる貫通溝を該処理装置本
体から発生する放射線の直進方向に対して傾斜させて形
成し、前記遮蔽容器の開口端部に遮蔽蓋を被せて前記処
理装置本体の全周囲を遮蔽体で覆ったものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention introduces a radioactive gas into an immobilization container having a closed structure, and introduces a radioactive gas into an ion implantation electrode and a sputtering electrode provided in the immobilization container. A high voltage is applied to generate a glow discharge, the radioactive gas is ionized by the glow discharge, and the gas ions are injected and fixed into a metal cumulative layer of sputtered metal formed on the surface of the ion implantation electrode. In a radioactive gas immobilization processing device, the processing device main body is disposed in a radiation-shielding shielding container that opens upward, and a through hole is provided for passing piping and wiring from the processing device main body through the open end surface of the shielding container. A groove is formed to be inclined with respect to the straight direction of radiation generated from the processing device main body, and a shielding lid is placed over the open end of the shielding container to cover the entire periphery of the processing device main body with a shielding body. be.

【0019】[0019]

【作用】上記のように構成した本発明によれば、処理装
置本体の全周囲は遮蔽体(遮蔽容器及び遮蔽蓋)で包囲
され、遮蔽蓋を取外すことにより、処理装置本体のみを
遮蔽容器から取出して貯蔵施設のラック等に貯蔵保管す
ることができる。しかも、処理装置本体からの配管・配
線は、遮蔽容器の開口端面に処理装置本体から発生する
放射線の直進方向に対して傾斜させて形成した貫通溝を
通過して外部に延びているので、この貫通溝からの放射
能の漏洩を防止するとともに、処理装置本体を遮蔽容器
から取出す際に遮蔽容器と処理装置本体とを容易に分離
することができる。これによって、処理装置本体を、遮
蔽容器及び遮蔽蓋を使用して、遠隔的に取り扱うことが
できるので、高放射線源となった処理装置本体を安全に
取り扱うことができ、作業者の被曝線量を大幅に低減す
ることができる。
[Operation] According to the present invention configured as described above, the entire periphery of the processing equipment body is surrounded by the shielding body (the shielding container and the shielding lid), and by removing the shielding lid, only the processing equipment main body can be removed from the shielding container. It can be taken out and stored in a rack or the like in a storage facility. Moreover, the piping and wiring from the processing equipment main body extend to the outside through a through groove formed on the open end surface of the shielding container at an angle with respect to the straight direction of radiation generated from the processing equipment main body. In addition to preventing leakage of radioactivity from the through groove, the shielding container and the processing device main body can be easily separated when the processing device main body is taken out from the shielding container. As a result, the main body of the processing equipment can be handled remotely using the shielding container and shielding lid, so the main body of the processing equipment, which is a high radiation source, can be handled safely and the radiation exposure dose of workers can be reduced. can be significantly reduced.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。なお、図6に示した部分と同一部分には、同一符
号を付し、その部分の説明は省略する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the same parts as those shown in FIG. 6 are given the same reference numerals, and the explanation of the parts will be omitted.

【0021】図1は、本発明の一実施例を示す放射性ガ
ス固定化処理装置全体の縦断正面面、図2は貫通溝を上
方から見た遮蔽蓋を取除いた状態の平面図、図3は貫通
溝を正面から見た正面図の要部、図4は図1の平面図を
夫々示す。
FIG. 1 is a longitudinal sectional front view of the entire radioactive gas fixation processing apparatus showing one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the through groove viewed from above with the shielding cover removed, and FIG. 4 shows a main part of a front view of the through groove viewed from the front, and FIG. 4 shows a plan view of FIG. 1, respectively.

【0022】図1において、本発明に係る放射性ガス固
定化処理装置50は、放射性ガスを固定化させるように
した処理装置本体60と、この処理装置本体60からの
放射能を遮蔽するため該処理容器本体60を内部に収納
する上方に開口した遮蔽容器70と、前記処理装置本体
60を内部に収納した遮蔽容器70の上方開口端を閉塞
させてここを遮蔽する遮蔽蓋80とから主に構成されて
いる。
In FIG. 1, a radioactive gas immobilization processing device 50 according to the present invention includes a processing device main body 60 configured to immobilize radioactive gas, and a processing device main body 60 configured to immobilize radioactive gas, and a processing device main body 60 for shielding radioactivity from the processing device main body 60. Mainly composed of a shielding container 70 that is open upward and houses the container body 60 therein, and a shielding lid 80 that closes and shields the upper opening end of the shielding container 70 that houses the processing device body 60 therein. has been done.

【0023】また、前記遮蔽容器70は、その高さが処
理装置本体60の高さよりも十分に高くなるよう構成さ
れているとともに、この開口端面には、処理装置本体6
0から延びる複数の配管・配線61を遮蔽容器70の外
部へ引き出すための複数の貫通溝90が放射状に設けら
れている。
Further, the shielding container 70 is constructed such that its height is sufficiently higher than the height of the processing apparatus main body 60, and the opening end surface thereof has a height that is sufficiently higher than that of the processing apparatus main body 60.
A plurality of through grooves 90 are provided radially for drawing out a plurality of pipes/wirings 61 extending from the shielding container 70 to the outside of the shielding container 70.

【0024】これにより、遮蔽容器70の開口端面に設
けられた貫通溝90が処理装置本体60から発生する放
射線の直進方向に対して傾斜するようになして、この貫
通溝90からの放射能の漏洩を防止するとともに、処理
装置本体60を遮蔽容器70から取出す際に遮蔽容器7
0と処理装置本体60とを容易に分離することができる
ようなされている。
As a result, the through groove 90 provided in the opening end surface of the shielding container 70 is inclined with respect to the straight direction of radiation generated from the processing device main body 60, and the radioactivity from the through groove 90 is prevented. In addition to preventing leakage, when taking out the processing device main body 60 from the shielding container 70,
0 and the processing device main body 60 can be easily separated.

【0025】前記処理装置本体60は、図6に示す従来
の放射性ガス固定化処理装置とほぼ同様に構成されてい
るが、遮蔽容器70内へ円滑に装荷できるようにするた
めに、吸気管7、水冷管12、スパッタ電源10及びイ
オン注入電源11用のケーブル等の配管・配線61が上
方に立上がった状態に構成されている。また、処理装置
本体60を吊り上げるための吊り具62が備えられてい
るとともに、処理装置本体60を遮蔽容器70内へ円滑
に装荷するための案内としての役割を果たすガイドプレ
ート63が取付けられている。
The processing apparatus main body 60 is constructed almost in the same way as the conventional radioactive gas immobilization processing apparatus shown in FIG. , water-cooled pipe 12, and piping/wiring 61 such as cables for sputtering power source 10 and ion implantation power source 11 are configured to stand upward. Further, a lifting tool 62 for lifting the processing apparatus main body 60 is provided, and a guide plate 63 is attached that serves as a guide for smoothly loading the processing apparatus main body 60 into the shielding container 70. .

【0026】前記遮蔽容器70は、処理装置本体60か
らの放射線を防護するため、外表面がステンレス鋼で包
囲された鉛で構成されている。遮蔽容器70の内側には
、処理装置本体60を円滑に出入れするため前記ガイド
プレート63により案内されるガイド棒71が取付けら
れているとともに、遮蔽容器70の外側には、運搬用の
吊り耳72が取付けられ、下端において基礎ボルト73
を介して基礎に固定されている。
The shielding container 70 is made of lead whose outer surface is surrounded by stainless steel to protect it from radiation from the processing apparatus main body 60. A guide rod 71 guided by the guide plate 63 is attached to the inside of the shielding container 70 in order to smoothly move the processing device main body 60 in and out, and a hanging ear for transportation is attached to the outside of the shielding container 70. 72 is installed and at the lower end the foundation bolt 73
is fixed to the foundation via.

【0027】遮蔽容器70の上方開口端面には、上述の
ようの放射状に延びる貫通溝90が切ってあり、処理装
置本体60からの配管・配線61は、この貫通溝90を
通って外部に延出して外部の配管・配線と管継手64等
を介して接続されるのであるが、図2及び図3に示すよ
うに、この貫通溝90と配管・配線61との間隙部には
、鉛毛91が詰込まれている。
A radially extending through groove 90 as described above is cut in the upper opening end surface of the shielding container 70, and the piping/wiring 61 from the processing apparatus main body 60 extends to the outside through this through groove 90. It is connected to external piping and wiring via a pipe joint 64, etc., but as shown in FIGS. 91 is packed.

【0028】前記遮蔽蓋80の上面には、図1及び図4
に示すように、据付用の吊り耳81が取付けられている
。また、遮蔽蓋80は、遮蔽容器70の上方開口端にボ
ルト82で固定されている。ここに、遮蔽蓋80と遮蔽
容器70の芯を合わせるため、遮蔽蓋80には、遮蔽容
器70からのガイド棒71が貫通するガイド穴83が穿
設されている。
1 and 4 on the upper surface of the shielding lid 80.
As shown in the figure, hanging ears 81 for installation are attached. Further, the shielding lid 80 is fixed to the upper open end of the shielding container 70 with bolts 82. Here, in order to align the shielding lid 80 and the shielding container 70, the shielding lid 80 is provided with a guide hole 83 through which the guide rod 71 from the shielding container 70 passes.

【0029】なお、処理装置本体60からの放射線の漏
れ、即ちストリーミングを防止するために、上記実施例
においては、放射状の貫通溝90を設けた例を示してい
るが、図5に示すように、遮蔽容器70の上方開口端面
に鉤形に直角に屈折した貫通溝90aを設けるようにす
ることもできる。
In order to prevent leakage of radiation from the processing device main body 60, that is, streaming, the above embodiment shows an example in which radial through grooves 90 are provided, but as shown in FIG. Alternatively, a penetrating groove 90a bent at right angles in a hook shape may be provided on the upper opening end surface of the shielding container 70.

【0030】次に、高放射線源となった前記処理装置本
体60の遠隔取扱いについて説明する。
Next, remote handling of the processing apparatus main body 60, which has become a high radiation source, will be explained.

【0031】処理装置本体60が高放射線源となっても
、処理装置本体60の全外周は、遮蔽容器70及び遮蔽
蓋80からなる遮蔽体で包囲されているので、放射線の
外部への漏れは極めて少ない。しかも、処理装置本体6
0からの配管・配線61が遮蔽容器70の上端開口面、
即ち処理装置本体60の中心から外れて貫通溝90を通
って外部に貫通しており、更に貫通溝90と配管・配線
61との間には、鉛毛91が詰込まれているので、この
貫通溝90を通しての放射線の漏れも極めて少ない。
Even if the processing device main body 60 becomes a high radiation source, the entire outer periphery of the processing device main body 60 is surrounded by a shielding body consisting of a shielding container 70 and a shielding lid 80, so that radiation will not leak to the outside. Very few. Moreover, the processing device main body 6
The piping/wiring 61 from 0 is the upper end opening surface of the shielding container 70,
That is, it deviates from the center of the processing device main body 60 and penetrates to the outside through a through groove 90, and furthermore, lead hair 91 is packed between the through groove 90 and the piping/wiring 61, so that this Radiation leakage through the through groove 90 is also extremely small.

【0032】そこで、処理装置本体60の遮蔽容器70
からの取出しは、下記のようにして行う。
Therefore, the shielding container 70 of the processing apparatus main body 60
Removal is performed as follows.

【0033】先ず、処理装置本体60が遮蔽体(遮蔽容
器70及び遮蔽蓋80)内に収納されている時は、遮蔽
体の外部に漏れる放射線量が極めて低いので、作業者は
遮蔽体に接近することができる。そこで、遮蔽容器70
から外部に出ている配管・配線61を外部の配管・配線
から管継手64を取外すこと等によって分離し、更に遮
蔽蓋80を固定しているボルト82を取外す。
First, when the processing device main body 60 is housed in the shielding body (the shielding container 70 and the shielding lid 80), the amount of radiation leaking to the outside of the shielding body is extremely low, so the operator should not approach the shielding body. can do. Therefore, the shielding container 70
The piping/wiring 61 coming out to the outside is separated from the external piping/wiring by removing the pipe joint 64, and further, the bolts 82 fixing the shielding lid 80 are removed.

【0034】次に、天井クレーンにより遠隔操作にて遮
蔽蓋80をこの吊り耳81を介して持上げ、更に処理装
置本体60をこの吊り具62を介して持上げることによ
り、処理装置本体60を遮蔽容器70より分離すること
ができる。
Next, the shielding lid 80 is lifted via the hanging ears 81 by remote control using an overhead crane, and the processing apparatus main body 60 is further lifted via the lifting tool 62, thereby shielding the processing apparatus main body 60. It can be separated from the container 70.

【0035】ここに、処理装置本体60に配管・配線6
1が接続されていても、この配管・配線61は遮蔽容器
70の開口端面に設けられた貫通溝90内に挿入されて
いるので、配管・配線61を上方に持上げることにより
、この配管・配線61を容易に遮蔽容器70から分離す
ることができる。そして、遮蔽容器70より取外した処
理装置本体60を天井クレーンで貯蔵庫まで運搬するの
である。
Here, piping/wiring 6 is connected to the processing device main body 60.
1 is connected, this piping/wiring 61 is inserted into the through groove 90 provided on the open end surface of the shielding container 70, so by lifting the piping/wiring 61 upward, this piping/wiring 61 can be removed. The wiring 61 can be easily separated from the shielding container 70. Then, the processing apparatus main body 60 removed from the shielding container 70 is transported to the storage by an overhead crane.

【0036】即ち、高放射線源となった処理装置本体6
0を遮蔽容器70内に収納するとともに遮蔽蓋80を被
せてこの開口部を閉塞させ、更に処理装置本体60から
の配管・配線61を遮蔽容器70の上方開口端面に設け
た貫通溝90内を通すことにより、処理装置本体60か
ら直進する放射線を防止し、しかも処理装置本体60か
らの配管・配線61を貫通溝90内を経由させることに
より、この配管・配線61を遮蔽容器70に着脱自在に
取付けることができる。これによって、処理装置本体6
0が高放射線源となっていても、作業員は容易に遮蔽容
器70に接近し、且つ処理装置本体60からの配管・配
線61を遮蔽容器70から容易に取出すことができるの
で、処理装置本体60を遮蔽容器70から容易に分離さ
せて、処理装置本体60単独で保管することができる。
In other words, the processing device main body 6 has become a high radiation source.
0 in the shielding container 70 and covering the opening with the shielding lid 80, and furthermore, the piping/wiring 61 from the processing apparatus main body 60 is inserted into the through groove 90 provided on the upper opening end surface of the shielding container 70. This prevents radiation from going straight from the processing equipment main body 60, and by passing the piping/wiring 61 from the processing equipment main body 60 through the through groove 90, the piping/wiring 61 can be freely attached to and detached from the shielding container 70. Can be installed on. As a result, the processing device main body 6
0 is a high radiation source, the worker can easily approach the shielding container 70 and easily take out the piping/wiring 61 from the processing equipment main body 60 from the shielding container 70. 60 can be easily separated from the shielding container 70 and the processing apparatus main body 60 can be stored alone.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
放射性ガスの固定化処理後における固定化容器を容易に
取り扱うことができるとともに、固定化処理操作時には
イオン注入電極を、貯蔵保管時には崩壊熱を効率よく除
熱でき、安全かつ経済的で信頼性の高い放射性ガス固定
化処理装置となすことができる。しかも、高放射線源と
なった処理装置本体を、遮蔽容器、遮蔽蓋、貫通溝を使
用することにより、安全且つ容易に遮蔽容器から分離で
きるので、処理装置本体を単独で貯蔵でき、且つ処理装
置本体の保守点検を容易に行うことができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
The immobilization container after immobilization of radioactive gas can be easily handled, and the ion implantation electrode can be removed during immobilization treatment, and the decay heat can be efficiently removed during storage, making it safe, economical, and reliable. It can be made into a highly radioactive gas fixation processing device. Moreover, by using the shielding container, the shielding lid, and the through groove, the processing equipment main body, which has become a high radiation source, can be safely and easily separated from the shielding container, so the processing equipment main body can be stored independently, and the processing equipment Maintenance and inspection of the main body can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明一実施例を示す放射性ガス固定化処理装
置の全体縦断正面図。
FIG. 1 is an overall longitudinal sectional front view of a radioactive gas fixation processing apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】貫通溝を上方から見た遮蔽蓋を取除いた状態の
平面図。
FIG. 2 is a plan view of the through groove viewed from above with the shielding lid removed.

【図3】貫通溝を正面から見た正面図の要部。FIG. 3 is a main part of a front view of the through groove viewed from the front.

【図4】図1の平面図。FIG. 4 is a plan view of FIG. 1.

【図5】貫通溝の他の例を示す遮蔽容器の平面図。FIG. 5 is a plan view of a shielding container showing another example of a through groove.

【図6】従来例の放射性ガス固定化処理装置の縦断正面
図。
FIG. 6 is a longitudinal sectional front view of a conventional radioactive gas fixation processing apparatus.

【図7】放射性ガス固定化処理装置の作用の説明に付す
る横断面図。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating the operation of the radioactive gas fixation processing device.

【図8】放射性ガス固定化処理装置の作用の説明に付す
る横断面図。
FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating the operation of the radioactive gas fixation processing device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  固定化容器 2  イオン注入電極 4  陽極底 9  スパッタ電極 14  ガスイオン 15  スパッタ金属 16  金属累積層 50  放射性ガス固定化処理装置 60  処理装置本体 61  配管・配線 70  遮蔽容器(遮蔽体) 80  遮蔽蓋(遮蔽体) 90,90a  貫通溝 91  鉛毛 1 Immobilization container 2 Ion implantation electrode 4 Anode bottom 9 Sputter electrode 14 Gas ions 15 Sputtered metal 16 Metal cumulative layer 50 Radioactive gas fixation processing equipment 60 Processing equipment main body 61 Piping/wiring 70 Shielding container (shielding body) 80 Shielding lid (shielding body) 90, 90a Penetration groove 91 Lead hair

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】密閉構造の固定化容器内に放射性ガスを導
入し、前記固定化容器内に設けられたイオン注入電極及
びスパッタ電極に高電圧を印加してグロー放電を発生さ
せ、前記放射性ガスをグロー放電によりイオン化して該
ガスイオンを前記イオン注入電極の表面に形成されたス
パッタ金属の金属累積層中に注入固定化するようにした
放射性ガス固定化処理装置において、この処理装置本体
を上方に開口した放射線を遮蔽する遮蔽容器内に配置す
るとともに、この遮蔽容器の開口端面に前記処理装置本
体からの配管・配線を通過させる貫通溝を該処理装置本
体から発生する放射線の直進方向に対して傾斜させて形
成し、前記遮蔽容器の開口端部に遮蔽蓋を被せて前記処
理装置本体の全周囲を遮蔽体で覆ったことを特徴とする
放射性ガス固定化処置装置。
1. A radioactive gas is introduced into an immobilization container having a sealed structure, and a high voltage is applied to an ion implantation electrode and a sputtering electrode provided in the immobilization container to generate a glow discharge. In a radioactive gas immobilization processing apparatus, the gas ions are ionized by glow discharge and injected and fixed into a metal cumulative layer of sputtered metal formed on the surface of the ion implantation electrode. The opening is placed in a shielding container that shields radiation, and a through groove is provided in the open end surface of the shielding container through which piping and wiring from the processing device main body passes, in a direction in which the radiation generated from the processing device main body travels straight. 1. A radioactive gas fixation treatment device, characterized in that the treatment device body is formed to be tilted, and a shielding lid is placed over the open end of the shielding container to cover the entire periphery of the processing device body with a shielding body.
JP1217591A 1991-02-01 1991-02-01 Fixation treatment device of radioactive gas Pending JPH04248500A (en)

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