JPH04225981A - 3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法 - Google Patents
3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
- C07D413/06—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
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-
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- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/08—Bridged systems
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】本発明はムスカリン拮抗作用を有する化合
物の対掌体を分割する方法に関する。
物の対掌体を分割する方法に関する。
【0002】公開された欧州特許第239309号、第
301729号、第307142号、第307140号
、第323864号、第261763号各明細書には、
たとえば、ムスカリン拮抗作用を有するオキサ−および
チア−ジアゾール誘導体を含むある種のアザビシクロ化
合物ならびにその製造方法が開示されている。その方法
は多段階法であり、下記式(A)
301729号、第307142号、第307140号
、第323864号、第261763号各明細書には、
たとえば、ムスカリン拮抗作用を有するオキサ−および
チア−ジアゾール誘導体を含むある種のアザビシクロ化
合物ならびにその製造方法が開示されている。その方法
は多段階法であり、下記式(A)
【化4】
の中間体(その類似体および誘導体を含む)を経由して
進行するものである。最終生成物のアザビシクロ化合物
も式(A)の中間生成物も少なくとも2つの不斉中心を
有し、したがって鏡像体とジアステレオマーとの両方の
形で存在することができる。式(A)の中間生成物のご
とき生成物はexo −およびendo−異性体として
存在しうる。しかしながら、最終アザビシクロ化合物[
式(A)の中間生成物でもその類似体や誘導体でもない
]の光学異性体が分離されて製造されうるあるいはその
ラセミ混合物が分割されうる方法は全く開示されていな
い。
進行するものである。最終生成物のアザビシクロ化合物
も式(A)の中間生成物も少なくとも2つの不斉中心を
有し、したがって鏡像体とジアステレオマーとの両方の
形で存在することができる。式(A)の中間生成物のご
とき生成物はexo −およびendo−異性体として
存在しうる。しかしながら、最終アザビシクロ化合物[
式(A)の中間生成物でもその類似体や誘導体でもない
]の光学異性体が分離されて製造されうるあるいはその
ラセミ混合物が分割されうる方法は全く開示されていな
い。
【0003】すなわち、上記のオキサジアゾールおよび
チアジアゾールならびに他の置換アザビシクロ化合物の
各個の対掌体を製造するため、それらの製造に使用され
る光学活性中間体を分割する試みがなされてきた。従来
公知のさまざまな方法が試みられたが、完全な成功には
至らなかった。たとえば、酒石酸やショウノウ−10−
スルホン酸のごときキラル酸の使用は不成功であること
が判明した。同じくメタノール、N−ベンゾイル−2−
アミノ−1−ブタノール、N−ベンゾイルノルエフェド
リンの誘導体のごときキラルエステルの使用も、それら
が製造不能であるかあるいはアザビシクロ化合物のキラ
ル誘導体が分割不能であるために、有効な手段とはなら
なかった。しかして、ここに、誠に驚くべきことながら
、市場で入手可能な光学活性化合物から出発して、分割
の工程を行なうことなく、目的の最終対掌体を製造する
ことのできる新規な立体選択的製造方法が本発明によっ
て開発された。
チアジアゾールならびに他の置換アザビシクロ化合物の
各個の対掌体を製造するため、それらの製造に使用され
る光学活性中間体を分割する試みがなされてきた。従来
公知のさまざまな方法が試みられたが、完全な成功には
至らなかった。たとえば、酒石酸やショウノウ−10−
スルホン酸のごときキラル酸の使用は不成功であること
が判明した。同じくメタノール、N−ベンゾイル−2−
アミノ−1−ブタノール、N−ベンゾイルノルエフェド
リンの誘導体のごときキラルエステルの使用も、それら
が製造不能であるかあるいはアザビシクロ化合物のキラ
ル誘導体が分割不能であるために、有効な手段とはなら
なかった。しかして、ここに、誠に驚くべきことながら
、市場で入手可能な光学活性化合物から出発して、分割
の工程を行なうことなく、目的の最終対掌体を製造する
ことのできる新規な立体選択的製造方法が本発明によっ
て開発された。
【0004】すなわち、本発明によれば、式(I)
【化
5】 (式中、XはOまたはS、R2 は水素、−CF3 、
−OR7 、−SR7 、−NR7 R8、−CN、−
COOR7 、−CONR7 R8 または飽和または
不飽和、置換または未置換の炭化水素基を意味し、ここ
でR7 とR8 は互いに独立的に水素とC1−2−ア
ルキルからなる群から選択されるものであるが、ただし
−NR7R8 はNH2 ではあり得ないものとする)
の化合物の実質的に純粋な1つの対掌体の製造方法にお
いて、式(10)
5】 (式中、XはOまたはS、R2 は水素、−CF3 、
−OR7 、−SR7 、−NR7 R8、−CN、−
COOR7 、−CONR7 R8 または飽和または
不飽和、置換または未置換の炭化水素基を意味し、ここ
でR7 とR8 は互いに独立的に水素とC1−2−ア
ルキルからなる群から選択されるものであるが、ただし
−NR7R8 はNH2 ではあり得ないものとする)
の化合物の実質的に純粋な1つの対掌体の製造方法にお
いて、式(10)
【化6】
[式中、XとR2 は式(I)について定義した意味を
有し、R4 はメシレート(OS(O)2 CH3 )
、低級アルカノエートたとえばアセテートまたは塩素ま
たは臭素などのハロゲンのごとき不安定脱離基を意味す
る]の化合物またはその塩を環化し、そして、所望の場
合は、得られたendo−ジアステレオマーをエピマー
化して対応するexo −ジアステレオマーを生成させ
ることを特徴とする方法が提供される。
有し、R4 はメシレート(OS(O)2 CH3 )
、低級アルカノエートたとえばアセテートまたは塩素ま
たは臭素などのハロゲンのごとき不安定脱離基を意味す
る]の化合物またはその塩を環化し、そして、所望の場
合は、得られたendo−ジアステレオマーをエピマー
化して対応するexo −ジアステレオマーを生成させ
ることを特徴とする方法が提供される。
【0005】式(10)の化合物の環化は6乃至10の
pH範囲で実施される。たとえば、非水性相と穏和な無
機塩基たとえば水性アルカリ金属またはアルカリ土類金
属炭酸塩、炭酸水素塩または水酸化物とを含む二相系内
などで実施される。穏和な無機塩基の具体例は炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウムまたは水酸化バリウムなどの水溶液であり、好
ましくは炭酸ナトリウム水溶液である。非水性相は生成
された式(I)の化合物がそれに可溶である任意の溶剤
系でありうる。たとえば、t−ブタノ−ルのごとき低級
アルカノール、酢酸エチルのごときエステル、ジエチル
エーテルのごときエーテルあるいはトルエンである。単
相系の場合は、任意のアルコールと水、たとえば、t−
ブタノール/水を使用することができる。
pH範囲で実施される。たとえば、非水性相と穏和な無
機塩基たとえば水性アルカリ金属またはアルカリ土類金
属炭酸塩、炭酸水素塩または水酸化物とを含む二相系内
などで実施される。穏和な無機塩基の具体例は炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウムまたは水酸化バリウムなどの水溶液であり、好
ましくは炭酸ナトリウム水溶液である。非水性相は生成
された式(I)の化合物がそれに可溶である任意の溶剤
系でありうる。たとえば、t−ブタノ−ルのごとき低級
アルカノール、酢酸エチルのごときエステル、ジエチル
エーテルのごときエーテルあるいはトルエンである。単
相系の場合は、任意のアルコールと水、たとえば、t−
ブタノール/水を使用することができる。
【0006】式(10)の化合物は通常トリフルオロ酢
酸塩のごとき塩の形で存在する。これは対応する下記式
(9)の化合物の脱保護によって製造される。
酸塩のごとき塩の形で存在する。これは対応する下記式
(9)の化合物の脱保護によって製造される。
【化7】
(式中、XとR2 およびR4 は式(10)について
定義した意味を有し、Rは穏和な条件下で脱離可能な第
二アミン保護基である)。適当な保護基は当技術分野で
公知であり、たとえば、t−ブトキシカルボニルまたは
ベンジルオキシカルボニルなどである。
定義した意味を有し、Rは穏和な条件下で脱離可能な第
二アミン保護基である)。適当な保護基は当技術分野で
公知であり、たとえば、t−ブトキシカルボニルまたは
ベンジルオキシカルボニルなどである。
【0007】化合物(10)を生成させるための保護基
Rの脱離は当技術分野で公知の常用方法によって、たと
えば、トリフルオロ酢酸あるいは臭化水素または塩化水
素のごときハロゲン化水素と反応させることによって実
施される。この目的のためには、反応を適当な溶媒たと
えばt−ブタノールあるいは低級アルキル有機酸または
エステルたとえば酢酸または酢酸エチルまたは酢酸イソ
プロピルに溶解した溶液中で実施するのが好ましい。
Rの脱離は当技術分野で公知の常用方法によって、たと
えば、トリフルオロ酢酸あるいは臭化水素または塩化水
素のごときハロゲン化水素と反応させることによって実
施される。この目的のためには、反応を適当な溶媒たと
えばt−ブタノールあるいは低級アルキル有機酸または
エステルたとえば酢酸または酢酸エチルまたは酢酸イソ
プロピルに溶解した溶液中で実施するのが好ましい。
【0008】式(9)の化合物は下記式(8)
【化8】
(式中、X、RおよびR2 は式(9)について定義し
た意味を有する)の対応するヒドロキシ類似体から常用
方法で製造することができる。
た意味を有する)の対応するヒドロキシ類似体から常用
方法で製造することができる。
【0009】式(9)の化合物を得るため式(8)のア
ルコール中のヒドロキシ基を適当な脱離基R4 へ変換
する反応は公知方法に準じて実施することができる。た
とえば、トリエチルアミンのごとき低級アルキルアミン
の存在で冷却しながら酢酸エチルのごとき適当な不活性
有機溶剤中で該アルコール(8)にメタンスルホニルク
ロライドを添加すればメシル化(R4 =OS(O)2
CH3 )が行なわれる。
ルコール中のヒドロキシ基を適当な脱離基R4 へ変換
する反応は公知方法に準じて実施することができる。た
とえば、トリエチルアミンのごとき低級アルキルアミン
の存在で冷却しながら酢酸エチルのごとき適当な不活性
有機溶剤中で該アルコール(8)にメタンスルホニルク
ロライドを添加すればメシル化(R4 =OS(O)2
CH3 )が行なわれる。
【0010】R4 がハロゲンの場合には、エーテルま
たはテトラヒドロフランのごとき溶剤中で三臭化リンを
使用すれば臭素化が実施でき、塩化チオニルを使用すれ
ば塩素化が実施できる。所望の場合には、最初にメシレ
ートを形成し、次にこれをハロゲンに変換することがで
きる。実際上、任意の脱離基を常用方法で他の任意適当
な脱離基に変換することが可能である。
たはテトラヒドロフランのごとき溶剤中で三臭化リンを
使用すれば臭素化が実施でき、塩化チオニルを使用すれ
ば塩素化が実施できる。所望の場合には、最初にメシレ
ートを形成し、次にこれをハロゲンに変換することがで
きる。実際上、任意の脱離基を常用方法で他の任意適当
な脱離基に変換することが可能である。
【0011】式(8)の化合物自体は下記式(7)
【化
9】 (式中、X、RおよびR2 は式(8)について定義し
た意味を有し、そしてR3は低級アルキルまたはベンジ
ルを意味する)の対応するエステルを還元して製造する
ことができる。
9】 (式中、X、RおよびR2 は式(8)について定義し
た意味を有し、そしてR3は低級アルキルまたはベンジ
ルを意味する)の対応するエステルを還元して製造する
ことができる。
【0012】式(7)のピロリジンエステルの、式(8
)のアルコールへの還元は、窒素のごとき不活性ガス雰
囲気下、好ましくは約−10乃至0℃の低温、好ましく
は−5乃至0℃の温度で、テトラヒドロフランまたはエ
ーテルのごとき不活性有機溶剤中メタノールの存在で、
ホウ水素化ナトリウムのごとき公知常用の穏和な還元剤
を使用して実施される。
)のアルコールへの還元は、窒素のごとき不活性ガス雰
囲気下、好ましくは約−10乃至0℃の低温、好ましく
は−5乃至0℃の温度で、テトラヒドロフランまたはエ
ーテルのごとき不活性有機溶剤中メタノールの存在で、
ホウ水素化ナトリウムのごとき公知常用の穏和な還元剤
を使用して実施される。
【0013】式(7)のピロリジンエステルは下記式(
6)の複素環式エステルと式(3)の保護されたピロリ
ジンとを反応させることによって製造される。
6)の複素環式エステルと式(3)の保護されたピロリ
ジンとを反応させることによって製造される。
【化10】
(式中、R、R2 、R3 は式(7)について定義し
た意味を有し、そしてR1 はメシレート、低級アルカ
ノエートまたはp−トルエンスルホネートのごとき不安
定な脱離基を意味する)。
た意味を有し、そしてR1 はメシレート、低級アルカ
ノエートまたはp−トルエンスルホネートのごとき不安
定な脱離基を意味する)。
【0014】この反応は典型的アルキル化条件で実施す
ることができる。すなわち、場合によってはテトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、トルエンまたは1,
3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1
H)−ピリミジノン(DMPUと略す)のごとき溶媒中
、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシドまたはジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DB
Uと略す)のような塩基の存在といったような条件で行
なわれる。好ましくは、DMPU中のDBUを使用する
。この反応は60乃至100℃といった高められた温度
、好ましくは60℃近辺の温度で実施することができる
。窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気を使用するのが好ま
しい。
ることができる。すなわち、場合によってはテトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、トルエンまたは1,
3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1
H)−ピリミジノン(DMPUと略す)のごとき溶媒中
、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシドまたはジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DB
Uと略す)のような塩基の存在といったような条件で行
なわれる。好ましくは、DMPU中のDBUを使用する
。この反応は60乃至100℃といった高められた温度
、好ましくは60℃近辺の温度で実施することができる
。窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気を使用するのが好ま
しい。
【0015】保護されたピロリジン(3)は式(9)の
化合物に関して前記した方法に類似の方法で下記式(2
)のアルコールから製造することができる。R1 がp
−トシレートである場合、この反応は軽度に高められた
温度でp−トルエンスルホニルクロライドを使用して実
施することができる。
化合物に関して前記した方法に類似の方法で下記式(2
)のアルコールから製造することができる。R1 がp
−トシレートである場合、この反応は軽度に高められた
温度でp−トルエンスルホニルクロライドを使用して実
施することができる。
【化11】
【0016】式(2)のアルコール自体は第二アミンを
保護するための公知常用の技術によって製造することが
できる。たとえば、(R)2 O(ここでRは式(2)
に関して定義した意味を有する)、好ましくはジ−te
rt−ブチルジカーボネートを添加することによって製
造することができる。もちろん、ベンジルクロロギ酸塩
のごとき他の剤も使用することができる。添加は好まし
くは水性塩基中で実施される。たとえば、炭酸塩、水酸
化物または炭酸水素塩のごとき無機塩基の水溶液たとえ
ば炭酸水素ナトリウム水溶液中で、あるいはまた、トリ
エチルアミンまたはDBUのごとき有機塩基の水溶液中
で実施される。保護前に式(1)の化合物を単離するこ
とが所望される場合には取扱い容易な式(1)のアルコ
ールの塩に対して保護を行なうのが好ましい。別の実施
態様として、出発化合物のL−トランス−4−ヒドロキ
シプロリンをまず脱カルボキシル化しそしてこれにより
得られたアルコール(1)を現場で保護するようにして
もよい。すなわち、式(2)の化合物は式(1)の化合
物あるいはその塩のいずれかを保護することによって製
造する。
保護するための公知常用の技術によって製造することが
できる。たとえば、(R)2 O(ここでRは式(2)
に関して定義した意味を有する)、好ましくはジ−te
rt−ブチルジカーボネートを添加することによって製
造することができる。もちろん、ベンジルクロロギ酸塩
のごとき他の剤も使用することができる。添加は好まし
くは水性塩基中で実施される。たとえば、炭酸塩、水酸
化物または炭酸水素塩のごとき無機塩基の水溶液たとえ
ば炭酸水素ナトリウム水溶液中で、あるいはまた、トリ
エチルアミンまたはDBUのごとき有機塩基の水溶液中
で実施される。保護前に式(1)の化合物を単離するこ
とが所望される場合には取扱い容易な式(1)のアルコ
ールの塩に対して保護を行なうのが好ましい。別の実施
態様として、出発化合物のL−トランス−4−ヒドロキ
シプロリンをまず脱カルボキシル化しそしてこれにより
得られたアルコール(1)を現場で保護するようにして
もよい。すなわち、式(2)の化合物は式(1)の化合
物あるいはその塩のいずれかを保護することによって製
造する。
【0017】市場で入手可能な(2S,4R)−(−)
−4−ヒドロキシ−2−ピロリジンカルボン酸(L−ト
ランス−ヒドロキシプロリン)の脱カルボキシル化によ
って(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)の塩酸
塩を得ることは文献から公知である。[Chem.Le
tt.(1986),983頁以降参照]。その他の塩
も同様方法によって製造することができる。たとえば、
L−トランス−ヒドロキシプロリンを2−シクロヘキサ
ン−1−オンのごとき脱カルボキシル化剤と反応させた
後、対応する酸好ましくはマレイン酸を添加して製造す
ることができる。脱カルボキシル化はシクロヘキサノー
ルのごとき適当な不活性溶媒中、反応混合物の還流温度
で実施することができる。
−4−ヒドロキシ−2−ピロリジンカルボン酸(L−ト
ランス−ヒドロキシプロリン)の脱カルボキシル化によ
って(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)の塩酸
塩を得ることは文献から公知である。[Chem.Le
tt.(1986),983頁以降参照]。その他の塩
も同様方法によって製造することができる。たとえば、
L−トランス−ヒドロキシプロリンを2−シクロヘキサ
ン−1−オンのごとき脱カルボキシル化剤と反応させた
後、対応する酸好ましくはマレイン酸を添加して製造す
ることができる。脱カルボキシル化はシクロヘキサノー
ルのごとき適当な不活性溶媒中、反応混合物の還流温度
で実施することができる。
【0018】式(6)の複素環式エステルは当技術分野
で公知の方法に準じて製造することができる。たとえば
、XがOかつR2 が−CF3、−CONR7 R7
または飽和または不飽和、置換または未置換の炭化水素
置換分である場合、式(6)の複素環式エステルは下記
式(5)の化合物と式(11)の化合物とを反応させる
ことによって製造することができる。
で公知の方法に準じて製造することができる。たとえば
、XがOかつR2 が−CF3、−CONR7 R7
または飽和または不飽和、置換または未置換の炭化水素
置換分である場合、式(6)の複素環式エステルは下記
式(5)の化合物と式(11)の化合物とを反応させる
ことによって製造することができる。
【化12】
式中、R2 とR3 は式(6)について定義した意味
を有し、R3 ′はR3 と同じであるかまたはそれと
は異なる低級アルキルまたはベンジル基を意味する。式
(11)の化合物は好ましくはジエチルマロン酸エステ
ルでありそして反応は好ましくはトルエンまたはキシレ
ンのごとき沸点が100乃至140℃の範囲にある不活
性有機溶剤中で実施される。
を有し、R3 ′はR3 と同じであるかまたはそれと
は異なる低級アルキルまたはベンジル基を意味する。式
(11)の化合物は好ましくはジエチルマロン酸エステ
ルでありそして反応は好ましくはトルエンまたはキシレ
ンのごとき沸点が100乃至140℃の範囲にある不活
性有機溶剤中で実施される。
【0019】式(5)の化合物は、たとえば、欧州特許
第239309号明細書に記載されているような方法で
R2 CN(式4)のシアン化物から製造することがで
きる。たとえば、窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気下、
好ましくはメタノールを例とするアルコールのごとき極
性有機溶剤中、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの存
在で式(4)の化合物をヒドロキシルアミンまたはその
塩たとえば塩酸塩と反応させることによって製造するこ
とができる。
第239309号明細書に記載されているような方法で
R2 CN(式4)のシアン化物から製造することがで
きる。たとえば、窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気下、
好ましくはメタノールを例とするアルコールのごとき極
性有機溶剤中、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの存
在で式(4)の化合物をヒドロキシルアミンまたはその
塩たとえば塩酸塩と反応させることによって製造するこ
とができる。
【0020】なお、本明細書で“低級アルキル”とは直
鎖状または分枝状の飽和鎖を有するC1−4 −アルキ
ル基を意味するものである。R2 は、好ましくは、−
CF3 基または飽和または不飽和、置換または未置換
の炭化水素、より好ましくは1乃至6個の炭素原子を有
する炭化水素基である。特に好ましくは、R2 は−C
F3 基あるいはC1−6 −飽和炭化水素たとえばC
1−6 −直鎖状または分枝状アルキルたとえばメチル
またはエチルまたはシクロアルキルたとえばシクロプロ
ピルまたはシクロプロピルメチルである。Xは好ましく
はOである。
鎖状または分枝状の飽和鎖を有するC1−4 −アルキ
ル基を意味するものである。R2 は、好ましくは、−
CF3 基または飽和または不飽和、置換または未置換
の炭化水素、より好ましくは1乃至6個の炭素原子を有
する炭化水素基である。特に好ましくは、R2 は−C
F3 基あるいはC1−6 −飽和炭化水素たとえばC
1−6 −直鎖状または分枝状アルキルたとえばメチル
またはエチルまたはシクロアルキルたとえばシクロプロ
ピルまたはシクロプロピルメチルである。Xは好ましく
はOである。
【0021】上記したいずれの反応においても当該化合
物中に存在する敏感な基を保護することが必要および/
または望ましいこととなろう。保護基は目的化合物合成
の任意の好都合な段階で常法によって脱離させてよい。
物中に存在する敏感な基を保護することが必要および/
または望ましいこととなろう。保護基は目的化合物合成
の任意の好都合な段階で常法によって脱離させてよい。
【0022】したがって、本発明はさらに、上記に定義
された式(7)、(8)、(9)、(10)の新規な中
間生成物、すなわち下記式(B)
された式(7)、(8)、(9)、(10)の新規な中
間生成物、すなわち下記式(B)
【化13】
[式中、XとR2 は式(I)において定義した意味を
有し、Rは水素または穏和な条件下で脱離可能な第二ア
ミン保護基を意味し、Rb は基COOR3 (ここで
、R3 は低級アルキルまたはベンジルである)、OH
または不安定な脱離基を意味する]で表わすことのでき
る中間生成物およびその製造方法、ならびに式(3)と
(6)の中間生成物およびその製造方法を包含する。
有し、Rは水素または穏和な条件下で脱離可能な第二ア
ミン保護基を意味し、Rb は基COOR3 (ここで
、R3 は低級アルキルまたはベンジルである)、OH
または不安定な脱離基を意味する]で表わすことのでき
る中間生成物およびその製造方法、ならびに式(3)と
(6)の中間生成物およびその製造方法を包含する。
【0023】式(I)の最終生成物は所望の対掌体また
はその混合物を得るためさらに処理することができる。 たとえば、exo −異性体と exo/endo混合
物とをクロマトグラフィーによって分離することができ
る。混合物はその後エピマー化してexo −異性体の
収率を上げることができる。
はその混合物を得るためさらに処理することができる。 たとえば、exo −異性体と exo/endo混合
物とをクロマトグラフィーによって分離することができ
る。混合物はその後エピマー化してexo −異性体の
収率を上げることができる。
【0024】以下、本発明を実施例によってさらに説明
する。なお、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。本発明は当技術分野に通常の知識を有す
るものにとって自明な他の種々の実施態様で実施するこ
とが可能である。
する。なお、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。本発明は当技術分野に通常の知識を有す
るものにとって自明な他の種々の実施態様で実施するこ
とが可能である。
【0025】実施例1 (3R,4R)−3−(3−
シクロプロピル−1,2,4−オキサジアゾール−5−
イル)−1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンA.
(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)マレイン酸
水素塩の製造 機械式攪拌器、温度計、窒素導入口、凝縮器を具備した
20リットル容量のフランジつきフラスコにトランスL
−ヒドロキシプロリン(Degussa社製品、1.0
0kg、7.63モル)、シクロヘキサノール(Ald
rich 30818、5.0リットル)および2−
シクロヘキサン−1−オン(Lancaster、10
0ml)を装填した。このスラリー状物を攪拌し、激し
い還流温度(約155℃)で完全な溶液となるまで(5
.5時間)加熱を続けた。得られた澄んだ赤色溶液を2
5℃まで冷却しそしてマレイン酸(885g、7.63
モル)を30分間かけて少しずつ添加した。添加の間反
応温度を30乃至35℃に保持した。添加終了後、結晶
化が起こるので、このスラリーを25℃の温度で30分
間放置した。ついで、酢酸エチル(10.0リットル)
を1時間かけて滴下しそして生じたスラリーを室温で2
時間放置した。ついで、このスラリーを濾過し、濾過ケ
ーキを酢酸エチル/シクロヘキサノール(2/1混合物
、3.0リットル)および酢酸エチル(3.0リットル
)で洗いそして20℃の温度で一晩真空乾燥した。
シクロプロピル−1,2,4−オキサジアゾール−5−
イル)−1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンA.
(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)マレイン酸
水素塩の製造 機械式攪拌器、温度計、窒素導入口、凝縮器を具備した
20リットル容量のフランジつきフラスコにトランスL
−ヒドロキシプロリン(Degussa社製品、1.0
0kg、7.63モル)、シクロヘキサノール(Ald
rich 30818、5.0リットル)および2−
シクロヘキサン−1−オン(Lancaster、10
0ml)を装填した。このスラリー状物を攪拌し、激し
い還流温度(約155℃)で完全な溶液となるまで(5
.5時間)加熱を続けた。得られた澄んだ赤色溶液を2
5℃まで冷却しそしてマレイン酸(885g、7.63
モル)を30分間かけて少しずつ添加した。添加の間反
応温度を30乃至35℃に保持した。添加終了後、結晶
化が起こるので、このスラリーを25℃の温度で30分
間放置した。ついで、酢酸エチル(10.0リットル)
を1時間かけて滴下しそして生じたスラリーを室温で2
時間放置した。ついで、このスラリーを濾過し、濾過ケ
ーキを酢酸エチル/シクロヘキサノール(2/1混合物
、3.0リットル)および酢酸エチル(3.0リットル
)で洗いそして20℃の温度で一晩真空乾燥した。
【0026】B.(3R)−N−(t−ブトキシカルボ
ニル)−3−ヒドロキシピロリジン(2)の製造ガラス
ライニングした10ガロン容器に水(29リットル)お
よび炭酸水素ナトリウム(7.42kg、88.3モル
)を装填した。生じた攪拌スラリーに20℃の温度で、
(3R)−3−ヒドロキシピロリジンマレイン酸水素塩
(1)(3.60kg、17.7モル)を水(10.8
リットル)に溶解した溶液を15分間にわたり添加した
(泡だち)。添加終了後、ジ−tert−ブチル二炭酸
塩(Fluka、4.64kg、21.3モル)を一回
で添加した(発熱なし)。このスラリーを約65時間激
しく攪拌を続けた。ついで酢酸エチル(10リットル)
を添加し、この混合物を濾過して懸濁している固体を除
去した。水性層を分離して酢酸エチル(10リットル)
で再抽出した。有機層を1つに集めて乾燥(Na2 S
O4)しそして減圧下で蒸発させて濃縮して無色油を得
た。
ニル)−3−ヒドロキシピロリジン(2)の製造ガラス
ライニングした10ガロン容器に水(29リットル)お
よび炭酸水素ナトリウム(7.42kg、88.3モル
)を装填した。生じた攪拌スラリーに20℃の温度で、
(3R)−3−ヒドロキシピロリジンマレイン酸水素塩
(1)(3.60kg、17.7モル)を水(10.8
リットル)に溶解した溶液を15分間にわたり添加した
(泡だち)。添加終了後、ジ−tert−ブチル二炭酸
塩(Fluka、4.64kg、21.3モル)を一回
で添加した(発熱なし)。このスラリーを約65時間激
しく攪拌を続けた。ついで酢酸エチル(10リットル)
を添加し、この混合物を濾過して懸濁している固体を除
去した。水性層を分離して酢酸エチル(10リットル)
で再抽出した。有機層を1つに集めて乾燥(Na2 S
O4)しそして減圧下で蒸発させて濃縮して無色油を得
た。
【0027】C.(3R)−N−(t−ブトキシカルボ
ニル)−3−メタンスルホニルオキシピロリジン(3)
の製造 ガラスライニングした乾いた10ガロン容器にアルコー
ル(2)(3.39kgd.b.,18.1モル)と酢
酸エチル(50リットル)を窒素雰囲気下で装填した。 この溶液を−5℃まで冷却してトリエチルアミン(La
ncaster B/N 076337、5.1リッ
トル)を一回で添加した。つぎにメタンスルホニルクロ
ライド(Lancaster B/N 79561、
1.68リットル、21.7モル)を反応温度を−5乃
至2℃に保持しながら1時間かけて滴下した。滴下終了
後、この懸濁物を−5℃の温度で30分間放置した。水
(20リットル)を10分間にわたり添加しそして二相
をよく混合した。水性層を分離し、有機層を1M塩酸溶
液(10リットル)、飽和炭酸水素ナトリウム(10リ
ットル)で洗浄して乾燥した(Na2 SO4 )。溶
剤を蒸発させて淡黄色油の形状を呈する生成物が得られ
た。
ニル)−3−メタンスルホニルオキシピロリジン(3)
の製造 ガラスライニングした乾いた10ガロン容器にアルコー
ル(2)(3.39kgd.b.,18.1モル)と酢
酸エチル(50リットル)を窒素雰囲気下で装填した。 この溶液を−5℃まで冷却してトリエチルアミン(La
ncaster B/N 076337、5.1リッ
トル)を一回で添加した。つぎにメタンスルホニルクロ
ライド(Lancaster B/N 79561、
1.68リットル、21.7モル)を反応温度を−5乃
至2℃に保持しながら1時間かけて滴下した。滴下終了
後、この懸濁物を−5℃の温度で30分間放置した。水
(20リットル)を10分間にわたり添加しそして二相
をよく混合した。水性層を分離し、有機層を1M塩酸溶
液(10リットル)、飽和炭酸水素ナトリウム(10リ
ットル)で洗浄して乾燥した(Na2 SO4 )。溶
剤を蒸発させて淡黄色油の形状を呈する生成物が得られ
た。
【0028】D.シクロプロピルカルボキシアミドオキ
シム(5)の製造 ガラスライニングした20ガロン容器にメタノール(3
2リットル)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(Lanca
ster、3.88kg、55.8モル)およびシクロ
プロピルシアン化物(Fluka BN 533321
、4.50kg、5.01リットル、67.1モル)を
窒素雰囲気下で装填した。 これに水(28リットル)中炭酸カリウム(7.72k
g、55.9モル)の溶液を攪拌しながら20分間かけ
て滴下した。泡だちと軽い発熱(15℃から20℃まで
)が見られた。添加終了後、この攪拌混合物を軽い還流
を保ちながら18時間70℃±2℃の温度に加熱した。 この反応混合物を55℃まで冷却しそして溶剤を減圧蒸
留により残留物が約20リットルとなるまで除去した。 この残留物を20リットルのブッキ(Buchi) 装
置に移して残留溶剤を除去した。油状固体残留物をテト
ラヒドロフラン(10リットル)に入れて振りまぜそし
て濾過した。濾過ケーキをテトラヒドロフラン(10リ
ットル)で洗いそして濾液を乾燥した(Na2 SO4
)。溶剤を蒸発させて無色油が得られ、これは約5℃
の温度に放置すると固化する。
シム(5)の製造 ガラスライニングした20ガロン容器にメタノール(3
2リットル)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(Lanca
ster、3.88kg、55.8モル)およびシクロ
プロピルシアン化物(Fluka BN 533321
、4.50kg、5.01リットル、67.1モル)を
窒素雰囲気下で装填した。 これに水(28リットル)中炭酸カリウム(7.72k
g、55.9モル)の溶液を攪拌しながら20分間かけ
て滴下した。泡だちと軽い発熱(15℃から20℃まで
)が見られた。添加終了後、この攪拌混合物を軽い還流
を保ちながら18時間70℃±2℃の温度に加熱した。 この反応混合物を55℃まで冷却しそして溶剤を減圧蒸
留により残留物が約20リットルとなるまで除去した。 この残留物を20リットルのブッキ(Buchi) 装
置に移して残留溶剤を除去した。油状固体残留物をテト
ラヒドロフラン(10リットル)に入れて振りまぜそし
て濾過した。濾過ケーキをテトラヒドロフラン(10リ
ットル)で洗いそして濾液を乾燥した(Na2 SO4
)。溶剤を蒸発させて無色油が得られ、これは約5℃
の温度に放置すると固化する。
【0029】E.エチル−2−(3−シクロプロピル−
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル)アセテート
(6)の製造 ガラスライニングした乾いた20ガロン容器にシクロプ
ロピルカルボキシアミドオキシム(5)(85.39k
g、53.9モル)、トルエン(Shell Chem
,324、54.0リットル)およびマロン酸ジエチル
(Lancaster B/N 52068785、
24.5kg、160モル)を室温、窒素雰囲気下で装
填した。この反応混合物を攪拌して穏やかな還流温度に
21時間加熱した。反応の間に生成されるエタノール/
水を定期的に除去して高い還流温度(105乃至110
℃)を保持した。このあと反応混合物を室温まで冷却し
、25%飽和食塩水(3×5リットル)で洗い、トルエ
ンを減圧蒸留により除去した。残留物を小分留カラムを
使用して蒸留して下記の2つの成分が得られた。 (a)回収されたマロン酸ジエチル、沸点60−70℃
/2ミリバール;(b)オキサジアゾールエステル(6
)、沸点90−120℃/約2ミリバール。
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル)アセテート
(6)の製造 ガラスライニングした乾いた20ガロン容器にシクロプ
ロピルカルボキシアミドオキシム(5)(85.39k
g、53.9モル)、トルエン(Shell Chem
,324、54.0リットル)およびマロン酸ジエチル
(Lancaster B/N 52068785、
24.5kg、160モル)を室温、窒素雰囲気下で装
填した。この反応混合物を攪拌して穏やかな還流温度に
21時間加熱した。反応の間に生成されるエタノール/
水を定期的に除去して高い還流温度(105乃至110
℃)を保持した。このあと反応混合物を室温まで冷却し
、25%飽和食塩水(3×5リットル)で洗い、トルエ
ンを減圧蒸留により除去した。残留物を小分留カラムを
使用して蒸留して下記の2つの成分が得られた。 (a)回収されたマロン酸ジエチル、沸点60−70℃
/2ミリバール;(b)オキサジアゾールエステル(6
)、沸点90−120℃/約2ミリバール。
【0030】F.(2S,3′R)および(2R,3′
R)エチル−2−(3−シクロプロピル−1,2,4−
オキサジアゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブト
キシカルボニル)ピロリジン−3−イル]アセテート(
7)の製造 機械式攪拌器、窒素導入口、添加漏斗を具備した20リ
ットル容量のフランジつきフラスコにエステル(6)(
6.24kg、31.8モル)とメシレート(3)(4
.22kg、15.9モル)を装填した。この混合物を
攪拌しながら20℃の温度でジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エン(Fluka B/N 53
8856、4.60kg、30.2モル)を20分間か
けて滴下添加した(45℃までの発熱がみられた)。生
じた溶液を30分間で54±1℃の温度まで加熱した(
温度調節水浴)。この反応混合物を20℃まで冷却しそ
して酢酸エチル(12.5リットル)と1N塩酸(8リ
ットル)に分配した。有機層を分離して1モル塩酸(4
リットル)、50%飽和食塩水(2×5リットル)で洗
いそして乾燥した(Na2 SO4 )。溶剤を減圧蒸
留除去して赤色油を得た。この粗製油を130℃かつ0
.4乃至0.7mmHgで短通路蒸留装置に通じて過剰
のエステル(6)とピロリジン(3)を除去した。しか
して、残留物として粘性赤色油が得られた。これはその
まま次の還元工程に使用された。
R)エチル−2−(3−シクロプロピル−1,2,4−
オキサジアゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブト
キシカルボニル)ピロリジン−3−イル]アセテート(
7)の製造 機械式攪拌器、窒素導入口、添加漏斗を具備した20リ
ットル容量のフランジつきフラスコにエステル(6)(
6.24kg、31.8モル)とメシレート(3)(4
.22kg、15.9モル)を装填した。この混合物を
攪拌しながら20℃の温度でジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エン(Fluka B/N 53
8856、4.60kg、30.2モル)を20分間か
けて滴下添加した(45℃までの発熱がみられた)。生
じた溶液を30分間で54±1℃の温度まで加熱した(
温度調節水浴)。この反応混合物を20℃まで冷却しそ
して酢酸エチル(12.5リットル)と1N塩酸(8リ
ットル)に分配した。有機層を分離して1モル塩酸(4
リットル)、50%飽和食塩水(2×5リットル)で洗
いそして乾燥した(Na2 SO4 )。溶剤を減圧蒸
留除去して赤色油を得た。この粗製油を130℃かつ0
.4乃至0.7mmHgで短通路蒸留装置に通じて過剰
のエステル(6)とピロリジン(3)を除去した。しか
して、残留物として粘性赤色油が得られた。これはその
まま次の還元工程に使用された。
【0031】G.(2S,3′R)および(2R,3′
R)2−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジ
アゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブトキシカル
ボニル)ピロリジン−3−イル]エタノール(8)の製
造 アルキル化エステル(7)(6.20kg、15.99
モル)を乾燥テトラヒドロフラン(Fisons B/
N 14288129、18.6リットル)に溶解した
−5℃の攪拌溶液に窒素雰囲気下でホウ水素化ナトリウ
ム(Lancastrer 、2.57kg、67.9
モル)を反応温度を約−5℃に保持しながら少しずつ添
加した。さらに反応温度を−5乃至0℃に保持しながら
メタノール(13.8リットル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、この反応混合物を−5℃の温度でさら
に3時間攪拌した。薄層クロマトグラフィー(エーテル
/シリカ)により出発物質が完全に消費されたことが確
認され、反応混合物を−20℃まで冷却し(過度の還元
を避けるため)そして−10乃至−5℃の温度の酢酸エ
チル(30リットル)と2N塩酸(146リットル)と
の攪拌混合物をカニューレを通じて添加した。この際、
ドライアイスを添加して該冷温度を保持した。添加終了
後、さらに15分間0℃以下の温度に保持しそして次に
放置して沈殿させた。水性層を分離した後、酢酸エチル
(5×15リットル)で再抽出した。有機相を1つに集
め、2N塩酸(13リットル)と飽和食塩水(3×13
リットル)で洗って乾燥(Na2 SO4 )した。溶
剤を蒸発させて暗色油としてアルコール(8)が得られ
た。
R)2−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジ
アゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブトキシカル
ボニル)ピロリジン−3−イル]エタノール(8)の製
造 アルキル化エステル(7)(6.20kg、15.99
モル)を乾燥テトラヒドロフラン(Fisons B/
N 14288129、18.6リットル)に溶解した
−5℃の攪拌溶液に窒素雰囲気下でホウ水素化ナトリウ
ム(Lancastrer 、2.57kg、67.9
モル)を反応温度を約−5℃に保持しながら少しずつ添
加した。さらに反応温度を−5乃至0℃に保持しながら
メタノール(13.8リットル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、この反応混合物を−5℃の温度でさら
に3時間攪拌した。薄層クロマトグラフィー(エーテル
/シリカ)により出発物質が完全に消費されたことが確
認され、反応混合物を−20℃まで冷却し(過度の還元
を避けるため)そして−10乃至−5℃の温度の酢酸エ
チル(30リットル)と2N塩酸(146リットル)と
の攪拌混合物をカニューレを通じて添加した。この際、
ドライアイスを添加して該冷温度を保持した。添加終了
後、さらに15分間0℃以下の温度に保持しそして次に
放置して沈殿させた。水性層を分離した後、酢酸エチル
(5×15リットル)で再抽出した。有機相を1つに集
め、2N塩酸(13リットル)と飽和食塩水(3×13
リットル)で洗って乾燥(Na2 SO4 )した。溶
剤を蒸発させて暗色油としてアルコール(8)が得られ
た。
【0032】H.メタンスルホネートエステル(9)の
製造 ガラスライニングした20ガロン容器にアルコール(8
)(4.6kg、12.2モル)と酢酸エチル(Alc
ohols Ltd.,B/N 21189、46リッ
トル)を装填した。この溶液を液体窒素の内部冷却によ
り−20℃まで冷却し、そしてトリエチルアミン(La
ncaster O/N076337、3.97リット
ル、28.4モル)を10分間かけて添加した。さらに
反応温度を−20乃至−15℃に保持しながらメタンス
ルホニルクロライド(Lancaster B/N
91466−00−474、1.32リットル、17.
1モル)を0.5hかけてゆっくりと添加した。 添加終了後、この反応混合物を0.75h−20℃の温
度に保持した。2M塩酸(14.4リットル)を滴下し
た後、放置して反応温度を−10℃まで上昇させた。下
側の水性層を除去しそして酢酸エチル(3×3.0リッ
トル)で抽出した。1つに集めた有機層を飽和食塩水(
4×6.4リットル)で洗い、約10リットルまで濃縮
し、濾過しそして残留溶剤を蒸発させた(Buchi装
置)。これによって残留物として暗色油(GC/MSに
対して不安定)が得られた。
製造 ガラスライニングした20ガロン容器にアルコール(8
)(4.6kg、12.2モル)と酢酸エチル(Alc
ohols Ltd.,B/N 21189、46リッ
トル)を装填した。この溶液を液体窒素の内部冷却によ
り−20℃まで冷却し、そしてトリエチルアミン(La
ncaster O/N076337、3.97リット
ル、28.4モル)を10分間かけて添加した。さらに
反応温度を−20乃至−15℃に保持しながらメタンス
ルホニルクロライド(Lancaster B/N
91466−00−474、1.32リットル、17.
1モル)を0.5hかけてゆっくりと添加した。 添加終了後、この反応混合物を0.75h−20℃の温
度に保持した。2M塩酸(14.4リットル)を滴下し
た後、放置して反応温度を−10℃まで上昇させた。下
側の水性層を除去しそして酢酸エチル(3×3.0リッ
トル)で抽出した。1つに集めた有機層を飽和食塩水(
4×6.4リットル)で洗い、約10リットルまで濃縮
し、濾過しそして残留溶剤を蒸発させた(Buchi装
置)。これによって残留物として暗色油(GC/MSに
対して不安定)が得られた。
【0033】I.(3S,4R)および(3R,4R)
−3−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジア
ゾール−5−イル)−1−アザビシクロ−[2.2.1
]ヘプタンの製造 室温でt−ブタノール(Fisons B/N 12、
15、52およびAldrich B/N 28758
、3.0リットル)に溶解したメタンスルホネートエス
テル(9)(5.90kg、14.7モル)の溶液にト
リフルオロ酢酸(Fluorochem B/N F
07160、Aldrich B/N 33525、1
2.0リットル)を1時間かけて滴下添加した。この添
加の間反応温度を20乃至25℃に保持した。さらに1
時間のエージング時間経過後には出発物質がもはや残存
していないことが薄層クロマトグラフィー(エーテル/
シリカ)によって示された。この反応混合物をt−ブタ
ノール(Aldrich B/N 28758、24
.0リットル)で稀釈しそして10%炭酸ナトリウム水
溶液(約80リットル)を加えてpH7.5に調整した
。この反応混合物を40℃まで加熱しそして炭酸塩水溶
液を添加して1.5時間上記pH価を保持した。つぎに
1.5時間でpH価を8.5まで上げそして最後にpH
9.5まで上げた。この後、生成物をトルエン(20.
0リットル)内に抽出した。 水性層を分離しそしてトルエン(4×10リットル)で
抽出した。有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 S
O4)。溶剤を蒸発させて暗色油を得た。この粗生成物
をシリカゲル(Merck Kieselgel 6
0、ART 7734、B/N TA 534034
50kg)のクロマトグラフィーにかけて精製した
。最初酢酸エチル/メタノール(5/1)を、次にメタ
ノールを使用してendo−異性体を溶離した。end
o/exo 混合物と共に純粋なexo −異性体遊離
塩基が得られた。遊離塩基exo /endo混合物(
10.0g)をIMS(20ml)に溶解した溶液にI
MS(30ml)中カリウムt−ブトキシド(1.0g
)の溶液を添加した。この溶液を穏和な還流温度に30
分間加熱した。一般にエピマー化はこの時間内に完了し
た。この反応混合物を酢酸エチル(2×10ml) で
抽出し、有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 SO
4 )。溶剤を蒸発させそして残留物を水(15ml)
と酢酸エチル(15ml)とに分配した。その水性層を
蒸発させて油を得た。 収量9.8g、回収率98%、exo :endoの比
は76:24。
−3−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジア
ゾール−5−イル)−1−アザビシクロ−[2.2.1
]ヘプタンの製造 室温でt−ブタノール(Fisons B/N 12、
15、52およびAldrich B/N 28758
、3.0リットル)に溶解したメタンスルホネートエス
テル(9)(5.90kg、14.7モル)の溶液にト
リフルオロ酢酸(Fluorochem B/N F
07160、Aldrich B/N 33525、1
2.0リットル)を1時間かけて滴下添加した。この添
加の間反応温度を20乃至25℃に保持した。さらに1
時間のエージング時間経過後には出発物質がもはや残存
していないことが薄層クロマトグラフィー(エーテル/
シリカ)によって示された。この反応混合物をt−ブタ
ノール(Aldrich B/N 28758、24
.0リットル)で稀釈しそして10%炭酸ナトリウム水
溶液(約80リットル)を加えてpH7.5に調整した
。この反応混合物を40℃まで加熱しそして炭酸塩水溶
液を添加して1.5時間上記pH価を保持した。つぎに
1.5時間でpH価を8.5まで上げそして最後にpH
9.5まで上げた。この後、生成物をトルエン(20.
0リットル)内に抽出した。 水性層を分離しそしてトルエン(4×10リットル)で
抽出した。有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 S
O4)。溶剤を蒸発させて暗色油を得た。この粗生成物
をシリカゲル(Merck Kieselgel 6
0、ART 7734、B/N TA 534034
50kg)のクロマトグラフィーにかけて精製した
。最初酢酸エチル/メタノール(5/1)を、次にメタ
ノールを使用してendo−異性体を溶離した。end
o/exo 混合物と共に純粋なexo −異性体遊離
塩基が得られた。遊離塩基exo /endo混合物(
10.0g)をIMS(20ml)に溶解した溶液にI
MS(30ml)中カリウムt−ブトキシド(1.0g
)の溶液を添加した。この溶液を穏和な還流温度に30
分間加熱した。一般にエピマー化はこの時間内に完了し
た。この反応混合物を酢酸エチル(2×10ml) で
抽出し、有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 SO
4 )。溶剤を蒸発させそして残留物を水(15ml)
と酢酸エチル(15ml)とに分配した。その水性層を
蒸発させて油を得た。 収量9.8g、回収率98%、exo :endoの比
は76:24。
【0034】実施例2
(3R,4R)−3−(3−シクロプロピル−1,2,
4−オキサジアゾール−5−イル)−1−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタンp−トルエンスルホネートの製
造 p−トルエンスルホン酸一水和物(109g、0.57
モル)を酢酸エチル(500ml)に溶解した溶液を共
沸蒸留によって乾燥した(170ml除去)。冷却した
得られた溶液にイソプロピルアルコール(120ml)
を添加した。酢酸エチル(260ml)とイソプロピル
アルコール(IPA)(116ml)にエピマー化遊離
塩基(混合比74/26のexo /endo混合物、
118g、0.57モル)を溶解した予備濾過した溶液
を室温で10分間かけて添加した(40℃まで発熱)。 この溶液に結晶核種として該塩基の純p−トルエンスル
ホン酸(pTSA)塩(約20mg)を加えそしてこの
スラリーをエージングのため室温で2時間放置した。次
にそのスラリーを0.5℃で1時間冷凍し、濾過しそし
て濾過ケーキを酢酸エチル(200ml)で洗った。得
られた白色結晶固体を室温で真空乾燥し、酢酸エチル(
10mlg−1 )中で2時間還流洗浄した後室温まで
冷却し(1時間)、濾過しそして濾過ケーキを酢酸エチ
ル(100ml)で洗った。得られた白色結晶固体を真
空乾燥して融点130乃至131℃(プロパン−2−オ
ール/酢酸エチル)のp−トルエンスルホン酸塩が得ら
れた。
4−オキサジアゾール−5−イル)−1−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタンp−トルエンスルホネートの製
造 p−トルエンスルホン酸一水和物(109g、0.57
モル)を酢酸エチル(500ml)に溶解した溶液を共
沸蒸留によって乾燥した(170ml除去)。冷却した
得られた溶液にイソプロピルアルコール(120ml)
を添加した。酢酸エチル(260ml)とイソプロピル
アルコール(IPA)(116ml)にエピマー化遊離
塩基(混合比74/26のexo /endo混合物、
118g、0.57モル)を溶解した予備濾過した溶液
を室温で10分間かけて添加した(40℃まで発熱)。 この溶液に結晶核種として該塩基の純p−トルエンスル
ホン酸(pTSA)塩(約20mg)を加えそしてこの
スラリーをエージングのため室温で2時間放置した。次
にそのスラリーを0.5℃で1時間冷凍し、濾過しそし
て濾過ケーキを酢酸エチル(200ml)で洗った。得
られた白色結晶固体を室温で真空乾燥し、酢酸エチル(
10mlg−1 )中で2時間還流洗浄した後室温まで
冷却し(1時間)、濾過しそして濾過ケーキを酢酸エチ
ル(100ml)で洗った。得られた白色結晶固体を真
空乾燥して融点130乃至131℃(プロパン−2−オ
ール/酢酸エチル)のp−トルエンスルホン酸塩が得ら
れた。
Claims (10)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 (式中、XはOまたはS、R2 は水素、−CF3 、
−OR7 、−SR7 、−NR7 R8、−CN、−
COOR7 、−CONR7 R8 または飽和または
不飽和、置換または未置換の炭化水素基を意味し、ここ
でR7 とR8 は互いに独立的に水素とC1−2−ア
ルキルからなる群から選択されるものであるが、ただし
−NR7R8 はNH2 ではあり得ないものとする)
の化合物の実質的に純粋な1つの対掌体の製造方法にお
いて、式(10)【化2】 (式中、XとR2 は式(I)について定義した意味を
有しそしてR4 は不安定脱離基を意味する)の化合物
またはその塩を環化し、そして場合によっては得られた
endo−ジアステレオマーをエピマー化して対応する
exo −ジアステレオマーを生成させることを特徴と
する方法。 - 【請求項2】 R2 がCF3 またはC1−6 −
飽和炭化水素である請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 R2 がCF3 、メチル、エチル、
シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルである請求
項1記載の方法。 - 【請求項4】 XがOである請求項1乃至3のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項5】 R4 がメシレート、低級アルカノエ
ートまたはハロゲンである請求項1乃至4のいずれかに
記載の方法。 - 【請求項6】 式(I)の化合物が(3R,4R)−
3−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジアゾ
ール−5−イル)−1−アザビシクロ[2.2.1]ヘ
プタンである請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 式(10)の化合物の環化を6乃至1
0のpH範囲で実施する請求項1乃至6のいずれかに記
載の方法。 - 【請求項8】 式(10)の化合物の環化を穏和な無
機塩基と式(I)の化合物が可溶な非水性相とを含む二
相系内で実施する請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 式(10)の化合物がトリフルオロ酢
酸塩の形である請求項1乃至8のいずれかに記載の方法
。 - 【請求項10】 下記式(B)の中間生成物またはそ
の塩 【化3】 [式中、XとR2 は式(I)について記載した意味を
有し、Rは水素または穏和な条件下で脱離可能な第二ア
ミン保護基、Rb は基COOR3 (ここで、R3
は低級アルキルまたはベンジルである)、OHまたは不
安定脱離基を意味する]。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/520,891 US5106853A (en) | 1989-05-15 | 1990-05-09 | Oxadiazole and its salts, their use in treating dementia |
US520891 | 1990-05-09 | ||
GB9010870.5 | 1990-05-15 | ||
GB909010870A GB9010870D0 (en) | 1990-05-15 | 1990-05-15 | Chemical process |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04225981A true JPH04225981A (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=26297078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10437891A Withdrawn JPH04225981A (ja) | 1990-05-09 | 1991-05-09 | 3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0456310A3 (ja) |
JP (1) | JPH04225981A (ja) |
CA (1) | CA2042077A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0667869A4 (en) * | 1992-10-30 | 1997-07-02 | Merck & Co Inc | TITRATION CONCERNING FARNESYL PROTEIN TRANSFERASE INHIBITORS. |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NZ219646A (en) * | 1986-03-27 | 1990-10-26 | Merck Sharp & Dohme | Oxadiazole derivatives of azacyclics for treating cns disorders |
EP0261763B1 (en) * | 1986-06-27 | 1994-02-09 | Beecham Group Plc | Novel bridged bicyclic N-heterocycles |
US5106853A (en) * | 1989-05-15 | 1992-04-21 | Merck Sharp & Dohme, Ltd. | Oxadiazole and its salts, their use in treating dementia |
-
1991
- 1991-05-02 EP EP19910201045 patent/EP0456310A3/en not_active Withdrawn
- 1991-05-08 CA CA 2042077 patent/CA2042077A1/en not_active Abandoned
- 1991-05-09 JP JP10437891A patent/JPH04225981A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0456310A3 (en) | 1992-03-04 |
EP0456310A2 (en) | 1991-11-13 |
CA2042077A1 (en) | 1991-11-10 |
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