JPH04227087A - 中空シリンダー支持システム - Google Patents
中空シリンダー支持システムInfo
- Publication number
- JPH04227087A JPH04227087A JP3161229A JP16122991A JPH04227087A JP H04227087 A JPH04227087 A JP H04227087A JP 3161229 A JP3161229 A JP 3161229A JP 16122991 A JP16122991 A JP 16122991A JP H04227087 A JPH04227087 A JP H04227087A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mandrel
- coating
- axle
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 23
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 174
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 73
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 70
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 24
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 14
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 8
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 230000000881 depressing effect Effects 0.000 description 3
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical class [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000013536 elastomeric material Substances 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 108020003175 receptors Proteins 0.000 description 1
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23B—TURNING; BORING
- B23B31/00—Chucks; Expansion mandrels; Adaptations thereof for remote control
- B23B31/40—Expansion mandrels
- B23B31/404—Gripping the work or tool by jaws moving radially controlled by conical surfaces
- B23B31/4046—Details of the jaws
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/123—Hollow cylinder handlers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、シリンダーを支持す
る装置と方法に関する。
る装置と方法に関する。
【0002】
【従来の技術】円筒状基板を洗浄し被覆する各種の技術
が考案されている。基板支持要素は必ず中空シリンダー
の内部に位置し、シリンダーの外面への被覆に干渉しな
いようになされる。中空金属シリンダーが膜形形成ポリ
マーの液で被覆されている場合、被覆されたシリンダー
の熱乾燥と冷却中に金属表面と中空シリンダー内の支持
要素との間の熱伝達の不均一によって被覆のテクスチャ
ーと厚さのばらつきが発生する。基板の支持に用いられ
る装置は基板上の絶縁された接点から熱を奪う(ヒート
シンキング)ことによって被覆の不均一を引き起こす傾
向があると考えられている。被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一性は静電結像部材の被覆において特に好ましく
ないとされる。これは被覆にわずかなばらつきがあって
も最終製品の電気的特性に悪影響をおよぼすことがある
ためである。さらにある種の支持体は被覆中に用いられ
る溶液によって冒され、その結果支持不良となることが
ある。また支持装置を再利用する際に、基板と支持装置
がくり返し滑動接触することによって支持体の浸食が起
こり、支持体が基板上の最終被覆を汚染する微粒子を発
生することがある。さらに支持体に用いられる材料によ
っては支持体が好ましくない蒸気汚染の原因となること
がある。
が考案されている。基板支持要素は必ず中空シリンダー
の内部に位置し、シリンダーの外面への被覆に干渉しな
いようになされる。中空金属シリンダーが膜形形成ポリ
マーの液で被覆されている場合、被覆されたシリンダー
の熱乾燥と冷却中に金属表面と中空シリンダー内の支持
要素との間の熱伝達の不均一によって被覆のテクスチャ
ーと厚さのばらつきが発生する。基板の支持に用いられ
る装置は基板上の絶縁された接点から熱を奪う(ヒート
シンキング)ことによって被覆の不均一を引き起こす傾
向があると考えられている。被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一性は静電結像部材の被覆において特に好ましく
ないとされる。これは被覆にわずかなばらつきがあって
も最終製品の電気的特性に悪影響をおよぼすことがある
ためである。さらにある種の支持体は被覆中に用いられ
る溶液によって冒され、その結果支持不良となることが
ある。また支持装置を再利用する際に、基板と支持装置
がくり返し滑動接触することによって支持体の浸食が起
こり、支持体が基板上の最終被覆を汚染する微粒子を発
生することがある。さらに支持体に用いられる材料によ
っては支持体が好ましくない蒸気汚染の原因となること
がある。
【0003】加えて被覆装置の源に対して円筒状基板を
精密に位置合わせすることは支持装置が多い場合困難と
なることがある。中空シリンダーが片持アームによって
支持される場合、特にアームが中央の被覆塗布源の周囲
に同心状に配設される場合、被覆材料源と被覆すべき中
空シリンダーの表面の間の距離を注意深く調整すること
が非常に重要である。片持アームと支持された中空シリ
ンダーの内面の間に遊びがある場合、この遊びによって
シリンダーと被覆面の異なる位置の間に距離のばらつき
を発生することがある。
精密に位置合わせすることは支持装置が多い場合困難と
なることがある。中空シリンダーが片持アームによって
支持される場合、特にアームが中央の被覆塗布源の周囲
に同心状に配設される場合、被覆材料源と被覆すべき中
空シリンダーの表面の間の距離を注意深く調整すること
が非常に重要である。片持アームと支持された中空シリ
ンダーの内面の間に遊びがある場合、この遊びによって
シリンダーと被覆面の異なる位置の間に距離のばらつき
を発生することがある。
【0004】従来のシステムの他の欠点としてはシリン
ダーの取りつけと取り外しに要する時間が長く、またこ
れらの従来のシステムを自動化することが困難なことが
ある。中空スリーブを円筒上の断面を有する片持アーム
から離間するための技術の1つとしてシリンダーの各端
部にエンドキャップを用いることがある。このエンドキ
ャップは各シリンダーの各端部の外面を覆い、また心棒
に向かって径方向に伸長するフランジを有する。したが
って、エンドキャップの径部分の断面はエンドキャップ
が単一のシリンダーに用いられるか、2つのシリンダー
の端部が互いに隣接する複数のシリンダーに用いられる
かによって“T”あるいは“L”の外観をとる。この種
のエンドキャップの端面はワッシャーの外観を有する。 エンドキャップを用いる目的の1つはシリンダーの外面
と片持支持アームの軸との間に均一な間隔を持たせるこ
とである。しかし、エンドキャップが支持片持アームに
擦れることによって摩耗が発生し、その結果遊びが発生
する。またこの擦れによって望ましくない異物の形成が
起こる。またエンドキャップはかなりの体積があり、シ
リンダーの端部に不均一な過熱を起こし、それによって
被覆の均一性に影響することがある。
ダーの取りつけと取り外しに要する時間が長く、またこ
れらの従来のシステムを自動化することが困難なことが
ある。中空スリーブを円筒上の断面を有する片持アーム
から離間するための技術の1つとしてシリンダーの各端
部にエンドキャップを用いることがある。このエンドキ
ャップは各シリンダーの各端部の外面を覆い、また心棒
に向かって径方向に伸長するフランジを有する。したが
って、エンドキャップの径部分の断面はエンドキャップ
が単一のシリンダーに用いられるか、2つのシリンダー
の端部が互いに隣接する複数のシリンダーに用いられる
かによって“T”あるいは“L”の外観をとる。この種
のエンドキャップの端面はワッシャーの外観を有する。 エンドキャップを用いる目的の1つはシリンダーの外面
と片持支持アームの軸との間に均一な間隔を持たせるこ
とである。しかし、エンドキャップが支持片持アームに
擦れることによって摩耗が発生し、その結果遊びが発生
する。またこの擦れによって望ましくない異物の形成が
起こる。またエンドキャップはかなりの体積があり、シ
リンダーの端部に不均一な過熱を起こし、それによって
被覆の均一性に影響することがある。
【0005】1968年1月23日にDowling
に発行された米国特許第 3,365,158号に乾燥
オーブン中を缶を搬送し缶の外面に塗布された被覆材料
を乾燥させるためのコンベヤチェーンに用いる缶ホルダ
ーを説明している。 このホルダーは一端がコンベヤチェーンに取りつけられ
た支持ロッドを有し、チェーンから水平方向に伸長する
。比較的柔軟なエラストマー材料から成型された少なく
とも2つのくも型のフィットメントがロッドの長手方向
に沿って取りつけられる。各フィットメントはハブとハ
ブから径方向に伸長する少なくとも3つの可とう性のア
ームを有する。このハブはロッドの上に位置する中央開
口部を有し、アームには外側のアームに固いウエアチッ
プが設けられている。缶がホルダーに置かれると、ウエ
アチップが缶の内壁と噛み合ってアームをわずかに屈曲
させ、それによってアームに弾性回復力を発生せせ、そ
の結果ウエアチップが側壁に対してしっかりと、かつ柔
らかく押しつけられて缶を保持する。この構成はたとえ
ば図2に示されている。
に発行された米国特許第 3,365,158号に乾燥
オーブン中を缶を搬送し缶の外面に塗布された被覆材料
を乾燥させるためのコンベヤチェーンに用いる缶ホルダ
ーを説明している。 このホルダーは一端がコンベヤチェーンに取りつけられ
た支持ロッドを有し、チェーンから水平方向に伸長する
。比較的柔軟なエラストマー材料から成型された少なく
とも2つのくも型のフィットメントがロッドの長手方向
に沿って取りつけられる。各フィットメントはハブとハ
ブから径方向に伸長する少なくとも3つの可とう性のア
ームを有する。このハブはロッドの上に位置する中央開
口部を有し、アームには外側のアームに固いウエアチッ
プが設けられている。缶がホルダーに置かれると、ウエ
アチップが缶の内壁と噛み合ってアームをわずかに屈曲
させ、それによってアームに弾性回復力を発生せせ、そ
の結果ウエアチップが側壁に対してしっかりと、かつ柔
らかく押しつけられて缶を保持する。この構成はたとえ
ば図2に示されている。
【0006】1941年2月25日に Atwell
その他に発行された米国特許第 2,233,070号
では、中空の物品を挟持するための長手方向に間隔をお
いて配置したヘッドを有する中空の物品用のホルダーが
開示されている。各ヘッドはそれらの結合された隣接す
る端部がほぼ円すい状の骨組構造を提供するように相互
に空間的に配設された径方向および長手方向に伸長する
複数のつめを有し、対向するヘッドのつめが中空の物品
の対向する端部に入り、中空の物品の内側の端部の周上
に間隔をおいて配置された位置で中空の物品に入るよう
適合されている。この構成はたとえば図5および図6に
示されており、2ページの右45−62行に説明されて
いる。
その他に発行された米国特許第 2,233,070号
では、中空の物品を挟持するための長手方向に間隔をお
いて配置したヘッドを有する中空の物品用のホルダーが
開示されている。各ヘッドはそれらの結合された隣接す
る端部がほぼ円すい状の骨組構造を提供するように相互
に空間的に配設された径方向および長手方向に伸長する
複数のつめを有し、対向するヘッドのつめが中空の物品
の対向する端部に入り、中空の物品の内側の端部の周上
に間隔をおいて配置された位置で中空の物品に入るよう
適合されている。この構成はたとえば図5および図6に
示されており、2ページの右45−62行に説明されて
いる。
【0007】1964年11月10日に Brownに
発行された米国特許第 3,156,033号には、ガ
ラス被覆したローラーを形成する方法が説明されており
、ここでは被覆動作中(コラム3、50−56行参照)
に基板を保持するためにシャフト(図5参照)を採用し
ている。支持面21とシェル2の内面との間にはクリア
ランスが設けられる。
発行された米国特許第 3,156,033号には、ガ
ラス被覆したローラーを形成する方法が説明されており
、ここでは被覆動作中(コラム3、50−56行参照)
に基板を保持するためにシャフト(図5参照)を採用し
ている。支持面21とシェル2の内面との間にはクリア
ランスが設けられる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】したがって、従来の支
持システムでは、塗布された被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一、被覆の塗布中に用いる溶液による支持体への
悪影響、支持体の浸食、最終被覆を汚染する微粒子の発
生といったさまざまな面での困難があった。また従来の
支持システムは時として望ましくない蒸気汚染の原因と
なることがあった。さらに、円筒状基板の被覆塗布装置
の源に対する位置合わせが不正確である場合、支持アー
ムと支持される中空シリンダーの間に高い公差の被覆と
遊びを達成することができず、その結果被覆源への距離
のばらつきが発生することがある。またシリンダーの取
りつけおよび取り外しに長時間を要すること、あるいは
自動化が困難であるといった点は生産において望ましく
ないことである。加えて、支持アーム上のエンドキャッ
プの擦れによって摩耗、遊び、および異物が発生し、ま
た端部の不均一な加熱や被覆の不均一といった影響を及
ぼす。
持システムでは、塗布された被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一、被覆の塗布中に用いる溶液による支持体への
悪影響、支持体の浸食、最終被覆を汚染する微粒子の発
生といったさまざまな面での困難があった。また従来の
支持システムは時として望ましくない蒸気汚染の原因と
なることがあった。さらに、円筒状基板の被覆塗布装置
の源に対する位置合わせが不正確である場合、支持アー
ムと支持される中空シリンダーの間に高い公差の被覆と
遊びを達成することができず、その結果被覆源への距離
のばらつきが発生することがある。またシリンダーの取
りつけおよび取り外しに長時間を要すること、あるいは
自動化が困難であるといった点は生産において望ましく
ないことである。加えて、支持アーム上のエンドキャッ
プの擦れによって摩耗、遊び、および異物が発生し、ま
た端部の不均一な加熱や被覆の不均一といった影響を及
ぼす。
【0009】このように、中空シリンダー支持システム
の特性は高品位の被覆装置に用いられる基板に対する高
精度および高清浄度の要求を満足するには問題がある。 この発明の目的は各種の処理動作中に中空の円筒状基板
を支持する改善された方法と装置を提供することによっ
て上述の欠点を克服することである。この発明の他の目
的は、基板上の絶縁された接点から熱を奪う(ヒートシ
ンキング)ことなく高温に耐える中空の円筒状基板を支
持する改善された方法と装置を提供することである。
の特性は高品位の被覆装置に用いられる基板に対する高
精度および高清浄度の要求を満足するには問題がある。 この発明の目的は各種の処理動作中に中空の円筒状基板
を支持する改善された方法と装置を提供することによっ
て上述の欠点を克服することである。この発明の他の目
的は、基板上の絶縁された接点から熱を奪う(ヒートシ
ンキング)ことなく高温に耐える中空の円筒状基板を支
持する改善された方法と装置を提供することである。
【0010】またこの発明の他の目的は、被覆溶液に対
して抵抗力のある中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、使用中微粒子あるいは蒸気汚染を発生しない
中空の円筒状基板を支持する改善された方法と装置を提
供することである。またこの発明の他の目的は、基板を
支持装置の中心線に同心に位置決めする中空の円筒状基
板を支持する改善された方法と装置を提供することであ
る。
して抵抗力のある中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、使用中微粒子あるいは蒸気汚染を発生しない
中空の円筒状基板を支持する改善された方法と装置を提
供することである。またこの発明の他の目的は、基板を
支持装置の中心線に同心に位置決めする中空の円筒状基
板を支持する改善された方法と装置を提供することであ
る。
【0011】またこの発明の他の目的は、基板の手動あ
るいは自動取りつけおよび取り外しを簡単かつ迅速に行
いうるようにする中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、処理時間を短縮する円筒状基板を支持する改
善された方法と装置を提供することである。
るいは自動取りつけおよび取り外しを簡単かつ迅速に行
いうるようにする中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、処理時間を短縮する円筒状基板を支持する改
善された方法と装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】支持された端部と支持さ
れない自由端を有する片持アームと、この片持アームの
外周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転
可能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくと
も1つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持する
ように設けられたことを特徴この発明においてこれらの
目的およびその他の目的は、支持された端部と支持され
ない自由端を有する片持アームと、この片持アームの外
周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転可
能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくとも
1つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持するよ
うに設けられた中空シリンダー支持装置および支持方法
を提供することによって達成される。この装置は少なく
とも1つの中空シリンダーを取り扱うための処理に採用
することができる。
れない自由端を有する片持アームと、この片持アームの
外周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転
可能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくと
も1つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持する
ように設けられたことを特徴この発明においてこれらの
目的およびその他の目的は、支持された端部と支持され
ない自由端を有する片持アームと、この片持アームの外
周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転可
能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくとも
1つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持するよ
うに設けられた中空シリンダー支持装置および支持方法
を提供することによって達成される。この装置は少なく
とも1つの中空シリンダーを取り扱うための処理に採用
することができる。
【0013】
【実施例】図1において、円筒状心棒アッセンブリー1
0は片持式であり、支持構造12によって支持されるも
のとして示される。心棒アッセンブリー10は円筒状の
断面を有するチューブ14からなる。チューブ14の内
部には一端がベアリングブロック18に他端がベアリン
グポスト20に支持されたシャフト16が取りつけられ
ており、これらはいずれもチューブ14の内部に取りつ
けられ支持されている。ベアリングブロック18および
ベアリングポスト20はシャフト16をチューブ14と
同軸に支持し、維持する。シャフト16の一端には押さ
えピン28のヘッド26を受けるように適合させたノッ
チ24(図3参照)を含むボタン22が固着されており
、ピン28のヘッド26に対向する端部はベアリングブ
ロック18に固着され支持されている。
0は片持式であり、支持構造12によって支持されるも
のとして示される。心棒アッセンブリー10は円筒状の
断面を有するチューブ14からなる。チューブ14の内
部には一端がベアリングブロック18に他端がベアリン
グポスト20に支持されたシャフト16が取りつけられ
ており、これらはいずれもチューブ14の内部に取りつ
けられ支持されている。ベアリングブロック18および
ベアリングポスト20はシャフト16をチューブ14と
同軸に支持し、維持する。シャフト16の一端には押さ
えピン28のヘッド26を受けるように適合させたノッ
チ24(図3参照)を含むボタン22が固着されており
、ピン28のヘッド26に対向する端部はベアリングブ
ロック18に固着され支持されている。
【0014】チューブ14の外面には支持受け台30、
32および34が取りつけられている。これらの受け台
はねじやリベットといった適当な手段でチューブ14に
固着される。また、受け台30、32および34はそれ
ぞれスロット36、38および40を有する。図1およ
び図2には、一対の間隔をおいたレール42および44
を図示しており、これらは互いに平行であり、離間され
ている。レール42および44にはガイドピン46、4
8および50が固着されており、これらはそれぞれスロ
ット36、38および40に入る。
32および34が取りつけられている。これらの受け台
はねじやリベットといった適当な手段でチューブ14に
固着される。また、受け台30、32および34はそれ
ぞれスロット36、38および40を有する。図1およ
び図2には、一対の間隔をおいたレール42および44
を図示しており、これらは互いに平行であり、離間され
ている。レール42および44にはガイドピン46、4
8および50が固着されており、これらはそれぞれスロ
ット36、38および40に入る。
【0015】ホイール52、54、56、58、60、
62、64および66がレール42と44の間に、レー
ル42と44の長さに沿って間隔をおいて配置されてい
る。これらのホイールには弾性の低熱伝導材料からなる
タイヤ66が取りつけられている。ホイール52、54
、56、58、60、62、64および66は両端がレ
ール42と44に固着されたアクスルを用いてレール4
2と44の間にフリーホイール部材として保持されてい
る。
62、64および66がレール42と44の間に、レー
ル42と44の長さに沿って間隔をおいて配置されてい
る。これらのホイールには弾性の低熱伝導材料からなる
タイヤ66が取りつけられている。ホイール52、54
、56、58、60、62、64および66は両端がレ
ール42と44に固着されたアクスルを用いてレール4
2と44の間にフリーホイール部材として保持されてい
る。
【0016】図1において、各レール42、44の一端
はレール42と44に固着され、その間に取りつけられ
たねじ込みスペーサ部材(図示せず)内に支持された調
節可能な固定ねじ70を用いてチューブ14から離間さ
れる。図1および図3において、反転した“T”字状の
部材がレール42と44の間に挟持され、ねじ76と7
8によってそこに固着されている。この反転した“T”
字状の部材72は2つの離間された脚80および82か
らなるステムを有する。脚80および82のそれぞれの
一端にアクスル84が固着されており、このアクスルを
カム従動子86を支持する。カム87上のシャフト16
の長さに沿ったカム従動子86の位置に応じて、レール
対42、44の自由端は図1に示すようにチューブ14
に接近するか、あるいは図3に示すように中空の円筒状
基板88の内面に接近する。
はレール42と44に固着され、その間に取りつけられ
たねじ込みスペーサ部材(図示せず)内に支持された調
節可能な固定ねじ70を用いてチューブ14から離間さ
れる。図1および図3において、反転した“T”字状の
部材がレール42と44の間に挟持され、ねじ76と7
8によってそこに固着されている。この反転した“T”
字状の部材72は2つの離間された脚80および82か
らなるステムを有する。脚80および82のそれぞれの
一端にアクスル84が固着されており、このアクスルを
カム従動子86を支持する。カム87上のシャフト16
の長さに沿ったカム従動子86の位置に応じて、レール
対42、44の自由端は図1に示すようにチューブ14
に接近するか、あるいは図3に示すように中空の円筒状
基板88の内面に接近する。
【0017】図1に示すように、ボタン22は押し下げ
られた位置にロックされる。これは弾性の押さえピン2
8のヘッド26がボタン22のノッチ24に落ちこんだ
ためである。ボタン22がこの位置に来ることによって
シャフト16がばね90をワッシャー92に押しつけ、
ワッシャー92がベアリングポスト20によってその位
置に保持される。ばね90は圧縮されているため、シャ
フト16がベアリングポスト20から片寄らせる。
られた位置にロックされる。これは弾性の押さえピン2
8のヘッド26がボタン22のノッチ24に落ちこんだ
ためである。ボタン22がこの位置に来ることによって
シャフト16がばね90をワッシャー92に押しつけ、
ワッシャー92がベアリングポスト20によってその位
置に保持される。ばね90は圧縮されているため、シャ
フト16がベアリングポスト20から片寄らせる。
【0018】図2において、フランジ94と96はねじ
76によってレール42と44に固着されたものとして
示される。フランジ94と96のねじ76および78の
位置に対向する端部は、それぞればね100、102の
一端を受ける穴を有する。レール42と44を参照しつ
つ上に説明したレールアッセンブリーの構成については
、図2に示すようにチューブ14の周囲に120°離間
して配置した少なくとも2つの他の位置においても同様
の構成とされる。複雑さが増すためあまり望ましくはな
いが、チューブ14の周囲に3つ以上のレールアッセン
ブリーを構成することもできる。これらの同一のレール
アッセンブリーはすべて100、102等のばねによっ
てシャフト16の方に片寄らせられるため、シャフト1
6に対するこれらのレールアッセンブリーの位置は、対
応するカム従動子(たとえばカム従動子86)のカム8
7に対する位置によって決まる。この相対的な位置はボ
タン22のチューブ14の自由端に対する位置によって
制御される。このように、ボタン22が押し下げられた
ときカム従動子86はシャフト16の軸に最も近い位置
にあり、レール42と44の自由端(すなわちホイール
66に隣接する端部)は図1に示すようにチューブ14
の外面に最も近い位置にあり、心棒10への基板88の
取り付けを容易にしている。ボタン22のノッチ24の
断面(シャフト16の軸に平行な方向に見た断面)は“
C”の字に似た形状であるため、ボタン22をひねると
弾性の押さえピン28のヘッド26がスロット24から
出て、その後ボタン22が解放されたとき、ばね90が
シャフト16を押圧してベアリングポスト20から離し
、カム従動子86が押圧されてカム87の上に乗る。 これによってレールアッセンブリー42および44の自
由端が中空の円筒状基板88の内面に向かって移動し、
基板88を支持し、それをチューブ14に同軸に整列し
た関係に維持する。
76によってレール42と44に固着されたものとして
示される。フランジ94と96のねじ76および78の
位置に対向する端部は、それぞればね100、102の
一端を受ける穴を有する。レール42と44を参照しつ
つ上に説明したレールアッセンブリーの構成については
、図2に示すようにチューブ14の周囲に120°離間
して配置した少なくとも2つの他の位置においても同様
の構成とされる。複雑さが増すためあまり望ましくはな
いが、チューブ14の周囲に3つ以上のレールアッセン
ブリーを構成することもできる。これらの同一のレール
アッセンブリーはすべて100、102等のばねによっ
てシャフト16の方に片寄らせられるため、シャフト1
6に対するこれらのレールアッセンブリーの位置は、対
応するカム従動子(たとえばカム従動子86)のカム8
7に対する位置によって決まる。この相対的な位置はボ
タン22のチューブ14の自由端に対する位置によって
制御される。このように、ボタン22が押し下げられた
ときカム従動子86はシャフト16の軸に最も近い位置
にあり、レール42と44の自由端(すなわちホイール
66に隣接する端部)は図1に示すようにチューブ14
の外面に最も近い位置にあり、心棒10への基板88の
取り付けを容易にしている。ボタン22のノッチ24の
断面(シャフト16の軸に平行な方向に見た断面)は“
C”の字に似た形状であるため、ボタン22をひねると
弾性の押さえピン28のヘッド26がスロット24から
出て、その後ボタン22が解放されたとき、ばね90が
シャフト16を押圧してベアリングポスト20から離し
、カム従動子86が押圧されてカム87の上に乗る。 これによってレールアッセンブリー42および44の自
由端が中空の円筒状基板88の内面に向かって移動し、
基板88を支持し、それをチューブ14に同軸に整列し
た関係に維持する。
【0019】ボタン22を手動で押し下げたりひねった
りしてシャフト16を“取りつけ”位置にロックする、
あるいはその位置から解放することもできるが、このよ
うな操作はまた自動的に行うこともできる。たとえば、
取りつけ心棒110(点線で示す)を、たとえばつめ1
12の端部に位置するドライバーの刃状の突起(図示せ
ず)で好適に構成することができる。このドライバーの
刃状の突起はボタン22の自由端のスロット114に嵌
合するように適合されており、それによって取りつけ心
棒110に回転してボタン22を回転させる。したがっ
て取りつけ心棒110は心棒10に対して往復運動する
ように適合されており、またボタン22の押し下げと回
転を可能とするように回転可能である。つめ112の端
部をボタン22の自由端と嵌合させるには他の適当な手
段を用いることができるのは明らかである。たとえば、
代表的な嵌合関係としては、適当な形状とされたドライ
バーを受けるように適合させた Philipsあるい
は Torque 型のリセプタクルがある。必要であ
ればこのリセプタクルはボタン22の自由端ではなく取
りつけ心棒110の自由端に配置することができる。取
りつけ心棒110は適切であればいかなる設計であって
もよい。たとえば、これには心棒10に用いられるレー
ルおよびローラーと同様なレールとローラーを備えるこ
とができる。心棒110の自由端を心棒10の自由端に
持っていくと、先に取りつけ心棒110に取りつけられ
た中空の円筒状基板88を心棒110から心棒10に横
に移動させることができる。
りしてシャフト16を“取りつけ”位置にロックする、
あるいはその位置から解放することもできるが、このよ
うな操作はまた自動的に行うこともできる。たとえば、
取りつけ心棒110(点線で示す)を、たとえばつめ1
12の端部に位置するドライバーの刃状の突起(図示せ
ず)で好適に構成することができる。このドライバーの
刃状の突起はボタン22の自由端のスロット114に嵌
合するように適合されており、それによって取りつけ心
棒110に回転してボタン22を回転させる。したがっ
て取りつけ心棒110は心棒10に対して往復運動する
ように適合されており、またボタン22の押し下げと回
転を可能とするように回転可能である。つめ112の端
部をボタン22の自由端と嵌合させるには他の適当な手
段を用いることができるのは明らかである。たとえば、
代表的な嵌合関係としては、適当な形状とされたドライ
バーを受けるように適合させた Philipsあるい
は Torque 型のリセプタクルがある。必要であ
ればこのリセプタクルはボタン22の自由端ではなく取
りつけ心棒110の自由端に配置することができる。取
りつけ心棒110は適切であればいかなる設計であって
もよい。たとえば、これには心棒10に用いられるレー
ルおよびローラーと同様なレールとローラーを備えるこ
とができる。心棒110の自由端を心棒10の自由端に
持っていくと、先に取りつけ心棒110に取りつけられ
た中空の円筒状基板88を心棒110から心棒10に横
に移動させることができる。
【0020】中空の円筒状基板88が導電性であり、心
棒10が静電被覆システムにおいて用いられる場合、基
板88の接地は心棒10との端部同上の接触、あるいは
端部とカラーとの接触、あるいはレール42あるいは4
4に取りつけられ、基板88の内部と電気的に接触した
可とう性の金属板ばね(図示せず)等の適当な手段によ
って達成することができる。板ばねを有するレール42
あるいは44は固定ねじ70もしくは支持受け台30、
32あるいは34を会して金属チューブ14に接地され
ている。複数の中空の円筒状基板88を各心棒10に横
に移動させる必要がある場合、オプションの部分リング
カラー111をそれぞれの隣接する円筒状基板88の間
に配置して端部をマスクすることができる。しかし、こ
のような部分リングカラー111は削除することができ
る。それはこれらは基板88を心棒10に対して同心の
位置に支持するのには不必要であるからである。同様に
、リングカラー113もまたオプションであり、削除す
ることができる。基板88は必要であれば支持構造12
あるいは支持構造12と基板88端部の間のスペーシン
グスリーブ(図示せず)に当接させることができる。 このスペーシングスリーブはたとえば基板88を短くし
たものに似たものとすることもできる。基板88のいず
れかの端部(他の基板88を除く)に接触する可能性の
あるいかなる構造も、基板88を他の熱伝導性の材料か
ら絶縁し、それによって重大なヒートシンク効果を防止
する熱絶縁性の材料とすることが好適である。
棒10が静電被覆システムにおいて用いられる場合、基
板88の接地は心棒10との端部同上の接触、あるいは
端部とカラーとの接触、あるいはレール42あるいは4
4に取りつけられ、基板88の内部と電気的に接触した
可とう性の金属板ばね(図示せず)等の適当な手段によ
って達成することができる。板ばねを有するレール42
あるいは44は固定ねじ70もしくは支持受け台30、
32あるいは34を会して金属チューブ14に接地され
ている。複数の中空の円筒状基板88を各心棒10に横
に移動させる必要がある場合、オプションの部分リング
カラー111をそれぞれの隣接する円筒状基板88の間
に配置して端部をマスクすることができる。しかし、こ
のような部分リングカラー111は削除することができ
る。それはこれらは基板88を心棒10に対して同心の
位置に支持するのには不必要であるからである。同様に
、リングカラー113もまたオプションであり、削除す
ることができる。基板88は必要であれば支持構造12
あるいは支持構造12と基板88端部の間のスペーシン
グスリーブ(図示せず)に当接させることができる。 このスペーシングスリーブはたとえば基板88を短くし
たものに似たものとすることもできる。基板88のいず
れかの端部(他の基板88を除く)に接触する可能性の
あるいかなる構造も、基板88を他の熱伝導性の材料か
ら絶縁し、それによって重大なヒートシンク効果を防止
する熱絶縁性の材料とすることが好適である。
【0021】必要があれば適当な温度感知装置を心棒1
0に取りつけることもできる。図4、図5および図6に
好適な実施例を示しており、ここでは複数の心棒10が
単一の“L”字状の支持構造12によって支持されてい
る。この複数の心棒10の軸は支持構造12に対して垂
直な共通の軸の周囲に同心に配設されている。支持構造
12は回転可能な円形コンベヤ120の上に支持されて
いる。円形コンベヤ120は心棒10の端部を基板取り
つけ/取り外しステーション122、洗浄ステーション
124、被覆ステーション126および乾燥ステーショ
ン128といった円形コンベヤ120を取り囲むいくつ
かのステーションのうちのいずれかに送ることができる
ように回転可能である。ステーション122、124、
126、128および円形コンベヤ120はすべて基板
88の空気中の汚染物質への露出をなくすことによって
被覆不良を最小化する等級100以上の洗浄な領域13
0内に配置するのが好適である。
0に取りつけることもできる。図4、図5および図6に
好適な実施例を示しており、ここでは複数の心棒10が
単一の“L”字状の支持構造12によって支持されてい
る。この複数の心棒10の軸は支持構造12に対して垂
直な共通の軸の周囲に同心に配設されている。支持構造
12は回転可能な円形コンベヤ120の上に支持されて
いる。円形コンベヤ120は心棒10の端部を基板取り
つけ/取り外しステーション122、洗浄ステーション
124、被覆ステーション126および乾燥ステーショ
ン128といった円形コンベヤ120を取り囲むいくつ
かのステーションのうちのいずれかに送ることができる
ように回転可能である。ステーション122、124、
126、128および円形コンベヤ120はすべて基板
88の空気中の汚染物質への露出をなくすことによって
被覆不良を最小化する等級100以上の洗浄な領域13
0内に配置するのが好適である。
【0022】図4に示すように、円形コンベヤ120は
垂直軸Vの周囲を時計回り、あるいは反時計回りのいず
れかの方向に回転可能な水平なプラットフォームからな
る。円形コンベヤは作業者の制御もしくはコンピュータ
プログラムのもとで適当な従来の機構で回転される。支
持構造12は円形コンベヤ120の水平なプラットフォ
ームに沿って、この支持構造に対向するステーションに
対して水平方向(矢印AAで表す)に往復運動するのが
好適であるが、ステーションが支持構造に対して往復運
動するようにすることもできる。支持構造あるいはステ
ーションの往復運動は作業者の制御もしくはコンピュー
タプログラムのもとで適当な従来の機構で達成される。
垂直軸Vの周囲を時計回り、あるいは反時計回りのいず
れかの方向に回転可能な水平なプラットフォームからな
る。円形コンベヤは作業者の制御もしくはコンピュータ
プログラムのもとで適当な従来の機構で回転される。支
持構造12は円形コンベヤ120の水平なプラットフォ
ームに沿って、この支持構造に対向するステーションに
対して水平方向(矢印AAで表す)に往復運動するのが
好適であるが、ステーションが支持構造に対して往復運
動するようにすることもできる。支持構造あるいはステ
ーションの往復運動は作業者の制御もしくはコンピュー
タプログラムのもとで適当な従来の機構で達成される。
【0023】図4、図5および図6から最もよくわかる
ように、支持構造12は心棒10の遊星状のアレーを含
み、心棒10はそれぞれが支持構造12の中空の水平軸
Hから径方向に離間されたオフセット水平軸を規定する
。心棒10はそれぞれが少なくとも1つの中空の円筒状
基板88(好適には2つの基板)を持つことができ、支
持構造12が基板88の遊星状の構成を提供し、それぞ
れの基板が中空の水平軸Hに対して平行であるがそれら
径方向に間隔を持つようになっている。心棒10は中央
水平軸Hに対して等しい半径にある環状アレーに配置さ
れ、基板88が水平軸Hに関して対称に配置されるのが
好適である。さらに支持構造12は、遊星状に構成され
た基板88内の各心棒10がその個々のオフセット水平
軸の周囲を回転し、同時に中空の水平軸Hに対して平行
であるがそれから径方向に間隔をおいた位置に固定され
るように、各支持アーム16をそのオフセット水平軸h
の周囲で回転させるための機構を有する。支持構造12
0にはそれぞれの回転心棒10用に適切な機構を含める
ことができる。心棒10に支持された基板88の端部は
、回転可能なエンドキャップ等の適当な手段で覆うこと
ができ、あるいは単に回転可能な短いスリーブに当接さ
せてもよい。
ように、支持構造12は心棒10の遊星状のアレーを含
み、心棒10はそれぞれが支持構造12の中空の水平軸
Hから径方向に離間されたオフセット水平軸を規定する
。心棒10はそれぞれが少なくとも1つの中空の円筒状
基板88(好適には2つの基板)を持つことができ、支
持構造12が基板88の遊星状の構成を提供し、それぞ
れの基板が中空の水平軸Hに対して平行であるがそれら
径方向に間隔を持つようになっている。心棒10は中央
水平軸Hに対して等しい半径にある環状アレーに配置さ
れ、基板88が水平軸Hに関して対称に配置されるのが
好適である。さらに支持構造12は、遊星状に構成され
た基板88内の各心棒10がその個々のオフセット水平
軸の周囲を回転し、同時に中空の水平軸Hに対して平行
であるがそれから径方向に間隔をおいた位置に固定され
るように、各支持アーム16をそのオフセット水平軸h
の周囲で回転させるための機構を有する。支持構造12
0にはそれぞれの回転心棒10用に適切な機構を含める
ことができる。心棒10に支持された基板88の端部は
、回転可能なエンドキャップ等の適当な手段で覆うこと
ができ、あるいは単に回転可能な短いスリーブに当接さ
せてもよい。
【0024】心棒10上に基板88を遊星状に構成する
ことによって、多数の基板を同時に加工し、それによっ
て加工のスループットを増し、製造コストを低減するこ
とを可能とする。心棒10はそれぞれ多数の基板88を
持つことができる。さらに、次に説明する被覆および乾
燥ステーションは中央軸Hから径方向に外向きに動作を
行うことができ、同時に各基板88は径方向の対称性に
より等しい方法で加工されるようにその個々の軸の周囲
を回転する。このようにして加工における均一性と汎用
性が保証される。
ことによって、多数の基板を同時に加工し、それによっ
て加工のスループットを増し、製造コストを低減するこ
とを可能とする。心棒10はそれぞれ多数の基板88を
持つことができる。さらに、次に説明する被覆および乾
燥ステーションは中央軸Hから径方向に外向きに動作を
行うことができ、同時に各基板88は径方向の対称性に
より等しい方法で加工されるようにその個々の軸の周囲
を回転する。このようにして加工における均一性と汎用
性が保証される。
【0025】基板88を1回の加工動作の間だけ心棒1
0上に支持し、その後心棒10から取り外すことができ
る。あるいは追加工動作のためにそのまま心棒10に支
持させておくこともできる。心棒に支持された基板88
は別の加工を行うために1つの場所にとどまってもよく
、また光摂受体を形成するための被覆の塗布といった加
工をさらに行うために1つあるいはそれ以上の異なる場
所に移動することもできる。多数の加工動作を基板88
が心棒10に支持された状態で行うことができ、また加
工された基板88を取り外して別の未加工の基板88を
心棒10に取りつけて加工することもできる。このよう
に、心棒10はその上に支持された加工された基板88
をさらに加工するために別の場所に移動することもでき
、また未加工の基板88を支持した別の心棒10を加工
位置に移動して加工することもできる。また、加工され
た基板88を取り外した後元の心棒10を再び使用して
新しい未加工の基板88を支持して洗浄を行うこともで
きる。
0上に支持し、その後心棒10から取り外すことができ
る。あるいは追加工動作のためにそのまま心棒10に支
持させておくこともできる。心棒に支持された基板88
は別の加工を行うために1つの場所にとどまってもよく
、また光摂受体を形成するための被覆の塗布といった加
工をさらに行うために1つあるいはそれ以上の異なる場
所に移動することもできる。多数の加工動作を基板88
が心棒10に支持された状態で行うことができ、また加
工された基板88を取り外して別の未加工の基板88を
心棒10に取りつけて加工することもできる。このよう
に、心棒10はその上に支持された加工された基板88
をさらに加工するために別の場所に移動することもでき
、また未加工の基板88を支持した別の心棒10を加工
位置に移動して加工することもできる。また、加工され
た基板88を取り外した後元の心棒10を再び使用して
新しい未加工の基板88を支持して洗浄を行うこともで
きる。
【0026】動作中は、心棒10にはカム従動子86が
カム87の底部にくるようにボタン22を押し下げノッ
チ24を嵌合したヘッド26でロックすることによって
、少なくとも1つの中空円筒状基板88を取り付けるこ
とができる。これによってホイール66を乗せたレール
42および44の自由端が図1に示すようにチューブ1
4に向かって確実に退避する。少なくとも3つのレール
アッセンブリーがチューブ14の周囲に配置されており
、ボタン22を押し下げるとチューブ14を取り囲むす
べてのレールの自由端がチューブ14の外面に向かって
退避する。必要であれば、4つあるいはそれ以上のレー
ルを用いることもできる。したしレールの数はスペース
上の制約によってレールが隣接するレールの動作に干渉
するほど多くなってはならない。レールが退避位置ある
いは“取り付け”位置にあるとき、1つあるいはそれ以
上の中空円筒状基板88を取り付け心棒110から手動
、自動のいずれかで心棒にスライドさせることができる
。心棒10に複数の円筒状基板が取り付けられる場合、
隣接する円筒状基板88の端部は互いに当接してもよく
、あるいは必要であればカラー114を隣接する円筒状
基板の間に挿入してエッジをマスクすることもできる。 心棒10が複数の中空円筒状基板88を支持する場合、
その総数は基板88の大きさや重量、心棒10の強さ(
たとえばたわみに対する抵抗力)、用いられる被覆シス
テムの能力その他の要因によって決まる。代表的な基板
支持システムはたとえば1つにつき2つの基板88を支
持する16個の片持心棒10からなる。また、ホイール
52、54、56、58、60、62、64および66
等のホイールの外周にヘクサフルオロプロピレン(E.
I du Pont de Ncmous & Coの
Viton )等の弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い
層がある場合、すべてのレールを固定することができ、
レールの退避は不要である。 弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い層はたとえば、より
弾性の高い“ハブ”材料の周囲に溝で支持された単なる
“O”リング“タイヤ”としてもよい。“弾性の圧縮可
能な材料”という表現はここではジュロメータのSHO
RE A 硬度が約40から約70である材料と定義さ
れる。 “かなり厚い層”とはここではホイールの半径の少なく
とも約10パーセントの厚さと定義される。固定された
レールに支持される代わりに、周囲に弾性の圧縮可能な
材料のかなり厚い層を有する回転可能なホイールのアク
スルは受け台30、32あるいは34と同様の受け台に
取り付けて、それによってレールを不要とするようにし
てもよい。さらに個別に受け台を使用することによって
ホイールを心棒の外面の周りに適切なパターンで配設す
ることが可能となる。たとえば、列を成して、あるいは
千鳥パターンに、あるいはまた基板を心棒と同軸に維持
するに十分な数のホイールが心棒の周囲に配置される限
りにおいてランダムに配設することができる。また、図
7および図8に示すように、ハブ153bに支持された
タイヤ153aからなる回転可能なホイールのアクスル
152が、レール150のスロット156にスライド可
能に取り付けられ、ばね158によって心棒の中心線(
図示せず)から片寄らせられたベアリングブロック15
4に取り付けられている場合、レール150は固定する
ことができる。図7および図8に示す構成は先の運転で
加工された円筒状基板88と内径の異なる円筒状基板8
8を後の運転時に取り付けることを可能とする。また、
図1および図3に示す構成もまた、単に調節可能な固定
ねじ70の設定を変更し、ボタン22をカム87からノ
ッチ24までの距離が異なる別のボタン(図示せず)に
交換するか、あるいはシャフト16をピッチの異なる傾
斜した表面を有するカム87に交換することによって、
内径の異なる円筒状基板88を取り扱えるように容易に
調整することができる。
カム87の底部にくるようにボタン22を押し下げノッ
チ24を嵌合したヘッド26でロックすることによって
、少なくとも1つの中空円筒状基板88を取り付けるこ
とができる。これによってホイール66を乗せたレール
42および44の自由端が図1に示すようにチューブ1
4に向かって確実に退避する。少なくとも3つのレール
アッセンブリーがチューブ14の周囲に配置されており
、ボタン22を押し下げるとチューブ14を取り囲むす
べてのレールの自由端がチューブ14の外面に向かって
退避する。必要であれば、4つあるいはそれ以上のレー
ルを用いることもできる。したしレールの数はスペース
上の制約によってレールが隣接するレールの動作に干渉
するほど多くなってはならない。レールが退避位置ある
いは“取り付け”位置にあるとき、1つあるいはそれ以
上の中空円筒状基板88を取り付け心棒110から手動
、自動のいずれかで心棒にスライドさせることができる
。心棒10に複数の円筒状基板が取り付けられる場合、
隣接する円筒状基板88の端部は互いに当接してもよく
、あるいは必要であればカラー114を隣接する円筒状
基板の間に挿入してエッジをマスクすることもできる。 心棒10が複数の中空円筒状基板88を支持する場合、
その総数は基板88の大きさや重量、心棒10の強さ(
たとえばたわみに対する抵抗力)、用いられる被覆シス
テムの能力その他の要因によって決まる。代表的な基板
支持システムはたとえば1つにつき2つの基板88を支
持する16個の片持心棒10からなる。また、ホイール
52、54、56、58、60、62、64および66
等のホイールの外周にヘクサフルオロプロピレン(E.
I du Pont de Ncmous & Coの
Viton )等の弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い
層がある場合、すべてのレールを固定することができ、
レールの退避は不要である。 弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い層はたとえば、より
弾性の高い“ハブ”材料の周囲に溝で支持された単なる
“O”リング“タイヤ”としてもよい。“弾性の圧縮可
能な材料”という表現はここではジュロメータのSHO
RE A 硬度が約40から約70である材料と定義さ
れる。 “かなり厚い層”とはここではホイールの半径の少なく
とも約10パーセントの厚さと定義される。固定された
レールに支持される代わりに、周囲に弾性の圧縮可能な
材料のかなり厚い層を有する回転可能なホイールのアク
スルは受け台30、32あるいは34と同様の受け台に
取り付けて、それによってレールを不要とするようにし
てもよい。さらに個別に受け台を使用することによって
ホイールを心棒の外面の周りに適切なパターンで配設す
ることが可能となる。たとえば、列を成して、あるいは
千鳥パターンに、あるいはまた基板を心棒と同軸に維持
するに十分な数のホイールが心棒の周囲に配置される限
りにおいてランダムに配設することができる。また、図
7および図8に示すように、ハブ153bに支持された
タイヤ153aからなる回転可能なホイールのアクスル
152が、レール150のスロット156にスライド可
能に取り付けられ、ばね158によって心棒の中心線(
図示せず)から片寄らせられたベアリングブロック15
4に取り付けられている場合、レール150は固定する
ことができる。図7および図8に示す構成は先の運転で
加工された円筒状基板88と内径の異なる円筒状基板8
8を後の運転時に取り付けることを可能とする。また、
図1および図3に示す構成もまた、単に調節可能な固定
ねじ70の設定を変更し、ボタン22をカム87からノ
ッチ24までの距離が異なる別のボタン(図示せず)に
交換するか、あるいはシャフト16をピッチの異なる傾
斜した表面を有するカム87に交換することによって、
内径の異なる円筒状基板88を取り扱えるように容易に
調整することができる。
【0027】中空円筒状基板88を心棒10に取り付け
た後、ボタン22を回してヘッド26がノッチ24から
出るようにする。ボタン22をロック解除すると、ばね
90はシャフト16を心棒10の自由端の方に押すこと
が可能となる。この運動によってカム従動子86はカム
87の傾斜した面に乗り、それによってレール対42お
よび44の自由端をチューブ14の外面から離れ、円筒
状基板88の内面に向うように駆動し、それによってレ
ール42および44の有するすべての回転可能なホイー
ルが円筒状基板88の内面に係合する。同様に、チュー
ブ14の周囲に配設された他のレールアッセンブリーの
有するホイールもまた円筒状基板88の内部と係合して
それを支持し、円筒状基板がチューブ14と同軸に整列
することを確実にする。レール42および44の有する
回転可能なホイールは低摩擦熱バリアとして機能し、ホ
イールに被覆された、あるいは各ホイール全体を構成す
る適切な熱絶縁体材料から構成することができる。回転
可能なホイールは摩擦と円筒状基板88の内面との表面
接触の両方を最小化し、またレール42および44の放
熱からの熱的な絶縁を提供する。代表的な熱絶縁材料と
してはガラスを充填したポリテトラフルオロエチレン(
E.I.du Pont deNemours & C
o のTeflon)、フッ化ビニリデンのコポリマー
およびヘクサフルオロプロピレン(E.I.du Po
nt de Nemours & Co のViton
)、シリコンゴム、ポリエステル、セラミック等がある
。全体がセラミック等の剛性材料でできたホイールは通
常、基板88の心棒10に対して横移動する際にホイー
ル全体が退避および伸長する実施例に採用される。可と
う性の高い材料からなるホイールはアクスルに沿って厚
い、あるいはホイールが回転する際の過度なウォッブリ
ングを防止するためにより剛性の高い材料からなるハブ
領域を有することが好適である。熱絶縁材料は好適には
たとえば約177℃(350°F)の高温において劣化
しないことが好適である。基板88と回転可能なホイー
ルの接触面積を最小限とするために、ホイールの最も外
側のエッジの断面形状は必要であればナイフの刃の形状
とすることができる。心棒10に支持される円筒状基板
88がその後加工される。たとえば、チューブは洗浄ス
テーション、被覆ステーション、および乾燥ステーショ
ンに移動される。これらはすべて別個のステーションと
することもでき、また同一のステーションとすることも
できる。加工が終わると加工された円筒状基板88はボ
タン22を押し下げ、また必要であればボタン22をヘ
ッド26がノッチ24と係合するまで回すことによって
取り外される。ボタン22を押し下げると、カム従動子
86がカム87の傾斜したカム面から落ち、レール42
および44の有するほとんどのホイールが円筒状基板8
8の内面から外れる。処理された円筒状基板88はその
後、心棒10に横に移動することによって心棒10から
容易に移動することができる。
た後、ボタン22を回してヘッド26がノッチ24から
出るようにする。ボタン22をロック解除すると、ばね
90はシャフト16を心棒10の自由端の方に押すこと
が可能となる。この運動によってカム従動子86はカム
87の傾斜した面に乗り、それによってレール対42お
よび44の自由端をチューブ14の外面から離れ、円筒
状基板88の内面に向うように駆動し、それによってレ
ール42および44の有するすべての回転可能なホイー
ルが円筒状基板88の内面に係合する。同様に、チュー
ブ14の周囲に配設された他のレールアッセンブリーの
有するホイールもまた円筒状基板88の内部と係合して
それを支持し、円筒状基板がチューブ14と同軸に整列
することを確実にする。レール42および44の有する
回転可能なホイールは低摩擦熱バリアとして機能し、ホ
イールに被覆された、あるいは各ホイール全体を構成す
る適切な熱絶縁体材料から構成することができる。回転
可能なホイールは摩擦と円筒状基板88の内面との表面
接触の両方を最小化し、またレール42および44の放
熱からの熱的な絶縁を提供する。代表的な熱絶縁材料と
してはガラスを充填したポリテトラフルオロエチレン(
E.I.du Pont deNemours & C
o のTeflon)、フッ化ビニリデンのコポリマー
およびヘクサフルオロプロピレン(E.I.du Po
nt de Nemours & Co のViton
)、シリコンゴム、ポリエステル、セラミック等がある
。全体がセラミック等の剛性材料でできたホイールは通
常、基板88の心棒10に対して横移動する際にホイー
ル全体が退避および伸長する実施例に採用される。可と
う性の高い材料からなるホイールはアクスルに沿って厚
い、あるいはホイールが回転する際の過度なウォッブリ
ングを防止するためにより剛性の高い材料からなるハブ
領域を有することが好適である。熱絶縁材料は好適には
たとえば約177℃(350°F)の高温において劣化
しないことが好適である。基板88と回転可能なホイー
ルの接触面積を最小限とするために、ホイールの最も外
側のエッジの断面形状は必要であればナイフの刃の形状
とすることができる。心棒10に支持される円筒状基板
88がその後加工される。たとえば、チューブは洗浄ス
テーション、被覆ステーション、および乾燥ステーショ
ンに移動される。これらはすべて別個のステーションと
することもでき、また同一のステーションとすることも
できる。加工が終わると加工された円筒状基板88はボ
タン22を押し下げ、また必要であればボタン22をヘ
ッド26がノッチ24と係合するまで回すことによって
取り外される。ボタン22を押し下げると、カム従動子
86がカム87の傾斜したカム面から落ち、レール42
および44の有するほとんどのホイールが円筒状基板8
8の内面から外れる。処理された円筒状基板88はその
後、心棒10に横に移動することによって心棒10から
容易に移動することができる。
【0028】好適な実施例の全体の動作を図4、図5お
よび図6に示す。ここでは円形コンベヤ120は垂直軸
Vの周囲を回転して基板88の遊星状のアレーをステー
ション122、124、126あるいは128のいずれ
か1つの前に位置決めする。位置に付いたとき、支持構
造12が所望のステーションに対して水平方向に往復運
動し、基板88の遊星状のアレーをそのステーションに
挿入する。そのステーションが加工チェンバーを有する
場合、支持構造12はその周囲にガスケット等のシーリ
ング機構130を有して支持構造12が基板88を収容
したそのチェンバーを密閉するためのふたの機能を果た
すようにするのが好適である。基板88は次にこの密閉
されたチェンバー内で加工され、その間各基板88は支
持構造12の中央水平軸Hからずれた水平軸の周囲を回
転する。加工五、支持構造12はステーションから退避
し、円形コンベヤ120は基板88のアレーを次の加工
ステーションに挿入するために位置決めすべく回転する
。
よび図6に示す。ここでは円形コンベヤ120は垂直軸
Vの周囲を回転して基板88の遊星状のアレーをステー
ション122、124、126あるいは128のいずれ
か1つの前に位置決めする。位置に付いたとき、支持構
造12が所望のステーションに対して水平方向に往復運
動し、基板88の遊星状のアレーをそのステーションに
挿入する。そのステーションが加工チェンバーを有する
場合、支持構造12はその周囲にガスケット等のシーリ
ング機構130を有して支持構造12が基板88を収容
したそのチェンバーを密閉するためのふたの機能を果た
すようにするのが好適である。基板88は次にこの密閉
されたチェンバー内で加工され、その間各基板88は支
持構造12の中央水平軸Hからずれた水平軸の周囲を回
転する。加工五、支持構造12はステーションから退避
し、円形コンベヤ120は基板88のアレーを次の加工
ステーションに挿入するために位置決めすべく回転する
。
【0029】個々の加工ステーションは円形コンベヤ1
20に関して対称に配設されることが好適である。基本
的な加工ステップには基板88の取り付け、洗浄、被覆
、乾燥および取り外しがある。基板88の取り付けは取
り付け/取り外しステーション122で行うことができ
る。被覆されていない基板88が手動で、あるいはプロ
グラムされたロボットアーム(図示せず)といった他の
適当な技術で支持構造120から伸長する各心棒10に
取り付けられる。各基板88は片持心棒10の軸に取り
付けられ、同心に位置合わせされる。心棒10の軸は中
央の水平軸Hに対して平行に、かつ径方向に間隔を持つ
ように維持される。
20に関して対称に配設されることが好適である。基本
的な加工ステップには基板88の取り付け、洗浄、被覆
、乾燥および取り外しがある。基板88の取り付けは取
り付け/取り外しステーション122で行うことができ
る。被覆されていない基板88が手動で、あるいはプロ
グラムされたロボットアーム(図示せず)といった他の
適当な技術で支持構造120から伸長する各心棒10に
取り付けられる。各基板88は片持心棒10の軸に取り
付けられ、同心に位置合わせされる。心棒10の軸は中
央の水平軸Hに対して平行に、かつ径方向に間隔を持つ
ように維持される。
【0030】基板88の洗浄は洗浄ステーション124
で行うことができる。円形コンベヤ120は図4におい
てまず時計回りに好適には約90°回転し、支持構造1
2を支持構造12の中央水平軸Hと共直線である中央水
平軸を有する洗浄チェンバーを含む洗浄ステーションの
前に位置決めする。次に支持構造12は洗浄ステーショ
ン124のチェンバーに基板88の遊星状のアレーを挿
入するために洗浄チェンバー124に向かって伸長する
。支持構造12が洗浄チェンバー124の開口端をふさ
ぐと、シーリング機構130(図5参照)がそこに取り
付けられた基板88でチェンバー124を密閉する。 洗浄ステーション124のチェンバーの内部に入ると、
基板88は液体洗剤、フロン、あるいはオゾンといった
適当な技術を用いて、同時に紫外線にさらしながら洗浄
される。各基板の外表面全体が均一に洗浄されるように
、基板88は洗浄動作中片持心棒10の上で水平軸の周
りを回転する。心棒10の自由端は心棒10と基板88
が回転する間、ベアリングブロック125によって支持
することができる。洗浄動作中基板88は約30から約
200rpm の間で回転することが好適である。各心
棒10の回転は適当な手段でギヤ131に接続された電
動機(図示せず)等の適当な手段で行うことができる。 次に洗浄チェンバー124中の空気が排出され、基板8
8が支持構造12が逆に退避することによってチェンバ
ー124から引き出される。
で行うことができる。円形コンベヤ120は図4におい
てまず時計回りに好適には約90°回転し、支持構造1
2を支持構造12の中央水平軸Hと共直線である中央水
平軸を有する洗浄チェンバーを含む洗浄ステーションの
前に位置決めする。次に支持構造12は洗浄ステーショ
ン124のチェンバーに基板88の遊星状のアレーを挿
入するために洗浄チェンバー124に向かって伸長する
。支持構造12が洗浄チェンバー124の開口端をふさ
ぐと、シーリング機構130(図5参照)がそこに取り
付けられた基板88でチェンバー124を密閉する。 洗浄ステーション124のチェンバーの内部に入ると、
基板88は液体洗剤、フロン、あるいはオゾンといった
適当な技術を用いて、同時に紫外線にさらしながら洗浄
される。各基板の外表面全体が均一に洗浄されるように
、基板88は洗浄動作中片持心棒10の上で水平軸の周
りを回転する。心棒10の自由端は心棒10と基板88
が回転する間、ベアリングブロック125によって支持
することができる。洗浄動作中基板88は約30から約
200rpm の間で回転することが好適である。各心
棒10の回転は適当な手段でギヤ131に接続された電
動機(図示せず)等の適当な手段で行うことができる。 次に洗浄チェンバー124中の空気が排出され、基板8
8が支持構造12が逆に退避することによってチェンバ
ー124から引き出される。
【0031】代表的な実施例において、基板88はフロ
ン、あるいは洗浄をベースとした溶剤等の溶剤をベース
とした洗浄剤の高圧スプレーにさらすことによって洗浄
される。このスプレーは洗浄ステーション124の洗浄
チェンバーの中央水平軸に沿って配置された中央の往復
運動可能なコンジットから出るようにすると好適である
が、たとえばノズルのアレー中の各ノズルが特定の基板
に向けられている構造といったような専用のノズル等の
他の洗浄構造を用いることもできる。中央コンジット1
32は洗浄剤を中央コンジット132から同時にすべて
のノズルを通して放射状に外向きに散布できるように配
置された一連のノズル134で構成することができる。 中央コンジット132およびノズル134を洗浄剤を各
基板の軸に沿って順次吹きかけるよう往復運動させるこ
ともできる。この往復運動するコンジット132はプロ
グラム制御のもとに従来の機構を用いて前後に移動させ
、ノズル134の噴射範囲が適正になることを確実とす
る。中央コンジット132からのスプレーは基板88が
その水平軸の周りを回転する際に放射状に外向きに出る
。したがって、衝突角度、噴射圧力、スプレーノズルか
らの距離といった点ですべての基板88を最適にカバー
することになる。洗浄ステーション124の洗浄チェン
バー内の洗浄剤の量と噴射時間は、たとえば洗浄剤の材
料や洗浄すべき基板88によって異なる。洗浄後は洗浄
チェンバー内の余った洗浄剤は排出され、蒸気は洗浄ス
テーション124の洗浄チェンバー内の適当な排水排気
機構(図示せず)によって除去される。洗浄チェンバー
には、十分な温度の空気を供給して基板を(蒸発冷却に
対処するため)要求される加工温度と平衡させ、チェン
バーからの蒸気の放出を低減するための給気機構を(中
央コンジット132の一部として、あるいはまた別途)
装備することもできる。適切な温度および蒸気の条件が
達成されると、支持構造12は基板88のアレーを洗浄
チェンバー124から退避させ、さらに加工を行うため
にアレーを被覆ステーション124に移動する。
ン、あるいは洗浄をベースとした溶剤等の溶剤をベース
とした洗浄剤の高圧スプレーにさらすことによって洗浄
される。このスプレーは洗浄ステーション124の洗浄
チェンバーの中央水平軸に沿って配置された中央の往復
運動可能なコンジットから出るようにすると好適である
が、たとえばノズルのアレー中の各ノズルが特定の基板
に向けられている構造といったような専用のノズル等の
他の洗浄構造を用いることもできる。中央コンジット1
32は洗浄剤を中央コンジット132から同時にすべて
のノズルを通して放射状に外向きに散布できるように配
置された一連のノズル134で構成することができる。 中央コンジット132およびノズル134を洗浄剤を各
基板の軸に沿って順次吹きかけるよう往復運動させるこ
ともできる。この往復運動するコンジット132はプロ
グラム制御のもとに従来の機構を用いて前後に移動させ
、ノズル134の噴射範囲が適正になることを確実とす
る。中央コンジット132からのスプレーは基板88が
その水平軸の周りを回転する際に放射状に外向きに出る
。したがって、衝突角度、噴射圧力、スプレーノズルか
らの距離といった点ですべての基板88を最適にカバー
することになる。洗浄ステーション124の洗浄チェン
バー内の洗浄剤の量と噴射時間は、たとえば洗浄剤の材
料や洗浄すべき基板88によって異なる。洗浄後は洗浄
チェンバー内の余った洗浄剤は排出され、蒸気は洗浄ス
テーション124の洗浄チェンバー内の適当な排水排気
機構(図示せず)によって除去される。洗浄チェンバー
には、十分な温度の空気を供給して基板を(蒸発冷却に
対処するため)要求される加工温度と平衡させ、チェン
バーからの蒸気の放出を低減するための給気機構を(中
央コンジット132の一部として、あるいはまた別途)
装備することもできる。適切な温度および蒸気の条件が
達成されると、支持構造12は基板88のアレーを洗浄
チェンバー124から退避させ、さらに加工を行うため
にアレーを被覆ステーション124に移動する。
【0032】基板88は被覆ステーション126で被覆
することができる。円形コンベヤ120は好適にはさら
に約90°時計回りに回転して洗浄された基板88の遊
星状のアレーを被覆ステーション126の前に位置決め
する。被覆ステーション126は支持構造12の中央水
平軸Hと共直線である中央水平軸を有する被覆チェンバ
ーを含む。次に支持構造12は前進して遊星状のアレー
を被覆チェンバー310に挿入する。このときシーリン
グ機構20がチェンバーを密閉する。次に基板88が、
たとえば電子写真に用いる1つあるいはそれ以上の材料
を含む被覆液で(次に説明する機構を用いて)被覆され
る。被覆加工が完了すると、基板88は支持構造12の
退避(逆の往復運動)によって被覆チェンバー126か
ら引き出される。
することができる。円形コンベヤ120は好適にはさら
に約90°時計回りに回転して洗浄された基板88の遊
星状のアレーを被覆ステーション126の前に位置決め
する。被覆ステーション126は支持構造12の中央水
平軸Hと共直線である中央水平軸を有する被覆チェンバ
ーを含む。次に支持構造12は前進して遊星状のアレー
を被覆チェンバー310に挿入する。このときシーリン
グ機構20がチェンバーを密閉する。次に基板88が、
たとえば電子写真に用いる1つあるいはそれ以上の材料
を含む被覆液で(次に説明する機構を用いて)被覆され
る。被覆加工が完了すると、基板88は支持構造12の
退避(逆の往復運動)によって被覆チェンバー126か
ら引き出される。
【0033】ある実施例では、基板88は静電回転噴霧
器320(図5)から噴霧された溶剤/ポリマー溶液を
用いて被覆される。この静電回転噴霧器320は、De
VILBISS 、Acrobell、Graco 、
CA 1000 、CT 4000 あるいはResi
stive Micro−Bell回転噴霧器等の市場
で入手できる適当な装置とすることができる。一般に静
電回転噴霧器136は、回転タービン翼(図示せず)と
被覆液と溶剤用の供給コンジット(図示せず)を収容す
る噴霧器ハウジング138と、噴霧器ハウジング322
の一端から間隔をおいて配置された回転ベルあるいはキ
ャップ140の2つの部分からなる。動作中、被覆液と
溶剤は噴霧器ハウジング138の端部にある射出ポート
を通って回転ベルあるいはキャップ140に対して噴霧
される。回転ベルあるいはキャップ140は被覆液と溶
剤を霧状にし、回転噴霧器から放射状に外向きにスプレ
ーを向ける。ベルあるいはキャップ140が回転する際
、噴霧器136は被覆すべき基板88の軸に平行な通路
を往復運動することができる。静電回転噴霧器126の
往復運動の通路を取り囲む水平な基板88の遊星状の配
列は、したがって回転噴霧器136によって発生する霧
に関して対称な構成に配置される。したがって基板88
はそれぞれ均一な被覆を受ける。被覆の塗布を向上させ
るためには、急速に蒸発する溶剤をまず(次に説明する
機構によって)密閉された被覆チェンバーに噴霧し、チ
ェンバー内の空気の飽和点までの一定の蒸気圧を得る。 次に、基板88を回転させ、噴霧器136を基板の遊星
状のアレーの中央の中央軸Hに沿って前後に往復運動さ
せながら、同じ急速蒸発溶剤を含んだ被覆液を静電回転
噴霧器136を用いて噴霧する。
器320(図5)から噴霧された溶剤/ポリマー溶液を
用いて被覆される。この静電回転噴霧器320は、De
VILBISS 、Acrobell、Graco 、
CA 1000 、CT 4000 あるいはResi
stive Micro−Bell回転噴霧器等の市場
で入手できる適当な装置とすることができる。一般に静
電回転噴霧器136は、回転タービン翼(図示せず)と
被覆液と溶剤用の供給コンジット(図示せず)を収容す
る噴霧器ハウジング138と、噴霧器ハウジング322
の一端から間隔をおいて配置された回転ベルあるいはキ
ャップ140の2つの部分からなる。動作中、被覆液と
溶剤は噴霧器ハウジング138の端部にある射出ポート
を通って回転ベルあるいはキャップ140に対して噴霧
される。回転ベルあるいはキャップ140は被覆液と溶
剤を霧状にし、回転噴霧器から放射状に外向きにスプレ
ーを向ける。ベルあるいはキャップ140が回転する際
、噴霧器136は被覆すべき基板88の軸に平行な通路
を往復運動することができる。静電回転噴霧器126の
往復運動の通路を取り囲む水平な基板88の遊星状の配
列は、したがって回転噴霧器136によって発生する霧
に関して対称な構成に配置される。したがって基板88
はそれぞれ均一な被覆を受ける。被覆の塗布を向上させ
るためには、急速に蒸発する溶剤をまず(次に説明する
機構によって)密閉された被覆チェンバーに噴霧し、チ
ェンバー内の空気の飽和点までの一定の蒸気圧を得る。 次に、基板88を回転させ、噴霧器136を基板の遊星
状のアレーの中央の中央軸Hに沿って前後に往復運動さ
せながら、同じ急速蒸発溶剤を含んだ被覆液を静電回転
噴霧器136を用いて噴霧する。
【0034】回転する基板88の遊星状のアレーの中心
に位置させた往復運動する回転噴霧器136を用いるこ
とにはいくつかの利点がある。基板88に均一な被覆を
行うことに加えて、噴霧と乾燥の処理が分離され、それ
ぞれの処理がよりよく規定され、制御される。さらに、
急速蒸発溶剤は乾燥時間と乾燥に要するエネルギーを低
減することによって乾燥条件を緩和するのに用いること
ができる。また、回転する水平基板88の遊星状のアレ
ーの入った密閉されたチェンバー内の中央に噴霧器13
6を配置することによって、小さな液滴を細かく散布す
ることができ、それによって“オレンジピール”効果等
の典型的な被覆不良を起こすことなくすべての基板に均
一な薄い被覆を施すことが可能となる。
に位置させた往復運動する回転噴霧器136を用いるこ
とにはいくつかの利点がある。基板88に均一な被覆を
行うことに加えて、噴霧と乾燥の処理が分離され、それ
ぞれの処理がよりよく規定され、制御される。さらに、
急速蒸発溶剤は乾燥時間と乾燥に要するエネルギーを低
減することによって乾燥条件を緩和するのに用いること
ができる。また、回転する水平基板88の遊星状のアレ
ーの入った密閉されたチェンバー内の中央に噴霧器13
6を配置することによって、小さな液滴を細かく散布す
ることができ、それによって“オレンジピール”効果等
の典型的な被覆不良を起こすことなくすべての基板に均
一な薄い被覆を施すことが可能となる。
【0035】ある実施例では、被覆液と溶剤の被覆剤は
、約15.000から約60.000rpm の噴霧器
速度、約5から約40mm/sec の往復速度、約3
0から約150キロボルト(1電荷の極性)の静電圧で
約50から約400cc/分射出される。被覆剤は約0
.5から約50%の固体濃度と約1から約1000セン
チポアズの粘性を有することが好適である。基板88は
約0から約30℃の温度の被覆チェンバー内で約20か
ら約100rpm で回転している。心棒10の自由端
は心棒10と基板88が回転する間ベアリングブロック
125によって指示することができる。被覆剤にはナイ
ロン、ポリエステル、ポリカーボネート等の適当な材料
や、塩化メチレン、トルエン、メタノール、あるいはエ
タノールといったを含めることができる。以上論じたパ
ラメータは被覆液、溶剤、および希望する被覆のタイプ
等に応じて変化する。
、約15.000から約60.000rpm の噴霧器
速度、約5から約40mm/sec の往復速度、約3
0から約150キロボルト(1電荷の極性)の静電圧で
約50から約400cc/分射出される。被覆剤は約0
.5から約50%の固体濃度と約1から約1000セン
チポアズの粘性を有することが好適である。基板88は
約0から約30℃の温度の被覆チェンバー内で約20か
ら約100rpm で回転している。心棒10の自由端
は心棒10と基板88が回転する間ベアリングブロック
125によって指示することができる。被覆剤にはナイ
ロン、ポリエステル、ポリカーボネート等の適当な材料
や、塩化メチレン、トルエン、メタノール、あるいはエ
タノールといったを含めることができる。以上論じたパ
ラメータは被覆液、溶剤、および希望する被覆のタイプ
等に応じて変化する。
【0036】被覆が塗布され平滑な膜に平坦化された後
、溶剤の蒸気が膜からの溶剤の蒸発を制御することによ
って除去される。蒸発の制御はダンパー(図示せず)を
開け、再循環ブロワ(図示せず)を起動することによっ
てチェンバー内に適当な溶剤を飽和させたガスを再循環
させることによって達成することができる。溶剤除去の
速度はガスの再循環の速度を(ブロワとダンパーを介し
て)制御するか、あるいはガス流から溶剤を凝結させる
冷却コイル(図示せず)の温度を制御することによって
達成することができる。いずれの場合も入ってくるガス
流を再加熱するのにヒーターを用いることができる。 溶剤の蒸気の濃度が十分低く、膜の粘性が十分である場
合、ガスの再循環が停止され、支持構造12が退避して
基板88を被覆チェンバーから取り出す。また、上述し
たように支持構造12の退避の前に次の被覆層を塗布す
ることもできる。
、溶剤の蒸気が膜からの溶剤の蒸発を制御することによ
って除去される。蒸発の制御はダンパー(図示せず)を
開け、再循環ブロワ(図示せず)を起動することによっ
てチェンバー内に適当な溶剤を飽和させたガスを再循環
させることによって達成することができる。溶剤除去の
速度はガスの再循環の速度を(ブロワとダンパーを介し
て)制御するか、あるいはガス流から溶剤を凝結させる
冷却コイル(図示せず)の温度を制御することによって
達成することができる。いずれの場合も入ってくるガス
流を再加熱するのにヒーターを用いることができる。 溶剤の蒸気の濃度が十分低く、膜の粘性が十分である場
合、ガスの再循環が停止され、支持構造12が退避して
基板88を被覆チェンバーから取り出す。また、上述し
たように支持構造12の退避の前に次の被覆層を塗布す
ることもできる。
【0037】被覆チェンバーはさらに真空被覆光摂受体
装置の製造用に変更することもできる。たとえば、回転
噴霧器で被覆を塗布するための構造に加えて、チェンバ
ーの壁をより強くし、真空供給線144(図5)と真空
シールを設けて溶剤による回転噴霧被覆だけでなく被覆
ステーション126のチェンバ内で薄溝の真空蒸着をも
行いうるようにすることもできる。この2つの機能によ
って真空被覆と噴霧器で塗布された被覆を有する異なる
種類の光摂受体を同じ装置を用いて生産することが可能
となる。
装置の製造用に変更することもできる。たとえば、回転
噴霧器で被覆を塗布するための構造に加えて、チェンバ
ーの壁をより強くし、真空供給線144(図5)と真空
シールを設けて溶剤による回転噴霧被覆だけでなく被覆
ステーション126のチェンバ内で薄溝の真空蒸着をも
行いうるようにすることもできる。この2つの機能によ
って真空被覆と噴霧器で塗布された被覆を有する異なる
種類の光摂受体を同じ装置を用いて生産することが可能
となる。
【0038】4番目の動作は硬化ステーション128に
おける膜の硬化あるいは乾燥である。円形コンベヤ12
0が好適にはさらに90°時計回りに回転して被覆され
た基板88の遊星状のアレーを硬化ステーション128
の硬化チェンバーの前に位置決めする。被覆ステーショ
ン126のチェンバーと同様に硬化ステーション128
の硬化チェンバーもまた支持構造12の中央水平軸Hと
共直線の中央水平軸をなす。次に支持構造12が前進し
て基板88の遊星状のアレーを硬化ステーション128
のチェンバーに挿入する。被覆された膜に溶剤がある場
合、それは高速の加熱空気(たとえば、約60から約1
40℃で4000cfm を約1から5分)にさらすこ
とによって除去される。膜が光化学反応するものである
場合、膜は紫外線にさらすことによって硬化される。硬
化が終わると、基板88は(必要であれば)冷気で冷却
され、その後チェンバーから引き出される。多層膜構造
が必要である場合、被覆と硬化の動作が、被覆ステーシ
ョン126と硬化ステーション128の間を循環する円
形コンベヤ120で必要なだけくり返される。
おける膜の硬化あるいは乾燥である。円形コンベヤ12
0が好適にはさらに90°時計回りに回転して被覆され
た基板88の遊星状のアレーを硬化ステーション128
の硬化チェンバーの前に位置決めする。被覆ステーショ
ン126のチェンバーと同様に硬化ステーション128
の硬化チェンバーもまた支持構造12の中央水平軸Hと
共直線の中央水平軸をなす。次に支持構造12が前進し
て基板88の遊星状のアレーを硬化ステーション128
のチェンバーに挿入する。被覆された膜に溶剤がある場
合、それは高速の加熱空気(たとえば、約60から約1
40℃で4000cfm を約1から5分)にさらすこ
とによって除去される。膜が光化学反応するものである
場合、膜は紫外線にさらすことによって硬化される。硬
化が終わると、基板88は(必要であれば)冷気で冷却
され、その後チェンバーから引き出される。多層膜構造
が必要である場合、被覆と硬化の動作が、被覆ステーシ
ョン126と硬化ステーション128の間を循環する円
形コンベヤ120で必要なだけくり返される。
【0039】ある実施例では、硬化ステーション128
の硬化チェンバー基板88上の被覆されたばかりの膜か
ら、基板88を回転させながら高速空気の加熱された流
れ(図示せず)にさらすことによって溶剤を除去するた
めの乾燥機構を含む。乾燥機構には空気源(図示せず)
と空気取り入れ口146の温度を制御するための熱源(
図示せず)を含めることができる。ミシン目の入ったプ
リナム148が硬化ステーション128のチェンバーの
水平軸Hに沿って、基板88の遊星状のアレーに取り囲
まれるように配置される。清浄な加熱された空気がプリ
ナム148中を放射状に外向きに高速で流れ、被覆され
た基板88の回転する外表面(約20から約100rp
m で回転している)に衝突する。心棒10の自由端は
心棒10と基板88が回転する間ベアリングブロック1
25によって支持することができる。高速空気は境界層
を最小限にし、その結果高い熱と物質移動速度によって
溶剤の急速な除去が可能となる。ミシン目の入ったプリ
ナム壁148を示したが、中央軸Hに沿って配置され、
個々の基板88に軸方向に整列したノズルを有する空気
供給シリンダー等の他の構成を用いて高速空気を回転す
る基板88に与えるようにすることもできる。また硬化
ステーション128の硬化チェンバーには、それぞれが
空気を特定の基板88に噴射するようにされた専用ノズ
ルのアレーを含めることができる。空気供給温度と流量
は被覆面の品質と結像性能を落とすことなく硬化時間を
最小限とするよう最適に制御される。被覆された層が適
正に硬化するとき、空気供給温度は周囲温度以下に下げ
られて基板88を急速に周囲温度にまで冷却する。円形
コンベヤ120は次に基板88の遊星状のアレーをさら
に層を塗布するため被覆ステーション126の被覆チェ
ンバーに戻すか、あるいは被覆および乾燥が完了してい
れば取り付け/取り外しステーション122に戻す。中
央プリナム148の構造を有する基板88の遊星状のア
レーは乾燥時間を短縮し、基板の温度のばらつきを低減
するシステムを提供する。基板の遊星状のアレーの各種
の加工ステーションと組み合わせての使用が J.Ha
mmondその他の名義で併願中の1989年12月2
7日付US−A特許申請07/457,926 号、E
.Swain の名義で併願中の1989年12月27
日付US−A特許申請07/458,571号、および
E.Swain の名義で併願中の1989年12月2
7日付US−A特許申請07/457,927 号に開
示されている。これらの特許申請の開示内容全体をここ
で参照している。
の硬化チェンバー基板88上の被覆されたばかりの膜か
ら、基板88を回転させながら高速空気の加熱された流
れ(図示せず)にさらすことによって溶剤を除去するた
めの乾燥機構を含む。乾燥機構には空気源(図示せず)
と空気取り入れ口146の温度を制御するための熱源(
図示せず)を含めることができる。ミシン目の入ったプ
リナム148が硬化ステーション128のチェンバーの
水平軸Hに沿って、基板88の遊星状のアレーに取り囲
まれるように配置される。清浄な加熱された空気がプリ
ナム148中を放射状に外向きに高速で流れ、被覆され
た基板88の回転する外表面(約20から約100rp
m で回転している)に衝突する。心棒10の自由端は
心棒10と基板88が回転する間ベアリングブロック1
25によって支持することができる。高速空気は境界層
を最小限にし、その結果高い熱と物質移動速度によって
溶剤の急速な除去が可能となる。ミシン目の入ったプリ
ナム壁148を示したが、中央軸Hに沿って配置され、
個々の基板88に軸方向に整列したノズルを有する空気
供給シリンダー等の他の構成を用いて高速空気を回転す
る基板88に与えるようにすることもできる。また硬化
ステーション128の硬化チェンバーには、それぞれが
空気を特定の基板88に噴射するようにされた専用ノズ
ルのアレーを含めることができる。空気供給温度と流量
は被覆面の品質と結像性能を落とすことなく硬化時間を
最小限とするよう最適に制御される。被覆された層が適
正に硬化するとき、空気供給温度は周囲温度以下に下げ
られて基板88を急速に周囲温度にまで冷却する。円形
コンベヤ120は次に基板88の遊星状のアレーをさら
に層を塗布するため被覆ステーション126の被覆チェ
ンバーに戻すか、あるいは被覆および乾燥が完了してい
れば取り付け/取り外しステーション122に戻す。中
央プリナム148の構造を有する基板88の遊星状のア
レーは乾燥時間を短縮し、基板の温度のばらつきを低減
するシステムを提供する。基板の遊星状のアレーの各種
の加工ステーションと組み合わせての使用が J.Ha
mmondその他の名義で併願中の1989年12月2
7日付US−A特許申請07/457,926 号、E
.Swain の名義で併願中の1989年12月27
日付US−A特許申請07/458,571号、および
E.Swain の名義で併願中の1989年12月2
7日付US−A特許申請07/457,927 号に開
示されている。これらの特許申請の開示内容全体をここ
で参照している。
【0040】モーター、ソレノイド、サーボモーター等
の電気装置を駆動するための電力は適当な配線と従来の
適当な電気的スイッチングを介して供給される。バルブ
とスイッチは通常従来のプログラマブルコントローラー
からの信号に応じて適当な回路を介して起動される。こ
のようにこの発明の装置の制御機能はAllen Br
adley のプログラマブルコントローラー、モデル
番号2/05あるいはモデル番号2/17等の適当なプ
ログラマブルコントローラー(図示せず)と同期させ集
積することができる。プログラマブルコントローラーは
たとえばリミットスイッチ、タイマー、エンコーダー、
近接センサー、カウンター等の入力のような各種の代表
的な入力に応答し、電気スイッチ、ソレノイド式バルブ
等を起動するプログラム出力を順番付するためにこれら
の入力を用いる。起動された構成要素の終了はプログラ
マブルコントローラや適当なリミットスイッチ等の適当
な従来の手段によって行う。
の電気装置を駆動するための電力は適当な配線と従来の
適当な電気的スイッチングを介して供給される。バルブ
とスイッチは通常従来のプログラマブルコントローラー
からの信号に応じて適当な回路を介して起動される。こ
のようにこの発明の装置の制御機能はAllen Br
adley のプログラマブルコントローラー、モデル
番号2/05あるいはモデル番号2/17等の適当なプ
ログラマブルコントローラー(図示せず)と同期させ集
積することができる。プログラマブルコントローラーは
たとえばリミットスイッチ、タイマー、エンコーダー、
近接センサー、カウンター等の入力のような各種の代表
的な入力に応答し、電気スイッチ、ソレノイド式バルブ
等を起動するプログラム出力を順番付するためにこれら
の入力を用いる。起動された構成要素の終了はプログラ
マブルコントローラや適当なリミットスイッチ等の適当
な従来の手段によって行う。
【0041】この発明の装置と方法を用いていかなる円
筒状スリーブ基板も加工することができる。基板は適当
なプラスティック、金属材料等、あるいはその組み合わ
せからなる単一の層、あるいは複数の層から構成するこ
とができる。代表的なプラスティック材料にはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセテート、テレフタル酸樹脂、ポリ塩化ビニル、スチ
ンレブタジエンコポリマー等がある。代表的な金属材料
にはアルミニウム、ステンレススチール、黄銅、チタン
等がある。スリーブ基板は破壊やクラックを発生するこ
となく洗浄できるものであればいかなる厚さでもよい。 心棒を用いるのに好適なスリーブの厚さは約1ミリから
約6ミリの範囲である。片持心棒によって十分支持でき
る限りにおいてそれより厚い基板を用いることもできる
。この発明の方法と装置によれば約12センチまでの厚
さを有する基板を洗浄することができる。
筒状スリーブ基板も加工することができる。基板は適当
なプラスティック、金属材料等、あるいはその組み合わ
せからなる単一の層、あるいは複数の層から構成するこ
とができる。代表的なプラスティック材料にはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセテート、テレフタル酸樹脂、ポリ塩化ビニル、スチ
ンレブタジエンコポリマー等がある。代表的な金属材料
にはアルミニウム、ステンレススチール、黄銅、チタン
等がある。スリーブ基板は破壊やクラックを発生するこ
となく洗浄できるものであればいかなる厚さでもよい。 心棒を用いるのに好適なスリーブの厚さは約1ミリから
約6ミリの範囲である。片持心棒によって十分支持でき
る限りにおいてそれより厚い基板を用いることもできる
。この発明の方法と装置によれば約12センチまでの厚
さを有する基板を洗浄することができる。
【0042】以下にこの発明を実施する際に利用できる
さまざまな構成や条件について多数の例を挙げまた図示
する。別途示す場合を除き比率はすべて重量による。し
かし、この発明はこの以上の開示内容にしたがって、ま
た以下に指摘するようにさまざまな構成で実施でき、ま
た多様な用途を有するものであることは明らかである。 実施例1 制御実験において、外径約4.9cm、長さ約142c
m、厚さ約5mmのステンレススチールの金属チューブ
からなる片持心棒を用いて、外径約8.4cm、長さ約
31cm、厚さ約1.2mmの中空の円筒状アルミニウ
ム基板を支持した。 中空のアルミニウムスリーブ基板はまず金属のリングカ
ラーを中空の円筒状基板の端部にスライドさせることに
よって取り付け可能とした。リングカラーは周囲にリン
グ状のフランジを有する大きな“ワッシャー”状となっ
た。このリング状のフランジの内径はフランジがアルミ
ニウム基板の一端の周囲にカラーを形成し、“ワッシャ
ー”部分がアルミニウム基板の端部に当接するように、
円筒状アルミニウム基板の外径よりわずかに大きくされ
た。出来上がったアッセンブリーがその自由端から片持
心棒にスライドされた後リングカラーがアルミニウム基
板を片持心棒の金属チューブの周囲に同心に位置決めす
るように、“ワッシャー”の穴は片持心棒の金属チュー
ブの外径よりわずかに大きくした。
さまざまな構成や条件について多数の例を挙げまた図示
する。別途示す場合を除き比率はすべて重量による。し
かし、この発明はこの以上の開示内容にしたがって、ま
た以下に指摘するようにさまざまな構成で実施でき、ま
た多様な用途を有するものであることは明らかである。 実施例1 制御実験において、外径約4.9cm、長さ約142c
m、厚さ約5mmのステンレススチールの金属チューブ
からなる片持心棒を用いて、外径約8.4cm、長さ約
31cm、厚さ約1.2mmの中空の円筒状アルミニウ
ム基板を支持した。 中空のアルミニウムスリーブ基板はまず金属のリングカ
ラーを中空の円筒状基板の端部にスライドさせることに
よって取り付け可能とした。リングカラーは周囲にリン
グ状のフランジを有する大きな“ワッシャー”状となっ
た。このリング状のフランジの内径はフランジがアルミ
ニウム基板の一端の周囲にカラーを形成し、“ワッシャ
ー”部分がアルミニウム基板の端部に当接するように、
円筒状アルミニウム基板の外径よりわずかに大きくされ
た。出来上がったアッセンブリーがその自由端から片持
心棒にスライドされた後リングカラーがアルミニウム基
板を片持心棒の金属チューブの周囲に同心に位置決めす
るように、“ワッシャー”の穴は片持心棒の金属チュー
ブの外径よりわずかに大きくした。
【0043】次に、取り付けた円筒状基板が1重量%の
ポリエステル樹脂、1重量%のサブミクロンの大きさの
感光粒子、59重量%の塩化メチレン溶剤および39重
量%の1、1、2トリクロロエタン溶剤からなる溶液で
スプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さは約50マイク
ロメーターであった。次に取り付けた被覆された円筒状
基板をオーブン内で100℃で約5分乾燥して、厚さ約
1マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その後こ
の被覆された円筒状基板は、基板を隣接する取り外し心
棒にスライドさせることによって心棒から取り外された
。円筒状基板のリングカラーに近い部分の外面に被覆不
良が見られた。より詳細には、被覆不良は粒状噴霧によ
って発生した微細組織であり、これは金属のリングカラ
ーが基板と金属心棒の両方に接触する基板の端部におけ
る不均一な温度条件による乾燥の加速によって起こった
ものである。 実施例2 心棒の自由端に配置したボタンを押し下げてボタンのノ
ッチを保持ヘッドと係合させることによってそのボタン
をロックすることによって、直径約8.4cm、長さ約
31cm、厚さ約1.2mmの中空の円筒状基板を取り
付けるために、図1、図2、および図3に示すものと同
様な拡張可能な片持心棒を準備した。このボタンは円す
い状のカムを持つばね付きシャフトの端部に取り付けた
ため、ボタンを押し下げるとカムに乗ったカム従動子が
カムの最も薄い部分に移動した。これによって各対の間
に12個のホイールを有する3対の間隔を置いたレール
の自由端がばね付きシャフトを取り囲みそれと同軸の金
属チューブの方に4.8mm退避した。3対の間隔を置
いたレールの自由端にこのチューブの方に片寄らせるた
めにばねが取り付けられていた。それぞれのレールの一
端は、レール対とチューブの外面との間隔を一定に保つ
固定ねじがあったためにほぼ静止した状態にとどまった
。金属チューブの外径は約4.1cm、長さは約80c
mであり、一端は水平に往復運動可能な支持部材に固着
されていた。各ホイールの外径は約1.6cmであり、
2.5mmの断面を有する弾性のヘクサフルオロプロピ
レン(E.I.du Pont de Ncmours
& Co.のViton)のタイヤの付いたプラステ
ィックのリムからなっていた。各レール対のレールはそ
れぞれ全長が約59.2cm、断面幅が約0.47cm
、断面高さが約1.27cmであり、対の他のレールか
らは約9.5mm間隔をおいて配置された。ホイールは
各レール対の長さに沿って均等に間隔をおいて配置され
、各ホイールは隣接するレールによって各端部が支持さ
れたアクスルの周囲を自由に回転可能であった。レール
対、あるいはレールアッセンブリーはチューブの周囲に
相互に約120°離間して配置された。一方、ボタンは
押し下げられた状態にとどまり、チューブを取り囲むす
べてのレールの自由端はチューブの外面の方に退避した
。レールが退避位置あるいは“取り付け”位置にあると
き、中空のアルミニウムスリーブ基板はリングカラーを
中空の円筒状基板の端部にスライドすることによって取
り付け可能な状態となった。 その結果得られたアッセンブリーはその自由端から片持
心棒に横に移動された。
ポリエステル樹脂、1重量%のサブミクロンの大きさの
感光粒子、59重量%の塩化メチレン溶剤および39重
量%の1、1、2トリクロロエタン溶剤からなる溶液で
スプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さは約50マイク
ロメーターであった。次に取り付けた被覆された円筒状
基板をオーブン内で100℃で約5分乾燥して、厚さ約
1マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その後こ
の被覆された円筒状基板は、基板を隣接する取り外し心
棒にスライドさせることによって心棒から取り外された
。円筒状基板のリングカラーに近い部分の外面に被覆不
良が見られた。より詳細には、被覆不良は粒状噴霧によ
って発生した微細組織であり、これは金属のリングカラ
ーが基板と金属心棒の両方に接触する基板の端部におけ
る不均一な温度条件による乾燥の加速によって起こった
ものである。 実施例2 心棒の自由端に配置したボタンを押し下げてボタンのノ
ッチを保持ヘッドと係合させることによってそのボタン
をロックすることによって、直径約8.4cm、長さ約
31cm、厚さ約1.2mmの中空の円筒状基板を取り
付けるために、図1、図2、および図3に示すものと同
様な拡張可能な片持心棒を準備した。このボタンは円す
い状のカムを持つばね付きシャフトの端部に取り付けた
ため、ボタンを押し下げるとカムに乗ったカム従動子が
カムの最も薄い部分に移動した。これによって各対の間
に12個のホイールを有する3対の間隔を置いたレール
の自由端がばね付きシャフトを取り囲みそれと同軸の金
属チューブの方に4.8mm退避した。3対の間隔を置
いたレールの自由端にこのチューブの方に片寄らせるた
めにばねが取り付けられていた。それぞれのレールの一
端は、レール対とチューブの外面との間隔を一定に保つ
固定ねじがあったためにほぼ静止した状態にとどまった
。金属チューブの外径は約4.1cm、長さは約80c
mであり、一端は水平に往復運動可能な支持部材に固着
されていた。各ホイールの外径は約1.6cmであり、
2.5mmの断面を有する弾性のヘクサフルオロプロピ
レン(E.I.du Pont de Ncmours
& Co.のViton)のタイヤの付いたプラステ
ィックのリムからなっていた。各レール対のレールはそ
れぞれ全長が約59.2cm、断面幅が約0.47cm
、断面高さが約1.27cmであり、対の他のレールか
らは約9.5mm間隔をおいて配置された。ホイールは
各レール対の長さに沿って均等に間隔をおいて配置され
、各ホイールは隣接するレールによって各端部が支持さ
れたアクスルの周囲を自由に回転可能であった。レール
対、あるいはレールアッセンブリーはチューブの周囲に
相互に約120°離間して配置された。一方、ボタンは
押し下げられた状態にとどまり、チューブを取り囲むす
べてのレールの自由端はチューブの外面の方に退避した
。レールが退避位置あるいは“取り付け”位置にあると
き、中空のアルミニウムスリーブ基板はリングカラーを
中空の円筒状基板の端部にスライドすることによって取
り付け可能な状態となった。 その結果得られたアッセンブリーはその自由端から片持
心棒に横に移動された。
【0044】中空の円筒状基板を心棒に取り付けた後、
保持ヘッドがボタンのノッチから出るようボタンを回し
た。ボタンのロックを解除することによって、ばね付き
シャフトが心棒の自由端の方に移動し、カム従動子がカ
ムの傾斜した面に乗り、それによってレールの自由端が
チューブの外面から離れて円筒状基板の内面に向かうよ
う駆動され、その結果レールの有するすべての回転可能
なホイールが円筒状基板の内面に係合した。チューブの
周囲に配設したすべてのレールアッセンブリーの有する
ホイールが円筒状基板の内部に係合しそれを支持したた
め、円筒状基板のチューブとの同軸のアラインメントが
確実になされた。次に、取り付けた円筒状基板は1重量
%のポリエステル樹脂、1重量%のサブミクロンの大き
さの感光粒子、59重量%の塩化メチレン溶剤および3
9重量%の1、1、2トリクロロエタン溶剤からなる溶
液でスプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さが約50マ
イクロメータであった。次に、取り付けた被覆された円
筒状基板をオーブン内で100℃で約5分乾燥して、厚
さ約1マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その
後この被覆された円筒状基板は、ボタンを押し下げ保持
ヘッドがボタンのノッチに係合するまでそれを回すこと
によって取り外された。ボタンを押し下げることによっ
て、カム従動子が傾斜したカム面から落ちて、少なくと
もレール対の自由端の近くにあるホイールの円筒状基板
の内面との係合が解けた。その後被覆された円筒状基板
はそれを隣接する取り外し心棒に横に移動することによ
って容易に心棒から移動された。レールの持つ回転可能
なホイールを低摩擦熱バリヤとして機能したため、円筒
状基板の壁の反対側のホイールの位置に対応する円筒状
基板の外面上の部分には被覆不良は見られなかった。
保持ヘッドがボタンのノッチから出るようボタンを回し
た。ボタンのロックを解除することによって、ばね付き
シャフトが心棒の自由端の方に移動し、カム従動子がカ
ムの傾斜した面に乗り、それによってレールの自由端が
チューブの外面から離れて円筒状基板の内面に向かうよ
う駆動され、その結果レールの有するすべての回転可能
なホイールが円筒状基板の内面に係合した。チューブの
周囲に配設したすべてのレールアッセンブリーの有する
ホイールが円筒状基板の内部に係合しそれを支持したた
め、円筒状基板のチューブとの同軸のアラインメントが
確実になされた。次に、取り付けた円筒状基板は1重量
%のポリエステル樹脂、1重量%のサブミクロンの大き
さの感光粒子、59重量%の塩化メチレン溶剤および3
9重量%の1、1、2トリクロロエタン溶剤からなる溶
液でスプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さが約50マ
イクロメータであった。次に、取り付けた被覆された円
筒状基板をオーブン内で100℃で約5分乾燥して、厚
さ約1マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その
後この被覆された円筒状基板は、ボタンを押し下げ保持
ヘッドがボタンのノッチに係合するまでそれを回すこと
によって取り外された。ボタンを押し下げることによっ
て、カム従動子が傾斜したカム面から落ちて、少なくと
もレール対の自由端の近くにあるホイールの円筒状基板
の内面との係合が解けた。その後被覆された円筒状基板
はそれを隣接する取り外し心棒に横に移動することによ
って容易に心棒から移動された。レールの持つ回転可能
なホイールを低摩擦熱バリヤとして機能したため、円筒
状基板の壁の反対側のホイールの位置に対応する円筒状
基板の外面上の部分には被覆不良は見られなかった。
【0045】以上この発明を一実施例を参照しつつ説明
したが、この発明はそれに限定されるものではない。た
とえば、この発明の概念はまたセレン合金光摂受体ある
いは粒子線写真装置等の各種の静電写真装置の加工にも
利用することができる。
したが、この発明はそれに限定されるものではない。た
とえば、この発明の概念はまたセレン合金光摂受体ある
いは粒子線写真装置等の各種の静電写真装置の加工にも
利用することができる。
【図1】中空シリンダーの取り付け中の支持システムを
示す概略側断面図である。
示す概略側断面図である。
【図2】中空シリンダー用の支持システムの概略拡大断
面端面図である。
面端面図である。
【図3】中空シリンダーの取り付け後の支持システムを
示す概略拡大断面図である。
示す概略拡大断面図である。
【図4】中空シリンダー加工の実施例による装置と加工
の概略全体断面平面図である。
の概略全体断面平面図である。
【図5】被覆チェンバーの概略断面平面図である。
【図6】図5の線X−Xに沿った被覆チェンバーの概略
断面正面図である。
断面正面図である。
【図7】ばね付き回転可能ホイールアッセンブリーの概
略断面正面図である。
略断面正面図である。
【図8】図7に示すばね付き回転可能ホイールアッセン
ブリーの概略断面端面図である。
ブリーの概略断面端面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 支持された端部と支持されない自由端
を有する片持アームと、この片持アームの外周に同心状
に配設されると共に支持された複数の回転可能なホイー
ルとを有し、これらのホイールが少なくとも1つの中空
シリンダーの内部を受けると共に支持するように設けら
れたことを特徴とする中空シリンダー支持装置。 - 【請求項2】 支持された端部と支持されない自由端
を有する片持アームと、この片持アームの外周に同心状
に配設されると共に支持された複数の回転可能なホイー
ルを設け、これらのホイールが少なくとも1つの中空シ
リンダーの内部を受け支持するように適合させており、
さらに中空シリンダーを前記の支持されない自由端から
前記のホイール上を横方向に移動させ、それによって前
記のホイールが前記の中空シリンダーに接触すると共に
支持するようにしたことを特徴とする中空シリンダーの
支持方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US548312 | 1983-11-03 | ||
US54831290A | 1990-07-02 | 1990-07-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04227087A true JPH04227087A (ja) | 1992-08-17 |
Family
ID=24188287
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3161229A Withdrawn JPH04227087A (ja) | 1990-07-02 | 1991-07-02 | 中空シリンダー支持システム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5466114A (ja) |
JP (1) | JPH04227087A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5688098A (en) * | 1996-01-04 | 1997-11-18 | Theno; Mark H. | Roll transfer system |
JP2002234643A (ja) * | 2000-12-04 | 2002-08-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ロール材移載方法、移載装置および供給台車 |
US8025276B2 (en) * | 2008-08-18 | 2011-09-27 | Corning Incorporated | Mandrel to facilitate thin sheet fabrication |
US9057224B1 (en) * | 2015-01-22 | 2015-06-16 | Rolling Too, LLC | Devices and methods for manually moving racked tubulars |
US10103046B2 (en) * | 2015-04-20 | 2018-10-16 | Applied Materials, Inc. | Buffer chamber wafer heating mechanism and supporting robot |
KR102495798B1 (ko) | 2016-12-30 | 2023-02-03 | 뉴스케일 파워, 엘엘씨 | 원격 연결 해제 메커니즘을 가진 제어봉 드라이브 메커니즘(crdm) |
KR102568408B1 (ko) | 2016-12-30 | 2023-08-18 | 뉴스케일 파워, 엘엘씨 | 제어봉 감쇠 시스템 |
US11355252B2 (en) | 2016-12-30 | 2022-06-07 | Nuscale Power, Llc | Control rod drive mechanism with heat pipe cooling |
EP3543524A1 (en) * | 2018-03-19 | 2019-09-25 | LM Wind Power International Technology II ApS | Handling of a wind turbine blade |
CN109382229B (zh) * | 2018-11-01 | 2021-01-15 | 上海新业喷涂机械有限公司 | 一种电弧喷涂用旋转支撑系统及电弧喷涂旋转支撑工艺 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2233070A (en) * | 1938-03-09 | 1941-02-25 | Atlantic Rayon Corp | Holder for hollow articles |
US2414731A (en) * | 1944-10-30 | 1947-01-21 | Jr Arthur L Forbes | Grinding attachment for grinding the end face of pipes |
US2809044A (en) * | 1957-04-30 | 1957-10-08 | Herschel J Landreth | Lathe work center |
US3016856A (en) * | 1958-12-29 | 1962-01-16 | Crutcher Rolfs Cummings Inc | Pipe alignment clamp |
GB955725A (en) * | 1960-01-14 | 1964-04-22 | Aktibolegel Broderna Hedlund | Improvements in devices for controlling relative movement of a tube blank and a welding device during welding operations |
US3164062A (en) * | 1961-06-30 | 1965-01-05 | John D Hogden | Pipe cutter |
BE621522A (ja) * | 1961-08-18 | |||
US3156033A (en) * | 1962-01-02 | 1964-11-10 | Smith Corp A O | Method and apparatus for forming a glass coated tubular roller element |
US3365158A (en) * | 1966-04-18 | 1968-01-23 | Continental Can Co | Can holder |
US3446367A (en) * | 1967-05-23 | 1969-05-27 | Pacific Pipeline Construction | Conveyor for pipe sections |
US3540329A (en) * | 1969-02-11 | 1970-11-17 | Sanford E Coblitz | Pipe machining tool |
US4143774A (en) * | 1977-02-04 | 1979-03-13 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Truck for internally supporting and transporting plastic pipe from a pipe making machine |
US4104937A (en) * | 1977-03-17 | 1978-08-08 | J. Ray Mcdermott & Co., Inc. | Pipe cleaning brush assembly for pipe facing machine |
US4168073A (en) * | 1978-03-01 | 1979-09-18 | Owens-Illinois, Inc. | Glass article handling chuck |
US4257289A (en) * | 1979-03-05 | 1981-03-24 | Project Construction Services Ltd. | Portable pipe end bevelling tool |
US4615243A (en) * | 1981-08-28 | 1986-10-07 | Davis Dalton W | Pipe reaming device |
DE3442585C1 (de) * | 1984-11-22 | 1986-01-30 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Kugelspannzange bzw. -spanndorn |
US4753563A (en) * | 1987-07-06 | 1988-06-28 | Mcinerney Incorporated | Welded tube seam positioner and method |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP3161229A patent/JPH04227087A/ja not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-01-05 US US08/000,837 patent/US5466114A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5466114A (en) | 1995-11-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2523221B2 (ja) | 円筒状及びベルト状の基体の処理装置 | |
JPH04227087A (ja) | 中空シリンダー支持システム | |
US6066575A (en) | Semiconductor processing spray coating apparatus | |
US9364839B2 (en) | Applicator for spraying elastomeric materials | |
US6423380B1 (en) | Method of coating a semiconductor wafer | |
US3598626A (en) | Electrostatic method for coating with powder and withdrawing undeposited powder for reuse | |
US5698269A (en) | Electrostatic deposition of charged coating particles onto a dielectric substrate | |
US12120809B1 (en) | Handheld plasma device process | |
DK163573B (da) | Fremgangsmaade og apparat til overfladebehandling af formstofoverflader med en elektrisk koronaudladning | |
WO2006062923A2 (en) | Cleaning with electrically charged aerosols | |
US3918401A (en) | Apparatus for powder coating metal articles | |
US5032052A (en) | Modular apparatus for cleaning, coating and curing photoreceptors in a dual planetary array | |
US4396156A (en) | Spray gun for cleaning and removing standing particles from wafers and substrates | |
US5038707A (en) | Modular apparatus for cleaning, coating and curing photoreceptors in an enclosed planetary array | |
US3741793A (en) | Method of electrostatically coating hollow articles | |
US5830274A (en) | Electrostatic deposition of charged coating particles onto a dielectric substrate | |
US20040071891A1 (en) | Process for applying exterior coatings to three dimensional containers | |
US5413810A (en) | Fabricating electrostatographic imaging members | |
US6736896B2 (en) | Gas spray arm for spin coating apparatus | |
KR101094679B1 (ko) | 기판 프로세싱 장치 및 방법 | |
US5298292A (en) | Method for applying a coating solution | |
GB2270016A (en) | Automated substrate loading and photoceptor unloading system | |
US5357687A (en) | Method and apparatus for drying/curing rigid cylindrical and flexible belt substrates | |
JP2024106251A (ja) | 膜形成装置、積層体の製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | |
JP3006056B2 (ja) | 膜形成装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |