JPH04232236A - Method for controlling component of plating bath at the time of changing composition - Google Patents

Method for controlling component of plating bath at the time of changing composition

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JPH04232236A
JPH04232236A JP41747990A JP41747990A JPH04232236A JP H04232236 A JPH04232236 A JP H04232236A JP 41747990 A JP41747990 A JP 41747990A JP 41747990 A JP41747990 A JP 41747990A JP H04232236 A JPH04232236 A JP H04232236A
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JP
Japan
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plating
pot
concentration
plating solution
amount
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Application number
JP41747990A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Morita
森田 高
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To rapidly change a plating bath to other plating bath in spite of the considerably different compsns. CONSTITUTION:Plural sub-pots 22, 32 separately contg. plating baths having different compsns. are used. At the time of plating, the plating bath in one of the sub-pots 22, 32 is injected into a main pot 20. At the time of changing the compsn., the plating bath in the main pot 20 is drawn out and returned to one of the sub-pots 22, 32 and then the plating bath in the other is injected into the main pot 20.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、組成の異なるめっき浴
にて溶融めっきを行う際の組成切替時のめっき浴成分制
御方法に係り、特に、連続溶融金属めっきに用いるのに
好適な、組成の切替を迅速に行うことが可能なめっき浴
成分制御方法に関するものである。
[Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for controlling the composition of a plating bath when changing the composition when performing hot-dip plating with plating baths having different compositions, and in particular, a method for controlling the composition of a plating bath suitable for use in continuous hot-dip metal plating. The present invention relates to a plating bath component control method that allows rapid switching of plating bath components.

【0002】0002

【従来の技術】連続溶融めっきは、溶融状態のめっき金
属の浴に連続的に走行する鋼帯を所定時間浸漬し、次い
でめっき浴から引き上げた鋼帯の表面にガスワイピング
を施して所定のめっき付量に調整することにより、鋼帯
の表面に所望のめっきを施すめっき法であり、その代表
的なものに溶融亜鉛めっきがある。
[Prior Art] Continuous hot-dip plating involves immersing a continuously running steel strip in a bath of molten plated metal for a predetermined period of time, and then gas-wiping the surface of the steel strip removed from the bath to achieve a predetermined plating. It is a plating method that applies desired plating to the surface of a steel strip by adjusting the amount of plating applied, and hot-dip galvanizing is a typical example.

【0003】本来、亜鉛めっき鋼板は、耐蝕性に優れる
ため、建材用、家電用及び自動車用鋼板として広く用い
られているが、溶融亜鉛めっきは、電気亜鉛めっきに比
べ、現状では表面品質は劣るものの、消費エネルギが少
なく、めっき用溶融金属のコストが安く、又容易に厚目
付けが可能であるため、亜鉛めっき鋼板を量産する上で
注目されている。
[0003] Galvanized steel sheets originally have excellent corrosion resistance, so they are widely used as building materials, home appliances, and steel sheets for automobiles. However, hot-dip galvanizing currently has inferior surface quality compared to electrogalvanizing. However, because it consumes less energy, the cost of molten metal for plating is low, and it can be easily coated thickly, it is attracting attention for the mass production of galvanized steel sheets.

【0004】ところで、連続溶融亜鉛めっきにおいては
、純亜鉛浴を用いる他、亜鉛と素地鋼との界面に硬くて
脆いFe −Zn の合金層(Γ層:Fe 3 Zn 
11)の成長を抑制し、めっき密着性を向上させるため
に、亜鉛浴中にAl を添加する場合がある。即ち、め
っき層と素地鋼との界面にAl 富化層(Fe 3 A
l 6 等)を形成することにより、亜鉛と素地鋼との
界面のFe −Zn の合金層を適度に抑制し、めっき
層の剥離(パウダリング)を防止するものである。
By the way, in continuous hot-dip galvanizing, in addition to using a pure zinc bath, a hard and brittle Fe-Zn alloy layer (Γ layer: Fe 3 Zn
In order to suppress the growth of 11) and improve plating adhesion, Al 2 may be added to the zinc bath. That is, an Al enriched layer (Fe 3 A) is formed at the interface between the plating layer and the base steel.
By forming a Fe-Zn alloy layer at the interface between zinc and base steel, the formation of a Fe-Zn alloy layer at the interface between zinc and base steel is appropriately suppressed, and peeling (powdering) of the plating layer is prevented.

【0005】又、上記Al の添加に加え、めっき表面
にスパングル(花模様)を形成するために少量のPb 
を添加する場合もあり、これらAl やPb の添加率
は、亜鉛めっき鋼板の用途等によっても異なっている。
In addition to the above addition of Al, a small amount of Pb is also added to form spangles (flower pattern) on the plating surface.
The addition rate of these Al and Pb varies depending on the use of the galvanized steel sheet.

【0006】代表的な製造品種毎の目標濃度は、およそ
図1に示す通りである。
[0006] The target concentration for each typical product type is approximately as shown in FIG.

【0007】ここで、濃度の単位は、全て重量%であり
、図1に示された成分の残部はZn である。又、有効
Al 濃度は、Al 濃度からFe 濃度を引いたもの
で定義している。これは、スリップから溶け出したFe
 が不純物を作ってAl を妨害するからである。
[0007] Here, the units of concentration are all % by weight, and the remainder of the components shown in FIG. 1 is Zn. Further, the effective Al concentration is defined as the Al concentration minus the Fe concentration. This is Fe melted from the slip.
This is because they create impurities and interfere with Al.

【0008】図1の成分品種のうち、GIダクトは、い
わゆる高Pb 材であり、GI、1&1/2、GAは、
いわゆる低Pb 材である。
Among the component types shown in FIG. 1, the GI duct is a so-called high Pb material, and the GI, 1&1/2, and GA are
This is a so-called low Pb material.

【0009】このような多様な組成のめっき液を用いる
連続亜鉛溶融めっきにおいては、製造品種の切替に際し
て、めっき液の濃度を切替えて、図1の範囲内に調整す
る必要がある。又、ライン条件(付着量、ライン速度、
板幅等)により変化するめっき液の減少量、Al 濃度
変動、Pb 濃度変動に応じて、Zn 、Al 、Pb
 の補給を行う必要がある。なお、めっき液が減少する
理由としては、鋼帯表面に付着しためっき層による持出
しと、浮上ドロスの生成及びそのめっき浴外への排除が
ある。
In continuous zinc hot-dip plating using plating solutions having various compositions, it is necessary to change the concentration of the plating solution and adjust it within the range shown in FIG. 1 when changing the product type. Also, line conditions (coating amount, line speed,
The reduction amount of plating solution changes depending on the plate width, etc.), the change in Al concentration, and the change in Pb concentration.
It is necessary to replenish supplies. The reasons why the plating solution decreases include removal by the plating layer adhering to the surface of the steel strip, the formation of floating dross, and its removal from the plating bath.

【0010】このようなめっき浴への成分補給方法とし
て、出願人は既に特開平1−165753で、補給成分
を予め溶融した複数個のプリメルトポット、又は、少な
くとも1つのプリメルトポット及び補給成分の金属塊又
は金属粉粒を入れた少なくとも1つのホッパを用い、必
要な補給濃度及びめっき浴の減少量に対応するよう、前
記プリメルトポット、又はプリメルトポット及びホッパ
ーから成分を補給することを特徴とするめっき浴への成
分補給方法を提案している。
As a method for replenishing components to a plating bath, the applicant has already disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-165753 a method of using a plurality of pre-melt pots in which replenishing components are melted in advance, or at least one pre-melt pot and replenishing components. using at least one hopper containing metal ingots or metal powder particles, and replenishing the components from the pre-melt pot, or the pre-melt pot and hopper, to correspond to the required replenishment concentration and the reduction in the plating bath. We are proposing a unique method of replenishing ingredients to plating baths.

【0011】又、特開昭63−169369には、溶融
亜鉛めっき浴の一部を取り出し、別浴槽へ導入し、脱A
l 剤を添加してAl 量を調整し、次いで、亜鉛めっ
き浴を導入し、亜鉛めっき浴中のAl 量が所定量にな
るまで、継続することを特徴とする、溶融亜鉛めっき浴
中のAl 調整方法が開示されている。
[0011] Furthermore, in JP-A-63-169369, a part of the hot-dip galvanizing bath is taken out and introduced into a separate bath to remove A.
Al in a hot-dip galvanizing bath characterized by adding a l agent to adjust the amount of Al, then introducing a galvanizing bath, and continuing until the amount of Al in the galvanizing bath reaches a predetermined amount. A method of adjustment is disclosed.

【0012】0012

【発明が解決しようとする課題】前者の方法によれば、
同一品種めっき中の濃度調整及びめっき浴の減少にはう
まく対応できるものの、品種切替に伴って、めっき浴の
Al 濃度やPb 濃度を大幅に切替える必要がある場
合には、必ずしも十分に適合できない場合があるという
問題点を有していた。
[Problem to be solved by the invention] According to the former method,
Although it is possible to cope well with concentration adjustment and reduction of the plating bath when plating the same product, it may not necessarily be suitable if the Al concentration or Pb concentration of the plating bath needs to be significantly changed due to the change of product. The problem was that there was.

【0013】一方、後者は、取り出しためっき液を受け
入れる別浴槽が1つしかなく、しかも該別浴槽の中で脱
Al 剤等を用いてAl 濃度を調整するので、めっき
浴の濃度を大幅に変化させたい場合には、やはり時間が
かかり、効率的でないという問題点を有していた。
On the other hand, in the latter case, there is only one separate bath that receives the removed plating solution, and the Al concentration is adjusted in the separate bath using a de-aluminum agent, etc., so the concentration of the plating bath can be significantly increased. When a change is desired, it still takes time and is not efficient.

【0014】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、組成切替時にめっき浴成分を迅速に
制御することが可能なめっき浴成分制御方法を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to provide a method for controlling the components of a plating bath that can quickly control the components of the plating bath when changing the composition.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、組成の異なる
めっき浴にて溶融めっきを行う際の組成切替時のめっき
浴成分制御方法において、被めっき材が通過するように
されたメインポットと、組成の異なるめっき液が収容さ
れる、少なくとも2つのサブポットとを用い、めっき時
には、前記サブポットの1つからメインポットへめっき
液を注湯し、組成切替時には、該メインポットからめっ
き液を汲み出して前記サブポットへ戻した後、他のサブ
ポットからメインポットへめっき液を注湯することによ
り、前記目的を達成したものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a method for controlling the composition of a plating bath when switching the composition when performing hot-dip plating using plating baths with different compositions. At least two sub-pots containing plating solutions of different compositions are used, and during plating, the plating solution is poured into the main pot from one of the sub-pots, and when the composition is switched, the plating solution is pumped out from the main pot. The above objective is achieved by pouring the plating solution from the other subpots into the main pot after returning the plating solution to the subpot.

【0016】又、調整又は補給成分を予め溶融したプリ
メルトポットを併用し、必要な濃度及びめっき液の減少
量に対応するよう、該プリメルトポットから前記メイン
ポットに成分を供給するようにしたものである。
[0016] Furthermore, a pre-melt pot in which adjusting or replenishing components are melted in advance is also used, and the components are supplied from the pre-melt pot to the main pot in order to correspond to the required concentration and reduction amount of the plating solution. It is something.

【0017】又、調整又は補給成分のインゴット投入手
段を併用し、必要な濃度及びめっき液の減少量に対応す
るよう、前記メインポット又はプリメルトポットにイン
ゴットを投入するようにしたものである。
[0017] Furthermore, an adjustment or replenishment component ingot charging means is also used to charge ingots into the main pot or pre-melt pot in order to correspond to the required concentration and reduction amount of the plating solution.

【0018】[0018]

【作用】本発明においては、メインポットの他に、少な
くとも2つのサブポットを用いる。これらサブポットに
は、組成の異なるめっき液を収容する。めっきには、前
記サブポットの1つからメインポットをめっき液を注湯
して、めっきを行う。一方、組成切替時には、該メイン
ポットからめっき液を汲み出して前記サブポットへ戻し
た後、他のサブポットからメインポットへめっき液を注
湯して、めっきを行う。従って、メインポット中のめっ
き液が迅速に入替えられるので、その組成を、迅速に切
替えることができる。
[Operation] In the present invention, at least two sub-pots are used in addition to the main pot. These sub-pots contain plating solutions having different compositions. For plating, plating solution is poured into the main pot from one of the sub-pots. On the other hand, when switching the composition, the plating solution is pumped out from the main pot and returned to the subpot, and then the plating solution is poured into the main pot from another subpot to perform plating. Therefore, since the plating solution in the main pot can be replaced quickly, the composition can be changed quickly.

【0019】又、調整又は補給成分を予め溶融したプリ
メルトポットを併用し、必要な濃度及びめっき液の減少
量に対応するよう、該プリメルトポットから前記メイン
ポットに成分を供給するようにした場合には、特願平1
−165753と同様に、同一品種めっき中のめっき液
の減少や成分変動に適確に対応できる。又、品種切替時
であっても、めっき液の組成変化が小さい場合には、プ
リメルトポットからの成分供給によって迅速に対応でき
る場合もある。
[0019] Furthermore, a pre-melt pot in which adjusting or replenishing components are melted in advance is used, and the components are supplied from the pre-melt pot to the main pot in order to correspond to the required concentration and the amount of decrease in the plating solution. In this case, the patent application
Similar to -165753, it can accurately respond to decreases in plating solution and component variations during plating of the same product. Furthermore, even when switching products, if the change in the composition of the plating solution is small, it may be possible to quickly respond by supplying components from a pre-melt pot.

【0020】更に、調整又は補給成分のインゴット投入
手段を併用し、必要な濃度及びめっき液の減少量に対応
するよう、前記メインポット又はプリメルトポットにイ
ンゴットを投入するようにした場合には、メインポット
又はプリメルトポットのめっき液成分の大幅な変動に対
応できる。なお、インゴット投入による成分変動は、例
えばプリメルトポットからの成分供給によって調整する
ことができる。
[0020]Furthermore, when an adjustment or replenishment component ingot input means is used in combination, and ingots are loaded into the main pot or pre-melt pot in order to correspond to the required concentration and reduction amount of the plating solution, It can accommodate large fluctuations in the plating solution components in the main pot or pre-melt pot. Incidentally, fluctuations in the components caused by charging the ingot can be adjusted by, for example, supplying the components from a pre-melt pot.

【0021】[0021]

【実施例】以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細
に説明する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0022】図2は、本発明を実施するための設備の構
成例を模式的に示す線図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of the configuration of equipment for carrying out the present invention.

【0023】図2において、スナウト12から出た焼鈍
済のストリップ(例えば鋼帯)10は、シンクロール1
4によりメインポット20のめっき用溶融金属(例えば
溶融亜鉛)21中に浸漬され、次いでコレクティングロ
ール16により、湾曲を強制され、スタビライジングロ
ール18により揺動を停止し安定され、めっき用溶融金
属21から引き上げられた後、ガスワイピング(図示せ
ず)により所定のめっき目付量に調整される。
In FIG. 2, the annealed strip (for example, steel strip) 10 coming out of the snout 12 is transferred to the sink roll 1.
The molten metal for plating is immersed in the molten metal for plating (for example, molten zinc) 21 of the main pot 20 by 4, then forced to curve by the collecting roll 16, and stabilized by stopping rocking by the stabilizing roll 18. After being pulled up from 21, it is adjusted to a predetermined plating area weight by gas wiping (not shown).

【0024】このようにして、ストリップ10に溶融金
属めっきが連続的になされる。
In this manner, strip 10 is continuously coated with hot-dip metal.

【0025】溶融亜鉛めっきを行う場合、前述したよう
に、めっき密着性を向上するためにめっき浴へAl を
添加し、あるいは、更にめっき表面にスパングルを形成
するために少量のPb を添加することが行われる。従
って、めっき用溶融金属21の組成は、Al −Zn 
系又はAl −Pb −Zn 系等であり、Al やP
b の添加率も、製造する亜鉛めっき鋼板の用途、種類
(図1参照)等によって適宜決定される。
When performing hot-dip galvanizing, as mentioned above, Al is added to the plating bath to improve plating adhesion, or a small amount of Pb is added to form spangles on the plating surface. will be held. Therefore, the composition of the molten metal 21 for plating is Al-Zn
system or Al-Pb-Zn system, etc., and Al or P
The addition rate of b is also appropriately determined depending on the use and type (see FIG. 1) of the galvanized steel sheet to be manufactured.

【0026】このような連続溶融亜鉛めっきでは、付着
量、ライン速度、板幅等のライン条件により変化するめ
っき液の減少量、Al 濃度変動、Pb 濃度変動を推
定して、Zn 、Al 、Pb の補給を行う必要があ
る。又、品種切替に伴うめっき液のAl 濃度、Pb 
濃度の切替えを行う必要がある。
In such continuous hot-dip galvanizing, the decrease in plating solution, Al concentration fluctuation, and Pb concentration fluctuation, which vary depending on line conditions such as coating amount, line speed, and sheet width, are estimated, and Zn, Al, Pb It is necessary to replenish supplies. In addition, the Al concentration and Pb of the plating solution due to product switching
It is necessary to switch the concentration.

【0027】そこで、本設備においては、前記メインポ
ット20の他に、例えばGIダクト用の高Pb めっき
液が収容される高Pb サブポット22と、該高Pb 
サブポット22からメインポット20へ高Pb めっき
液を注湯するためのポンプ24及び導管26と、前記メ
インポット20から高Pb めっき液を汲み出して該高
Pb サブポット22に戻すためのポンプ28及び導管
30と、例えばGI、1&1/2、GA等用の低Pb 
めっき液が収容される低Pb サブポット32と、該低
Pb サブポット32からメインポット20へ低Pb 
めっき液を注湯するためのポンプ34及び導管36と、
前記メインポット20から低Pb めっき液を汲み出し
て該低Pb サブポット32へ戻すためのポンプ38及
び導管40と、を備えている。
Therefore, in this equipment, in addition to the main pot 20, there is also a high Pb sub-pot 22 in which, for example, a high Pb plating solution for GI duct is stored, and the high Pb
A pump 24 and a conduit 26 for pouring the high Pb plating solution from the sub pot 22 to the main pot 20, and a pump 28 and a conduit 30 for pumping the high Pb plating solution from the main pot 20 and returning it to the high Pb sub pot 22. and low Pb for GI, 1&1/2, GA, etc.
A low Pb sub-pot 32 in which a plating solution is stored, and a low Pb sub-pot 32 that contains a plating solution, and a low Pb sub-pot 32 that contains a plating solution.
a pump 34 and a conduit 36 for pouring plating solution;
A pump 38 and a conduit 40 are provided for pumping out the low Pb plating solution from the main pot 20 and returning it to the low Pb subpot 32.

【0028】従って、例えば低Pb めっき液によるめ
っきを行う際には、前記低Pb サブポット32からメ
インポット20へ低Pb めっき液を注湯して、めっき
を行う。このとき、低Pb サブポット32は空となる
Therefore, for example, when performing plating with a low Pb plating solution, the low Pb plating solution is poured from the low Pb sub-pot 32 into the main pot 20, and plating is performed. At this time, the low Pb sub-pot 32 becomes empty.

【0029】一方、めっき液を低Pb 用から高Pb 
用に切替えたい場合には、前記メインポット20から低
Pb めっき液を汲み出して、空になっていた低Pb 
サブポット32へ戻した後、高Pb サブポット22か
らメインポット20へ高Pb めっき液を注湯して、め
っきを行う。
On the other hand, change the plating solution from low Pb to high Pb.
If you want to switch to the low Pb plating solution, pump out the low Pb plating solution from the main pot 20 and replace it with the empty low Pb plating solution.
After returning to the sub-pot 32, a high-Pb plating solution is poured from the high-Pb sub-pot 22 into the main pot 20 to perform plating.

【0030】高Pb めっき液から低Pb めっき液へ
の切替えも同様である。
The same applies to switching from a high Pb plating solution to a low Pb plating solution.

【0031】このようにして、メインポット20に注湯
しためっき液を収容するサブポットを常に空にしておき
、めっき液変更時には、当該サブポットに戻すことによ
って、品種切替えに伴うめっき液の組成切替えを迅速に
行うことができる。
In this way, the sub-pot containing the plating solution poured into the main pot 20 is always kept empty, and when changing the plating solution, the plating solution is returned to the sub-pot, thereby making it possible to change the composition of the plating solution when changing the product. It can be done quickly.

【0032】一方、このような連続溶融亜鉛めっきでは
、ストリップ10の表面に付着しためっき層による持ち
出しや、浮上ドロスが生成し、これをめっき浴外へ排除
することにより、めっき用溶融金属21の液面レベルが
低下する。従って、液面レベルを一定に保ち、且つめっ
き用溶融金属21の組成を目標値に一定に保つように補
給を行う必要がある。
On the other hand, in such continuous hot-dip galvanizing, the plating layer adhering to the surface of the strip 10 generates carry-over and floating dross, and by removing this from the plating bath, the molten metal 21 for plating is removed. Fluid level drops. Therefore, it is necessary to replenish so as to keep the liquid level constant and to keep the composition of the molten metal 21 for plating constant at the target value.

【0033】ここで、浮上ドロスは、ストリップ10か
ら溶出したFe が、めっき用溶融金属21中のAl 
と結合してFe 2 Al 5 となり、これがめっき
浴面へ浮上(めっき用溶融金属21より比重が小さい)
したもの、又は浴面の亜鉛が酸化したものをいう。
Here, the floating dross is caused by Fe eluted from the strip 10 and Al in the molten metal 21 for plating.
Combines with Fe 2 Al 5, which floats to the surface of the plating bath (its specific gravity is smaller than the molten metal 21 for plating)
or the zinc on the bath surface is oxidized.

【0034】なお、めっき用溶融金属21の減少は、め
っき用溶融金属21の各成分(Zn 、Al 、Pb 
)がその含有率(濃度)に比例して減少するのではない
。即ち、Al の減少に関しては、素地鋼とめっき層と
の界面にAl 富化層(Fe 2 Al 3 等)が形
成されることから、持ち出しにおけるAl 濃度がめっ
き用溶融金属21のAl の濃度よりも高く、又、めっ
き浴外へ排除される浮上ドロスの組成は、Al 濃度0
.1〜0.2%のめっき用溶融金属において、Al =
Fe =2〜4%、残部Zn であるため、めっき用溶
融金属中のAl濃度の低下は、他の成分に比べて著しい
Note that the decrease in the molten metal 21 for plating is due to the amount of each component (Zn, Al, Pb, etc.) of the molten metal 21 for plating.
) does not decrease in proportion to its content (concentration). That is, regarding the reduction of Al, since an Al enriched layer (Fe 2 Al 3 etc.) is formed at the interface between the base steel and the plating layer, the Al concentration in the take-out is lower than the Al concentration in the molten metal 21 for plating. Also, the composition of the floating dross removed from the plating bath is Al concentration 0.
.. In 1-0.2% molten metal for plating, Al =
Since Fe is 2 to 4% and the balance is Zn, the Al concentration in the molten metal for plating decreases more significantly than other components.

【0035】従って、めっき浴への成分の補給は、めっ
き用溶融金属21の組成と等しい濃度で行うのではなく
、液面レベルが目標値になるような量を補給した結果、
めっき用溶融金属21の組成も目標値となるように行う
必要がある。
Therefore, the components are not replenished into the plating bath at a concentration equal to the composition of the molten metal 21 for plating, but by replenishing the components in such an amount that the liquid level reaches the target value.
The composition of the molten metal 21 for plating must also be set to a target value.

【0036】そこで、この設備では、更に、めっき液の
補給成分であるAl を例えば1.8%含むAl −Z
n 合金のインゴットを予め溶融した高Al プリメル
トポット42と、該高Al プリメルトポット42から
前記メインポット20に、例えば1.8%溶融Al を
注湯するためのポンプ44、導管46、及びレードル(
柄杓)48と、前記高Al プリメルトポット42に、
例えば1.8%Al −Zn 合金のインゴットを投入
するためのAl インゴット投入機50と、めっき液の
補給成分である、例えば純Zn のインゴットを予め溶
融したZn プリメルトポット52と、該Zn プリメ
ルトポット52から前記メインポット20に、例えば純
Zn を注湯するためのポンプ54、導管56及びレー
ドル58と、前記Zn プリメルトポット52に純Zn
 のインゴットを投入するためのZn インゴット投入
機60と、成分調整時にメインポット20内のめっき液
の一部を汲出し、必要に応じて注湯するための汲出用プ
リメルトポット62と、メインポット20からめっき液
の一部を該汲出用プリメルトポット62に汲出すための
ポンプ64及び導管66と、前記汲出用プリメルトポッ
ト62からメインポット20へめっき液を戻すためのレ
ードル68と、を備えている。
Therefore, in this equipment, Al-Z containing, for example, 1.8% Al, which is a replenishing component of the plating solution, is added.
A high Al pre-melt pot 42 in which an ingot of n alloy is melted in advance, a pump 44 for pouring, for example, 1.8% molten Al from the high Al pre-melt pot 42 into the main pot 20, a conduit 46, and Ladle (
ladle) 48 and the high Al pre-melt pot 42,
For example, an Al ingot feeder 50 for feeding an ingot of 1.8% Al-Zn alloy, a Zn pre-melt pot 52 in which a pure Zn ingot, which is a replenishing component of the plating solution, is melted in advance, and A pump 54, a conduit 56, and a ladle 58 for pouring, for example, pure Zn from the melt pot 52 to the main pot 20;
Zn ingot feeder 60 for feeding ingots, a pre-melt pot 62 for pumping out a part of the plating solution in the main pot 20 during component adjustment and pouring it as necessary, and a main pot. A pump 64 and a conduit 66 for pumping out a portion of the plating solution from the pumping pre-melt pot 62 to the main pot 20, and a ladle 68 for returning the plating solution from the pumping pre-melt pot 62 to the main pot 20. We are prepared.

【0037】従って、例えば特開平1−165753に
開示したと同様な方法で、Al 及びZn の補給を行
うことができる。
Therefore, Al and Zn can be replenished by a method similar to that disclosed in JP-A-1-165753, for example.

【0038】ここで、レードルは微調整用に、ポンプは
粗調整用に用いる。
Here, the ladle is used for fine adjustment, and the pump is used for coarse adjustment.

【0039】なお、メインポット20における濃度変動
の要調整量が大きい場合には、プリメルトポット42又
は52から補給しただけでは、調整し切れない場合があ
るそこで、本発明では、更に、前記メインポット20に
それぞれZn インゴット及びPb 小インゴットを自
動的に直接投入するためのZnインゴット投入機70及
びPb 投入用ホッパー72を備えると共に、更に、A
l 小インゴット74及びPb 小インゴット76を手
動で直接投入できるようにしている。
[0039] If the amount of concentration fluctuation in the main pot 20 that needs to be adjusted is large, it may not be possible to fully adjust it by simply replenishing from the pre-melt pot 42 or 52. Therefore, in the present invention, the main pot 20 A Zn ingot charging machine 70 and a Pb charging hopper 72 are provided for automatically and directly charging Zn ingots and small Pb ingots into the pot 20, respectively.
l Small ingot 74 and Pb small ingot 76 can be directly fed manually.

【0040】前記メインポット20及びプリメルトポッ
ト42、52には、それぞれレベル計及び温度計が設置
されている。
[0040] The main pot 20 and pre-melt pots 42 and 52 are each equipped with a level meter and a thermometer.

【0041】以下、実施例の作用を詳細に説明する。The operation of the embodiment will be explained in detail below.

【0042】(1)品種切替え この品種切替時には、後で説明する同一品種製造時の通
常の補給は中止する。
(1) Product type switching At the time of product type switching, normal replenishment when manufacturing the same type, which will be explained later, is stopped.

【0043】■Al 濃度低下時 まず、メインポット20の浴面のレベルが、現在の浴面
からAl 濃度変化に合せて決定した所定量Δh だけ
減少するまで、メインポット20の液を汲出用プリメル
トポット62に汲出す。
■When the Al concentration decreases: First, the liquid in the main pot 20 is pumped out from the pumping pre-load until the level of the bath surface in the main pot 20 decreases from the current bath level by a predetermined amount Δh determined according to the change in Al concentration. Pump into melt pot 62.

【0044】次いで、Zn プリメルトポット52から
メインポット20へ、メインポット20の浴面レベルが
汲出し前のレベルに戻るまで補給する。
Next, the Zn pre-melt pot 52 is replenished into the main pot 20 until the bath surface level of the main pot 20 returns to the level before pumping out.

【0045】次いで、後で■で詳しく説明する方法によ
って濃度補正を行う。
Next, density correction is performed by a method that will be explained in detail later in section (2).

【0046】■Al 濃度上昇時 まず高Al プリメルトポット42からメインポット2
0へ、メインポット20の浴面レベルが現在の浴面レベ
ルより、Al 濃度変化に合せて決定した所定量Δh 
だけ上昇するまで注湯する。
■When the Al concentration increases, first the high Al pre-melt pot 42 to the main pot 2
0, the bath level of the main pot 20 is lower than the current bath level by a predetermined amount Δh determined according to the change in Al concentration.
Pour the water until it rises.

【0047】次いで、後で■で詳しく説明する方法によ
って、濃度補正を行う。
Next, density correction is performed by a method that will be explained in detail in section (2) later.

【0048】■Pb 濃度切替時 まず、メインポット20から液全量をサブポット(GI
ダクトの場合は高PBb 用、その他の場合は低Pb 
用)へ汲出す。
■When switching the Pb concentration, first transfer the entire amount of liquid from the main pot 20 to the sub pot (GI
High PBb for ducts, low Pb for other cases
(for use).

【0049】残りのサブポットから、液全量をメインポ
ット20へ注湯する。
[0049] The entire amount of liquid is poured into the main pot 20 from the remaining sub-pots.

【0050】なお、めっき液の全量汲替えによって、メ
インポットレベルがその基準レベルより低くなった場合
には、次のいずれかの方法によって、レベルを上げる。
[0050] If the main pot level becomes lower than the reference level by replacing the entire amount of plating solution, raise the level by one of the following methods.

【0051】即ち、全量汲替え後、品種切替(Al 濃
度変更)が不要の場合(メインポット品種=次製造品種
)は、浴面の低下分を浴面をZn インゴット投入機7
0による純Zn 1ton インゴットの自動投入、又
は、10%Al 20kg小インゴット74、純Pb 
5kg小インゴット76の手動投入により補給する。
That is, if it is not necessary to change the type (aluminum concentration change) after replacing the entire volume (main pot type = next manufactured type), the decrease in the bath level can be compensated for by changing the bath level to the Zn ingot feeding machine 7.
Automatic feeding of pure Zn 1 ton ingot by 0, or 10% Al 20 kg small ingot 74, pure Pb
Replenishment is performed by manually introducing a 5 kg small ingot 76.

【0052】この際、純Zn 1ton インゴットの
投入個数n1を、次の不等式より求める。
At this time, the number n1 of pure Zn 1 ton ingots to be introduced is determined from the following inequality.

【0053】[0053]

【数1】[Math 1]

【0054】ここで、符号Bp は、メインポット20
の液面レベル[mm]、Aは、Zn 1ton 分の浴
面上昇量[mm]である。
[0054] Here, the code Bp is the main pot 20
The liquid level [mm] is the liquid level [mm], and A is the amount of rise in the bath level [mm] for 1 ton of Zn.

【0055】このようにして求められた投入個数n1に
応じて、純Zn 1ton インゴットをn1個、10
%Al 20kg小インゴットを(3/4)n1個(少
数以下切捨)、純Pb 5kg小インゴットをn1/5
個(少数以下切捨、GIダクト以外のときは投入せず)
、投入する。なお、n1が零以下である場合には補給し
ない。
[0055] According to the input number n1 determined in this way, n1 pure Zn 1 ton ingots, 10
%Al 20kg small ingot (3/4) n1 piece (rounded down to the nearest whole number), pure Pb 5kg small ingot n1/5
pieces (rounded down to the nearest decimal place, not included if it is not a GI duct)
,throw into. Note that if n1 is less than or equal to zero, no replenishment is performed.

【0056】一方、全量汲替え後、品種切替が必要な場
合(メインポット品種≠次製造品種)である場合、Al
 濃度低下時は、■と同様の操作を行う。又、Al 濃
度上昇時は、■と同様の操作を行う。なお、濃度切替完
了後、メインポットレベルが基準液面レベルより低くな
った場合には、前述の品種切替が不要な場合と同様の操
作を行ってインゴットを投入する。
On the other hand, if it is necessary to change the type after refilling the entire volume (main pot type ≠ next production type), the Al
When the concentration decreases, perform the same operation as ①. Also, when the Al concentration increases, perform the same operation as ①. Note that if the main pot level becomes lower than the reference liquid level after the concentration switching is completed, the same operation as in the case where the type switching is unnecessary is performed to introduce the ingot.

【0057】次いで、次の■で詳しく説明する方法によ
って濃度補正を行う。
Next, density correction is performed by the method described in detail in the next section (2).

【0058】■濃度補正 メインポット20のAl 、Pb 濃度を測定し、目標
濃度から外れている場合には、濃度補正を行う。
(2) Concentration Correction The Al and Pb concentrations in the main pot 20 are measured, and if they deviate from the target concentration, the concentration is corrected.

【0059】Al 濃度補正については、オペレータが
測定したメインポット20の有効Al 濃度Peal 
[%]から、10%Al 20kg小インゴット74の
投入個数n2を計算する。なお、測定濃度Peal が
目標有効Al 濃度Poal [%]より高いときは、
補正を行わない。低いときには、Al の不足分だけ補
給する。補給個数n2は、次式によって決定する。なお
、少数以下は切捨てる。
Regarding the Al concentration correction, the effective Al concentration Peal of the main pot 20 measured by the operator
From [%], the number n2 of 10% Al 20 kg small ingots 74 is calculated. Note that when the measured concentration Peal is higher than the target effective Al concentration Poal [%],
No correction is made. When it is low, replenish the amount of Al that is insufficient. The number of supplies n2 is determined by the following formula. Note that numbers below the decimal point are rounded down.

【0060】[0060]

【数2】[Math 2]

【0061】ここで、Qは、メインポット20の容量[
kg]である。
[0061] Here, Q is the capacity of the main pot 20 [
kg].

【0062】Pb 濃度補正については、オペレータが
測定したメインポット20のPb 濃度Ppb[%]よ
り、純Pb 5kg小インゴット76の投入個数n3を
計算する。測定濃度Ppbが目標Pb 濃度Ppb*[
%]より高いときには、補正は行わない。低いときには
、次式により、Pb の不足分n3だけ補給する。なお
、少数点以下は切捨てる。
Regarding the Pb concentration correction, the number n3 of pure Pb 5 kg small ingots 76 to be introduced is calculated from the Pb concentration Ppb [%] of the main pot 20 measured by the operator. The measured concentration Ppb is the target Pb concentration Ppb*[
%], no correction is performed. When the amount is low, the following formula is used to replenish the amount of Pb that is insufficient, n3. Note that numbers below the decimal point are rounded down.

【0063】[0063]

【数3】[Math 3]

【0064】(2)同一品種製造時 ライン運転中においては、ストリップ10の表面への付
着の他、種々の要因によりめっき液が持ち出される。従
って、図3に示すように、その持ち出される量及びそれ
に伴うAl 、Pb の減少量を推定して、減少分を補
給する。
(2) During line operation during production of the same type of product, the plating solution is carried out due to various factors in addition to adhesion to the surface of the strip 10. Therefore, as shown in FIG. 3, the amount taken out and the resulting decrease in Al 2 and Pb are estimated, and the decreased amount is replenished.

【0065】ストリップ表面への付着以外の、めっき液
持ち出しの要因は、次の通りである。
Factors causing plating solution to be taken out other than adhesion to the strip surface are as follows.

【0066】・亜鉛回収機を経て、酸化亜鉛として排出
・トップドロスと一緒に排出 ・成分測定用サンプルとして排出 ・蒸発 ・その他の理由による排出
・Discharged as zinc oxide after passing through a zinc recovery machine ・Discharged together with top dross ・Discharged as a sample for component measurement ・Discharged due to evaporation ・Discharged due to other reasons

【0067】■めっき液のAl 、Pb 減少量の推定
ストリップに付着して持ち出されるめっき液全体の減少
量ΔQ1 [kg]、同じくAl の減少量ΔAl1[
kg]、同じくPb の減少量ΔPb1[kg]を、そ
れぞれ次式により推定する(図3のステップ100)。
■ Estimation of amount of decrease in Al and Pb in plating solution Amount of decrease in the entire plating solution attached to the strip and taken out ΔQ1 [kg], Similarly, amount of decrease in Al ΔAl1 [kg]
Similarly, the amount of decrease ΔPb1 [kg] in Pb is estimated using the following equations (step 100 in FIG. 3).

【0068】[0068]

【数4】[Math 4]

【0069】ここで、Mp は、ストリップへの両面付
着量(表裏の付着量の和)[g /m 2 ]、Mo 
は、表側のめっき付着量[g /m 2 ]、Mu は
、裏側のめっき付着量[g /m 2 ]、Wは、スト
リップの板幅[mm]、LSpはライン速度[mpm 
]、Pgaloは、表側めっき層中Al 濃度[%]、
Pgaluは、裏側めっき層中Al 濃度[%]、Pp
bは、めっき浴中のPb 濃度推定値[%]である。
Here, Mp is the amount of adhesion on both sides of the strip (sum of the amount of adhesion on the front and back sides) [g/m 2 ], Mo
is the amount of plating on the front side [g/m 2 ], Mu is the amount of plating on the back side [g/m 2 ], W is the width of the strip [mm], and LSp is the line speed [mpm].
], Pgalo is the Al concentration [%] in the front plating layer,
Pgalu is the Al concentration [%] in the back side plating layer, Pp
b is the estimated Pb concentration [%] in the plating bath.

【0070】なお、ストリップのめっき層界面には、A
l 富化層が形成されるため、めっき層中のAl 濃度
Pgal は、めっき液のAl 濃度Palより濃くな
っている。一方、めっき層中のPb 濃度は、めっき浴
中のPb 濃度Ppbと等しい。
[0070] Furthermore, at the interface of the plating layer of the strip, A
Since the l enriched layer is formed, the Al concentration Pgal in the plating layer is higher than the Al concentration Pal of the plating solution. On the other hand, the Pb concentration in the plating layer is equal to the Pb concentration Ppb in the plating bath.

【0071】これらの推定式中のMp は、付着量実績
値であるが、付着量計又は合金化度計が故障したときに
は、設定値を使うことができる。
Mp in these estimation formulas is the actual value of the adhesion amount, but if the adhesion amount meter or alloying degree meter is out of order, the set value can be used.

【0072】めっき浴中のAl は、ストリップから溶
出したFe と結び付いて、浮ドロスと称されるFe 
2 Al 5 を主成分とするドロスとなる。浴中のF
e 濃度は飽和しているものとし、ストリップから溶け
出したFe は全て浮ドロスとなるものとすると、Fe
 溶出量Ffeは、次式で表わされる。
[0072] Al in the plating bath combines with Fe eluted from the strip to form Fe called floating dross.
2 It becomes dross whose main component is Al 5 . F in the bath
e Assuming that the concentration is saturated and that all Fe dissolved from the strip becomes floating dross, Fe
The elution amount Ffe is expressed by the following formula.

【0073】[0073]

【数5】[Math 5]

【0074】ここで、Ppfe は、メインポットのF
e 濃度実績値[%]、Tm は、メインポットへの侵
入板温[℃]、Tz は、メインポットのめっき浴温度
[℃]、Kは定数である。
[0074] Here, Ppfe is the F of the main pot.
e Concentration actual value [%], Tm is the plate temperature entering the main pot [°C], Tz is the main pot plating bath temperature [°C], and K is a constant.

【0075】この(7)式を用いて算出されるFe 溶
出量ΔFfeを積分することによって、ドロスによるA
l 減少量ΔAl2は、次式により推定される(図3の
ステップ110)。
By integrating the Fe elution amount ΔFfe calculated using this equation (7), the amount of A due to dross is
The amount of decrease ΔAl2 is estimated by the following equation (step 110 in FIG. 3).

【0076】[0076]

【数6】[Math 6]

【0077】めっき浴中のAl 濃度推定値Pal[%
]及びPb 濃度推定値Ppb[%]は、次式により推
定する。
Estimated Al concentration in the plating bath Pal [%
] and the estimated Pb concentration value Ppb [%] are estimated by the following equation.

【0078】[0078]

【数7】[Math 7]

【0079】ここで、Ppal は、メインポットのA
l 濃度実績値[%]、Phal は、高Al プリメ
ルトポットのAl 濃度[%]、Pkal は、汲出用
プリメルトポットのAl 濃度[%]、ΔQalは、直
前のサンプリング以後の高Al プリメルトポットから
の補給量[kg]、ΔQk は、同じく汲出し用プリメ
ルトポットからの補給量[kg]、ΔAl はAl 全
減少量[kg]、Ialは、直前サンプリング以後の1
0%Al 20kg小インゴット投入個数、ΔQは、め
っき液減少量[kg]、ΔQznは、直前サンプリング
以後のZn プリメルトポットからの補給量[kg]、
Iznは、直前サンプリング以後のメインポットへの純
Zn 1ton インゴット投入個数、Pppb は、
メインポットのPb 濃度実績値[%]、Ipbは、直
前サンプリング以後の純Pb 5kgインゴット投入個
数、ΔPb は、Pb 減少量[kg]である。
Here, Ppal is the main pot A
l Concentration actual value [%], Phal is the Al concentration of the high-Al pre-melt pot [%], Pkal is the Al concentration of the pre-melt pot for pumping [%], ΔQal is the high-Al pre-melt pot after the previous sampling ΔQk is the amount of replenishment from the pot [kg], ΔQk is the amount of replenishment from the pre-melt pot for pumping out [kg], ΔAl is the total decrease in Al [kg], and Ial is the amount of 1 after the immediately preceding sampling.
The number of 0% Al 20 kg small ingots input, ΔQ is the amount of plating solution decrease [kg], ΔQzn is the amount of replenishment from the Zn pre-melt pot after the last sampling [kg],
Izn is the number of pure Zn 1 ton ingots added to the main pot after the last sampling, Pppb is
The actual Pb concentration value [%] in the main pot, Ipb is the number of pure Pb 5 kg ingots introduced after the previous sampling, and ΔPb is the Pb reduction amount [kg].

【0080】既に説明したように、めっき層中のAl 
濃度Pgal は、めっき浴中のAl 濃度Palより
濃くなっている。めっき付着量とめっき層中のAl 濃
度Pgal の関係の例を図4に示す。めっき層中のA
l 濃度Pgal は、めっき液中のAl 濃度Pal
と密接な関係を持っているが、めっき品種毎で、めっき
浴中のAl 濃度は一定とする。図4に示したような、
めっき付着量とめっき層中のAl 濃度Pgal の関
係は、例えば折れ線テーブルとして制御装置(図示省略
)に格納し、随時取り出して使用する。
As already explained, Al in the plating layer
The concentration Pgal is higher than the Al concentration Pal in the plating bath. FIG. 4 shows an example of the relationship between the amount of plating deposited and the Al concentration Pgal in the plating layer. A in the plating layer
l concentration Pgal is the Al concentration Pal in the plating solution
However, the Al concentration in the plating bath is fixed for each type of plating. As shown in Figure 4,
The relationship between the amount of plating deposited and the Al concentration Pgal in the plating layer is stored in a control device (not shown) as a polygonal line table, for example, and taken out and used at any time.

【0081】なお、付着量計故障時や、付着量設定値が
0g / m2 の場合は、操業実績値より、ライン速
度に応じて、例えば5段階程度に層分けしたテーブルを
作成して、格納することができる。
[0081] In addition, when the adhesion meter is out of order or the adhesion amount set value is 0g/m2, a table is created and stored in, for example, five levels according to the line speed based on the actual operating values. be able to.

【0082】めっき液の減少量ΔQ[kg]は、次式に
より推定する(図3のステップ120)。
The reduction amount ΔQ [kg] of the plating solution is estimated using the following equation (step 120 in FIG. 3).

【0083】[0083]

【数8】[Math. 8]

【0084】ここで、Lは、学習パラメータであり、例
えばメインポットレベル、付着量、補給量等の実績値に
より更新することができる。即ち、めっき液の減少には
、ストリップへの付着の他に、既に述べたような要因が
考えられるが、それらを定量的に計算するのは困難であ
るため、めっき付着量との比で表わして、吸収する。
[0084] Here, L is a learning parameter, which can be updated based on actual values such as the main pot level, adhesion amount, replenishment amount, etc. In other words, in addition to adhesion to the strip, factors such as those already mentioned may be responsible for the decrease in plating solution, but since it is difficult to quantitatively calculate these factors, it is expressed as a ratio to the amount of plating deposited. and absorb it.

【0085】一方、Al の全減少量ΔAl [kg]
は、次式により推定する(図3のステップ130)。
On the other hand, the total decrease in Al ΔAl [kg]
is estimated by the following equation (step 130 in FIG. 3).

【0086】[0086]

【数9】[Math. 9]

【0087】ここで、Lalは学習パラメータであり、
Al 濃度、補給量、付着量等の実績値により計算して
更新する。l1、l2は、手動更新可能な係数で、初め
はl1=l2=1.0とすることができる。
[0087] Here, Lal is a learning parameter,
Calculate and update based on actual values such as Al concentration, replenishment amount, adhesion amount, etc. l1 and l2 are coefficients that can be updated manually and can initially be set to l1=l2=1.0.

【0088】Al の減少は、ストリップへの付着、ド
ロスとしての排出の他、他の要因も考えられるが、それ
らを定量的に計算することが困難であるので、ストリッ
プへのAl 付着量及びドロス量を用いて推定する。
The decrease in Al may be caused by other factors besides adhesion to the strip and discharge as dross, but since it is difficult to quantitatively calculate these factors, the amount of Al adhering to the strip and the dross Estimate using quantity.

【0089】前出(11)式、(12)式により求めら
れるめっき液減少量ΔQ及びAl 全減少量ΔAl よ
り、補給すべきAl 濃度P*[%]、補給量Q*[k
g/sec ]は、次式のように表わされる。
From the plating solution decrease amount ΔQ and the total Al decrease amount ΔAl determined by the above equations (11) and (12), the Al concentration to be replenished P*[%] and the replenishment amount Q*[k
g/sec] is expressed as in the following equation.

【0090】[0090]

【数10】[Math. 10]

【0091】又、Pb の減少量ΔPbn[kg]は、
次式のように推定する(図3のステップ140)。
[0091] Furthermore, the amount of decrease in Pb ΔPbn [kg] is
It is estimated as shown in the following equation (step 140 in FIG. 3).

【0092】[0092]

【数11】[Math. 11]

【0093】ここで、学習パラメータLは、(11)式
のLと同じである。即ち、Pb の減少量は、めっき液
の減少量にほぼ比例するので、めっき液の減少量の学習
パラメータLと同じものを使用することができる。
Here, the learning parameter L is the same as L in equation (11). That is, since the amount of decrease in Pb is approximately proportional to the amount of decrease in plating solution, the same learning parameter L for the amount of decrease in plating solution can be used.

【0094】■GIダクト製造時の補給方法(図3のス
テップ150) GIダクト製造時の補給は、インゴットを直接メインポ
ット20に投入する。 インゴットの種類は、次の通りである。
■Replenishment method during GI duct manufacturing (step 150 in FIG. 3) For replenishment during GI duct manufacturing, ingots are directly put into the main pot 20. The types of ingots are as follows.

【0095】Zn …純Zn 1ton (インゴット
投入機70により自動投入) Al …10%Al 20kg(オペレータによる手動
投入)Pb …純Pb 5kg(オペレータによる手動
投入又はホッパー72による自動投入)
Zn...Pure Zn 1 ton (automatically introduced by the ingot feeder 70) Al...10% Al 20 kg (manually fed by the operator) Pb...Pure Pb 5 kg (manually fed by the operator or automatically fed by the hopper 72)

【0096】Zn インゴットは、メインポットレベル
計により、メインポットレベルBp が、基準レベルよ
りインゴット1個分以上レベル低下したときに投入する
。 又、メインポットのレベル計が故障したときは、(11
)式で算出しためっき液減少量ΔQが1ton を越え
たときにも投入可能とすることができる。
Zn ingots are introduced when the main pot level Bp is lower than the reference level by one ingot or more as determined by the main pot level meter. Also, if the level meter of the main pot is malfunctioning, please refer to (11)
) It is possible to make it possible to input the plating solution even when the plating solution decrease amount ΔQ calculated by the formula exceeds 1 ton.

【0097】又、(12)式で算出したAl 全減少量
ΔAl が所定値(例えば18kg)を越えたときに、
これに対応する所定量、例えば9枚のAl 小インゴッ
ト74を投入する。
[0097] Furthermore, when the total Al reduction amount ΔAl calculated by equation (12) exceeds a predetermined value (for example, 18 kg),
A predetermined amount corresponding to this, for example, nine small Al ingots 74 are thrown in.

【0098】(15)式で算出したPb 減少量ΔPb
 が所定値、例えば10kgを越えたときに、これに対
応する所定量、例えば2枚のPb小インゴット76を投
入する。
Pb decrease amount ΔPb calculated by formula (15)
When the weight exceeds a predetermined value, for example 10 kg, a corresponding predetermined amount, for example two small Pb ingots 76, are introduced.

【0099】なお、GA製造時の付着量は、合金化度計
で測定するが、合金化部分が含まれるため、測定値Mo
 、Mu をそのままめっき液の減少量等の計算に使用
できない。そこで、次式により補正する。
[0099] The amount of adhesion during GA production is measured using an alloying degree meter, but since alloyed parts are included, the measured value Mo
, Mu cannot be used as is to calculate the amount of reduction in plating solution, etc. Therefore, the following equation is used for correction.

【0100】[0100]

【数12】[Math. 12]

【0101】ここで、Gofe は、表側合金層の鉄含
有率[%]、Gufe は、裏側合金層の鉄含有率[%
]である。
Here, Gofe is the iron content [%] of the front side alloy layer, and Gufe is the iron content [%] of the back side alloy layer.
].

【0102】なお、本実施例においては、めっき液の濃
度調整を、予測値を基礎として行っているため、長時間
経過すると濃度に誤差が生じてくる恐れがある。従って
、各濃度を定期的に測定して補正を行う。
[0102] In this example, since the concentration of the plating solution is adjusted based on the predicted value, there is a possibility that an error may occur in the concentration over a long period of time. Therefore, each concentration is periodically measured and corrected.

【0103】濃度測定は、オペレータが、所定時間毎に
めっき液を数箇所でサンプリングし、Al 濃度、Pb
 濃度、Fe 濃度を測定する。なお、各濃度は、数個
の測定値の平均を用いる。又、汲出用プリメルトポット
62に液がある場合には、そのAl 濃度、Pb 濃度
、Fe 濃度も同様に測定する。
To measure the concentration, the operator samples the plating solution at several locations at predetermined intervals, and measures the Al concentration, Pb concentration, and
Measure the concentration and Fe concentration. Note that each concentration uses the average of several measured values. Furthermore, if there is liquid in the pre-melt pot 62 for pumping out, its Al 2 concentration, Pb 2 concentration, and Fe 2 concentration are also measured in the same manner.

【0104】測定の結果、メインポット20のAl 濃
度、Pb 濃度が、各濃度の上下限設定値から外れてい
る場合には、Al 濃度の補正を行う。なお、Pb 濃
度の補正、及び、次回サンプリング時の学習パラメータ
の更新は行わない。
As a result of the measurement, if the Al concentration and Pb concentration of the main pot 20 deviate from the upper and lower limit set values for each concentration, the Al concentration is corrected. Note that the Pb concentration is not corrected and the learning parameters are not updated at the next sampling.

【0105】具体的には、Al 濃度が高いときには、
プリメルトポットからの補給を止め、メインポットへ純
Zn インゴットを補給する。補給タイミングは、メイ
ンポットレベルBp が基準レベルよりインゴット1個
分のレベル以上低下したときとする。インゴット投入毎
に(9)式によりAl 濃度推定値を計算し、Al 濃
度が目標濃度になった時点で、プリメルトポットからの
補給に切替える。
Specifically, when the Al concentration is high,
Stop supplying from the pre-melt pot and supply pure Zn ingots to the main pot. The replenishment timing is when the main pot level Bp has decreased by one ingot or more from the reference level. The estimated Al concentration is calculated using equation (9) each time an ingot is introduced, and when the Al concentration reaches the target concentration, the supply is switched to the pre-melt pot.

【0106】一方、Al 濃度が低いときは、前出■濃
度補正のところで説明した方法によりAl 濃度補正を
行う。
On the other hand, when the Al concentration is low, the Al concentration is corrected by the method explained in the above section (2) concentration correction.

【0107】■補給モード めっき液の補給モードには、インゴットを直接投入する
インゴットモードと、プリメルトポットから補給するレ
ードルモードがある。
■Replenishment mode There are two plating solution replenishment modes: an ingot mode in which ingots are directly introduced, and a ladle mode in which ingots are replenished from a pre-melt pot.

【0108】本実施例では、次の示す場合のみインゴッ
トモードとし、他の場合はレードルモードとする。
In this embodiment, the ingot mode is used only in the following cases, and the ladle mode is used in other cases.

【0109】・GIダクト製造 レードルモードへの復帰は、品種切替開始時とする。・GI duct manufacturing Return to ladle mode is at the start of product type switching.

【0110】・レードル故障 レードルモードへの復帰は、レードル使用可能となった
ときとする。
- Ladle failure Return to ladle mode is when the ladle becomes usable.

【0111】・Al 濃度上限設定値オーバーレードル
モードへの復帰は、Al 濃度が目標値以下になったと
きとする。
- The Al concentration upper limit setting value returns to the overlaid mode when the Al concentration falls below the target value.

【0112】・計算した補給ピッチが最短補給ピッチ未
満の場合 レードルモードへの復帰は、仮想段付き点がメインポッ
トを通過したときとする。
- If the calculated replenishment pitch is less than the shortest replenishment pitch, the mode returns to the ladle mode when the virtual stepped point passes the main pot.

【0113】なお、レードル復帰時の最初の補給は、仮
補給ピッチにより行う。
[0113] The first replenishment when the ladle returns is performed using a temporary replenishment pitch.

【0114】前記実施例においては、サブポットの数が
2個とされていたが、サブポットの数は、これに限定さ
れず、3個以上であっても良いことは明らかである。
[0114] In the above embodiment, the number of sub-pots was two, but it is clear that the number of sub-pots is not limited to this and may be three or more.

【0115】[0115]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、組
成の異なるめっき液が収容される、少なくとも2つのサ
ブポットを用いることによって、メインポットのめっき
液を迅速に切替えることができる。
As explained above, according to the present invention, by using at least two sub-pots containing plating solutions of different compositions, the plating solution in the main pot can be quickly switched.

【0116】又、調整又は補給成分を予め溶融したプリ
メルトポットを併用した場合には、濃度調整及びめっき
液の供給が円滑に行われる。
[0116] Furthermore, when a pre-melt pot in which adjustment or replenishment components are melted in advance is used, concentration adjustment and supply of the plating solution can be carried out smoothly.

【0117】更に、調整又は補給成分のインゴット投入
手段を併用した場合には、濃度変動やレベル変動が大で
ある場合も迅速に対応できる。
[0117] Furthermore, when an adjustment or replenishment component ingot feeding means is used in combination, it is possible to quickly respond even when there are large concentration fluctuations or level fluctuations.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】図1は、連続溶融亜鉛めっきの製造品種及びそ
の目標濃度を示す表である。
FIG. 1 is a table showing continuous hot-dip galvanizing products and their target concentrations.

【図2】図2は、本発明に係るめっき浴成分制御を実施
するための設備の構成例を模式的に示す線図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration example of equipment for implementing plating bath component control according to the present invention.

【図3】図3は、本発明の実施例における制御の手順を
示す流れ図である。
FIG. 3 is a flowchart showing a control procedure in an embodiment of the present invention.

【図4】図4は、めっき付着量とめっき層中のAl 濃
度の関係の例を示す線図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of the relationship between the amount of plating deposited and the Al concentration in the plating layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ストリップ、 20…メインポット、 21…めっき用溶融金属、 22…高Pb サブポット、 32…低Pb サブポット、 42…高Al プリメルトポット、 50…Al インゴット投入機、 52…Zn プリメルトポット、 60、70…Zn インゴット投入機、62…汲出用プ
リメルトポット、 72…Pb 投入用ホッパ、 74…Al 小インゴット、 76…Pb 小インゴット。
10... Strip, 20... Main pot, 21... Molten metal for plating, 22... High Pb sub-pot, 32... Low Pb sub-pot, 42... High Al pre-melt pot, 50... Al ingot feeder, 52... Zn pre-melt pot, 60, 70...Zn ingot feeding machine, 62...Pre-melt pot for pumping out, 72...Pb feeding hopper, 74...Al small ingot, 76...Pb small ingot.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】組成の異なるめっき浴にて溶融めっきを行
う際の組成切替時のめっき浴成分制御方法において、被
めっき材が通過するようにされたメインポットと、組成
の異なるめっき液が収容される、少なくとも2つのサブ
ポットとを用い、めっき時には、前記サブポットの1つ
からメインポットへめっき液を注湯し、組成切替時には
、該メインポットからめっき液を汲み出して前記サブポ
ットへ戻した後、他のサブポットからメインポットへめ
っき液を注湯することを特徴とする組成切替時のめっき
浴成分制御方法。
Claim 1: A method for controlling the composition of a plating bath when switching the composition when performing hot-dip plating using plating baths with different compositions, comprising a main pot through which a material to be plated passes, and a plating solution containing a different composition. At the time of plating, the plating solution is poured into the main pot from one of the subpots, and when the composition is changed, the plating solution is pumped out from the main pot and returned to the subpot, and then A method for controlling plating bath components at the time of composition switching, characterized by pouring a plating solution from another sub-pot into a main pot.
【請求項2】請求項1において、調整又は補給成分を予
め溶融したプリメルトポットを併用し、必要な濃度及び
めっき液の減少量に対応するよう該プリメルトポットか
ら前記メインポットに成分を供給することを特徴とする
組成切替時のめっき浴成分制御方法。
[Claim 2] In Claim 1, a pre-melt pot in which adjusting or replenishing ingredients are melted in advance is used, and the ingredients are supplied from the pre-melt pot to the main pot in accordance with the required concentration and reduction amount of the plating solution. A method for controlling plating bath components at the time of composition switching, characterized by:
【請求項3】請求項1又は2において、調整又は補給成
分のインゴット投入手段を併用し、必要な濃度及びめっ
き液の減少量に対応するよう、前記メインポット又はプ
リメルトポットにインゴットを投入することを特徴とす
る組成切替時のめっき浴成分制御方法。
3. According to claim 1 or 2, ingots are charged into the main pot or pre-melt pot so as to correspond to the required concentration and reduction amount of the plating solution by using an ingot charging means for adjustment or supplementary components. A method for controlling plating bath components at the time of composition switching, characterized by:
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