JPH04227087A - 中空シリンダー支持システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、シリンダーを支持す
る装置と方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】円筒状基板を洗浄し被覆する各種の技術
が考案されている。基板支持要素は必ず中空シリンダー
の内部に位置し、シリンダーの外面への被覆に干渉しな
いようになされる。中空金属シリンダーが膜形形成ポリ
マーの液で被覆されている場合、被覆されたシリンダー
の熱乾燥と冷却中に金属表面と中空シリンダー内の支持
要素との間の熱伝達の不均一によって被覆のテクスチャ
ーと厚さのばらつきが発生する。基板の支持に用いられ
る装置は基板上の絶縁された接点から熱を奪う（ヒート
シンキング）ことによって被覆の不均一を引き起こす傾
向があると考えられている。被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一性は静電結像部材の被覆において特に好ましく
ないとされる。これは被覆にわずかなばらつきがあって
も最終製品の電気的特性に悪影響をおよぼすことがある
ためである。さらにある種の支持体は被覆中に用いられ
る溶液によって冒され、その結果支持不良となることが
ある。また支持装置を再利用する際に、基板と支持装置
がくり返し滑動接触することによって支持体の浸食が起
こり、支持体が基板上の最終被覆を汚染する微粒子を発
生することがある。さらに支持体に用いられる材料によ
っては支持体が好ましくない蒸気汚染の原因となること
がある。

【０００３】加えて被覆装置の源に対して円筒状基板を
精密に位置合わせすることは支持装置が多い場合困難と
なることがある。中空シリンダーが片持アームによって
支持される場合、特にアームが中央の被覆塗布源の周囲
に同心状に配設される場合、被覆材料源と被覆すべき中
空シリンダーの表面の間の距離を注意深く調整すること
が非常に重要である。片持アームと支持された中空シリ
ンダーの内面の間に遊びがある場合、この遊びによって
シリンダーと被覆面の異なる位置の間に距離のばらつき
を発生することがある。

【０００４】従来のシステムの他の欠点としてはシリン
ダーの取りつけと取り外しに要する時間が長く、またこ
れらの従来のシステムを自動化することが困難なことが
ある。中空スリーブを円筒上の断面を有する片持アーム
から離間するための技術の１つとしてシリンダーの各端
部にエンドキャップを用いることがある。このエンドキ
ャップは各シリンダーの各端部の外面を覆い、また心棒
に向かって径方向に伸長するフランジを有する。したが
って、エンドキャップの径部分の断面はエンドキャップ
が単一のシリンダーに用いられるか、２つのシリンダー
の端部が互いに隣接する複数のシリンダーに用いられる
かによって“Ｔ”あるいは“Ｌ”の外観をとる。この種
のエンドキャップの端面はワッシャーの外観を有する。 エンドキャップを用いる目的の１つはシリンダーの外面
と片持支持アームの軸との間に均一な間隔を持たせるこ
とである。しかし、エンドキャップが支持片持アームに
擦れることによって摩耗が発生し、その結果遊びが発生
する。またこの擦れによって望ましくない異物の形成が
起こる。またエンドキャップはかなりの体積があり、シ
リンダーの端部に不均一な過熱を起こし、それによって
被覆の均一性に影響することがある。

【０００５】１９６８年１月２３日にＤｏｗｌｉｎｇ　
に発行された米国特許第　３，３６５，１５８号に乾燥
オーブン中を缶を搬送し缶の外面に塗布された被覆材料
を乾燥させるためのコンベヤチェーンに用いる缶ホルダ
ーを説明している。 このホルダーは一端がコンベヤチェーンに取りつけられ
た支持ロッドを有し、チェーンから水平方向に伸長する
。比較的柔軟なエラストマー材料から成型された少なく
とも２つのくも型のフィットメントがロッドの長手方向
に沿って取りつけられる。各フィットメントはハブとハ
ブから径方向に伸長する少なくとも３つの可とう性のア
ームを有する。このハブはロッドの上に位置する中央開
口部を有し、アームには外側のアームに固いウエアチッ
プが設けられている。缶がホルダーに置かれると、ウエ
アチップが缶の内壁と噛み合ってアームをわずかに屈曲
させ、それによってアームに弾性回復力を発生せせ、そ
の結果ウエアチップが側壁に対してしっかりと、かつ柔
らかく押しつけられて缶を保持する。この構成はたとえ
ば図２に示されている。

【０００６】１９４１年２月２５日に　Ａｔｗｅｌｌ　
その他に発行された米国特許第　２，２３３，０７０号
では、中空の物品を挟持するための長手方向に間隔をお
いて配置したヘッドを有する中空の物品用のホルダーが
開示されている。各ヘッドはそれらの結合された隣接す
る端部がほぼ円すい状の骨組構造を提供するように相互
に空間的に配設された径方向および長手方向に伸長する
複数のつめを有し、対向するヘッドのつめが中空の物品
の対向する端部に入り、中空の物品の内側の端部の周上
に間隔をおいて配置された位置で中空の物品に入るよう
適合されている。この構成はたとえば図５および図６に
示されており、２ページの右４５−６２行に説明されて
いる。

【０００７】１９６４年１１月１０日に　Ｂｒｏｗｎに
発行された米国特許第　３，１５６，０３３号には、ガ
ラス被覆したローラーを形成する方法が説明されており
、ここでは被覆動作中（コラム３、５０−５６行参照）
に基板を保持するためにシャフト（図５参照）を採用し
ている。支持面２１とシェル２の内面との間にはクリア
ランスが設けられる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】したがって、従来の支
持システムでは、塗布された被覆のテクスチャーと厚さ
の不均一、被覆の塗布中に用いる溶液による支持体への
悪影響、支持体の浸食、最終被覆を汚染する微粒子の発
生といったさまざまな面での困難があった。また従来の
支持システムは時として望ましくない蒸気汚染の原因と
なることがあった。さらに、円筒状基板の被覆塗布装置
の源に対する位置合わせが不正確である場合、支持アー
ムと支持される中空シリンダーの間に高い公差の被覆と
遊びを達成することができず、その結果被覆源への距離
のばらつきが発生することがある。またシリンダーの取
りつけおよび取り外しに長時間を要すること、あるいは
自動化が困難であるといった点は生産において望ましく
ないことである。加えて、支持アーム上のエンドキャッ
プの擦れによって摩耗、遊び、および異物が発生し、ま
た端部の不均一な加熱や被覆の不均一といった影響を及
ぼす。

【０００９】このように、中空シリンダー支持システム
の特性は高品位の被覆装置に用いられる基板に対する高
精度および高清浄度の要求を満足するには問題がある。 この発明の目的は各種の処理動作中に中空の円筒状基板
を支持する改善された方法と装置を提供することによっ
て上述の欠点を克服することである。この発明の他の目
的は、基板上の絶縁された接点から熱を奪う（ヒートシ
ンキング）ことなく高温に耐える中空の円筒状基板を支
持する改善された方法と装置を提供することである。

【００１０】またこの発明の他の目的は、被覆溶液に対
して抵抗力のある中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、使用中微粒子あるいは蒸気汚染を発生しない
中空の円筒状基板を支持する改善された方法と装置を提
供することである。またこの発明の他の目的は、基板を
支持装置の中心線に同心に位置決めする中空の円筒状基
板を支持する改善された方法と装置を提供することであ
る。

【００１１】またこの発明の他の目的は、基板の手動あ
るいは自動取りつけおよび取り外しを簡単かつ迅速に行
いうるようにする中空の円筒状基板を支持する改善され
た方法と装置を提供することである。またこの発明の他
の目的は、処理時間を短縮する円筒状基板を支持する改
善された方法と装置を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】支持された端部と支持さ
れない自由端を有する片持アームと、この片持アームの
外周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転
可能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくと
も１つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持する
ように設けられたことを特徴この発明においてこれらの
目的およびその他の目的は、支持された端部と支持され
ない自由端を有する片持アームと、この片持アームの外
周に同心状に配設されると共に支持された複数の回転可
能なホイールとを有し、これらのホイールが少なくとも
１つの中空シリンダーの内部を受けると共に支持するよ
うに設けられた中空シリンダー支持装置および支持方法
を提供することによって達成される。この装置は少なく
とも１つの中空シリンダーを取り扱うための処理に採用
することができる。

【００１３】

【実施例】図１において、円筒状心棒アッセンブリー１
０は片持式であり、支持構造１２によって支持されるも
のとして示される。心棒アッセンブリー１０は円筒状の
断面を有するチューブ１４からなる。チューブ１４の内
部には一端がベアリングブロック１８に他端がベアリン
グポスト２０に支持されたシャフト１６が取りつけられ
ており、これらはいずれもチューブ１４の内部に取りつ
けられ支持されている。ベアリングブロック１８および
ベアリングポスト２０はシャフト１６をチューブ１４と
同軸に支持し、維持する。シャフト１６の一端には押さ
えピン２８のヘッド２６を受けるように適合させたノッ
チ２４（図３参照）を含むボタン２２が固着されており
、ピン２８のヘッド２６に対向する端部はベアリングブ
ロック１８に固着され支持されている。

【００１４】チューブ１４の外面には支持受け台３０、
３２および３４が取りつけられている。これらの受け台
はねじやリベットといった適当な手段でチューブ１４に
固着される。また、受け台３０、３２および３４はそれ
ぞれスロット３６、３８および４０を有する。図１およ
び図２には、一対の間隔をおいたレール４２および４４
を図示しており、これらは互いに平行であり、離間され
ている。レール４２および４４にはガイドピン４６、４
８および５０が固着されており、これらはそれぞれスロ
ット３６、３８および４０に入る。

【００１５】ホイール５２、５４、５６、５８、６０、
６２、６４および６６がレール４２と４４の間に、レー
ル４２と４４の長さに沿って間隔をおいて配置されてい
る。これらのホイールには弾性の低熱伝導材料からなる
タイヤ６６が取りつけられている。ホイール５２、５４
、５６、５８、６０、６２、６４および６６は両端がレ
ール４２と４４に固着されたアクスルを用いてレール４
２と４４の間にフリーホイール部材として保持されてい
る。

【００１６】図１において、各レール４２、４４の一端
はレール４２と４４に固着され、その間に取りつけられ
たねじ込みスペーサ部材（図示せず）内に支持された調
節可能な固定ねじ７０を用いてチューブ１４から離間さ
れる。図１および図３において、反転した“Ｔ”字状の
部材がレール４２と４４の間に挟持され、ねじ７６と７
８によってそこに固着されている。この反転した“Ｔ”
字状の部材７２は２つの離間された脚８０および８２か
らなるステムを有する。脚８０および８２のそれぞれの
一端にアクスル８４が固着されており、このアクスルを
カム従動子８６を支持する。カム８７上のシャフト１６
の長さに沿ったカム従動子８６の位置に応じて、レール
対４２、４４の自由端は図１に示すようにチューブ１４
に接近するか、あるいは図３に示すように中空の円筒状
基板８８の内面に接近する。

【００１７】図１に示すように、ボタン２２は押し下げ
られた位置にロックされる。これは弾性の押さえピン２
８のヘッド２６がボタン２２のノッチ２４に落ちこんだ
ためである。ボタン２２がこの位置に来ることによって
シャフト１６がばね９０をワッシャー９２に押しつけ、
ワッシャー９２がベアリングポスト２０によってその位
置に保持される。ばね９０は圧縮されているため、シャ
フト１６がベアリングポスト２０から片寄らせる。

【００１８】図２において、フランジ９４と９６はねじ
７６によってレール４２と４４に固着されたものとして
示される。フランジ９４と９６のねじ７６および７８の
位置に対向する端部は、それぞればね１００、１０２の
一端を受ける穴を有する。レール４２と４４を参照しつ
つ上に説明したレールアッセンブリーの構成については
、図２に示すようにチューブ１４の周囲に１２０°離間
して配置した少なくとも２つの他の位置においても同様
の構成とされる。複雑さが増すためあまり望ましくはな
いが、チューブ１４の周囲に３つ以上のレールアッセン
ブリーを構成することもできる。これらの同一のレール
アッセンブリーはすべて１００、１０２等のばねによっ
てシャフト１６の方に片寄らせられるため、シャフト１
６に対するこれらのレールアッセンブリーの位置は、対
応するカム従動子（たとえばカム従動子８６）のカム８
７に対する位置によって決まる。この相対的な位置はボ
タン２２のチューブ１４の自由端に対する位置によって
制御される。このように、ボタン２２が押し下げられた
ときカム従動子８６はシャフト１６の軸に最も近い位置
にあり、レール４２と４４の自由端（すなわちホイール
６６に隣接する端部）は図１に示すようにチューブ１４
の外面に最も近い位置にあり、心棒１０への基板８８の
取り付けを容易にしている。ボタン２２のノッチ２４の
断面（シャフト１６の軸に平行な方向に見た断面）は“
Ｃ”の字に似た形状であるため、ボタン２２をひねると
弾性の押さえピン２８のヘッド２６がスロット２４から
出て、その後ボタン２２が解放されたとき、ばね９０が
シャフト１６を押圧してベアリングポスト２０から離し
、カム従動子８６が押圧されてカム８７の上に乗る。 これによってレールアッセンブリー４２および４４の自
由端が中空の円筒状基板８８の内面に向かって移動し、
基板８８を支持し、それをチューブ１４に同軸に整列し
た関係に維持する。

【００１９】ボタン２２を手動で押し下げたりひねった
りしてシャフト１６を“取りつけ”位置にロックする、
あるいはその位置から解放することもできるが、このよ
うな操作はまた自動的に行うこともできる。たとえば、
取りつけ心棒１１０（点線で示す）を、たとえばつめ１
１２の端部に位置するドライバーの刃状の突起（図示せ
ず）で好適に構成することができる。このドライバーの
刃状の突起はボタン２２の自由端のスロット１１４に嵌
合するように適合されており、それによって取りつけ心
棒１１０に回転してボタン２２を回転させる。したがっ
て取りつけ心棒１１０は心棒１０に対して往復運動する
ように適合されており、またボタン２２の押し下げと回
転を可能とするように回転可能である。つめ１１２の端
部をボタン２２の自由端と嵌合させるには他の適当な手
段を用いることができるのは明らかである。たとえば、
代表的な嵌合関係としては、適当な形状とされたドライ
バーを受けるように適合させた　Ｐｈｉｌｉｐｓあるい
は　Ｔｏｒｑｕｅ　型のリセプタクルがある。必要であ
ればこのリセプタクルはボタン２２の自由端ではなく取
りつけ心棒１１０の自由端に配置することができる。取
りつけ心棒１１０は適切であればいかなる設計であって
もよい。たとえば、これには心棒１０に用いられるレー
ルおよびローラーと同様なレールとローラーを備えるこ
とができる。心棒１１０の自由端を心棒１０の自由端に
持っていくと、先に取りつけ心棒１１０に取りつけられ
た中空の円筒状基板８８を心棒１１０から心棒１０に横
に移動させることができる。

【００２０】中空の円筒状基板８８が導電性であり、心
棒１０が静電被覆システムにおいて用いられる場合、基
板８８の接地は心棒１０との端部同上の接触、あるいは
端部とカラーとの接触、あるいはレール４２あるいは４
４に取りつけられ、基板８８の内部と電気的に接触した
可とう性の金属板ばね（図示せず）等の適当な手段によ
って達成することができる。板ばねを有するレール４２
あるいは４４は固定ねじ７０もしくは支持受け台３０、
３２あるいは３４を会して金属チューブ１４に接地され
ている。複数の中空の円筒状基板８８を各心棒１０に横
に移動させる必要がある場合、オプションの部分リング
カラー１１１をそれぞれの隣接する円筒状基板８８の間
に配置して端部をマスクすることができる。しかし、こ
のような部分リングカラー１１１は削除することができ
る。それはこれらは基板８８を心棒１０に対して同心の
位置に支持するのには不必要であるからである。同様に
、リングカラー１１３もまたオプションであり、削除す
ることができる。基板８８は必要であれば支持構造１２
あるいは支持構造１２と基板８８端部の間のスペーシン
グスリーブ（図示せず）に当接させることができる。 このスペーシングスリーブはたとえば基板８８を短くし
たものに似たものとすることもできる。基板８８のいず
れかの端部（他の基板８８を除く）に接触する可能性の
あるいかなる構造も、基板８８を他の熱伝導性の材料か
ら絶縁し、それによって重大なヒートシンク効果を防止
する熱絶縁性の材料とすることが好適である。

【００２１】必要があれば適当な温度感知装置を心棒１
０に取りつけることもできる。図４、図５および図６に
好適な実施例を示しており、ここでは複数の心棒１０が
単一の“Ｌ”字状の支持構造１２によって支持されてい
る。この複数の心棒１０の軸は支持構造１２に対して垂
直な共通の軸の周囲に同心に配設されている。支持構造
１２は回転可能な円形コンベヤ１２０の上に支持されて
いる。円形コンベヤ１２０は心棒１０の端部を基板取り
つけ／取り外しステーション１２２、洗浄ステーション
１２４、被覆ステーション１２６および乾燥ステーショ
ン１２８といった円形コンベヤ１２０を取り囲むいくつ
かのステーションのうちのいずれかに送ることができる
ように回転可能である。ステーション１２２、１２４、
１２６、１２８および円形コンベヤ１２０はすべて基板
８８の空気中の汚染物質への露出をなくすことによって
被覆不良を最小化する等級１００以上の洗浄な領域１３
０内に配置するのが好適である。

【００２２】図４に示すように、円形コンベヤ１２０は
垂直軸Ｖの周囲を時計回り、あるいは反時計回りのいず
れかの方向に回転可能な水平なプラットフォームからな
る。円形コンベヤは作業者の制御もしくはコンピュータ
プログラムのもとで適当な従来の機構で回転される。支
持構造１２は円形コンベヤ１２０の水平なプラットフォ
ームに沿って、この支持構造に対向するステーションに
対して水平方向（矢印ＡＡで表す）に往復運動するのが
好適であるが、ステーションが支持構造に対して往復運
動するようにすることもできる。支持構造あるいはステ
ーションの往復運動は作業者の制御もしくはコンピュー
タプログラムのもとで適当な従来の機構で達成される。

【００２３】図４、図５および図６から最もよくわかる
ように、支持構造１２は心棒１０の遊星状のアレーを含
み、心棒１０はそれぞれが支持構造１２の中空の水平軸
Ｈから径方向に離間されたオフセット水平軸を規定する
。心棒１０はそれぞれが少なくとも１つの中空の円筒状
基板８８（好適には２つの基板）を持つことができ、支
持構造１２が基板８８の遊星状の構成を提供し、それぞ
れの基板が中空の水平軸Ｈに対して平行であるがそれら
径方向に間隔を持つようになっている。心棒１０は中央
水平軸Ｈに対して等しい半径にある環状アレーに配置さ
れ、基板８８が水平軸Ｈに関して対称に配置されるのが
好適である。さらに支持構造１２は、遊星状に構成され
た基板８８内の各心棒１０がその個々のオフセット水平
軸の周囲を回転し、同時に中空の水平軸Ｈに対して平行
であるがそれから径方向に間隔をおいた位置に固定され
るように、各支持アーム１６をそのオフセット水平軸ｈ
の周囲で回転させるための機構を有する。支持構造１２
０にはそれぞれの回転心棒１０用に適切な機構を含める
ことができる。心棒１０に支持された基板８８の端部は
、回転可能なエンドキャップ等の適当な手段で覆うこと
ができ、あるいは単に回転可能な短いスリーブに当接さ
せてもよい。

【００２４】心棒１０上に基板８８を遊星状に構成する
ことによって、多数の基板を同時に加工し、それによっ
て加工のスループットを増し、製造コストを低減するこ
とを可能とする。心棒１０はそれぞれ多数の基板８８を
持つことができる。さらに、次に説明する被覆および乾
燥ステーションは中央軸Ｈから径方向に外向きに動作を
行うことができ、同時に各基板８８は径方向の対称性に
より等しい方法で加工されるようにその個々の軸の周囲
を回転する。このようにして加工における均一性と汎用
性が保証される。

【００２５】基板８８を１回の加工動作の間だけ心棒１
０上に支持し、その後心棒１０から取り外すことができ
る。あるいは追加工動作のためにそのまま心棒１０に支
持させておくこともできる。心棒に支持された基板８８
は別の加工を行うために１つの場所にとどまってもよく
、また光摂受体を形成するための被覆の塗布といった加
工をさらに行うために１つあるいはそれ以上の異なる場
所に移動することもできる。多数の加工動作を基板８８
が心棒１０に支持された状態で行うことができ、また加
工された基板８８を取り外して別の未加工の基板８８を
心棒１０に取りつけて加工することもできる。このよう
に、心棒１０はその上に支持された加工された基板８８
をさらに加工するために別の場所に移動することもでき
、また未加工の基板８８を支持した別の心棒１０を加工
位置に移動して加工することもできる。また、加工され
た基板８８を取り外した後元の心棒１０を再び使用して
新しい未加工の基板８８を支持して洗浄を行うこともで
きる。

【００２６】動作中は、心棒１０にはカム従動子８６が
カム８７の底部にくるようにボタン２２を押し下げノッ
チ２４を嵌合したヘッド２６でロックすることによって
、少なくとも１つの中空円筒状基板８８を取り付けるこ
とができる。これによってホイール６６を乗せたレール
４２および４４の自由端が図１に示すようにチューブ１
４に向かって確実に退避する。少なくとも３つのレール
アッセンブリーがチューブ１４の周囲に配置されており
、ボタン２２を押し下げるとチューブ１４を取り囲むす
べてのレールの自由端がチューブ１４の外面に向かって
退避する。必要であれば、４つあるいはそれ以上のレー
ルを用いることもできる。したしレールの数はスペース
上の制約によってレールが隣接するレールの動作に干渉
するほど多くなってはならない。レールが退避位置ある
いは“取り付け”位置にあるとき、１つあるいはそれ以
上の中空円筒状基板８８を取り付け心棒１１０から手動
、自動のいずれかで心棒にスライドさせることができる
。心棒１０に複数の円筒状基板が取り付けられる場合、
隣接する円筒状基板８８の端部は互いに当接してもよく
、あるいは必要であればカラー１１４を隣接する円筒状
基板の間に挿入してエッジをマスクすることもできる。 心棒１０が複数の中空円筒状基板８８を支持する場合、
その総数は基板８８の大きさや重量、心棒１０の強さ（
たとえばたわみに対する抵抗力）、用いられる被覆シス
テムの能力その他の要因によって決まる。代表的な基板
支持システムはたとえば１つにつき２つの基板８８を支
持する１６個の片持心棒１０からなる。また、ホイール
５２、５４、５６、５８、６０、６２、６４および６６
等のホイールの外周にヘクサフルオロプロピレン（Ｅ．
Ｉ　ｄｕ　Ｐｏｎｔ　ｄｅ　Ｎｃｍｏｕｓ　＆　Ｃｏの
Ｖｉｔｏｎ　）等の弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い
層がある場合、すべてのレールを固定することができ、
レールの退避は不要である。 弾性の圧縮可能な材料のかなり厚い層はたとえば、より
弾性の高い“ハブ”材料の周囲に溝で支持された単なる
“Ｏ”リング“タイヤ”としてもよい。“弾性の圧縮可
能な材料”という表現はここではジュロメータのＳＨＯ
ＲＥ　Ａ　硬度が約４０から約７０である材料と定義さ
れる。 “かなり厚い層”とはここではホイールの半径の少なく
とも約１０パーセントの厚さと定義される。固定された
レールに支持される代わりに、周囲に弾性の圧縮可能な
材料のかなり厚い層を有する回転可能なホイールのアク
スルは受け台３０、３２あるいは３４と同様の受け台に
取り付けて、それによってレールを不要とするようにし
てもよい。さらに個別に受け台を使用することによって
ホイールを心棒の外面の周りに適切なパターンで配設す
ることが可能となる。たとえば、列を成して、あるいは
千鳥パターンに、あるいはまた基板を心棒と同軸に維持
するに十分な数のホイールが心棒の周囲に配置される限
りにおいてランダムに配設することができる。また、図
７および図８に示すように、ハブ１５３ｂに支持された
タイヤ１５３ａからなる回転可能なホイールのアクスル
１５２が、レール１５０のスロット１５６にスライド可
能に取り付けられ、ばね１５８によって心棒の中心線（
図示せず）から片寄らせられたベアリングブロック１５
４に取り付けられている場合、レール１５０は固定する
ことができる。図７および図８に示す構成は先の運転で
加工された円筒状基板８８と内径の異なる円筒状基板８
８を後の運転時に取り付けることを可能とする。また、
図１および図３に示す構成もまた、単に調節可能な固定
ねじ７０の設定を変更し、ボタン２２をカム８７からノ
ッチ２４までの距離が異なる別のボタン（図示せず）に
交換するか、あるいはシャフト１６をピッチの異なる傾
斜した表面を有するカム８７に交換することによって、
内径の異なる円筒状基板８８を取り扱えるように容易に
調整することができる。

【００２７】中空円筒状基板８８を心棒１０に取り付け
た後、ボタン２２を回してヘッド２６がノッチ２４から
出るようにする。ボタン２２をロック解除すると、ばね
９０はシャフト１６を心棒１０の自由端の方に押すこと
が可能となる。この運動によってカム従動子８６はカム
８７の傾斜した面に乗り、それによってレール対４２お
よび４４の自由端をチューブ１４の外面から離れ、円筒
状基板８８の内面に向うように駆動し、それによってレ
ール４２および４４の有するすべての回転可能なホイー
ルが円筒状基板８８の内面に係合する。同様に、チュー
ブ１４の周囲に配設された他のレールアッセンブリーの
有するホイールもまた円筒状基板８８の内部と係合して
それを支持し、円筒状基板がチューブ１４と同軸に整列
することを確実にする。レール４２および４４の有する
回転可能なホイールは低摩擦熱バリアとして機能し、ホ
イールに被覆された、あるいは各ホイール全体を構成す
る適切な熱絶縁体材料から構成することができる。回転
可能なホイールは摩擦と円筒状基板８８の内面との表面
接触の両方を最小化し、またレール４２および４４の放
熱からの熱的な絶縁を提供する。代表的な熱絶縁材料と
してはガラスを充填したポリテトラフルオロエチレン（
Ｅ．Ｉ．ｄｕ　Ｐｏｎｔ　ｄｅＮｅｍｏｕｒｓ　＆　Ｃ
ｏ　のＴｅｆｌｏｎ）、フッ化ビニリデンのコポリマー
およびヘクサフルオロプロピレン（Ｅ．Ｉ．ｄｕ　Ｐｏ
ｎｔ　ｄｅ　Ｎｅｍｏｕｒｓ　＆　Ｃｏ　のＶｉｔｏｎ
）、シリコンゴム、ポリエステル、セラミック等がある
。全体がセラミック等の剛性材料でできたホイールは通
常、基板８８の心棒１０に対して横移動する際にホイー
ル全体が退避および伸長する実施例に採用される。可と
う性の高い材料からなるホイールはアクスルに沿って厚
い、あるいはホイールが回転する際の過度なウォッブリ
ングを防止するためにより剛性の高い材料からなるハブ
領域を有することが好適である。熱絶縁材料は好適には
たとえば約１７７℃（３５０°Ｆ）の高温において劣化
しないことが好適である。基板８８と回転可能なホイー
ルの接触面積を最小限とするために、ホイールの最も外
側のエッジの断面形状は必要であればナイフの刃の形状
とすることができる。心棒１０に支持される円筒状基板
８８がその後加工される。たとえば、チューブは洗浄ス
テーション、被覆ステーション、および乾燥ステーショ
ンに移動される。これらはすべて別個のステーションと
することもでき、また同一のステーションとすることも
できる。加工が終わると加工された円筒状基板８８はボ
タン２２を押し下げ、また必要であればボタン２２をヘ
ッド２６がノッチ２４と係合するまで回すことによって
取り外される。ボタン２２を押し下げると、カム従動子
８６がカム８７の傾斜したカム面から落ち、レール４２
および４４の有するほとんどのホイールが円筒状基板８
８の内面から外れる。処理された円筒状基板８８はその
後、心棒１０に横に移動することによって心棒１０から
容易に移動することができる。

【００２８】好適な実施例の全体の動作を図４、図５お
よび図６に示す。ここでは円形コンベヤ１２０は垂直軸
Ｖの周囲を回転して基板８８の遊星状のアレーをステー
ション１２２、１２４、１２６あるいは１２８のいずれ
か１つの前に位置決めする。位置に付いたとき、支持構
造１２が所望のステーションに対して水平方向に往復運
動し、基板８８の遊星状のアレーをそのステーションに
挿入する。そのステーションが加工チェンバーを有する
場合、支持構造１２はその周囲にガスケット等のシーリ
ング機構１３０を有して支持構造１２が基板８８を収容
したそのチェンバーを密閉するためのふたの機能を果た
すようにするのが好適である。基板８８は次にこの密閉
されたチェンバー内で加工され、その間各基板８８は支
持構造１２の中央水平軸Ｈからずれた水平軸の周囲を回
転する。加工五、支持構造１２はステーションから退避
し、円形コンベヤ１２０は基板８８のアレーを次の加工
ステーションに挿入するために位置決めすべく回転する
。

【００２９】個々の加工ステーションは円形コンベヤ１
２０に関して対称に配設されることが好適である。基本
的な加工ステップには基板８８の取り付け、洗浄、被覆
、乾燥および取り外しがある。基板８８の取り付けは取
り付け／取り外しステーション１２２で行うことができ
る。被覆されていない基板８８が手動で、あるいはプロ
グラムされたロボットアーム（図示せず）といった他の
適当な技術で支持構造１２０から伸長する各心棒１０に
取り付けられる。各基板８８は片持心棒１０の軸に取り
付けられ、同心に位置合わせされる。心棒１０の軸は中
央の水平軸Ｈに対して平行に、かつ径方向に間隔を持つ
ように維持される。

【００３０】基板８８の洗浄は洗浄ステーション１２４
で行うことができる。円形コンベヤ１２０は図４におい
てまず時計回りに好適には約９０°回転し、支持構造１
２を支持構造１２の中央水平軸Ｈと共直線である中央水
平軸を有する洗浄チェンバーを含む洗浄ステーションの
前に位置決めする。次に支持構造１２は洗浄ステーショ
ン１２４のチェンバーに基板８８の遊星状のアレーを挿
入するために洗浄チェンバー１２４に向かって伸長する
。支持構造１２が洗浄チェンバー１２４の開口端をふさ
ぐと、シーリング機構１３０（図５参照）がそこに取り
付けられた基板８８でチェンバー１２４を密閉する。 洗浄ステーション１２４のチェンバーの内部に入ると、
基板８８は液体洗剤、フロン、あるいはオゾンといった
適当な技術を用いて、同時に紫外線にさらしながら洗浄
される。各基板の外表面全体が均一に洗浄されるように
、基板８８は洗浄動作中片持心棒１０の上で水平軸の周
りを回転する。心棒１０の自由端は心棒１０と基板８８
が回転する間、ベアリングブロック１２５によって支持
することができる。洗浄動作中基板８８は約３０から約
２００ｒｐｍ　の間で回転することが好適である。各心
棒１０の回転は適当な手段でギヤ１３１に接続された電
動機（図示せず）等の適当な手段で行うことができる。 次に洗浄チェンバー１２４中の空気が排出され、基板８
８が支持構造１２が逆に退避することによってチェンバ
ー１２４から引き出される。

【００３１】代表的な実施例において、基板８８はフロ
ン、あるいは洗浄をベースとした溶剤等の溶剤をベース
とした洗浄剤の高圧スプレーにさらすことによって洗浄
される。このスプレーは洗浄ステーション１２４の洗浄
チェンバーの中央水平軸に沿って配置された中央の往復
運動可能なコンジットから出るようにすると好適である
が、たとえばノズルのアレー中の各ノズルが特定の基板
に向けられている構造といったような専用のノズル等の
他の洗浄構造を用いることもできる。中央コンジット１
３２は洗浄剤を中央コンジット１３２から同時にすべて
のノズルを通して放射状に外向きに散布できるように配
置された一連のノズル１３４で構成することができる。 中央コンジット１３２およびノズル１３４を洗浄剤を各
基板の軸に沿って順次吹きかけるよう往復運動させるこ
ともできる。この往復運動するコンジット１３２はプロ
グラム制御のもとに従来の機構を用いて前後に移動させ
、ノズル１３４の噴射範囲が適正になることを確実とす
る。中央コンジット１３２からのスプレーは基板８８が
その水平軸の周りを回転する際に放射状に外向きに出る
。したがって、衝突角度、噴射圧力、スプレーノズルか
らの距離といった点ですべての基板８８を最適にカバー
することになる。洗浄ステーション１２４の洗浄チェン
バー内の洗浄剤の量と噴射時間は、たとえば洗浄剤の材
料や洗浄すべき基板８８によって異なる。洗浄後は洗浄
チェンバー内の余った洗浄剤は排出され、蒸気は洗浄ス
テーション１２４の洗浄チェンバー内の適当な排水排気
機構（図示せず）によって除去される。洗浄チェンバー
には、十分な温度の空気を供給して基板を（蒸発冷却に
対処するため）要求される加工温度と平衡させ、チェン
バーからの蒸気の放出を低減するための給気機構を（中
央コンジット１３２の一部として、あるいはまた別途）
装備することもできる。適切な温度および蒸気の条件が
達成されると、支持構造１２は基板８８のアレーを洗浄
チェンバー１２４から退避させ、さらに加工を行うため
にアレーを被覆ステーション１２４に移動する。

【００３２】基板８８は被覆ステーション１２６で被覆
することができる。円形コンベヤ１２０は好適にはさら
に約９０°時計回りに回転して洗浄された基板８８の遊
星状のアレーを被覆ステーション１２６の前に位置決め
する。被覆ステーション１２６は支持構造１２の中央水
平軸Ｈと共直線である中央水平軸を有する被覆チェンバ
ーを含む。次に支持構造１２は前進して遊星状のアレー
を被覆チェンバー３１０に挿入する。このときシーリン
グ機構２０がチェンバーを密閉する。次に基板８８が、
たとえば電子写真に用いる１つあるいはそれ以上の材料
を含む被覆液で（次に説明する機構を用いて）被覆され
る。被覆加工が完了すると、基板８８は支持構造１２の
退避（逆の往復運動）によって被覆チェンバー１２６か
ら引き出される。

【００３３】ある実施例では、基板８８は静電回転噴霧
器３２０（図５）から噴霧された溶剤／ポリマー溶液を
用いて被覆される。この静電回転噴霧器３２０は、Ｄｅ
ＶＩＬＢＩＳＳ　、Ａｃｒｏｂｅｌｌ、Ｇｒａｃｏ　、
ＣＡ　１０００　、ＣＴ　４０００　あるいはＲｅｓｉ
ｓｔｉｖｅ　Ｍｉｃｒｏ−Ｂｅｌｌ回転噴霧器等の市場
で入手できる適当な装置とすることができる。一般に静
電回転噴霧器１３６は、回転タービン翼（図示せず）と
被覆液と溶剤用の供給コンジット（図示せず）を収容す
る噴霧器ハウジング１３８と、噴霧器ハウジング３２２
の一端から間隔をおいて配置された回転ベルあるいはキ
ャップ１４０の２つの部分からなる。動作中、被覆液と
溶剤は噴霧器ハウジング１３８の端部にある射出ポート
を通って回転ベルあるいはキャップ１４０に対して噴霧
される。回転ベルあるいはキャップ１４０は被覆液と溶
剤を霧状にし、回転噴霧器から放射状に外向きにスプレ
ーを向ける。ベルあるいはキャップ１４０が回転する際
、噴霧器１３６は被覆すべき基板８８の軸に平行な通路
を往復運動することができる。静電回転噴霧器１２６の
往復運動の通路を取り囲む水平な基板８８の遊星状の配
列は、したがって回転噴霧器１３６によって発生する霧
に関して対称な構成に配置される。したがって基板８８
はそれぞれ均一な被覆を受ける。被覆の塗布を向上させ
るためには、急速に蒸発する溶剤をまず（次に説明する
機構によって）密閉された被覆チェンバーに噴霧し、チ
ェンバー内の空気の飽和点までの一定の蒸気圧を得る。 次に、基板８８を回転させ、噴霧器１３６を基板の遊星
状のアレーの中央の中央軸Ｈに沿って前後に往復運動さ
せながら、同じ急速蒸発溶剤を含んだ被覆液を静電回転
噴霧器１３６を用いて噴霧する。

【００３４】回転する基板８８の遊星状のアレーの中心
に位置させた往復運動する回転噴霧器１３６を用いるこ
とにはいくつかの利点がある。基板８８に均一な被覆を
行うことに加えて、噴霧と乾燥の処理が分離され、それ
ぞれの処理がよりよく規定され、制御される。さらに、
急速蒸発溶剤は乾燥時間と乾燥に要するエネルギーを低
減することによって乾燥条件を緩和するのに用いること
ができる。また、回転する水平基板８８の遊星状のアレ
ーの入った密閉されたチェンバー内の中央に噴霧器１３
６を配置することによって、小さな液滴を細かく散布す
ることができ、それによって“オレンジピール”効果等
の典型的な被覆不良を起こすことなくすべての基板に均
一な薄い被覆を施すことが可能となる。

【００３５】ある実施例では、被覆液と溶剤の被覆剤は
、約１５．０００から約６０．０００ｒｐｍ　の噴霧器
速度、約５から約４０ｍｍ／ｓｅｃ　の往復速度、約３
０から約１５０キロボルト（１電荷の極性）の静電圧で
約５０から約４００ｃｃ／分射出される。被覆剤は約０
．５から約５０％の固体濃度と約１から約１０００セン
チポアズの粘性を有することが好適である。基板８８は
約０から約３０℃の温度の被覆チェンバー内で約２０か
ら約１００ｒｐｍ　で回転している。心棒１０の自由端
は心棒１０と基板８８が回転する間ベアリングブロック
１２５によって指示することができる。被覆剤にはナイ
ロン、ポリエステル、ポリカーボネート等の適当な材料
や、塩化メチレン、トルエン、メタノール、あるいはエ
タノールといったを含めることができる。以上論じたパ
ラメータは被覆液、溶剤、および希望する被覆のタイプ
等に応じて変化する。

【００３６】被覆が塗布され平滑な膜に平坦化された後
、溶剤の蒸気が膜からの溶剤の蒸発を制御することによ
って除去される。蒸発の制御はダンパー（図示せず）を
開け、再循環ブロワ（図示せず）を起動することによっ
てチェンバー内に適当な溶剤を飽和させたガスを再循環
させることによって達成することができる。溶剤除去の
速度はガスの再循環の速度を（ブロワとダンパーを介し
て）制御するか、あるいはガス流から溶剤を凝結させる
冷却コイル（図示せず）の温度を制御することによって
達成することができる。いずれの場合も入ってくるガス
流を再加熱するのにヒーターを用いることができる。 溶剤の蒸気の濃度が十分低く、膜の粘性が十分である場
合、ガスの再循環が停止され、支持構造１２が退避して
基板８８を被覆チェンバーから取り出す。また、上述し
たように支持構造１２の退避の前に次の被覆層を塗布す
ることもできる。

【００３７】被覆チェンバーはさらに真空被覆光摂受体
装置の製造用に変更することもできる。たとえば、回転
噴霧器で被覆を塗布するための構造に加えて、チェンバ
ーの壁をより強くし、真空供給線１４４（図５）と真空
シールを設けて溶剤による回転噴霧被覆だけでなく被覆
ステーション１２６のチェンバ内で薄溝の真空蒸着をも
行いうるようにすることもできる。この２つの機能によ
って真空被覆と噴霧器で塗布された被覆を有する異なる
種類の光摂受体を同じ装置を用いて生産することが可能
となる。

【００３８】４番目の動作は硬化ステーション１２８に
おける膜の硬化あるいは乾燥である。円形コンベヤ１２
０が好適にはさらに９０°時計回りに回転して被覆され
た基板８８の遊星状のアレーを硬化ステーション１２８
の硬化チェンバーの前に位置決めする。被覆ステーショ
ン１２６のチェンバーと同様に硬化ステーション１２８
の硬化チェンバーもまた支持構造１２の中央水平軸Ｈと
共直線の中央水平軸をなす。次に支持構造１２が前進し
て基板８８の遊星状のアレーを硬化ステーション１２８
のチェンバーに挿入する。被覆された膜に溶剤がある場
合、それは高速の加熱空気（たとえば、約６０から約１
４０℃で４０００ｃｆｍ　を約１から５分）にさらすこ
とによって除去される。膜が光化学反応するものである
場合、膜は紫外線にさらすことによって硬化される。硬
化が終わると、基板８８は（必要であれば）冷気で冷却
され、その後チェンバーから引き出される。多層膜構造
が必要である場合、被覆と硬化の動作が、被覆ステーシ
ョン１２６と硬化ステーション１２８の間を循環する円
形コンベヤ１２０で必要なだけくり返される。

【００３９】ある実施例では、硬化ステーション１２８
の硬化チェンバー基板８８上の被覆されたばかりの膜か
ら、基板８８を回転させながら高速空気の加熱された流
れ（図示せず）にさらすことによって溶剤を除去するた
めの乾燥機構を含む。乾燥機構には空気源（図示せず）
と空気取り入れ口１４６の温度を制御するための熱源（
図示せず）を含めることができる。ミシン目の入ったプ
リナム１４８が硬化ステーション１２８のチェンバーの
水平軸Ｈに沿って、基板８８の遊星状のアレーに取り囲
まれるように配置される。清浄な加熱された空気がプリ
ナム１４８中を放射状に外向きに高速で流れ、被覆され
た基板８８の回転する外表面（約２０から約１００ｒｐ
ｍ　で回転している）に衝突する。心棒１０の自由端は
心棒１０と基板８８が回転する間ベアリングブロック１
２５によって支持することができる。高速空気は境界層
を最小限にし、その結果高い熱と物質移動速度によって
溶剤の急速な除去が可能となる。ミシン目の入ったプリ
ナム壁１４８を示したが、中央軸Ｈに沿って配置され、
個々の基板８８に軸方向に整列したノズルを有する空気
供給シリンダー等の他の構成を用いて高速空気を回転す
る基板８８に与えるようにすることもできる。また硬化
ステーション１２８の硬化チェンバーには、それぞれが
空気を特定の基板８８に噴射するようにされた専用ノズ
ルのアレーを含めることができる。空気供給温度と流量
は被覆面の品質と結像性能を落とすことなく硬化時間を
最小限とするよう最適に制御される。被覆された層が適
正に硬化するとき、空気供給温度は周囲温度以下に下げ
られて基板８８を急速に周囲温度にまで冷却する。円形
コンベヤ１２０は次に基板８８の遊星状のアレーをさら
に層を塗布するため被覆ステーション１２６の被覆チェ
ンバーに戻すか、あるいは被覆および乾燥が完了してい
れば取り付け／取り外しステーション１２２に戻す。中
央プリナム１４８の構造を有する基板８８の遊星状のア
レーは乾燥時間を短縮し、基板の温度のばらつきを低減
するシステムを提供する。基板の遊星状のアレーの各種
の加工ステーションと組み合わせての使用が　Ｊ．Ｈａ
ｍｍｏｎｄその他の名義で併願中の１９８９年１２月２
７日付ＵＳ−Ａ特許申請０７／４５７，９２６　号、Ｅ
．Ｓｗａｉｎ　の名義で併願中の１９８９年１２月２７
日付ＵＳ−Ａ特許申請０７／４５８，５７１号、および
Ｅ．Ｓｗａｉｎ　の名義で併願中の１９８９年１２月２
７日付ＵＳ−Ａ特許申請０７／４５７，９２７　号に開
示されている。これらの特許申請の開示内容全体をここ
で参照している。

【００４０】モーター、ソレノイド、サーボモーター等
の電気装置を駆動するための電力は適当な配線と従来の
適当な電気的スイッチングを介して供給される。バルブ
とスイッチは通常従来のプログラマブルコントローラー
からの信号に応じて適当な回路を介して起動される。こ
のようにこの発明の装置の制御機能はＡｌｌｅｎ　Ｂｒ
ａｄｌｅｙ　のプログラマブルコントローラー、モデル
番号２／０５あるいはモデル番号２／１７等の適当なプ
ログラマブルコントローラー（図示せず）と同期させ集
積することができる。プログラマブルコントローラーは
たとえばリミットスイッチ、タイマー、エンコーダー、
近接センサー、カウンター等の入力のような各種の代表
的な入力に応答し、電気スイッチ、ソレノイド式バルブ
等を起動するプログラム出力を順番付するためにこれら
の入力を用いる。起動された構成要素の終了はプログラ
マブルコントローラや適当なリミットスイッチ等の適当
な従来の手段によって行う。

【００４１】この発明の装置と方法を用いていかなる円
筒状スリーブ基板も加工することができる。基板は適当
なプラスティック、金属材料等、あるいはその組み合わ
せからなる単一の層、あるいは複数の層から構成するこ
とができる。代表的なプラスティック材料にはポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセテート、テレフタル酸樹脂、ポリ塩化ビニル、スチ
ンレブタジエンコポリマー等がある。代表的な金属材料
にはアルミニウム、ステンレススチール、黄銅、チタン
等がある。スリーブ基板は破壊やクラックを発生するこ
となく洗浄できるものであればいかなる厚さでもよい。 心棒を用いるのに好適なスリーブの厚さは約１ミリから
約６ミリの範囲である。片持心棒によって十分支持でき
る限りにおいてそれより厚い基板を用いることもできる
。この発明の方法と装置によれば約１２センチまでの厚
さを有する基板を洗浄することができる。

【００４２】以下にこの発明を実施する際に利用できる
さまざまな構成や条件について多数の例を挙げまた図示
する。別途示す場合を除き比率はすべて重量による。し
かし、この発明はこの以上の開示内容にしたがって、ま
た以下に指摘するようにさまざまな構成で実施でき、ま
た多様な用途を有するものであることは明らかである。 実施例１ 制御実験において、外径約４．９ｃｍ、長さ約１４２ｃ
ｍ、厚さ約５ｍｍのステンレススチールの金属チューブ
からなる片持心棒を用いて、外径約８．４ｃｍ、長さ約
３１ｃｍ、厚さ約１．２ｍｍの中空の円筒状アルミニウ
ム基板を支持した。 中空のアルミニウムスリーブ基板はまず金属のリングカ
ラーを中空の円筒状基板の端部にスライドさせることに
よって取り付け可能とした。リングカラーは周囲にリン
グ状のフランジを有する大きな“ワッシャー”状となっ
た。このリング状のフランジの内径はフランジがアルミ
ニウム基板の一端の周囲にカラーを形成し、“ワッシャ
ー”部分がアルミニウム基板の端部に当接するように、
円筒状アルミニウム基板の外径よりわずかに大きくされ
た。出来上がったアッセンブリーがその自由端から片持
心棒にスライドされた後リングカラーがアルミニウム基
板を片持心棒の金属チューブの周囲に同心に位置決めす
るように、“ワッシャー”の穴は片持心棒の金属チュー
ブの外径よりわずかに大きくした。

【００４３】次に、取り付けた円筒状基板が１重量％の
ポリエステル樹脂、１重量％のサブミクロンの大きさの
感光粒子、５９重量％の塩化メチレン溶剤および３９重
量％の１、１、２トリクロロエタン溶剤からなる溶液で
スプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さは約５０マイク
ロメーターであった。次に取り付けた被覆された円筒状
基板をオーブン内で１００℃で約５分乾燥して、厚さ約
１マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その後こ
の被覆された円筒状基板は、基板を隣接する取り外し心
棒にスライドさせることによって心棒から取り外された
。円筒状基板のリングカラーに近い部分の外面に被覆不
良が見られた。より詳細には、被覆不良は粒状噴霧によ
って発生した微細組織であり、これは金属のリングカラ
ーが基板と金属心棒の両方に接触する基板の端部におけ
る不均一な温度条件による乾燥の加速によって起こった
ものである。 実施例２ 心棒の自由端に配置したボタンを押し下げてボタンのノ
ッチを保持ヘッドと係合させることによってそのボタン
をロックすることによって、直径約８．４ｃｍ、長さ約
３１ｃｍ、厚さ約１．２ｍｍの中空の円筒状基板を取り
付けるために、図１、図２、および図３に示すものと同
様な拡張可能な片持心棒を準備した。このボタンは円す
い状のカムを持つばね付きシャフトの端部に取り付けた
ため、ボタンを押し下げるとカムに乗ったカム従動子が
カムの最も薄い部分に移動した。これによって各対の間
に１２個のホイールを有する３対の間隔を置いたレール
の自由端がばね付きシャフトを取り囲みそれと同軸の金
属チューブの方に４．８ｍｍ退避した。３対の間隔を置
いたレールの自由端にこのチューブの方に片寄らせるた
めにばねが取り付けられていた。それぞれのレールの一
端は、レール対とチューブの外面との間隔を一定に保つ
固定ねじがあったためにほぼ静止した状態にとどまった
。金属チューブの外径は約４．１ｃｍ、長さは約８０ｃ
ｍであり、一端は水平に往復運動可能な支持部材に固着
されていた。各ホイールの外径は約１．６ｃｍであり、
２．５ｍｍの断面を有する弾性のヘクサフルオロプロピ
レン（Ｅ．Ｉ．ｄｕ　Ｐｏｎｔ　ｄｅ　Ｎｃｍｏｕｒｓ
　＆　Ｃｏ．のＶｉｔｏｎ）のタイヤの付いたプラステ
ィックのリムからなっていた。各レール対のレールはそ
れぞれ全長が約５９．２ｃｍ、断面幅が約０．４７ｃｍ
、断面高さが約１．２７ｃｍであり、対の他のレールか
らは約９．５ｍｍ間隔をおいて配置された。ホイールは
各レール対の長さに沿って均等に間隔をおいて配置され
、各ホイールは隣接するレールによって各端部が支持さ
れたアクスルの周囲を自由に回転可能であった。レール
対、あるいはレールアッセンブリーはチューブの周囲に
相互に約１２０°離間して配置された。一方、ボタンは
押し下げられた状態にとどまり、チューブを取り囲むす
べてのレールの自由端はチューブの外面の方に退避した
。レールが退避位置あるいは“取り付け”位置にあると
き、中空のアルミニウムスリーブ基板はリングカラーを
中空の円筒状基板の端部にスライドすることによって取
り付け可能な状態となった。 その結果得られたアッセンブリーはその自由端から片持
心棒に横に移動された。

【００４４】中空の円筒状基板を心棒に取り付けた後、
保持ヘッドがボタンのノッチから出るようボタンを回し
た。ボタンのロックを解除することによって、ばね付き
シャフトが心棒の自由端の方に移動し、カム従動子がカ
ムの傾斜した面に乗り、それによってレールの自由端が
チューブの外面から離れて円筒状基板の内面に向かうよ
う駆動され、その結果レールの有するすべての回転可能
なホイールが円筒状基板の内面に係合した。チューブの
周囲に配設したすべてのレールアッセンブリーの有する
ホイールが円筒状基板の内部に係合しそれを支持したた
め、円筒状基板のチューブとの同軸のアラインメントが
確実になされた。次に、取り付けた円筒状基板は１重量
％のポリエステル樹脂、１重量％のサブミクロンの大き
さの感光粒子、５９重量％の塩化メチレン溶剤および３
９重量％の１、１、２トリクロロエタン溶剤からなる溶
液でスプレー被覆された。ぬれた被覆の厚さが約５０マ
イクロメータであった。次に、取り付けた被覆された円
筒状基板をオーブン内で１００℃で約５分乾燥して、厚
さ約１マイクロメータの乾燥した被覆を形成した。その
後この被覆された円筒状基板は、ボタンを押し下げ保持
ヘッドがボタンのノッチに係合するまでそれを回すこと
によって取り外された。ボタンを押し下げることによっ
て、カム従動子が傾斜したカム面から落ちて、少なくと
もレール対の自由端の近くにあるホイールの円筒状基板
の内面との係合が解けた。その後被覆された円筒状基板
はそれを隣接する取り外し心棒に横に移動することによ
って容易に心棒から移動された。レールの持つ回転可能
なホイールを低摩擦熱バリヤとして機能したため、円筒
状基板の壁の反対側のホイールの位置に対応する円筒状
基板の外面上の部分には被覆不良は見られなかった。

【００４５】以上この発明を一実施例を参照しつつ説明
したが、この発明はそれに限定されるものではない。た
とえば、この発明の概念はまたセレン合金光摂受体ある
いは粒子線写真装置等の各種の静電写真装置の加工にも
利用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】中空シリンダーの取り付け中の支持システムを
示す概略側断面図である。

【図２】中空シリンダー用の支持システムの概略拡大断
面端面図である。

【図３】中空シリンダーの取り付け後の支持システムを
示す概略拡大断面図である。

【図４】中空シリンダー加工の実施例による装置と加工
の概略全体断面平面図である。

【図５】被覆チェンバーの概略断面平面図である。

【図６】図５の線Ｘ−Ｘに沿った被覆チェンバーの概略
断面正面図である。

【図７】ばね付き回転可能ホイールアッセンブリーの概
略断面正面図である。

【図８】図７に示すばね付き回転可能ホイールアッセン
ブリーの概略断面端面図である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持された端部と支持されない自由端
   を有する片持アームと、この片持アームの外周に同心状
   に配設されると共に支持された複数の回転可能なホイー
   ルとを有し、これらのホイールが少なくとも１つの中空
   シリンダーの内部を受けると共に支持するように設けら
   れたことを特徴とする中空シリンダー支持装置。
2. 【請求項２】　　支持された端部と支持されない自由端
   を有する片持アームと、この片持アームの外周に同心状
   に配設されると共に支持された複数の回転可能なホイー
   ルを設け、これらのホイールが少なくとも１つの中空シ
   リンダーの内部を受け支持するように適合させており、
   さらに中空シリンダーを前記の支持されない自由端から
   前記のホイール上を横方向に移動させ、それによって前
   記のホイールが前記の中空シリンダーに接触すると共に
   支持するようにしたことを特徴とする中空シリンダーの
   支持方法。