JPH04237485A - Regulator for jetting speed of jetter for treating cell - Google Patents

Regulator for jetting speed of jetter for treating cell

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JPH04237485A
JPH04237485A JP3075538A JP7553891A JPH04237485A JP H04237485 A JPH04237485 A JP H04237485A JP 3075538 A JP3075538 A JP 3075538A JP 7553891 A JP7553891 A JP 7553891A JP H04237485 A JPH04237485 A JP H04237485A
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JP
Japan
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piston
gas
cylinder
cell processing
speed
Prior art date
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Pending
Application number
JP3075538A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Igari
實 猪狩
Minoru Takahashi
稔 高橋
Ichiro Takakura
高倉 一郎
Naohiko Takahashi
直彦 高橋
Masahiko Kitayama
雅彦 北山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable regulation of the jetting speed. CONSTITUTION:A tank 35 capable of regulating the volume is provided between a gas producing part 21 and a piston 23. Thereby, since a gas from the gas producing part 21 enters the tank 35, the pressure at the back of the piston 23 is regulated according to the volume of the tank 35. As a result, the speed of the piston 23, i.e., the jetting speed of a cell treating material 24 is regulated.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、細胞に形質転換を起こ
させるために用いられる細胞処理用噴射装置において、
噴射速度を調節するために使用される噴射速度調節装置
に関する。細胞処理用噴射装置は、例えば、遺伝物質を
付着させた金属微粒粉等の細胞処理材を高速で噴射し、
細胞を含む試料に当てて遺伝物質を細胞内に注入したり
、細胞に細胞を高速噴射して細胞融合を起こさせたりす
る用途に利用されるものである。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a cell processing injection device used for causing transformation in cells.
The present invention relates to an injection rate adjustment device used for adjusting injection rate. For example, a cell processing injection device sprays a cell processing material such as fine metal powder attached with genetic material at high speed,
It is used to inject genetic material into cells by applying it to a sample containing cells, or to cause cell fusion by injecting cells at high speed.

【0002】0002

【従来の技術】細胞処理用噴射装置は、火薬、圧縮空気
等を用いて細胞処理材を付着させたプラスチック製ピス
トンを高速に加速し、小孔を有する板等に衝突させ、細
胞処理材を噴射するするようにしたものである。
[Prior Art] A cell processing injection device uses gunpowder, compressed air, or the like to accelerate a plastic piston to which a cell processing material is attached at high speed, and causes it to collide with a plate or the like having small holes to release the cell processing material. It is designed to be sprayed.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】この装置では、ピスト
ンすなわち細胞処理材の速度を調節する適当な手段がな
く、火薬を用いる装置において、火薬の量を変化させる
方法、高圧ガスを用いる装置において、ガス圧を調節す
る方法程度しかない。したがって、速度調節は困難であ
り、しかも調節範囲は狭いという欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] This device does not have an appropriate means for adjusting the speed of the piston or cell processing material, and there is no method for changing the amount of gunpowder in devices using explosives, or in devices using high pressure gas. There is only a way to adjust the gas pressure. Therefore, speed adjustment is difficult and the adjustment range is narrow.

【0004】そこで、本発明は、容易にかつ広範囲の速
度調節のできる調節装置を得ることを目的とするもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide an adjusting device that can easily adjust speed over a wide range.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、高圧ガスを瞬
時に発生させるガス発生部と、このガス発生部に連なり
、先端に細胞処理材が付着させられたピストンを収納し
、ガスによりこのピストンを先端方向へ進行させるシリ
ンダと、小孔を有し、このシリンダの先端又は先端延長
上に設けられ、ピストンを衝突させて細胞処理材を小孔
から試料に噴射させる噴射部とを有する細胞処理用噴射
装置において、ガス発生部とシリンダ中のピストンとの
間に、容積を調節することができ、シリンダへのガスの
流れの一部を受け入れて溜めるタンクを設けてなる細胞
処理用噴射装置の噴射速度調節装置である。
[Means for Solving the Problems] The present invention includes a gas generating section that instantaneously generates high-pressure gas, and a piston that is connected to the gas generating section and has a cell processing material attached to its tip. A cell that has a cylinder that advances the piston toward the tip, and an injection section that has a small hole and is provided on the tip or extension of the tip of the cylinder and that causes the piston to collide and spray the cell treatment material from the small hole onto the sample. An injection device for cell processing, which is provided with a tank between a gas generation part and a piston in a cylinder, the volume of which can be adjusted, and which receives and stores a portion of the gas flowing into the cylinder. This is an injection speed adjustment device.

【0006】さらに本発明の調節装置は、ガス発生部と
ピストンとの間に、ガス溜室と、このガス溜室からピス
トンへのガスの流れに抵抗を加える抵抗体とを有するも
のとしてもよい。
Furthermore, the regulating device of the present invention may include a gas reservoir chamber and a resistor that applies resistance to the flow of gas from the gas reservoir chamber to the piston, between the gas generating section and the piston. .

【0007】[0007]

【実施例】以下、本発明を図示する実施例について具体
的に説明する。
[Embodiments] Hereinafter, embodiments illustrating the present invention will be described in detail.

【0008】図1,2に噴射速度調節装置10を備えた
細胞処理用噴射装置11を示す。この噴射装置11は、
台部12上に着脱自在のケース13を載せ、全体を被う
ことができ、ケース13を被せて吸引口14から真空ポ
ンプ(図示しない)で内部の空気を吸引し、内部全体を
減圧状態にすることができる。
FIGS. 1 and 2 show a cell processing injection device 11 equipped with an injection speed adjustment device 10. As shown in FIG. This injection device 11 is
A removable case 13 is placed on the base 12 to cover the whole body, and the air inside is sucked in from the suction port 14 with a vacuum pump (not shown), and the whole interior is reduced in pressure. can do.

【0009】台部12側部には、支柱15が設けられ、
これにホルダ16が押さえネジ17を操作することによ
り上下位置調節可能となるよう取付けられている。
A column 15 is provided on the side of the platform 12.
A holder 16 is attached to this so that its vertical position can be adjusted by operating a cap screw 17.

【0010】ホルダ16は筒体18を支持し、この筒体
18の上端部内には火薬を内蔵した空砲カートリッジ1
9を装填することができ、筒体18上部にはこの空砲カ
ートリッジ19を装填、点火する点火機構20が設けら
れ、これらの空砲カートリッジ19と点火機構とでガス
発生部21を構成している。なお、この点火機構20の
点火はソレノイドで作動するようにされ、その操作はケ
ース13外から行われる。
The holder 16 supports a cylinder 18, and inside the upper end of the cylinder 18 is a blank cartridge 1 containing gunpowder.
9 can be loaded, and an ignition mechanism 20 for loading and igniting this blank cartridge 19 is provided on the upper part of the cylinder 18, and the blank cartridge 19 and the ignition mechanism constitute a gas generating section 21. Note that the ignition mechanism 20 is ignited by a solenoid, and the operation is performed from outside the case 13.

【0011】筒体18先端にはシリンダ22が着脱自在
にネジ止めされている。このシリンダ22は内部にピス
トン23を収納する。ピストン23は、プラスチック製
であり、後部周囲にリブを突出させてシリンダ22内面
を押してその位置を保持し、先端には凹部が形成され、
ここに細胞処理材24、例えば遺伝物質を付着させたタ
ングステン微粒粉が、水の表面張力により付着させられ
る。
A cylinder 22 is removably screwed to the tip of the cylindrical body 18. This cylinder 22 accommodates a piston 23 inside. The piston 23 is made of plastic, has a rib protruding around its rear part, presses the inner surface of the cylinder 22, and maintains its position, and has a recess formed at its tip.
The cell treatment material 24, for example, fine tungsten powder to which genetic material is attached, is attached here by the surface tension of water.

【0012】シリンダ22の先端すなわち下端には、前
部カバー25の根元部がバヨネット式ネジにより着脱自
在に取付けられている。この前部カバー25は、台部1
2上に置かれる試料26を被うとともに、シリンダ22
の前端との間に噴射部27を挟んで保持する。この噴射
部27は小孔28を有し、ピストン23を衝突させ細胞
処理材24を小孔28から噴射させる。
A base portion of a front cover 25 is detachably attached to the tip or lower end of the cylinder 22 with a bayonet screw. This front cover 25 is
2, and covers the sample 26 placed on the cylinder 22.
The injection part 27 is held between the front end of the holder and the front end of the holder. This injection part 27 has a small hole 28 , and the piston 23 collides with the cell treatment material 24 to inject the cell treatment material 24 from the small hole 28 .

【0013】シリンダ22の先端近くには排気孔29,
…、30,…が設けられ、また前部カバー25の根元部
にも排気孔30,…に連通する排気孔31,…が設けら
れている。
Near the tip of the cylinder 22 is an exhaust hole 29,
..., 30, ... are provided, and exhaust holes 31, ... that communicate with the exhaust holes 30, ... are also provided at the base of the front cover 25.

【0014】以上の構成の細胞噴射装置11において、
次の構成の噴射速度調節装置10が設けられている。
In the cell injection device 11 having the above configuration,
An injection speed adjusting device 10 having the following configuration is provided.

【0015】この調節装置10は、主に、流出孔32,
…と調節環33及び可動環34により形成されるタンク
35からなる。流出孔32,…は、筒体18の空砲カー
トリッジ19近くの周面に形成されている。調節環33
は、略逆カップ状であり、内面にネジ溝36を有し、筒
体18とホルダ16との間に形成された周溝37に回動
可能に嵌合する。可動環34は、シリンダ22外周に上
下動可能に嵌合してネジ溝36に螺合し、調節環33の
内部との間にタンク35を形成する。またこの可動環3
4は小ネジ38を有して、それをシリンダ22外周に形
成されたキー溝39に嵌合させて回動不能となり、この
ため調節環33を回動させることにより上下動し、タン
ク35の容積を調節することができる。
[0015] This adjustment device 10 mainly has outflow holes 32,
... and a tank 35 formed by an adjustment ring 33 and a movable ring 34. The outflow holes 32, . . . are formed on the circumferential surface of the cylindrical body 18 near the blank cartridge 19. Adjustment ring 33
has a substantially inverted cup shape, has a threaded groove 36 on its inner surface, and is rotatably fitted into a circumferential groove 37 formed between the cylindrical body 18 and the holder 16. The movable ring 34 fits on the outer periphery of the cylinder 22 so as to be movable up and down, and is screwed into the threaded groove 36 to form a tank 35 between the movable ring 34 and the inside of the adjustment ring 33 . Also, this movable ring 3
4 has a machine screw 38, which is fitted into a key groove 39 formed on the outer periphery of the cylinder 22, so that it cannot be rotated. Therefore, by rotating the adjustment ring 33, it can be moved up and down, and the tank 35 can be moved up and down. Volume can be adjusted.

【0016】さらに、筒体18の先端とシリンダ23と
の間には、抵抗体40がガスの流れを仕切るように設け
られ、筒体18内の空砲カートリッジ19と抵抗体40
の間にガス溜室41が形成されている。この抵抗体40
は、開口部42を有する仕切板よりなり、この開口部4
2の断面積はシリンダ22の断面積より小さくなってい
る。
Furthermore, a resistor 40 is provided between the tip of the cylinder 18 and the cylinder 23 to partition the flow of gas, and the blank cartridge 19 inside the cylinder 18 and the resistor 40
A gas reservoir chamber 41 is formed between them. This resistor 40
consists of a partition plate having an opening 42, and this opening 4
The cross-sectional area of cylinder 22 is smaller than that of cylinder 22.

【0017】この細胞処理用噴射装置11及び噴射速度
調節装置10は以上の構成であり、次のように作動する
The cell processing injection device 11 and the injection speed adjustment device 10 have the above-mentioned configurations and operate as follows.

【0018】初めに、次のようにして準備をする。台部
12上に試料26を置く。シリンダ22に細胞処理材2
4を付着させたピストン23を収納し、抵抗体40を挟
んで筒体17に取付ける。可動環34をネジ込み、小ネ
ジ38を止めて、調節環33を回動させ、タンク35の
容積を適当な大きさに設定する。空砲カートリッジ19
を装填し、ホルダ16を適当な高さに固定する。ケース
13を被せて、ケース13内を減圧する。
First, preparations are made as follows. A sample 26 is placed on the stand 12. Cell processing material 2 in cylinder 22
The piston 23 to which 4 is attached is housed and attached to the cylindrical body 17 with the resistor 40 sandwiched therebetween. The movable ring 34 is screwed in, the machine screw 38 is stopped, and the adjustment ring 33 is rotated to set the volume of the tank 35 to an appropriate size. Blank cartridge 19
and fix the holder 16 at an appropriate height. Cover the case 13 and reduce the pressure inside the case 13.

【0019】次に、点火機構20を作動させる。こうす
ると、空砲カートリッジ19内の火薬から高圧ガスが発
生し、このガスは抵抗体40の開口部42の流動抵抗に
より、ガス溜室41及びタンク35内に充満し、この後
、シリンダ22内に進み、ピストン23を押して高速に
加速し、噴射部27に衝突させる。この衝突により細胞
処理材24は小孔28を通して噴射され、試料26に当
たって、遺伝物質を細胞内に注入する等の細胞処理が実
現される。このとき排気孔29,…、30,…、31,
…からピストン23前方に残留している空気が排出され
る。
Next, the ignition mechanism 20 is activated. As a result, high-pressure gas is generated from the gunpowder in the blank cartridge 19, and this gas fills the gas reservoir chamber 41 and tank 35 due to the flow resistance of the opening 42 of the resistor 40, and then flows into the cylinder 22. It moves forward, pushes the piston 23, accelerates at high speed, and collides with the injection part 27. Due to this collision, the cell treatment material 24 is injected through the small hole 28, hits the sample 26, and performs cell treatment such as injecting genetic material into the cells. At this time, the exhaust holes 29,..., 30,..., 31,
Air remaining in front of the piston 23 is exhausted from...

【0020】すなわち、タンク35は、ガスを受け入れ
、ピストン23背後の圧力を調節することにより、ピス
トン23の速度つまり細胞処理材24の噴射速度調節す
るものであり、その容積が大きいほど噴射速度が低速と
なる。
That is, the tank 35 receives gas and adjusts the pressure behind the piston 23 to adjust the speed of the piston 23, that is, the injection speed of the cell processing material 24, and the larger the volume, the faster the injection speed becomes. The speed will be low.

【0021】抵抗体40は、ピストン23へのガスの流
れに抵抗を与え、ガス発生部21が未だ十分にガスを発
生しないうちに、ピストンが低速のまま進行してしまう
ことを防止し、ピストンの高速化並びに速度の調節範囲
の拡大を図るものである。
The resistor 40 provides resistance to the flow of gas to the piston 23, prevents the piston from moving at a low speed before the gas generating section 21 generates sufficient gas, and prevents the piston from moving at a low speed. This aims to increase the speed and expand the range of speed adjustment.

【0022】実験によると、ピストンの最高衝突時速度
が、抵抗体を用いない場合に660m/sであるのに対
し、この抵抗体51(開口部断面積をシリンダ断面積の
2分の1とした)を用いた場合には1080m/sとな
った。
According to experiments, the maximum speed at collision of the piston is 660 m/s when no resistor is used, but when this resistor 51 (the cross-sectional area of the opening is made half the cross-sectional area of the cylinder) When using the following method, the speed was 1080 m/s.

【0023】以上、図示例について述べたが、本発明は
ほかにも、各種の構成とすることができる。例えば、タ
ンクの構成は上記例に限るものではなく、シリンダの一
部を大径にしてこの大径部分を伸縮させる構成等とする
こともでき、要するにガスを受け入れてその容積を調節
することのできるものであれば任意である。抵抗体は、
噴射速度を高速化、広範囲化するものであるから、低速
用の装置については省略することができ、またその構成
も上記例のもののほか、単に外部からピンを差し込んだ
もの、高圧により破壊する板体等、任意の構成とするこ
とができる。さらに、抵抗体と流出孔の位置関係も、図
示のように流出孔を抵抗体の上流に設けるだけでなく、
下流に設ける構成も可能である。
Although the illustrated example has been described above, the present invention can have various other configurations. For example, the structure of the tank is not limited to the above example, and it is also possible to have a structure in which a part of the cylinder has a large diameter and this large diameter part can be expanded and contracted, in other words, it can accept gas and adjust its volume. It is optional as long as it is possible. The resistor is
Since it increases the injection speed and widens the range, it is possible to omit the low-speed device, and its configuration is not limited to the above example, but also includes a pin inserted from the outside, and a plate that breaks due to high pressure. It can have any configuration, such as a body. Furthermore, the positional relationship between the resistor and the outflow hole is not limited to providing the outflow hole upstream of the resistor as shown in the figure.
A downstream configuration is also possible.

【0024】また本発明を用いる噴射装置の構成も、上
記例に限るものでなく、例えば上記例はガス発生部とし
て、火薬を用いたものを利用しているが、空気銃と同様
な圧縮空気を噴出弁により噴出させるものをも利用する
ことができる。さらに、図示の装置は減圧状態で使用す
るようになっているが、常圧状態で使用するものであっ
てもよい。
Furthermore, the configuration of the injection device using the present invention is not limited to the above example. For example, the above example uses gunpowder as the gas generating section, but compressed air similar to an air gun is used. It is also possible to use a device in which the water is spouted out using a jetting valve. Furthermore, although the illustrated apparatus is designed to be used under reduced pressure conditions, it may also be used under normal pressure conditions.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明の噴射速度調節装置は、上述のよ
うに、容積を調節することのできるタンクを用い、ガス
発生部からのガスを受け入れてその圧力を調節し、ピス
トンの速度を調節するようにしているので、簡単な構造
となり、速度が安定で、しかも広範囲の調節が容易に実
現しうる。さらに抵抗体と併用すると、ガスが一旦溜め
られ高圧となった後ピストンを押すので、ピストンが高
速化され、速度調節範囲も拡大する。
Effects of the Invention As described above, the injection speed adjusting device of the present invention uses a tank whose volume can be adjusted, receives gas from the gas generating section, adjusts its pressure, and adjusts the speed of the piston. As a result, the structure is simple, the speed is stable, and adjustment over a wide range can be easily realized. Furthermore, when used in conjunction with a resistor, the gas is once stored and reaches high pressure before pushing the piston, increasing the speed of the piston and expanding the range of speed adjustment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the invention.

【図2】同例の要部縦断面図である。FIG. 2 is a vertical sectional view of the main part of the same example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10    噴射速度調節装置 21    ガス発生部 22    シリンダ 23    ピストン 24    細胞処理材 25    試料 27    噴射部 28    小孔 35    タンク 40    抵抗体 41    ガス溜室 10 Injection speed adjustment device 21 Gas generation part 22 Cylinder 23 Piston 24 Cell processing materials 25 Sample 27 Injection part 28 Small hole 35 Tank 40 Resistor 41 Gas reservoir chamber

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  高圧ガスを瞬時に発生させるガス発生
部と、このガス発生部に連なり、先端に細胞処理材が付
着させられたピストンを収納し、ガスによりこのピスト
ンを先端方向へ進行させるシリンダと、小孔を有し、こ
のシリンダの先端又は先端延長上に設けられ、ピストン
を衝突させて細胞処理材を小孔から試料に噴射させる噴
射部とを有する細胞処理用噴射装置において、ガス発生
部とシリンダ中のピストンとの間に、容積を調節するこ
とができ、シリンダへのガスの流れの一部を受け入れて
溜めるタンクを設けてなる細胞処理用噴射装置の噴射速
度調節装置。
1. A cylinder that includes a gas generating section that instantaneously generates high-pressure gas, and a cylinder connected to the gas generating section that accommodates a piston having a cell processing material attached to its tip, and that moves the piston toward the distal end using gas. and an injection unit that has a small hole and is provided at the tip or an extension of the cylinder and causes a piston to collide with the cell processing material to inject the cell processing material from the small hole to the sample. An injection speed adjusting device for an injection device for cell processing, comprising a tank whose volume can be adjusted and which receives and stores a part of the gas flow into the cylinder, between the cylinder and the piston in the cylinder.
【請求項2】  ガス発生部とピストンとの間に、ガス
溜室と、このガス溜室からピストンへのガスの流れに抵
抗を加える抵抗体とを有する請求項1記載の細胞処理用
噴射装置の噴射速度調節装置。
2. The injection device for cell processing according to claim 1, further comprising a gas reservoir chamber and a resistor that applies resistance to the flow of gas from the gas reservoir chamber to the piston, between the gas generating section and the piston. Injection speed adjustment device.
JP3075538A 1991-01-18 1991-01-18 Regulator for jetting speed of jetter for treating cell Pending JPH04237485A (en)

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JP3075538A JPH04237485A (en) 1991-01-18 1991-01-18 Regulator for jetting speed of jetter for treating cell
PCT/JP1992/000028 WO1992013062A1 (en) 1991-01-18 1992-01-16 Jetting device for treating cell
AU11687/92A AU1168792A (en) 1991-01-18 1992-01-16 Jetting device for treating cell

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05336978A (en) * 1992-06-11 1993-12-21 Les-Botsuku Shoko Kk Apparatus for transducing gene utilizing pneumatic pressure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05336978A (en) * 1992-06-11 1993-12-21 Les-Botsuku Shoko Kk Apparatus for transducing gene utilizing pneumatic pressure

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