JPH04241298A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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Publication number
JPH04241298A
JPH04241298A JP3013999A JP1399991A JPH04241298A JP H04241298 A JPH04241298 A JP H04241298A JP 3013999 A JP3013999 A JP 3013999A JP 1399991 A JP1399991 A JP 1399991A JP H04241298 A JPH04241298 A JP H04241298A
Authority
JP
Japan
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memory
decoder
memory cell
power supply
bit line
Prior art date
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Pending
Application number
JP3013999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Yamashita
山下 正之
Osamu Ueda
修 上田
Shinichi Mori
森 真一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH04241298A publication Critical patent/JPH04241298A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the memory suitable for a high integration by preventing lowering in the continuity current of a memory cell caused by the large capacitance of semiconductor memory. CONSTITUTION:By providing a boosting circuit 9, a power source voltage is boosted, and a voltage having a higher level than the power source voltage is generated. Then, the higher voltage is supplied to a X decoder 3 and a Y decoder 7, making output from the X decoder and the Y decoder higher than the power source potential.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置、特にマ
スクROM型の半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, particularly a mask ROM type semiconductor memory device.

【0002】0002

【従来の技術】マスクROMはデータメモリとして、さ
らに近年は漢字フォント用として使用されており、常に
大容量化が要求されてきた。このためメモリセル構成に
も種々の工夫がなされてきた。例えば従来はNOR型と
いうビット線と接地電位間にメモリセルを並列に配置し
た構成のものが一般的であったが、最近はNAND型と
いうビット線と接地電位間に複数個のメモリセルを直列
に配置した構成を有するものが使用されてきている。
2. Description of the Related Art Mask ROMs have been used as data memories and, more recently, as kanji fonts, and have always been required to have a large capacity. For this reason, various improvements have been made to the memory cell configuration. For example, in the past, it was common to have a configuration in which memory cells were arranged in parallel between a bit line and a ground potential called a NOR type, but recently, a configuration called a NAND type where multiple memory cells were arranged in series between a bit line and a ground potential has become common. A device having a configuration arranged in the following has been used.

【0003】図3はこのNAND型メモリセルを使用し
たマスクROMのメモリ周辺のブロック図であり、図に
おいて、1はワード線を選択するため外部より入力され
るX方向のアドレス信号(Xアドレス信号)、2はXア
ドレス信号1に対し設けられた入力回路、3は設定され
たXアドレス信号により対応する一つのワード線を選択
するためのXデコーダ回路、4はNAND型メモリセル
をマトリックス状に配置したメモリセルアレイ、5はビ
ット線を選択するため外部より入力されるY方向のアド
レス信号(Yアドレス信号)、6はYアドレス信号5に
対し設けられた入力回路、7は設定されたYアドレス信
号に対応する1つのビット線を選択するためのYデコー
ダ回路、8は上記Yアドレス信号5に基づいて選択され
たビット線を読み出し可能とするためのセレクトゲート
である。動作説明の前に理解を容易にするために、ここ
でNAND型メモリの構成について説明する。
FIG. 3 is a block diagram of the memory periphery of a mask ROM using this NAND type memory cell. In the figure, 1 indicates an address signal in the X direction (X address signal ), 2 is an input circuit provided for the X address signal 1, 3 is an X decoder circuit for selecting one word line corresponding to the set X address signal, and 4 is a NAND type memory cell arranged in a matrix. The arranged memory cell array, 5 is a Y-direction address signal (Y address signal) input from the outside to select a bit line, 6 is an input circuit provided for the Y address signal 5, 7 is a set Y address A Y decoder circuit 8 is for selecting one bit line corresponding to a signal, and a select gate 8 is for making the bit line selected based on the Y address signal 5 readable. Before explaining the operation, the configuration of the NAND memory will be explained here to facilitate understanding.

【0004】図2は1つのNAND型メモリを示してお
り、図において、10はビット線であり図示しない読出
し回路に接続されている。11はセレクトゲート、12
はYデコーダ7の出力信号であり、これにより選択され
たビット線のセレクトゲート11のみが導通しビット線
が選択される。13,15,17はそれぞれメモリセル
を構成するメモリトランジスタであり、通常そのしきい
値が記憶情報に合わせて設定されている。また各メモリ
トランジスタ13,15,17は図示するように1つの
ビット線10内で直列接続されている。これがNAND
型とよばれる所以である。各ワード線14,16,18
にはそれぞれワード線選択信号が入力されており、直列
接続されたメモリセルのうちの一つを選択するように動
作する。19は1つのNAND型メモリセル構成部分を
示す。
FIG. 2 shows one NAND type memory, and in the figure, 10 is a bit line connected to a read circuit (not shown). 11 is the select gate, 12
is the output signal of the Y decoder 7, which makes only the select gate 11 of the selected bit line conductive and selects the bit line. Reference numerals 13, 15, and 17 each represent a memory transistor constituting a memory cell, and the threshold value thereof is usually set in accordance with the stored information. Further, each memory transistor 13, 15, 17 is connected in series within one bit line 10 as shown. This is NAND
This is why it is called a kata. Each word line 14, 16, 18
A word line selection signal is input to each of the memory cells, and the memory cells operate to select one of the memory cells connected in series. Reference numeral 19 indicates one NAND type memory cell component.

【0005】次に動作を図2,図3に従って説明する。 まず読み出し可能状態において、Xアドレス1及びYア
ドレス5が外部より入力される。すると入力回路2及び
6において内部アドレス信号が生成され、これがXデコ
ーダ3及びYデコーダ7に入力され、Xデコーダ3によ
り複数のワード線の内一つのワード線が選択され、また
Yデコーダ7により複数のビット線の内一つのビット線
を選択するための選択信号が生成されセレクトゲート8
に入力される。
Next, the operation will be explained with reference to FIGS. 2 and 3. First, in a readable state, X address 1 and Y address 5 are input from the outside. Then, internal address signals are generated in input circuits 2 and 6, which are input to X decoder 3 and Y decoder 7. X decoder 3 selects one word line from a plurality of word lines, and Y decoder 7 A selection signal for selecting one of the bit lines is generated and the select gate 8
is input.

【0006】以上によりメモリセルアレイ4上の所定の
一つのメモリセルが選択されるわけであるが、これを図
2を用いてさらに詳しく説明すると、ワード線選択によ
り、例えばワード線( I )  14のみが“L”レ
ベルとなり、他のワード線16,18は“H”レベル(
印加電源電圧と同レベル)となる。なおNAND型メモ
リは情報“0”を記憶する場合はそのメモリセルのしき
い値をエンハンスメント型(Vth>0)とし、情報“
1”を記憶する場合はそのメモリのしきい値をデプレッ
ション型(Vth<0)となるように設定されているの
で、上記のようにワード線電位が“L”レベルとなるこ
とにより選択されることになる。また、ビット線選択信
号12が“H”レベル(印加電源電圧と同レベル)とな
り、セレクトゲート11が導通する。よってメモリセル
13のVthが正の場合はメモリセル13は非導通、ま
たVthが負の場合は導通となる。NAND構成をなす
他のメモリセルはそのゲート信号が“H”レベルである
ので、それぞれのメモリセルのVthの正/負にかかわ
らず導通となる。よってメモリセル13の記憶情報によ
って、ビット線10に電流の発生の有/無が生じ、本ビ
ット線10がセレクトゲート11の導通により図示しな
い読出し用回路と電気的に接続されることにより、メモ
リセル13の記憶情報が外部に出力される。
As described above, one predetermined memory cell on the memory cell array 4 is selected. To explain this in more detail with reference to FIG. 2, by word line selection, for example, only the word line (I) 14 is selected. becomes "L" level, and the other word lines 16 and 18 become "H" level (
(same level as the applied power supply voltage). Note that when storing information “0” in NAND type memory, the threshold value of the memory cell is set to an enhancement type (Vth>0), and information “0” is stored in the NAND type memory.
1", the threshold value of the memory is set to be a depression type (Vth<0), so the word line potential is selected when it goes to "L" level as described above. In addition, the bit line selection signal 12 becomes "H" level (same level as the applied power supply voltage), and the select gate 11 becomes conductive.Therefore, if the Vth of the memory cell 13 is positive, the memory cell 13 becomes non-conductive. , and when Vth is negative, it becomes conductive.Since the gate signals of the other memory cells forming the NAND configuration are at the "H" level, they become conductive regardless of whether Vth of each memory cell is positive or negative. Therefore, depending on the information stored in the memory cell 13, whether or not a current is generated in the bit line 10 is generated, and the bit line 10 is electrically connected to a readout circuit (not shown) by conduction of the select gate 11, so that the memory The information stored in the cell 13 is output to the outside.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体記憶装置
(マスクROM)は以上のように構成されているので、
特にNAND型マスクROMの場合、メモリトランジス
タが直列に接続されているため直列抵抗が大きくメモリ
セル導通時の導通電流が小さくなり、特にNANDの段
数を増やし高集積化を目指すとさらに小さくなり、導通
電流が小さくなると、動作が安定しない、動作スピード
が遅くなる等の問題があった。
[Problem to be Solved by the Invention] Since the conventional semiconductor memory device (mask ROM) is configured as described above,
In particular, in the case of a NAND mask ROM, the memory transistors are connected in series, so the series resistance is large and the conduction current when the memory cell is conductive is small.In particular, as the number of NAND stages is increased and higher integration is aimed at, the conduction current becomes even smaller and the conduction current becomes smaller. When the current becomes small, there are problems such as unstable operation and slow operation speed.

【0008】本発明は上記のような問題点を解消するた
めになされたもので、メモリセルのNAND段数が増加
しても安定動作可能で動作スピードの速いマスクROM
を得ることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and provides a mask ROM that can operate stably even when the number of NAND stages of memory cells increases and that operates at high speed.
The purpose is to obtain.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体記憶
装置は、同一基板上に、外部より供給される電源電圧の
レベルより高い内部電源レベルを生成する昇圧回路を設
け、該昇圧回路出力をである高電圧をメモリセルのビッ
ト線及びワード線選択用信号レベルとして用いるように
したものである。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device according to the present invention includes a booster circuit that generates an internal power supply level higher than the level of an externally supplied power supply voltage on the same substrate, and outputs the output of the booster circuit. This high voltage is used as the signal level for selecting the bit line and word line of the memory cell.

【0010】0010

【作用】この発明においては、同一基板上に昇圧回路を
設け、該昇圧回路により外部より供給される電源電圧の
レベルより高い内部電源レベルを生成し、この高電圧を
メモリセルのビット線及びワード線選択用信号レベルと
して用いるようにしたから、メモリセルの導通時の電流
を増加させることができる。
[Operation] In this invention, a booster circuit is provided on the same substrate, the booster circuit generates an internal power supply level higher than the level of the power supply voltage supplied from the outside, and this high voltage is applied to the bit line and word line of the memory cell. Since it is used as a line selection signal level, the current when the memory cell is turned on can be increased.

【0011】[0011]

【実施例】図1は本発明の一実施例によるマスクROM
のNAND型メモリ周辺のブロック図であり、図3と同
一符号は同一または相当部分を示し、9は昇圧回路であ
り、読み出し制御信号を受け外部より印加される電源電
圧を昇圧し、その高電圧を内部電源としてXデコーダ3
及びYデコーダ7の出力部に用いられる。なお、NAN
D型メモリセル構成部分については従来例で記載したと
おりである。
[Embodiment] FIG. 1 shows a mask ROM according to an embodiment of the present invention.
3 is a block diagram of the surroundings of a NAND type memory, in which the same reference numerals as in FIG. X decoder 3 with internal power supply
and is used for the output section of the Y decoder 7. In addition, NAN
The constituent parts of the D-type memory cell are as described in the conventional example.

【0012】次に動作について図1,図2を用いて説明
する。まず読み出し可能状態において、読み出し制御信
号を受け昇圧回路9が動作状態となり、外部印加の電源
電圧より高電圧の内部電源を生成し、この内部電源がX
デコーダ3及びYデコーダ7の出力回路部の電源として
供給される。
Next, the operation will be explained using FIGS. 1 and 2. First, in the read-enabled state, the booster circuit 9 enters the operating state upon receiving the read control signal, generates an internal power supply with a higher voltage than the externally applied power supply voltage, and this internal power supply
It is supplied as power to the output circuit sections of the decoder 3 and Y decoder 7.

【0013】次にXアドレス1及びYアドレス5が外部
より入力される。すると入力回路2及び6において内部
アドレス信号が生成され、これがXデコーダ3及びYデ
コーダ7に入力され、Xデコーダ3により複数のワード
線の内一つのワード線が選択され、Yデコーダ7により
一つのビット線を選択するための選択信号が生成されセ
レクトゲート8に入力される。以上によりメモリセルア
レイ4上の所定の一つのメモリセルが選択されるわけで
あるが、引き続き図2を用いて上記動作を詳しく説明す
ると、一つのワード線選択により、例えばワード線(I
)14のみが“L”レベルとなり、他のワード線16,
18は昇圧回路9により印加電源電圧を昇圧したできた
内部電源と同レベルの“H”レベルとなる。またビット
線選択信号12も昇圧回路9により印加電源電圧を昇圧
してできた内部電源と同レベルの“H”レベルとなり、
セレクトゲート11が従来と比べて十分に低い導通抵抗
の下で導通する。よってメモリセル13のVthが正の
場合はメモリセル13は非導通に、またVthが負の場
合は導通となる。NAND構成をなす他のメモリセル1
5,17はそのゲート信号が昇圧された“H”レベルで
あるので、Vthの正/負にかかわらず従来例と比べて
十分に低い導通抵抗の下で導通している。よってメモリ
セル13の記憶情報によって、ビット線に電流の発生の
有/無が生じ、本ビット線がセレクトゲート11の導通
により図示しない読出し用回路と電気的に接続されるこ
とにより、メモリセル13の記憶情報が外部へ出力され
る。
Next, X address 1 and Y address 5 are input from the outside. Then, internal address signals are generated in input circuits 2 and 6, which are input to X decoder 3 and Y decoder 7. A selection signal for selecting a bit line is generated and input to the select gate 8. As described above, one predetermined memory cell on the memory cell array 4 is selected.Continuing to explain the above operation in detail with reference to FIG.
) 14 becomes “L” level, and the other word lines 16,
18 becomes the "H" level, which is the same level as the internal power supply generated by boosting the applied power supply voltage by the booster circuit 9. Further, the bit line selection signal 12 also becomes the "H" level, which is the same level as the internal power supply generated by boosting the applied power supply voltage by the booster circuit 9.
The select gate 11 conducts with a conduction resistance that is sufficiently lower than that in the conventional case. Therefore, when the Vth of the memory cell 13 is positive, the memory cell 13 becomes non-conductive, and when Vth is negative, the memory cell 13 becomes conductive. Other memory cells 1 forming a NAND configuration
Since the gate signals of transistors 5 and 17 are boosted to the "H" level, they are conductive under sufficiently lower conduction resistance than the conventional example, regardless of whether Vth is positive or negative. Therefore, depending on the information stored in the memory cell 13, whether or not a current is generated in the bit line is generated, and this bit line is electrically connected to a reading circuit (not shown) by conduction of the select gate 11, so that the memory cell 13 The stored information is output to the outside.

【0014】なお、上記のとおりメモリセル13が導通
時にビット線10に生じる導通電流は、セレクトゲート
11、及び他のNAND型メモルセル15,17の導通
抵抗が低下するため従来例に比べかなり大きくなる。
[0014] As mentioned above, the conduction current generated in the bit line 10 when the memory cell 13 is conductive is considerably larger than that in the conventional example because the conduction resistance of the select gate 11 and other NAND memory cells 15 and 17 is reduced. .

【0015】このように本実施例によれば、昇圧回路9
を設け、読出し制御信号により電源電圧を昇圧して内部
電源を生成し、これをXデコーダ3及びYデコーダ7の
出力部に供給するようにしたから、メモリセルが直列に
複数個接続されたNAND型メモリ19の導通時の電流
を増加させることができ、その結果、デバイスが大容量
化されて接続されるNAND段数(NANDメモリセル
を構成するメモリトランジスタの段数)が増大しても導
通電流が減少することがなく、安定動作が可能で動作ス
ピードの速いマスクROMを得ることができる。
As described above, according to this embodiment, the booster circuit 9
, the power supply voltage is boosted by the read control signal to generate an internal power supply, and this is supplied to the output parts of the X decoder 3 and Y decoder 7. It is possible to increase the current when the type memory 19 is conductive, and as a result, even if the device has a large capacity and the number of connected NAND stages (the number of memory transistor stages forming a NAND memory cell) increases, the conduction current can be increased. It is possible to obtain a mask ROM that does not decrease, is capable of stable operation, and has high operating speed.

【0016】なお上記実施例ではNAND型のマスクR
OMについて説明したが、NOR型のマスクROMでも
大容量化により導通電流が小さくなる場合には、同様の
効果を期待することができる。
In the above embodiment, the NAND type mask R
Although the OM has been described, a similar effect can be expected in a NOR type mask ROM as well, if the conduction current becomes smaller due to an increase in capacity.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上のように本発明に係る半導体記憶装
置によれば、電源電圧を昇圧し電源電圧よりも高電圧を
発生する昇圧回路を設け、該回路出力である高電圧をビ
ット線及びワード線選択用信号として用いるようにした
ので、メモリ導通時の電流を増加することができ、集積
度が増してメモリ段数が増加しても安定動作が可能で動
作スピードが速いマスクROMを得ることができるとい
う効果がある。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, a booster circuit that boosts the power supply voltage and generates a voltage higher than the power supply voltage is provided, and the high voltage that is the output of the circuit is connected to the bit line and Since it is used as a word line selection signal, it is possible to increase the current when the memory is conducting, and to obtain a mask ROM that can operate stably and has a high operating speed even when the degree of integration increases and the number of memory stages increases. It has the effect of being able to

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例によるマスクROMのNAN
D型メモリ周辺部分のブロック図である。
FIG. 1: NAN of a mask ROM according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram of a peripheral portion of a D-type memory.

【図2】本発明及び従来例によるマスクROMのNAN
D型メモリ構造及び動作を説明するための図である。
FIG. 2 NAN of mask ROM according to the present invention and conventional example
FIG. 2 is a diagram for explaining the structure and operation of a D-type memory.

【図3】従来のマスクROMのNAND型メモリ周辺部
分のブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a peripheral portion of a NAND type memory of a conventional mask ROM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  Xアドレス信号 2  入力回路 3  Xデコーダ 4  メモリセルアレイ 5  Yアドレス信号 6  入力回路 7  Yデコーダ 8  セレクトゲート 9  昇圧回路 1 X address signal 2 Input circuit 3.X decoder 4 Memory cell array 5 Y address signal 6 Input circuit 7 Y decoder 8 Select gate 9 Boost circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  半導体基板上に一定間隔をおいて形成
されたMOSトランジスタを複数個直列あるいは並列に
接続したメモリ構成を有し、該メモリのビット線及びワ
ード線を選択する選択回路を有する半導体記憶装置にお
いて、電源電圧を昇圧し、該昇圧した回路出力を上記ビ
ット線及びワード線選択回路に供給し、これら選択回路
出力を電源電位よりも高いレベルとする昇圧回路を備え
たことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor having a memory configuration in which a plurality of MOS transistors formed at regular intervals on a semiconductor substrate are connected in series or in parallel, and having a selection circuit for selecting bit lines and word lines of the memory. The storage device is characterized by comprising a booster circuit that boosts the power supply voltage, supplies the boosted circuit output to the bit line and word line selection circuits, and makes these selection circuit outputs at a level higher than the power supply potential. semiconductor storage device.
JP3013999A 1991-01-11 1991-01-11 Semiconductor memory Pending JPH04241298A (en)

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