JPH0422162B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0422162B2
JPH0422162B2 JP7757885A JP7757885A JPH0422162B2 JP H0422162 B2 JPH0422162 B2 JP H0422162B2 JP 7757885 A JP7757885 A JP 7757885A JP 7757885 A JP7757885 A JP 7757885A JP H0422162 B2 JPH0422162 B2 JP H0422162B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
poly
polymer
benzoyloxy
methacrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP7757885A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61236805A (en
Inventor
Tatatomi Nishikubo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Original Assignee
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan filed Critical Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Priority to JP7757885A priority Critical patent/JPS61236805A/en
Publication of JPS61236805A publication Critical patent/JPS61236805A/en
Publication of JPH0422162B2 publication Critical patent/JPH0422162B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、機能性重合体、特に接着性、感光
性、感放射性、耐放射線性新規重合体に関する。 従来の技術及び解決しようとする問題点 側鎖エポキシ基含有重合体は機能性重合体及び
架橋可能重合体の合成のための原料として広く用
いられており、本発明者らはグリシジルメタクリ
レート(GMA)共重合体中の側鎖エポキシ基と
光反応性カルボン酸とを、触媒として第4アンモ
ニウム塩を用いて付加反応させて、感光性ポリマ
ーを得ること〔高分子論文集第32巻第604頁
(1975)〕、又、最近、本発明者らはGMAとメチ
ルメタクリレート共重合体中の側鎖エポキシ基と
4−ニトロフエニルシンナメイト等とを第3アミ
ン、第4級アンモニウム塩を触媒として用いて付
加反応させ、自己増感性感光性樹脂を得ることを
提案している(特開昭59−216138号公報)。 これらの樹脂は側鎖のケイ皮酸エステルの光二
量化反応による感光性樹脂としては優れたもので
あるが、他の接着性、感受性、感放射線性および
耐放射線特性については作用しないものであつ
た。 問題点を解決するための手段 本発明者らは側鎖(ペンダント)エポキシ基含
有重合体とエステルの付加反応生成物をさらに検
討した結果、エステルをベンゾトリアゾール、チ
オベンゾチアゾール、チオベンゾオキサゾール基
含有ベンゾエートを選択することにより、ケイ皮
酸やケイ皮酸エステルとの反応生成物とは相違
し、接着性や、ニトロ基およびクロロ基に起因す
る感光性、感放射線性または硫黄元素に起因する
耐放射線性を有する新規重合体を製造できること
を見出し、本発明に到達したものである。 即ち、本発明は下記一般式で示されるくり返し
構造を有する機能性高分子重合体 但し、nは10〜10000、 XはO又はS、 R1はニトロ基又はハロゲン基である。 R2はアルキル基、アリール基、アラルキル基、
ニトロ基又はハロゲン置換アリール基、ベンゾト
リアゾール基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチ
アゾール基である、 に関する。 上記R2において、アルキル基はメチル、エチ
ル基、イソブチル基、tert−ブチル基、クロロメ
チル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル
基、ブロモメチル基、ベンジル基等であり、ニト
ロ基置換アリール基は4−ニトロフエニル、2−
ニトロフエニル、2,4−ジニトロフエニル、
2,4,6−トリニトロフエニル、2,4−ジニ
トロナフチル、4−ニトロナフチル、2−ニトロ
ナフチル基等であり、ハロゲン基置換は4−クロ
ロフエニル、2,4−ジクロロフエニル、2,
4,6−トリクロロフエニル、2−クロロフエニ
ル、3−クロロフエニル、2,5−ジクロロフエ
ニル、4−クロロフエニル、4−ブロモフエニ
ル、4−ヨードフエニル、2,4−ジクロロフエ
ニル、2−クロロナフチル、2,4−ジクロロナ
フチル、2,6−ジクロロナフチル、2,4−ジ
フルオロナフチル等である。 本発明の高分子重合体は次式に示される側鎖エ
ポキシ基含有重合体と置換ベンゾエートとを付加
反応させて製造される。 (式中、nは10〜10000、好ましくは100〜10000
であり、X、R1、R2は前記と同一) 側鎖エポキシ基含有重合体としては、例えばグ
リシジルアクリレート、アリルグリシジルエーテ
ル、p−ビニルフエニルグリシジルエーテルなど
の単独重合体または共重合体が用いられる。共重
合体の場合には、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、ブチルメタクリレート、スチレン、
酢酸ビニル、N−ビニルピロリドンなどが約80モ
ル%以下、好ましくは約55モル%以下の割合で共
重合されて用いられる。 本発明における側鎖エポキシ基含有重合体、例
えばポリグリシジルメタクリレート(PGMA)
の粘度(又は分子量)はグリシジルメタクリレー
ト(GMA)のラジカル重合の際に、開始剤濃
度、モノマー濃度、重合温度等を変えることによ
り容易に調整が可能であり、実用的見地からn=
10〜10000、好ましくは10〜10000の重合度のもの
である。 置換ベンゾエートとしては、1−ベンゾトリア
ゾイリルベンゾエート(2a)、2−ベンズオキサ
ゾイルチオベンゾエート(2b)、2−ベンゾチア
ゾリルチオベンゾエート(2c)、4−ニトロフエ
ニルベンゾエート(2d)、フエニルチオベンゾエ
ート(2e)、4−ニトロフエニル−4−ニトロベ
ンゾエート(2f)、2−ニトロフエニルベンゾエ
ート(2j)、2,4−ジニトロフエニルベンゾエ
ート(2k)、4−クロロフエニルベンゾエート
(2l)、2,4−ジクロロフエニルベンゾエート
(2o)、フエニル4−ニトロベンゾエーオ(2q)、
フエニル4−クロロベンゾエート(2r)等の分子
内にベンゾトリアゾール基、ニトロアリール基、
クロロアリール基または硫黄元素を含有するベン
ゾエート類が挙げられる。 これらのベンゾエートは相応するベンゾイルク
ロライド類とフエノール類との反応により製造さ
れる。 そして、本発明によつて得られる新規ポリマー
は例えば、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−
(1−ベンゾトリアゾリロキシ)プロピルメタク
リレート〕(3a)、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ
−3−(2−ベンズオキサゾリリルチオオキシ)
プロピルメタクリレート〕(3b)、ポリ〔2−ベ
ンゾイルオキシ−3−(2−ベンゾチアゾリルチ
オオキシ)プロピルメタクリレート〕(3c)、ポリ
〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−ニトロフエノ
キシ)プロピルメタクリレート〕(3d)、ポリ
〔2−ベンゾイルオキシ−3−チオフエノキシプ
ロピルメタクリレート〕(3e)、ポリ〔2−ベンゾ
イルオキシ−3−(4−クロロフエノキシ)プロ
ピルメタクリレート〕(3l)、ポリ〔2−(4−ニ
トロベンゾイルオキシ)−3−フエノキシプロピ
ルメタクリレート〕(3q)、ポリ〔2−(4−ニト
ロベンゾイルオキシ)−3−(4−ニトロフエニ
ル)プロピルメタクリレート〕(3f)、ポリ〔2−
ベンゾイルオキシ−3−メトキシプロピルメタク
リレート〕(3g)、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ
−3−エトキシプロピルメタクリレート〕(3h)、
ポリ〔2−アセトキシ−3−フエニルプロピルメ
タクリレート〕(3i)、ポリ〔2−ベンゾイルオキ
シ−3−(2−ニトロフエニル)プロピルメタク
リレート〕(3j)、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−
3−(3,4−ジニトロフエニル)プロピルメタ
クリレート〕(3k)、ポリ〔2−ベンゾイルオキ
シ−3−(2,4−ジクロロフエニル)プロピル
メタクリレート〕(3m)、ポリ〔2−ベンゾイル
オキシ−3−フエニルプロピルメタクリレート〕
(3n)、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−
メチルフエニル)プロピルメタクリレート〕
(3o)、ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−
メトキシフエニル)プロピルメタクリレート〕
(3p)、ポリ〔2−(4−クロロベンゾイルオキ
シ)−3−フエニルプロピルメタクリレート〕
(3r)、ポリ〔2−(4−メトキシベンゾイル)−3
−フエニルプロピルメタクリレート〕(3s)であ
る。 本発明の新規重合体、側鎖にベンゾトリアゾー
ル基を有するポリマー3aは接着性、特に銅面へ
の接着性が優れているために接着剤として有用な
物質である。 また側鎖にニトロアリール基を有するポリマー
3d、3f、3j、3k、3qはそのニトロアリール基の反
応性に着目して、光照射か電子線の照射により架
橋不溶化することも見出されていることから、感
光性樹脂か感放射線レジストとして有用な物質で
ある。 一方ポリマーの側鎖にクロロアリール基を有す
る3l、3o、3r等は電子線やX線の照射により架橋
不溶化するために超LSI等の作成の際に不可欠な
感放射線レジストとして有用である。 さらにその側鎖に硫黄元素を有するポリマー、
3h、3c、3e等は、硫黄元素に起因して耐放射線
性が優れているために、原子力発電の炉心付近の
電線やその他の被覆材料や接着剤として有用であ
る。 また3d、3f、3j、3k、3qはそれぞれポリマー溶
液をガラス板上に塗布、乾燥後、500w超高圧水
銀灯で10cmの距離より10分間光照射すると架橋不
溶化して通常の溶媒に溶解しないことが確認され
た。 その他の機能性樹脂はこれまでの文献の結果等
から当然の機能として容易に類推することができ
るものである。 この新規重合体の製造に用いられる触媒は、第
3アミン一般式(R)3N、第4アンモニウム塩一
般式〔(R)4N〕X及び第4ホスホニウム塩一般
式〔(R)4P〕Xが使用でき、そのうち第4アン
モニウム塩及び第4ホスホニウム塩が好ましい
(式中、Rは脂肪族基、芳香族基及び脂環式基で
あり、C1〜C10のアルキル基、フエニル基、ベン
ジル基、ナフチル基、シクロヘキシル基等であ
り、Xはハロゲン又は他の酸残基である)。 第3アミンの例としてはトリエチルアミン
(TEA)、トリプロピルアミン(TPA)、トリn
−ブチルアミン(TBA)、N,N−ジエチルアニ
リン、N,N−ジメチルアニリン、ジアザビシク
ロウンデセン−7等であり、第4アンモニウム塩
としては、テトラメチルアンモニウムブロマイド
(TMAB)、テトラエチルアンモニウムブロマイ
ド(TEAB)、テトラn−プロピルアンモニウム
ブロマイド(TPAB)、テトラn−ブチルアンモ
ニウムブロマイド(TBAB)、テトラn−ペンチ
ルアンモニウムブロマイド(TPEA)、テトラn
−ヘキシルアンモニウムブロマイド(THAB)、
テトラn−オクチルアンモニウムブロマイド
(TOAB)、テトラメチルアンモニウムクロライ
ド(TMAC)、テトラエチルアンモニウムクロラ
イド(TEAC)、テトラn−プロピルアンモニウ
ムクロライド(TPAC)、テトラn−ブチルアン
モニウムクロライド(TBAC)、テトラn−ブチ
ルアンモニウムヨーダイド、テトラn−ブチルア
ンモニウムハイドロゲンサルフエート
(TBAH)、テトラn−ブチルアンモニウムパー
クロレート(TBAP)、テトラn−ブチルホスホ
ニウムブロマイド(TBPB)、ベンジルトリメチ
ルアンモニウムクロマイド(BTMAC)、セチル
トリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルト
リエチルアンモニウムヨーダイド、テトラプロピ
ルホスホニウムクロライド、テトラエチルホスホ
ニウムヨーダイド、ベンジルトリメチルホスホニ
ウムブロマイド等である。 本発明における付加反応に使用される溶媒はス
ルホラン、N−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、ジグライム、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、シクロヘキサノン、アニソール、トル
エン、キシレンなどである。 そして、特に限定されるものではないが、反応
温度は約50〜200℃、好ましくは約90〜130℃であ
り、又、反応時間は通常約2〜48時間程度であ
る。 実施例 以下に実施例を示す。本発明はこれらの実施例
には限定されない。 ポリ(グリシジルメタクリレート)(PGMA)の
合成 グリシジルメタクリレート(GMA)(50g:
0.3mol)を触媒としてアゾビスイソブチロニト
リル(AIBN)(0.5g)を用い、トルエン(250
ml)中で、60℃、5時間、次いで窒素気流中で80
℃、2時間ラジカル重合反応させ、76%収率で
PGMAを得た。その重合溶液をn−ヘキサン中
に注ぎ、次いで得られた重合体をn−ヘキサン中
のテトラヒドロフラン(THF)で2回再沈殿精
製し、ろ過し、減圧下50℃で乾燥した。得られた
重合体のエポキシ当量は145.7であつた。DMF中
での重合体の還元粘度は0.24dl/gであつた
(0.5g/dl濃度、30℃で測定)。 実施例 1 ポリ〔−2ベンゾイルオキシ−3−(1−ベン
ゾトリアゾリルオキシ)プロピルメタクリレー
ト〕(3a)の製造 PGMA(1.16g、8mmol)をジグライム(20
ml)中に溶解させ、ついで2a(1.91g、8mmol)
およびTEAB(0.16g、8mmol)をそのポリマ
ー溶液中に加えた。その反応混合物を100℃で24
時間かきまぜ、ついでエタノール中に注入した。
その反応混合物をエタノール中のテトラヒドロフ
ラン(THF)で2回再沈殿し、50℃で真空乾燥
した。ポリマーの収量は2.56gであつた。そのポ
リマーの付加反応率は99.8モル%であつた(Nの
元素分析により計算)。DMF中でのそのポリマー
の還元粘度は0.17dl/gであつた(30℃、0.5
g/dlで測定)。IR(フイルム):1720、1600、
740、710cm-1、NMR(CDCl3):δ=1.0(C−
CH3)、1.9(C−CH2−C)、4.4及び4.9(C−CH2
−O)、5.7(O−CH−C)及び7.2−8.1(芳香族性
水素)。このものはポリ〔2−ベンゾイルオキシ
−3−(1−ベンゾトリアゾリルオキシ)プロピ
ルメタクリレート〕(3a)である。 実施例 2 ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2−ベン
ゾキサゾリルチオオキシ)プロピルメタクリレ
ート〕(3b)の製造 PGMA(1.16g、8mmol)と2b(2.04g、8m
mol)とをジグライム(20ml)中TEAB(0.16g、
8mmol)存在下、100℃で24時間反応させた。
生成物を実施例1と同様に精製した。最終ポリマ
ーの収量は2.56gであつた。そのポリマーの付加
反応率は98.1mol%であつた(Nの元素分析より
計算)。DMF中でのポリマーの還元粘度は0.29
dl/gであつた(30℃、0.5g/dlの濃度で測
定)。 IR(フイルム):1730、1670、1630、1550、780
及び710cm-1、NMR(CDCl3):δ=1.0(C−
CH3)、1.9(C−CH2−C)、3.7(C−CH2−S)、
4.4(C−CH2−O)、5.9(O−CH−C)及び7.0−
7.9(芳香族性水素)。この結果から、このものは
ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2−ベンゾ
キサゾリルチオオキシ)プロピルメタクリレー
ト〕(3b)である。 実施例 3 ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2−ベン
ゾチアゾリルチオオキシ)プロピルメタクリレ
ート〕(3c)の製造 PGMA(1.16g、8mmol)をジグライム(20
ml)中でTEAB(0.16g、0.8mmol)の存在下、
100℃で24時間2c(2.17g、8mmol)と反応させ
た。最終ポリマーの収量は2.97gであつた。その
付加反応率は窒素分析から97.2mol%であつた。
DMF中でのそのポリマーの還元粘度は0.16dl/
gであつた(30℃、0.5g/dlの濃度で測定)。 IR(フイルム):1720、1600、750及び710cm- 1
NMR(CDCl3):δ=1.0(C−CH3)、1.9(C−
CH2−C)、3.9(C−CH2−S)、4.3(C−CH2
O)、5.7(C−CH−O)及び7.1−8.0(芳香族性水
素)。このものはポリ〔2−ベンゾイルオキシ−
3−(2−ベンゾチアゾリルチオオキシ)プロピ
ルメタクリレート〕(3c)である。 実施例 4 ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−ニト
ロフエノキシ)プロピルメタクリレート〕
(3d)の製造 PGMA(1.16g、8mmol)をジグライム(20
ml)中でTEAB(0.16g、0.8mmol)の存在下、
100℃で24時2d(1.95g、8mmol)と反応させ
た。最終ポリマーの収量は2.51gであつた。その
ポリマーの付加反応率は98.5mol%であつた(N
分析の結果)。DMF中でのポリマーの還元粘度は
0.22dl/gであつた(30℃、0.5g/dlで測定)。
IR(フイルム):1720、1590、1510、1340、750及
び710cm-1、NMR(CDCl3):δ=0.9(C−CH3)、
2.0(C−CH2−C)、4.3(C−CH2−O)、5.6(C
−CH−O)及び6.8−8.2(芳香族性水素)。この
ポリマーはポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−
(4−ニトロフエノキシ)プロピルメタクリレー
ト〕(3d)である。 実施例 5 ポリ(2−ベンゾイルオキシ−3−チオフエノ
キシプロピルメタクリレート)(3e)の製造 ジグライム(20ml)中のPGMA(1.16g、8m
mol)に2e(1.71g、0.8mmol)及びTEAB(0.16
g、0.8mmol)を加えた。混合物を100℃で24時
間かきまぜた。最終ポリマーの収量は2.23gであ
つた。その付加反応率は96.8mol%であつた
(NMRスペクトルの強度比より測定)。DMF中
でのそのポリマーの還元粘度は0.29dl/gであつ
た(30℃、0.5g/dlの濃度で測定)。 IR(フイルム):1720、750及び710cm-1、NMR
(CDCl3):δ=0.9(C−CH3)、1.9(C−CH2
C)、3.2(C−CH2−S)、4.3(C−CH2−O)、
5.3(C−CH−O)及び7.0−8.0(芳香族性プロト
ン)。このポリマーはポリ(2−ベンゾイルオキ
シ−3−チオフエノキシプロピルメタクリレー
ト)(3e)である。 実施例 6 ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(4−クロ
ロフエノキシ)プロピルメタクリレート〕(3l)
の製造 PGMA(1.16g、8mmol)をジグライム(20
ml)中でTEAB(0.16g、0.8mmol)の存在下、
100℃で24時2l(1.86g、8mmol)と反応させた。
最終ポリマーの収量は2.09gであつた。そのポリ
マーの付加反応率は74.3mol%であつた(Cl分析
1H−NMRの積分強度比の結果)。DMF中で
のポリマーの還元粘度は0.23dl/gであつた(30
℃、0.5g/dlの濃度で測定)。IR(フイルム):
1720、1600、1510及び710cm-1、NMR(CDCl3):
δ=1.0(C−CH3)、1.70(C−CH2−C)、4.2(C
−CH2−O)、5.6(C−CH−O)及び6.8−8.0(芳
香族性水素)。このポリマーはポリ〔2−ベンゾ
イルオキシ−3−(4−クロロフエノキシ)プロ
ピルメタクリレート〕(3l)である。 実施例 7 ポリ〔2−(4−ニトロベンゾイルオキシ)3
−フエノキシプロピルメタクリレート〕(3q)
の製造 PGMA(1.16g、8mmol)をジグライム(20
ml)中でTEAB(0.16g、0.8mmol)の存在下、
100℃で24時間2q(1.95g、8mmol)と反応させ
た。最終ポリマーの収量は1.85gであつた。その
ポリマーの付加反応率は94.3mol%であつた(N
分析の結果)。DMF中でのポリマーの還元粘度は
1.02dl/gであつた(30℃、0.5g/dlで測定)。
IR(フイルム):1720、1600、1530、1350及び710
cm-1、NMR(CDCl3):δ=1.0(C−CH3)、2.0
(C−CH2−C)、4.3(C−CH2−O)、5.6(C−
CH−O)及び6.90−8.20(芳香族性水素)。この
ポリマーはポリ〔2−(4−ニトロベンゾイルオ
キシ)3−フエノキシプロピルメタクリレート〕
(3q)である。 実施例 8 前記実施例1と同様に、PGMAと4−ニトロ
フエニル4−ニトロベンゾエート(2f)、メチル
ベンゾエート(2g)、エチルベンゾエート(2h)
及びフエニルアセテート(2i)を付加反応させ
た。それらのポリマーはそれぞれポリ〔2−(4
−ニトロベンゾイルオキシ)−3−(4−ニトロフ
エニル)プロピルメタクリレート〕(3f)、ポリ
〔2−ベンゾイルオキシ−3−メトキシプロピル
メタクリレート〕(3g)、ポリ〔2−ベンゾイル
オキシ−3−エトキシプロピルメタクリレート〕
(3h)及びポリ〔2−アセトキシ−3−フエニル
プロピルメタクリレート〕(3i)である。 又、同様にしてPGMAと2−ニトロフエニル
ベンゾエート(2j)、2,4−ジニトロフエニル
ベンゾエート(2k)、2,4−ジクロロフエニル
ベンゾエート(2m)、フエニルベンゾエート
(2n)、4−メチル−フエニルベンゾエート
(2o)、4−メトキシフエニルベンゾエート
(2p)、フエニル4−クロロベンゾエート(2r)及
びフエニル4−メトキシベンゾエート(2s)とを
付加反応させた。得られたポリマーはそれぞれポ
リ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2−ニトロフ
エニル)プロピルメタクリレート〕(3j)、ポリ
〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2,4−ジニトロ
フエニル)プロピルメタクリレート〕(3k)、ポ
リ〔2−ベンゾイルオキシ−3−(2,4−ジク
ロロフエニル)プロピルメタクリレート〕(3m)、
ポリ〔2−ベンゾイルオキシ−3−フエニルプロ
ピルメタクリレート〕(3n)、ポリ〔2−ベンゾ
イルオキシ−3−(4−メチルフエニル)プロピ
ルメタクリレート〕(3o)、ポリ〔2−ベンゾイ
ルオキシ−3−(4−メトキシフエニル)プロピ
ルメタクリレート〕(3p)、ポリ〔2−(4−クロ
ロベンゾイルオキシ)−3−フエニルプロピルメ
タクリレート〕(3r)及びポリ〔2−(4−メトキ
シベンゾイル)−3−フエニルプロピルメタクリ
レート〕(3s)等である。 付加反応の結果は第1表及び第2表に示す。 【表】 【表】 【表】 元素分析から得られた重合体中の側鎖エポキシ
基と活性エステルとの反応率はこれら重合体の
NMRスペクトルの強度比とよく一致している。
このことから本反応中でのエポキシ基と水素との
副反応はほとんど起きていないことが確認され
る。 第1表からわかるように、PGMAとエステル
2a、2b、2c及び2eとの付加反応は、100℃触媒と
してTEABを用いた場合、それぞれ相応する重
合体3a、3b、3c及び3eを選択的に製造し得る。
又、4−ニトロフエニル4−ニトロベンゾエート
(2f)との反応では、100℃、4時間で60.3モル%
の変換率で相応する重合体3fが得られる。又、メ
チルベンゾエート(2g)、フエニルアセテート
(2i)は100℃、24時間で、それぞれ相応する重合
体3g及び3iが6.7モル%及び28.4モル%の収率で得
られたが、エチルベンゾエート(2h)との反応
は100℃、10時間でも殆んど生じなかつた。 この結果から、この側鎖エポキシ基含有ポリマ
ーと活性エステルのTEAB等の触媒の存在下で
の反応においては、フエノキシ又はベンゾエート
に電子吸引基を有するエステルとの反応では比較
的高収率で相応するポリマーが得られるが、フエ
ノキシ又はベンゾエートに電子供与基を有するエ
ステルの反応は同一の条件下では高収率で相応す
るポリマーは得られないことを示している。 実施例 9 PGMA(1.16g、8mmol)を2d及び2e(1.95
g、8mmol)それぞれと、ジグライム(20ml)
中で種々の触媒(0.8mmol)の存在下、100℃で
10時間反応させた。 その結果を第3表及び第4表に示す。 【表】 【表】 【表】 第3表からわかるとおり、触媒において、活性
エステルが4−ニトロフエニルベンゾエート
(2d)の場合、第4アンモニウム塩では、対アニ
オンがBr-、Cl-及びI-の場合は高い触媒活性が
得られ、HSO- 4又はClO- 3の場合はあまり高い触
媒活性を示さない。そして、触媒活性は第4級塩
中のアルキル鎖に非常に強く影響され、その際、
TPAB(プロピル)およびTBAB(ブチル)が、
Br-アニオン含有第4アンモニウム塩の系列では
最も高い活性を有することを示す。 一方、Cl-アニオン含有第4アンモニウム塩の
系列ではTEACが他の触媒よりも高い活性を示し
た。重合体中の側鎖エポキシ基と活性エステルの
反応における触媒の活性は試薬と試薬との親油性
相互関係、触媒の立体障害及び触媒の対アニオン
の弱さにより決まるものと考える。この反応にお
ける触媒として、前記特定の第4アンモニウム塩
が、TEA、TBA等の第3アミンよりも高活性で
ある。 又、第4表からわかるとおり、エステルがフエ
ニルチオベンゾエート(2e)のとき、対アニオン
としてBr-を含有する第4アンモニウム塩の系列
ではTBABが最も高活性であり、TMABはほと
んど活性を示さない。一方、Cl-含有アンモニウ
ム塩系列の場合は、TEACが最高の活性を示す。
TBAI、TBPB及びTEAはこの反応系では著し
く活性は低下する。そしてTBAH、TBAP及び
TBAは活性がなかつた。 更に、Cl-アニオンを有する特定の第4級塩は、
チオエステル化合物(2e)の反応においてはBr-
アニオンを有する第4級塩よりも高い活性を有す
る。 さらに、或る種の活性エステルは、ポリマー中
のエポキシ基に対して、カルボン酸よりも高い反
応性を有するものと結論づけることができる。そ
して、その反応において、それぞれ適した触媒系
の選択が重要である。 発明の効果 本発明の側鎖エポキシ基含有重合体と分子内に
ベンゾトリアゾール基、ニトロアリール基、クロ
ロアリール基または硫黄元素を含有するベンゾエ
ートとの付加反応生成物よりなる、側鎖にベンゾ
トリアゾール基、ニトロアリール基、クロロアリ
ール基等の機能性を有する樹脂は新規重合体であ
り、すぐれた接着性、感光性、感放射線性または
耐放射線性樹脂等として利用でき、極めて有用な
樹脂であると言える。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to functional polymers, particularly novel adhesive, photosensitive, radiation sensitive and radiation resistant polymers. PRIOR ART AND PROBLEMS TO BE SOLVED Polymers containing side chain epoxy groups are widely used as raw materials for the synthesis of functional and crosslinkable polymers, and the present inventors have developed glycidyl methacrylate (GMA). The side chain epoxy group in the copolymer and the photoreactive carboxylic acid are subjected to an addition reaction using a quaternary ammonium salt as a catalyst to obtain a photosensitive polymer [Kobunshi Ronshu Vol. 32, p. 604 ( 1975)], and recently, the present inventors have combined the side chain epoxy group in GMA and methyl methacrylate copolymer with 4-nitrophenyl cinnamate using a tertiary amine or quaternary ammonium salt as a catalyst. proposed that an addition reaction be carried out to obtain a self-sensitizing photosensitive resin (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-216138). Although these resins are excellent as photosensitive resins due to the photodimerization reaction of cinnamate esters in the side chains, they have no effect on other properties such as adhesion, sensitivity, radiation sensitivity, and radiation resistance. . Means for Solving the Problems As a result of further investigation of the addition reaction products of esters and polymers containing pendant epoxy groups, the present inventors found that esters containing benzotriazole, thiobenzothiazole, and thiobenzoxazole groups The selection of benzoates, unlike the reaction products with cinnamic acid and cinnamate esters, improves adhesion, photosensitivity due to nitro and chloro groups, radiation sensitivity or resistance due to elemental sulfur. The present invention was achieved by discovering that it is possible to produce a new radioactive polymer. That is, the present invention provides a functional polymer having a repeating structure represented by the following general formula. However, n is 10 to 10,000, X is O or S, and R 1 is a nitro group or a halogen group. R 2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group,
A nitro group or a halogen-substituted aryl group, a benzotriazole group, a benzoxazole group, or a benzothiazole group. In R 2 above, the alkyl group is methyl, ethyl group, isobutyl group, tert-butyl group, chloromethyl group, trichloromethyl group, fluoromethyl group, bromomethyl group, benzyl group, etc., and the nitro group-substituted aryl group is 4- Nitrophenyl, 2-
Nitrophenyl, 2,4-dinitrophenyl,
2,4,6-trinitrophenyl, 2,4-dinitronaphthyl, 4-nitronaphthyl, 2-nitronaphthyl groups, etc., and halogen group substitutions include 4-chlorophenyl, 2,4-dichlorophenyl, 2,
4,6-trichlorophenyl, 2-chlorophenyl, 3-chlorophenyl, 2,5-dichlorophenyl, 4-chlorophenyl, 4-bromophenyl, 4-iodophenyl, 2,4-dichlorophenyl, 2-chloronaphthyl, 2 , 4-dichloronaphthyl, 2,6-dichloronaphthyl, 2,4-difluoronaphthyl, and the like. The high molecular weight polymer of the present invention is produced by subjecting a side chain epoxy group-containing polymer represented by the following formula to an addition reaction with a substituted benzoate. (In the formula, n is 10 to 10,000, preferably 100 to 10,000
and X, R 1 and R 2 are the same as above) Examples of the side chain epoxy group-containing polymer include homopolymers or copolymers such as glycidyl acrylate, allyl glycidyl ether, and p-vinylphenyl glycidyl ether. used. In the case of copolymers, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl methacrylate, styrene,
Vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, etc. are copolymerized and used in a proportion of about 80 mol % or less, preferably about 55 mol % or less. Polymers containing side chain epoxy groups in the present invention, such as polyglycidyl methacrylate (PGMA)
The viscosity (or molecular weight) of glycidyl methacrylate (GMA) can be easily adjusted by changing the initiator concentration, monomer concentration, polymerization temperature, etc. during radical polymerization of glycidyl methacrylate (GMA), and from a practical standpoint, n=
It has a degree of polymerization of 10 to 10,000, preferably 10 to 10,000. Substituted benzoates include 1-benzotriazoylyl benzoate (2a), 2-benzoxazoylthiobenzoate (2b), 2-benzothiazolylthiobenzoate (2c), 4-nitrophenylbenzoate (2d), ruthiobenzoate (2e), 4-nitrophenyl-4-nitrobenzoate (2f), 2-nitrophenylbenzoate (2j), 2,4-dinitrophenylbenzoate (2k), 4-chlorophenylbenzoate (2l), 2 , 4-dichlorophenylbenzoate (2o), phenyl 4-nitrobenzoate (2q),
Phenyl 4-chlorobenzoate (2r) has a benzotriazole group, nitroaryl group, etc. in the molecule,
Examples include benzoates containing a chloroaryl group or an elemental sulfur. These benzoates are prepared by reacting the corresponding benzoyl chlorides with phenols. The novel polymer obtained by the present invention is, for example, poly[2-benzoyloxy-3-
(1-Benzotriazolyloxy)propyl methacrylate] (3a), poly[2-benzoyloxy-3-(2-benzoxazolylthiooxy)
propyl methacrylate] (3b), poly[2-benzoyloxy-3-(2-benzothiazolylthiooxy)propyl methacrylate] (3c), poly[2-benzoyloxy-3-(4-nitrophenoxy)propyl methacrylate] ( 3d), poly[2-benzoyloxy-3-thiophenoxypropyl methacrylate] (3e), poly[2-benzoyloxy-3-(4-chlorophenoxy)propyl methacrylate] (3l), poly[2- (4-nitrobenzoyloxy)-3-phenoxypropyl methacrylate] (3q), poly[2-(4-nitrobenzoyloxy)-3-(4-nitrophenyl)propyl methacrylate] (3f), poly[2-
Benzoyloxy-3-methoxypropyl methacrylate] (3g), poly[2-benzoyloxy-3-ethoxypropyl methacrylate] (3h),
Poly[2-acetoxy-3-phenylpropyl methacrylate] (3i), poly[2-benzoyloxy-3-(2-nitrophenyl)propyl methacrylate] (3j), poly[2-benzoyloxy-
3-(3,4-dinitrophenyl)propyl methacrylate] (3k), poly[2-benzoyloxy-3-(2,4-dichlorophenyl)propyl methacrylate] (3m), poly[2-benzoyloxy-3- Phenylpropyl methacrylate]
(3n), poly[2-benzoyloxy-3-(4-
methylphenyl)propyl methacrylate]
(3o), poly[2-benzoyloxy-3-(4-
Methoxyphenyl)propyl methacrylate]
(3p), poly[2-(4-chlorobenzoyloxy)-3-phenylpropyl methacrylate]
(3r), poly[2-(4-methoxybenzoyl)-3
-phenylpropyl methacrylate] (3s). The novel polymer of the present invention, Polymer 3a having a benzotriazole group in the side chain, is a useful substance as an adhesive because it has excellent adhesive properties, especially adhesive properties to copper surfaces. Polymers with nitroaryl groups in their side chains
Focusing on the reactivity of the nitroaryl group, 3d, 3f, 3j, 3k, and 3q have been found to be crosslinked and insolubilized by light irradiation or electron beam irradiation. It is a substance useful as On the other hand, 3l, 3o, 3r, etc., which have a chloroaryl group in the side chain of the polymer, are crosslinked and insolubilized by irradiation with electron beams or X-rays, so they are useful as radiation-sensitive resists that are indispensable in the production of ultra-LSI devices. Furthermore, a polymer having a sulfur element in its side chain,
3h, 3c, 3e, etc. have excellent radiation resistance due to the sulfur element, so they are useful as electrical wires and other covering materials and adhesives near the core of nuclear power plants. In addition, for 3d, 3f, 3j, 3k, and 3q, each polymer solution was applied on a glass plate, and after drying, it was irradiated with light from a 10 cm distance from a 500 W ultra-high pressure mercury lamp for 10 minutes, resulting in crosslinking and insolubilization, and it was found that it did not dissolve in ordinary solvents. confirmed. Other functional resins can be easily inferred as natural functions based on the results of previous literature. The catalysts used in the production of this new polymer include a tertiary amine general formula (R) 3 N, a quaternary ammonium salt general formula [(R) 4 N]X, and a quaternary phosphonium salt general formula [(R) 4 P ] X can be used, of which quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts are preferred (wherein R is an aliphatic group, an aromatic group, an alicyclic group, a C 1 to C 10 alkyl group, a phenyl group , benzyl group, naphthyl group, cyclohexyl group, etc., and X is a halogen or other acid residue). Examples of tertiary amines are triethylamine (TEA), tripropylamine (TPA), trin
-butylamine (TBA), N,N-diethylaniline, N,N-dimethylaniline, diazabicycloundecene-7, etc. Quaternary ammonium salts include tetramethylammonium bromide (TMAB), tetraethylammonium bromide ( TEAB), tetra n-propylammonium bromide (TPAB), tetra n-butylammonium bromide (TBAB), tetra n-pentylammonium bromide (TPEA), tetra n
-hexylammonium bromide (THAB),
Tetra n-octylammonium bromide (TOAB), tetramethylammonium chloride (TMAC), tetraethylammonium chloride (TEAC), tetra n-propylammonium chloride (TPAC), tetra n-butylammonium chloride (TBAC), tetra n-butylammonium Iodide, tetra n-butylammonium hydrogen sulfate (TBAH), tetra n-butylammonium perchlorate (TBAP), tetra n-butylphosphonium bromide (TBPB), benzyltrimethylammonium chromide (BTMAC), cetyltrimethylammonium bromide, These include benzyltriethylammonium iodide, tetrapropylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium iodide, benzyltrimethylphosphonium bromide, and the like. Solvents used in the addition reaction in the present invention include sulfolane, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, diglyme, dioxane, tetrahydrofuran, cyclohexanone, anisole, toluene, and xylene. Although not particularly limited, the reaction temperature is about 50 to 200°C, preferably about 90 to 130°C, and the reaction time is usually about 2 to 48 hours. Examples Examples are shown below. The invention is not limited to these examples. Synthesis of poly(glycidyl methacrylate) (PGMA) Glycidyl methacrylate (GMA) (50g:
Using azobisisobutyronitrile (AIBN) (0.5 g) with 0.3 mol) as a catalyst, toluene (250
ml) at 60°C for 5 hours, then 80°C in a nitrogen stream.
The radical polymerization reaction was carried out at ℃ for 2 hours, with a yield of 76%.
Got PGMA. The polymerization solution was poured into n-hexane, and the resulting polymer was then purified by reprecipitation twice with tetrahydrofuran (THF) in n-hexane, filtered, and dried at 50°C under reduced pressure. The epoxy equivalent weight of the obtained polymer was 145.7. The reduced viscosity of the polymer in DMF was 0.24 dl/g (0.5 g/dl concentration, measured at 30°C). Example 1 Production of poly[-2benzoyloxy-3-(1-benzotriazolyloxy)propyl methacrylate] (3a) PGMA (1.16 g, 8 mmol) was mixed with diglyme (20
ml) and then 2a (1.91 g, 8 mmol)
and TEAB (0.16 g, 8 mmol) were added into the polymer solution. The reaction mixture was heated to 100 °C for 24
Stir for an hour and then pour into ethanol.
The reaction mixture was reprecipitated twice with tetrahydrofuran (THF) in ethanol and dried under vacuum at 50°C. The yield of polymer was 2.56 g. The addition reaction rate of the polymer was 99.8 mol% (calculated by elemental analysis of N). The reduced viscosity of the polymer in DMF was 0.17 dl/g (30°C, 0.5
(measured in g/dl). IR (Film): 1720, 1600,
740, 710 cm -1 , NMR (CDCl 3 ): δ = 1.0 (C-
CH 3 ), 1.9 (C-CH 2 -C), 4.4 and 4.9 (C-CH 2
-O), 5.7 (O-CH-C) and 7.2-8.1 (aromatic hydrogen). This is poly[2-benzoyloxy-3-(1-benzotriazolyloxy)propyl methacrylate] (3a). Example 2 Production of poly[2-benzoyloxy-3-(2-benzoxazolylthiooxy)propyl methacrylate] (3b) PGMA (1.16 g, 8 mmol) and 2b (2.04 g, 8 m
mol) and TEAB (0.16 g,
8 mmol) at 100°C for 24 hours.
The product was purified as in Example 1. The final polymer yield was 2.56 g. The addition reaction rate of the polymer was 98.1 mol% (calculated from elemental analysis of N). The reduced viscosity of the polymer in DMF is 0.29
dl/g (measured at 30°C and a concentration of 0.5 g/dl). IR (Film): 1730, 1670, 1630, 1550, 780
and 710 cm -1 , NMR (CDCl 3 ): δ = 1.0 (C-
CH 3 ), 1.9 (C-CH 2 -C), 3.7 (C-CH 2 -S),
4.4 (C- CH2 -O), 5.9 (O-CH-C) and 7.0-
7.9 (aromatic hydrogen). From this result, this product is poly[2-benzoyloxy-3-(2-benzoxazolylthiooxy)propyl methacrylate] (3b). Example 3 Production of poly[2-benzoyloxy-3-(2-benzothiazolylthiooxy)propyl methacrylate] (3c) PGMA (1.16 g, 8 mmol) was mixed with diglyme (20
ml) in the presence of TEAB (0.16 g, 0.8 mmol),
It was reacted with 2c (2.17 g, 8 mmol) at 100° C. for 24 hours. The final polymer yield was 2.97g. The addition reaction rate was 97.2 mol% based on nitrogen analysis.
The reduced viscosity of the polymer in DMF is 0.16 dl/
g (measured at 30°C and a concentration of 0.5 g/dl). IR (Film): 1720, 1600, 750 and 710cm - 1 ,
NMR (CDCl 3 ): δ = 1.0 (C-CH 3 ), 1.9 (C-
CH2 -C), 3.9(C-CH2 - S), 4.3(C- CH2-
O), 5.7 (C-CH-O) and 7.1-8.0 (aromatic hydrogen). This product is poly[2-benzoyloxy-
3-(2-benzothiazolylthiooxy)propyl methacrylate] (3c). Example 4 Poly[2-benzoyloxy-3-(4-nitrophenoxy)propyl methacrylate]
Production of (3d) PGMA (1.16 g, 8 mmol) was added to diglyme (20
ml) in the presence of TEAB (0.16 g, 0.8 mmol),
It was reacted with 2d (1.95 g, 8 mmol) at 100° C. for 24 hours. The final polymer yield was 2.51 g. The addition reaction rate of the polymer was 98.5 mol% (N
results of analysis). The reduced viscosity of the polymer in DMF is
It was 0.22 dl/g (measured at 30°C, 0.5 g/dl).
IR (film): 1720, 1590, 1510, 1340, 750 and 710 cm -1 , NMR (CDCl 3 ): δ = 0.9 (C-CH 3 ),
2.0 (C-CH 2 -C), 4.3 (C-CH 2 -O), 5.6 (C
-CH-O) and 6.8-8.2 (aromatic hydrogen). This polymer is poly[2-benzoyloxy-3-
(4-nitrophenoxy)propyl methacrylate] (3d). Example 5 Preparation of poly(2-benzoyloxy-3-thiophenoxypropyl methacrylate) (3e) PGMA (1.16 g, 8 m
2e (1.71 g, 0.8 mmol) and TEAB (0.16
g, 0.8 mmol) was added. The mixture was stirred at 100°C for 24 hours. The final polymer yield was 2.23 g. The addition reaction rate was 96.8 mol% (measured from the intensity ratio of NMR spectra). The reduced viscosity of the polymer in DMF was 0.29 dl/g (measured at 30°C and a concentration of 0.5 g/dl). IR (film): 1720, 750 and 710cm -1 , NMR
(CDCl 3 ): δ = 0.9 (C-CH 3 ), 1.9 (C-CH 2 -
C), 3.2 (C-CH 2 -S), 4.3 (C-CH 2 -O),
5.3 (C-CH-O) and 7.0-8.0 (aromatic protons). This polymer is poly(2-benzoyloxy-3-thiophenoxypropyl methacrylate) (3e). Example 6 Poly[2-benzoyloxy-3-(4-chlorophenoxy)propyl methacrylate] (3l)
Production of PGMA (1.16 g, 8 mmol) with diglyme (20
ml) in the presence of TEAB (0.16 g, 0.8 mmol),
It was reacted with 2 liters (1.86 g, 8 mmol) at 100° C. for 24 hours.
The final polymer yield was 2.09g. The addition reaction rate of the polymer was 74.3 mol% (as a result of Cl analysis and 1 H-NMR integrated intensity ratio). The reduced viscosity of the polymer in DMF was 0.23 dl/g (30
°C, measured at a concentration of 0.5 g/dl). IR (Film):
1720, 1600, 1510 and 710 cm -1 , NMR (CDCl 3 ):
δ=1.0(C- CH3 ), 1.70(C- CH2 -C), 4.2(C
-CH2 -O), 5.6 (C-CH-O) and 6.8-8.0 (aromatic hydrogen). This polymer is poly[2-benzoyloxy-3-(4-chlorophenoxy)propyl methacrylate] (3l). Example 7 Poly[2-(4-nitrobenzoyloxy)3
-Phenoxypropyl methacrylate] (3q)
Production of PGMA (1.16 g, 8 mmol) with diglyme (20
ml) in the presence of TEAB (0.16 g, 0.8 mmol),
It was reacted with 2q (1.95 g, 8 mmol) at 100° C. for 24 hours. The final polymer yield was 1.85g. The addition reaction rate of the polymer was 94.3 mol% (N
results of analysis). The reduced viscosity of the polymer in DMF is
It was 1.02 dl/g (measured at 30°C, 0.5 g/dl).
IR (Film): 1720, 1600, 1530, 1350 and 710
cm -1 , NMR (CDCl 3 ): δ = 1.0 (C-CH 3 ), 2.0
(C-CH 2 -C), 4.3 (C-CH 2 -O), 5.6 (C-
CH-O) and 6.90-8.20 (aromatic hydrogen). This polymer is poly[2-(4-nitrobenzoyloxy)3-phenoxypropyl methacrylate]
(3q). Example 8 Same as Example 1 above, PGMA and 4-nitrophenyl 4-nitrobenzoate (2f), methylbenzoate (2g), and ethylbenzoate (2h)
and phenyl acetate (2i) were subjected to an addition reaction. These polymers are poly[2-(4
-Nitrobenzoyloxy)-3-(4-nitrophenyl)propyl methacrylate] (3f), Poly[2-benzoyloxy-3-methoxypropyl methacrylate] (3g), Poly[2-benzoyloxy-3-ethoxypropyl methacrylate]
(3h) and poly[2-acetoxy-3-phenylpropyl methacrylate] (3i). Similarly, PGMA and 2-nitrophenylbenzoate (2j), 2,4-dinitrophenylbenzoate (2k), 2,4-dichlorophenylbenzoate (2m), phenylbenzoate (2n), 4- Methyl-phenylbenzoate (2o), 4-methoxyphenylbenzoate (2p), phenyl 4-chlorobenzoate (2r) and phenyl 4-methoxybenzoate (2s) were subjected to an addition reaction. The obtained polymers were poly[2-benzoyloxy-3-(2-nitrophenyl)propyl methacrylate] (3j), poly[2-benzoyloxy-3-(2,4-dinitrophenyl)propyl methacrylate] (3k), and Poly[2-benzoyloxy-3-(2,4-dichlorophenyl)propyl methacrylate] (3m),
Poly[2-benzoyloxy-3-phenylpropyl methacrylate] (3n), poly[2-benzoyloxy-3-(4-methylphenyl)propyl methacrylate] (3o), poly[2-benzoyloxy-3-(4) -methoxyphenyl)propyl methacrylate] (3p), poly[2-(4-chlorobenzoyloxy)-3-phenylpropyl methacrylate] (3r) and poly[2-(4-methoxybenzoyl)-3-phenyl propyl methacrylate] (3s), etc. The results of the addition reaction are shown in Tables 1 and 2. [Table] [Table] [Table] The reaction rate between side chain epoxy groups and active esters in polymers obtained from elemental analysis is
It is in good agreement with the intensity ratio of the NMR spectrum.
This confirms that almost no side reaction between the epoxy group and hydrogen occurred during this reaction. As can be seen from Table 1, PGMA and esters
Addition reactions with 2a, 2b, 2c and 2e can selectively produce the corresponding polymers 3a, 3b, 3c and 3e, respectively, when TEAB is used as a catalyst at 100°C.
In addition, in the reaction with 4-nitrophenyl 4-nitrobenzoate (2f), 60.3 mol% was generated at 100°C for 4 hours.
The corresponding polymer 3f is obtained at a conversion of . In addition, methyl benzoate (2 g) and phenyl acetate (2i) were heated at 100°C for 24 hours to obtain the corresponding polymers 3 g and 3i in yields of 6.7 mol% and 28.4 mol%, respectively, but ethyl benzoate ( Almost no reaction with 2h) occurred even at 100°C for 10 hours. From this result, in the reaction of this side chain epoxy group-containing polymer and active ester in the presence of a catalyst such as TEAB, the reaction with an ester having an electron-withdrawing group on phenoxy or benzoate results in a relatively high yield. Although polymers are obtained, the reaction of esters with electron-donating groups on phenoxy or benzoate shows that the corresponding polymers cannot be obtained in high yields under the same conditions. Example 9 PGMA (1.16 g, 8 mmol) was added to 2d and 2e (1.95
g, 8 mmol) each and diglyme (20 ml)
at 100 °C in the presence of various catalysts (0.8 mmol) in
The reaction was allowed to proceed for 10 hours. The results are shown in Tables 3 and 4. [Table] [Table] [Table] As can be seen from Table 3, when the active ester in the catalyst is 4-nitrophenylbenzoate (2d), in the quaternary ammonium salt, the counter anions are Br - , Cl - and I In the case of - , high catalytic activity is obtained, while in the case of HSO - 4 or ClO - 3 , high catalytic activity is not shown. And the catalytic activity is very strongly influenced by the alkyl chain in the quaternary salt;
TPAB (propyl) and TBAB (butyl) are
It is shown that the series of quaternary ammonium salts containing Br -anion has the highest activity. On the other hand, in a series of quaternary ammonium salts containing Cl - anions, TEAC showed higher activity than other catalysts. It is believed that the activity of a catalyst in the reaction between a side chain epoxy group in a polymer and an active ester is determined by the lipophilic relationship between the reagents, the steric hindrance of the catalyst, and the weakness of the counter anion of the catalyst. As a catalyst in this reaction, the specific quaternary ammonium salt is more active than tertiary amines such as TEA and TBA. Furthermore, as can be seen from Table 4, when the ester is phenylthiobenzoate (2e), TBAB has the highest activity in the series of quaternary ammonium salts containing Br - as a counteranion, while TMAB shows almost no activity. do not have. On the other hand, in the case of the Cl -containing ammonium salt series, TEAC shows the highest activity.
The activity of TBAI, TBPB and TEA is significantly reduced in this reaction system. and TBAH, TBAP and
TBA had no activity. Additionally, certain quaternary salts with Cl -anions are
In the reaction of thioester compound (2e), Br -
It has higher activity than quaternary salts with anions. Furthermore, it can be concluded that certain active esters have a higher reactivity towards epoxy groups in polymers than carboxylic acids. In each reaction, it is important to select a suitable catalyst system. Effects of the Invention Consisting of an addition reaction product between the side chain epoxy group-containing polymer of the present invention and a benzoate containing a benzotriazole group, nitroaryl group, chloroaryl group, or sulfur element in the molecule, benzotriazole group in the side chain , nitroaryl group, chloroaryl group, etc. is a new polymer, and it can be used as a resin with excellent adhesiveness, photosensitivity, radiation sensitivity, or radiation resistance, and is considered to be an extremely useful resin. I can say it.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記一般式で示されるくり返し構造を有する
機能性高分子重合体。 但し、nは10〜10000、 XはO又はS、 R1はニトロ基又はハロゲン基である。R2はア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、ニトロ基
又はハロゲン置換アリール基、ベンゾトリアゾー
ル基、ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール
基である。
[Scope of Claims] 1. A functional polymer having a repeating structure represented by the following general formula. However, n is 10 to 10,000, X is O or S, and R 1 is a nitro group or a halogen group. R 2 is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a nitro group or a halogen-substituted aryl group, a benzotriazole group, a benzoxazole group, or a benzothiazole group.
JP7757885A 1985-04-13 1985-04-13 Functional polymer Granted JPS61236805A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7757885A JPS61236805A (en) 1985-04-13 1985-04-13 Functional polymer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7757885A JPS61236805A (en) 1985-04-13 1985-04-13 Functional polymer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61236805A JPS61236805A (en) 1986-10-22
JPH0422162B2 true JPH0422162B2 (en) 1992-04-15

Family

ID=13637873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7757885A Granted JPS61236805A (en) 1985-04-13 1985-04-13 Functional polymer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61236805A (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100383515B1 (en) * 2000-09-01 2003-05-12 삼성전자주식회사 Water-soluble Polymeric Adhesion Promoter and Its Production Method
JP4815725B2 (en) * 2001-09-12 2011-11-16 Dic株式会社 Epoxy resin composition for electronic material and low dielectric electronic material
WO2023181962A1 (en) * 2022-03-24 2023-09-28 三菱ケミカル株式会社 Photosensitive resin composition, cured product, and image display device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61236805A (en) 1986-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Sakai et al. Polymer reaction of epoxide and carbon dioxide. Incorporation of carbon dioxide into epoxide polymers
JPH0422162B2 (en)
JPS6397608A (en) Atomic group transfer polymerization using mercury compound as catalyst
JPH07145164A (en) Dithiocarbonate derivative and crosslinking method using the derivative
Onen et al. Synthesis of a novel addition-fragmentation agent based on Michler's ketone and its use as photo-initiator for cationic polymerization
JPH0580485B2 (en)
JP3256568B2 (en) Bifunctional (meth) acrylate
JP3715840B2 (en) Novel ester compound having isocyanuric acid ring and process for producing the same
US4906713A (en) "Acrylic" ladder polymers
JPH0374683B2 (en)
JPS60123478A (en) Preparation of ester compound containing isocyanuric ring
JPH0745533B2 (en) Photosensitive resin and method for producing the same
JP2696109B2 (en) New diamine derivative
JPS62930B2 (en)
JPH0657736B2 (en) Epoxy methacrylate resin and method for producing the same
JP4385436B2 (en) New azoamide compounds
JPS58164603A (en) Production of self-sensitizing photopolymer
JP2832858B2 (en) New vinyl ethers, their preparation and polymers
JPH0148273B2 (en)
JPS6360020B2 (en)
JP2962587B2 (en) Method for producing terminally functional polyalkyloxystyrene
JPS59216138A (en) Self-sensitizing photosensitive resin
JPS634846B2 (en)
JPS6016963A (en) Aromatic vinyl compound
JPS6318935B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term