JPH04225981A - 3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法 - Google Patents

3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法

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JPH04225981A
JPH04225981A JP10437891A JP10437891A JPH04225981A JP H04225981 A JPH04225981 A JP H04225981A JP 10437891 A JP10437891 A JP 10437891A JP 10437891 A JP10437891 A JP 10437891A JP H04225981 A JPH04225981 A JP H04225981A
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Guy R Humphrey
ガイ アール.ハンフリー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明はムスカリン拮抗作用を有する化合
物の対掌体を分割する方法に関する。
【0002】公開された欧州特許第239309号、第
301729号、第307142号、第307140号
、第323864号、第261763号各明細書には、
たとえば、ムスカリン拮抗作用を有するオキサ−および
チア−ジアゾール誘導体を含むある種のアザビシクロ化
合物ならびにその製造方法が開示されている。その方法
は多段階法であり、下記式(A)
【化4】 の中間体(その類似体および誘導体を含む)を経由して
進行するものである。最終生成物のアザビシクロ化合物
も式(A)の中間生成物も少なくとも2つの不斉中心を
有し、したがって鏡像体とジアステレオマーとの両方の
形で存在することができる。式(A)の中間生成物のご
とき生成物はexo −およびendo−異性体として
存在しうる。しかしながら、最終アザビシクロ化合物[
式(A)の中間生成物でもその類似体や誘導体でもない
]の光学異性体が分離されて製造されうるあるいはその
ラセミ混合物が分割されうる方法は全く開示されていな
い。
【0003】すなわち、上記のオキサジアゾールおよび
チアジアゾールならびに他の置換アザビシクロ化合物の
各個の対掌体を製造するため、それらの製造に使用され
る光学活性中間体を分割する試みがなされてきた。従来
公知のさまざまな方法が試みられたが、完全な成功には
至らなかった。たとえば、酒石酸やショウノウ−10−
スルホン酸のごときキラル酸の使用は不成功であること
が判明した。同じくメタノール、N−ベンゾイル−2−
アミノ−1−ブタノール、N−ベンゾイルノルエフェド
リンの誘導体のごときキラルエステルの使用も、それら
が製造不能であるかあるいはアザビシクロ化合物のキラ
ル誘導体が分割不能であるために、有効な手段とはなら
なかった。しかして、ここに、誠に驚くべきことながら
、市場で入手可能な光学活性化合物から出発して、分割
の工程を行なうことなく、目的の最終対掌体を製造する
ことのできる新規な立体選択的製造方法が本発明によっ
て開発された。
【0004】すなわち、本発明によれば、式(I)
【化
5】 (式中、XはOまたはS、R2 は水素、−CF3 、
−OR7 、−SR7 、−NR7 R8、−CN、−
COOR7 、−CONR7 R8 または飽和または
不飽和、置換または未置換の炭化水素基を意味し、ここ
でR7 とR8 は互いに独立的に水素とC1−2−ア
ルキルからなる群から選択されるものであるが、ただし
−NR7R8 はNH2 ではあり得ないものとする)
の化合物の実質的に純粋な1つの対掌体の製造方法にお
いて、式(10)
【化6】 [式中、XとR2 は式(I)について定義した意味を
有し、R4 はメシレート(OS(O)2 CH3 )
、低級アルカノエートたとえばアセテートまたは塩素ま
たは臭素などのハロゲンのごとき不安定脱離基を意味す
る]の化合物またはその塩を環化し、そして、所望の場
合は、得られたendo−ジアステレオマーをエピマー
化して対応するexo −ジアステレオマーを生成させ
ることを特徴とする方法が提供される。
【0005】式(10)の化合物の環化は6乃至10の
pH範囲で実施される。たとえば、非水性相と穏和な無
機塩基たとえば水性アルカリ金属またはアルカリ土類金
属炭酸塩、炭酸水素塩または水酸化物とを含む二相系内
などで実施される。穏和な無機塩基の具体例は炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウムまたは水酸化バリウムなどの水溶液であり、好
ましくは炭酸ナトリウム水溶液である。非水性相は生成
された式(I)の化合物がそれに可溶である任意の溶剤
系でありうる。たとえば、t−ブタノ−ルのごとき低級
アルカノール、酢酸エチルのごときエステル、ジエチル
エーテルのごときエーテルあるいはトルエンである。単
相系の場合は、任意のアルコールと水、たとえば、t−
ブタノール/水を使用することができる。
【0006】式(10)の化合物は通常トリフルオロ酢
酸塩のごとき塩の形で存在する。これは対応する下記式
(9)の化合物の脱保護によって製造される。
【化7】 (式中、XとR2 およびR4 は式(10)について
定義した意味を有し、Rは穏和な条件下で脱離可能な第
二アミン保護基である)。適当な保護基は当技術分野で
公知であり、たとえば、t−ブトキシカルボニルまたは
ベンジルオキシカルボニルなどである。
【0007】化合物(10)を生成させるための保護基
Rの脱離は当技術分野で公知の常用方法によって、たと
えば、トリフルオロ酢酸あるいは臭化水素または塩化水
素のごときハロゲン化水素と反応させることによって実
施される。この目的のためには、反応を適当な溶媒たと
えばt−ブタノールあるいは低級アルキル有機酸または
エステルたとえば酢酸または酢酸エチルまたは酢酸イソ
プロピルに溶解した溶液中で実施するのが好ましい。
【0008】式(9)の化合物は下記式(8)
【化8】 (式中、X、RおよびR2 は式(9)について定義し
た意味を有する)の対応するヒドロキシ類似体から常用
方法で製造することができる。
【0009】式(9)の化合物を得るため式(8)のア
ルコール中のヒドロキシ基を適当な脱離基R4 へ変換
する反応は公知方法に準じて実施することができる。た
とえば、トリエチルアミンのごとき低級アルキルアミン
の存在で冷却しながら酢酸エチルのごとき適当な不活性
有機溶剤中で該アルコール(8)にメタンスルホニルク
ロライドを添加すればメシル化(R4 =OS(O)2
 CH3 )が行なわれる。
【0010】R4 がハロゲンの場合には、エーテルま
たはテトラヒドロフランのごとき溶剤中で三臭化リンを
使用すれば臭素化が実施でき、塩化チオニルを使用すれ
ば塩素化が実施できる。所望の場合には、最初にメシレ
ートを形成し、次にこれをハロゲンに変換することがで
きる。実際上、任意の脱離基を常用方法で他の任意適当
な脱離基に変換することが可能である。
【0011】式(8)の化合物自体は下記式(7)
【化
9】 (式中、X、RおよびR2 は式(8)について定義し
た意味を有し、そしてR3は低級アルキルまたはベンジ
ルを意味する)の対応するエステルを還元して製造する
ことができる。
【0012】式(7)のピロリジンエステルの、式(8
)のアルコールへの還元は、窒素のごとき不活性ガス雰
囲気下、好ましくは約−10乃至0℃の低温、好ましく
は−5乃至0℃の温度で、テトラヒドロフランまたはエ
ーテルのごとき不活性有機溶剤中メタノールの存在で、
ホウ水素化ナトリウムのごとき公知常用の穏和な還元剤
を使用して実施される。
【0013】式(7)のピロリジンエステルは下記式(
6)の複素環式エステルと式(3)の保護されたピロリ
ジンとを反応させることによって製造される。
【化10】 (式中、R、R2 、R3 は式(7)について定義し
た意味を有し、そしてR1 はメシレート、低級アルカ
ノエートまたはp−トルエンスルホネートのごとき不安
定な脱離基を意味する)。
【0014】この反応は典型的アルキル化条件で実施す
ることができる。すなわち、場合によってはテトラヒド
ロフラン、ジメチルホルムアミド、トルエンまたは1,
3−ジメチル−3,4,5,6−テトラヒドロ−2(1
H)−ピリミジノン(DMPUと略す)のごとき溶媒中
、水素化ナトリウム、カリウムt−ブトキシドまたはジ
アザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DB
Uと略す)のような塩基の存在といったような条件で行
なわれる。好ましくは、DMPU中のDBUを使用する
。この反応は60乃至100℃といった高められた温度
、好ましくは60℃近辺の温度で実施することができる
。窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気を使用するのが好ま
しい。
【0015】保護されたピロリジン(3)は式(9)の
化合物に関して前記した方法に類似の方法で下記式(2
)のアルコールから製造することができる。R1 がp
−トシレートである場合、この反応は軽度に高められた
温度でp−トルエンスルホニルクロライドを使用して実
施することができる。
【化11】
【0016】式(2)のアルコール自体は第二アミンを
保護するための公知常用の技術によって製造することが
できる。たとえば、(R)2 O(ここでRは式(2)
に関して定義した意味を有する)、好ましくはジ−te
rt−ブチルジカーボネートを添加することによって製
造することができる。もちろん、ベンジルクロロギ酸塩
のごとき他の剤も使用することができる。添加は好まし
くは水性塩基中で実施される。たとえば、炭酸塩、水酸
化物または炭酸水素塩のごとき無機塩基の水溶液たとえ
ば炭酸水素ナトリウム水溶液中で、あるいはまた、トリ
エチルアミンまたはDBUのごとき有機塩基の水溶液中
で実施される。保護前に式(1)の化合物を単離するこ
とが所望される場合には取扱い容易な式(1)のアルコ
ールの塩に対して保護を行なうのが好ましい。別の実施
態様として、出発化合物のL−トランス−4−ヒドロキ
シプロリンをまず脱カルボキシル化しそしてこれにより
得られたアルコール(1)を現場で保護するようにして
もよい。すなわち、式(2)の化合物は式(1)の化合
物あるいはその塩のいずれかを保護することによって製
造する。
【0017】市場で入手可能な(2S,4R)−(−)
−4−ヒドロキシ−2−ピロリジンカルボン酸(L−ト
ランス−ヒドロキシプロリン)の脱カルボキシル化によ
って(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)の塩酸
塩を得ることは文献から公知である。[Chem.Le
tt.(1986),983頁以降参照]。その他の塩
も同様方法によって製造することができる。たとえば、
L−トランス−ヒドロキシプロリンを2−シクロヘキサ
ン−1−オンのごとき脱カルボキシル化剤と反応させた
後、対応する酸好ましくはマレイン酸を添加して製造す
ることができる。脱カルボキシル化はシクロヘキサノー
ルのごとき適当な不活性溶媒中、反応混合物の還流温度
で実施することができる。
【0018】式(6)の複素環式エステルは当技術分野
で公知の方法に準じて製造することができる。たとえば
、XがOかつR2 が−CF3、−CONR7 R7 
または飽和または不飽和、置換または未置換の炭化水素
置換分である場合、式(6)の複素環式エステルは下記
式(5)の化合物と式(11)の化合物とを反応させる
ことによって製造することができる。
【化12】 式中、R2 とR3 は式(6)について定義した意味
を有し、R3 ′はR3 と同じであるかまたはそれと
は異なる低級アルキルまたはベンジル基を意味する。式
(11)の化合物は好ましくはジエチルマロン酸エステ
ルでありそして反応は好ましくはトルエンまたはキシレ
ンのごとき沸点が100乃至140℃の範囲にある不活
性有機溶剤中で実施される。
【0019】式(5)の化合物は、たとえば、欧州特許
第239309号明細書に記載されているような方法で
R2 CN(式4)のシアン化物から製造することがで
きる。たとえば、窒素雰囲気のごとき不活性雰囲気下、
好ましくはメタノールを例とするアルコールのごとき極
性有機溶剤中、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムの存
在で式(4)の化合物をヒドロキシルアミンまたはその
塩たとえば塩酸塩と反応させることによって製造するこ
とができる。
【0020】なお、本明細書で“低級アルキル”とは直
鎖状または分枝状の飽和鎖を有するC1−4 −アルキ
ル基を意味するものである。R2 は、好ましくは、−
CF3 基または飽和または不飽和、置換または未置換
の炭化水素、より好ましくは1乃至6個の炭素原子を有
する炭化水素基である。特に好ましくは、R2 は−C
F3 基あるいはC1−6 −飽和炭化水素たとえばC
1−6 −直鎖状または分枝状アルキルたとえばメチル
またはエチルまたはシクロアルキルたとえばシクロプロ
ピルまたはシクロプロピルメチルである。Xは好ましく
はOである。
【0021】上記したいずれの反応においても当該化合
物中に存在する敏感な基を保護することが必要および/
または望ましいこととなろう。保護基は目的化合物合成
の任意の好都合な段階で常法によって脱離させてよい。
【0022】したがって、本発明はさらに、上記に定義
された式(7)、(8)、(9)、(10)の新規な中
間生成物、すなわち下記式(B)
【化13】 [式中、XとR2 は式(I)において定義した意味を
有し、Rは水素または穏和な条件下で脱離可能な第二ア
ミン保護基を意味し、Rb は基COOR3 (ここで
、R3 は低級アルキルまたはベンジルである)、OH
または不安定な脱離基を意味する]で表わすことのでき
る中間生成物およびその製造方法、ならびに式(3)と
(6)の中間生成物およびその製造方法を包含する。
【0023】式(I)の最終生成物は所望の対掌体また
はその混合物を得るためさらに処理することができる。 たとえば、exo −異性体と exo/endo混合
物とをクロマトグラフィーによって分離することができ
る。混合物はその後エピマー化してexo −異性体の
収率を上げることができる。
【0024】以下、本発明を実施例によってさらに説明
する。なお、本発明はこれら実施例によって限定される
ものではない。本発明は当技術分野に通常の知識を有す
るものにとって自明な他の種々の実施態様で実施するこ
とが可能である。
【0025】実施例1  (3R,4R)−3−(3−
シクロプロピル−1,2,4−オキサジアゾール−5−
イル)−1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンA.
(3R)−3−ヒドロキシピロリジン(1)マレイン酸
水素塩の製造 機械式攪拌器、温度計、窒素導入口、凝縮器を具備した
20リットル容量のフランジつきフラスコにトランスL
−ヒドロキシプロリン(Degussa社製品、1.0
0kg、7.63モル)、シクロヘキサノール(Ald
rich  30818、5.0リットル)および2−
シクロヘキサン−1−オン(Lancaster、10
0ml)を装填した。このスラリー状物を攪拌し、激し
い還流温度(約155℃)で完全な溶液となるまで(5
.5時間)加熱を続けた。得られた澄んだ赤色溶液を2
5℃まで冷却しそしてマレイン酸(885g、7.63
モル)を30分間かけて少しずつ添加した。添加の間反
応温度を30乃至35℃に保持した。添加終了後、結晶
化が起こるので、このスラリーを25℃の温度で30分
間放置した。ついで、酢酸エチル(10.0リットル)
を1時間かけて滴下しそして生じたスラリーを室温で2
時間放置した。ついで、このスラリーを濾過し、濾過ケ
ーキを酢酸エチル/シクロヘキサノール(2/1混合物
、3.0リットル)および酢酸エチル(3.0リットル
)で洗いそして20℃の温度で一晩真空乾燥した。
【0026】B.(3R)−N−(t−ブトキシカルボ
ニル)−3−ヒドロキシピロリジン(2)の製造ガラス
ライニングした10ガロン容器に水(29リットル)お
よび炭酸水素ナトリウム(7.42kg、88.3モル
)を装填した。生じた攪拌スラリーに20℃の温度で、
(3R)−3−ヒドロキシピロリジンマレイン酸水素塩
(1)(3.60kg、17.7モル)を水(10.8
リットル)に溶解した溶液を15分間にわたり添加した
(泡だち)。添加終了後、ジ−tert−ブチル二炭酸
塩(Fluka、4.64kg、21.3モル)を一回
で添加した(発熱なし)。このスラリーを約65時間激
しく攪拌を続けた。ついで酢酸エチル(10リットル)
を添加し、この混合物を濾過して懸濁している固体を除
去した。水性層を分離して酢酸エチル(10リットル)
で再抽出した。有機層を1つに集めて乾燥(Na2 S
O4)しそして減圧下で蒸発させて濃縮して無色油を得
た。
【0027】C.(3R)−N−(t−ブトキシカルボ
ニル)−3−メタンスルホニルオキシピロリジン(3)
の製造 ガラスライニングした乾いた10ガロン容器にアルコー
ル(2)(3.39kgd.b.,18.1モル)と酢
酸エチル(50リットル)を窒素雰囲気下で装填した。 この溶液を−5℃まで冷却してトリエチルアミン(La
ncaster B/N  076337、5.1リッ
トル)を一回で添加した。つぎにメタンスルホニルクロ
ライド(Lancaster B/N  79561、
1.68リットル、21.7モル)を反応温度を−5乃
至2℃に保持しながら1時間かけて滴下した。滴下終了
後、この懸濁物を−5℃の温度で30分間放置した。水
(20リットル)を10分間にわたり添加しそして二相
をよく混合した。水性層を分離し、有機層を1M塩酸溶
液(10リットル)、飽和炭酸水素ナトリウム(10リ
ットル)で洗浄して乾燥した(Na2 SO4 )。溶
剤を蒸発させて淡黄色油の形状を呈する生成物が得られ
た。
【0028】D.シクロプロピルカルボキシアミドオキ
シム(5)の製造 ガラスライニングした20ガロン容器にメタノール(3
2リットル)、ヒドロキシルアミン塩酸塩(Lanca
ster、3.88kg、55.8モル)およびシクロ
プロピルシアン化物(Fluka BN 533321
、4.50kg、5.01リットル、67.1モル)を
窒素雰囲気下で装填した。 これに水(28リットル)中炭酸カリウム(7.72k
g、55.9モル)の溶液を攪拌しながら20分間かけ
て滴下した。泡だちと軽い発熱(15℃から20℃まで
)が見られた。添加終了後、この攪拌混合物を軽い還流
を保ちながら18時間70℃±2℃の温度に加熱した。 この反応混合物を55℃まで冷却しそして溶剤を減圧蒸
留により残留物が約20リットルとなるまで除去した。 この残留物を20リットルのブッキ(Buchi) 装
置に移して残留溶剤を除去した。油状固体残留物をテト
ラヒドロフラン(10リットル)に入れて振りまぜそし
て濾過した。濾過ケーキをテトラヒドロフラン(10リ
ットル)で洗いそして濾液を乾燥した(Na2 SO4
 )。溶剤を蒸発させて無色油が得られ、これは約5℃
の温度に放置すると固化する。
【0029】E.エチル−2−(3−シクロプロピル−
1,2,4−オキサジアゾール−5−イル)アセテート
(6)の製造 ガラスライニングした乾いた20ガロン容器にシクロプ
ロピルカルボキシアミドオキシム(5)(85.39k
g、53.9モル)、トルエン(Shell Chem
,324、54.0リットル)およびマロン酸ジエチル
(Lancaster B/N  52068785、
24.5kg、160モル)を室温、窒素雰囲気下で装
填した。この反応混合物を攪拌して穏やかな還流温度に
21時間加熱した。反応の間に生成されるエタノール/
水を定期的に除去して高い還流温度(105乃至110
℃)を保持した。このあと反応混合物を室温まで冷却し
、25%飽和食塩水(3×5リットル)で洗い、トルエ
ンを減圧蒸留により除去した。残留物を小分留カラムを
使用して蒸留して下記の2つの成分が得られた。 (a)回収されたマロン酸ジエチル、沸点60−70℃
/2ミリバール;(b)オキサジアゾールエステル(6
)、沸点90−120℃/約2ミリバール。
【0030】F.(2S,3′R)および(2R,3′
R)エチル−2−(3−シクロプロピル−1,2,4−
オキサジアゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブト
キシカルボニル)ピロリジン−3−イル]アセテート(
7)の製造 機械式攪拌器、窒素導入口、添加漏斗を具備した20リ
ットル容量のフランジつきフラスコにエステル(6)(
6.24kg、31.8モル)とメシレート(3)(4
.22kg、15.9モル)を装填した。この混合物を
攪拌しながら20℃の温度でジアザビシクロ[5.4.
0]ウンデカ−7−エン(Fluka B/N  53
8856、4.60kg、30.2モル)を20分間か
けて滴下添加した(45℃までの発熱がみられた)。生
じた溶液を30分間で54±1℃の温度まで加熱した(
温度調節水浴)。この反応混合物を20℃まで冷却しそ
して酢酸エチル(12.5リットル)と1N塩酸(8リ
ットル)に分配した。有機層を分離して1モル塩酸(4
リットル)、50%飽和食塩水(2×5リットル)で洗
いそして乾燥した(Na2 SO4 )。溶剤を減圧蒸
留除去して赤色油を得た。この粗製油を130℃かつ0
.4乃至0.7mmHgで短通路蒸留装置に通じて過剰
のエステル(6)とピロリジン(3)を除去した。しか
して、残留物として粘性赤色油が得られた。これはその
まま次の還元工程に使用された。
【0031】G.(2S,3′R)および(2R,3′
R)2−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジ
アゾール−5−イル)−2−[N−(t−ブトキシカル
ボニル)ピロリジン−3−イル]エタノール(8)の製
造 アルキル化エステル(7)(6.20kg、15.99
モル)を乾燥テトラヒドロフラン(Fisons B/
N 14288129、18.6リットル)に溶解した
−5℃の攪拌溶液に窒素雰囲気下でホウ水素化ナトリウ
ム(Lancastrer 、2.57kg、67.9
モル)を反応温度を約−5℃に保持しながら少しずつ添
加した。さらに反応温度を−5乃至0℃に保持しながら
メタノール(13.8リットル)を1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、この反応混合物を−5℃の温度でさら
に3時間攪拌した。薄層クロマトグラフィー(エーテル
/シリカ)により出発物質が完全に消費されたことが確
認され、反応混合物を−20℃まで冷却し(過度の還元
を避けるため)そして−10乃至−5℃の温度の酢酸エ
チル(30リットル)と2N塩酸(146リットル)と
の攪拌混合物をカニューレを通じて添加した。この際、
ドライアイスを添加して該冷温度を保持した。添加終了
後、さらに15分間0℃以下の温度に保持しそして次に
放置して沈殿させた。水性層を分離した後、酢酸エチル
(5×15リットル)で再抽出した。有機相を1つに集
め、2N塩酸(13リットル)と飽和食塩水(3×13
リットル)で洗って乾燥(Na2 SO4 )した。溶
剤を蒸発させて暗色油としてアルコール(8)が得られ
た。
【0032】H.メタンスルホネートエステル(9)の
製造 ガラスライニングした20ガロン容器にアルコール(8
)(4.6kg、12.2モル)と酢酸エチル(Alc
ohols Ltd.,B/N 21189、46リッ
トル)を装填した。この溶液を液体窒素の内部冷却によ
り−20℃まで冷却し、そしてトリエチルアミン(La
ncaster O/N076337、3.97リット
ル、28.4モル)を10分間かけて添加した。さらに
反応温度を−20乃至−15℃に保持しながらメタンス
ルホニルクロライド(Lancaster B/N  
91466−00−474、1.32リットル、17.
1モル)を0.5hかけてゆっくりと添加した。 添加終了後、この反応混合物を0.75h−20℃の温
度に保持した。2M塩酸(14.4リットル)を滴下し
た後、放置して反応温度を−10℃まで上昇させた。下
側の水性層を除去しそして酢酸エチル(3×3.0リッ
トル)で抽出した。1つに集めた有機層を飽和食塩水(
4×6.4リットル)で洗い、約10リットルまで濃縮
し、濾過しそして残留溶剤を蒸発させた(Buchi装
置)。これによって残留物として暗色油(GC/MSに
対して不安定)が得られた。
【0033】I.(3S,4R)および(3R,4R)
−3−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジア
ゾール−5−イル)−1−アザビシクロ−[2.2.1
]ヘプタンの製造 室温でt−ブタノール(Fisons B/N 12、
15、52およびAldrich B/N 28758
、3.0リットル)に溶解したメタンスルホネートエス
テル(9)(5.90kg、14.7モル)の溶液にト
リフルオロ酢酸(Fluorochem B/N  F
07160、Aldrich B/N 33525、1
2.0リットル)を1時間かけて滴下添加した。この添
加の間反応温度を20乃至25℃に保持した。さらに1
時間のエージング時間経過後には出発物質がもはや残存
していないことが薄層クロマトグラフィー(エーテル/
シリカ)によって示された。この反応混合物をt−ブタ
ノール(Aldrich B/N  28758、24
.0リットル)で稀釈しそして10%炭酸ナトリウム水
溶液(約80リットル)を加えてpH7.5に調整した
。この反応混合物を40℃まで加熱しそして炭酸塩水溶
液を添加して1.5時間上記pH価を保持した。つぎに
1.5時間でpH価を8.5まで上げそして最後にpH
9.5まで上げた。この後、生成物をトルエン(20.
0リットル)内に抽出した。 水性層を分離しそしてトルエン(4×10リットル)で
抽出した。有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 S
O4)。溶剤を蒸発させて暗色油を得た。この粗生成物
をシリカゲル(Merck Kieselgel  6
0、ART 7734、B/N TA  534034
  50kg)のクロマトグラフィーにかけて精製した
。最初酢酸エチル/メタノール(5/1)を、次にメタ
ノールを使用してendo−異性体を溶離した。end
o/exo 混合物と共に純粋なexo −異性体遊離
塩基が得られた。遊離塩基exo /endo混合物(
10.0g)をIMS(20ml)に溶解した溶液にI
MS(30ml)中カリウムt−ブトキシド(1.0g
)の溶液を添加した。この溶液を穏和な還流温度に30
分間加熱した。一般にエピマー化はこの時間内に完了し
た。この反応混合物を酢酸エチル(2×10ml) で
抽出し、有機相を1つに集めて乾燥した(Na2 SO
4 )。溶剤を蒸発させそして残留物を水(15ml)
と酢酸エチル(15ml)とに分配した。その水性層を
蒸発させて油を得た。 収量9.8g、回収率98%、exo :endoの比
は76:24。
【0034】実施例2 (3R,4R)−3−(3−シクロプロピル−1,2,
4−オキサジアゾール−5−イル)−1−アザビシクロ
[2.2.1]ヘプタンp−トルエンスルホネートの製
造 p−トルエンスルホン酸一水和物(109g、0.57
モル)を酢酸エチル(500ml)に溶解した溶液を共
沸蒸留によって乾燥した(170ml除去)。冷却した
得られた溶液にイソプロピルアルコール(120ml)
を添加した。酢酸エチル(260ml)とイソプロピル
アルコール(IPA)(116ml)にエピマー化遊離
塩基(混合比74/26のexo /endo混合物、
118g、0.57モル)を溶解した予備濾過した溶液
を室温で10分間かけて添加した(40℃まで発熱)。 この溶液に結晶核種として該塩基の純p−トルエンスル
ホン酸(pTSA)塩(約20mg)を加えそしてこの
スラリーをエージングのため室温で2時間放置した。次
にそのスラリーを0.5℃で1時間冷凍し、濾過しそし
て濾過ケーキを酢酸エチル(200ml)で洗った。得
られた白色結晶固体を室温で真空乾燥し、酢酸エチル(
10mlg−1 )中で2時間還流洗浄した後室温まで
冷却し(1時間)、濾過しそして濾過ケーキを酢酸エチ
ル(100ml)で洗った。得られた白色結晶固体を真
空乾燥して融点130乃至131℃(プロパン−2−オ
ール/酢酸エチル)のp−トルエンスルホン酸塩が得ら
れた。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式(I) 【化1】 (式中、XはOまたはS、R2 は水素、−CF3 、
    −OR7 、−SR7 、−NR7 R8、−CN、−
    COOR7 、−CONR7 R8 または飽和または
    不飽和、置換または未置換の炭化水素基を意味し、ここ
    でR7 とR8 は互いに独立的に水素とC1−2−ア
    ルキルからなる群から選択されるものであるが、ただし
    −NR7R8 はNH2 ではあり得ないものとする)
    の化合物の実質的に純粋な1つの対掌体の製造方法にお
    いて、式(10)【化2】 (式中、XとR2 は式(I)について定義した意味を
    有しそしてR4 は不安定脱離基を意味する)の化合物
    またはその塩を環化し、そして場合によっては得られた
    endo−ジアステレオマーをエピマー化して対応する
    exo −ジアステレオマーを生成させることを特徴と
    する方法。
  2. 【請求項2】  R2 がCF3 またはC1−6 −
    飽和炭化水素である請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】  R2 がCF3 、メチル、エチル、
    シクロプロピルまたはシクロプロピルメチルである請求
    項1記載の方法。
  4. 【請求項4】  XがOである請求項1乃至3のいずれ
    かに記載の方法。
  5. 【請求項5】  R4 がメシレート、低級アルカノエ
    ートまたはハロゲンである請求項1乃至4のいずれかに
    記載の方法。
  6. 【請求項6】  式(I)の化合物が(3R,4R)−
    3−(3−シクロプロピル−1,2,4−オキサジアゾ
    ール−5−イル)−1−アザビシクロ[2.2.1]ヘ
    プタンである請求項1記載の方法。
  7. 【請求項7】  式(10)の化合物の環化を6乃至1
    0のpH範囲で実施する請求項1乃至6のいずれかに記
    載の方法。
  8. 【請求項8】  式(10)の化合物の環化を穏和な無
    機塩基と式(I)の化合物が可溶な非水性相とを含む二
    相系内で実施する請求項7記載の方法。
  9. 【請求項9】  式(10)の化合物がトリフルオロ酢
    酸塩の形である請求項1乃至8のいずれかに記載の方法
  10. 【請求項10】  下記式(B)の中間生成物またはそ
    の塩 【化3】 [式中、XとR2 は式(I)について記載した意味を
    有し、Rは水素または穏和な条件下で脱離可能な第二ア
    ミン保護基、Rb は基COOR3 (ここで、R3 
    は低級アルキルまたはベンジルである)、OHまたは不
    安定脱離基を意味する]。
JP10437891A 1990-05-09 1991-05-09 3−置換1−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタンの対掌体選択的合成方法 Withdrawn JPH04225981A (ja)

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