JPH04212861A - インキ膜厚・含水率計測装置 - Google Patents
インキ膜厚・含水率計測装置Info
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- JPH04212861A JPH04212861A JP2400698A JP40069890A JPH04212861A JP H04212861 A JPH04212861 A JP H04212861A JP 2400698 A JP2400698 A JP 2400698A JP 40069890 A JP40069890 A JP 40069890A JP H04212861 A JPH04212861 A JP H04212861A
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Landscapes
- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Testing Or Calibration Of Command Recording Devices (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オフセット印刷機のイ
ンキローラ上のインキ膜厚・含水率を計測する計測器に
関する。
ンキローラ上のインキ膜厚・含水率を計測する計測器に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のインキ膜厚・含水率計の一例を図
９乃至図１１に示す。回転中のインキ・ローラ５上のイ
ンキ膜厚７及び含水率８をリアルタイムで計測する手段
を下記に示す。 １） 図１２に示すように、インキ及び水の赤外分光
吸収特性を測定する。これよりインキは３．４μｍ，水
は２．９６μｍに各々吸収波長が存在することが分かる
。 また、インキ及び水に影響を受けない波長としては４．
６μｍを選択する（ 参照波長を設けることによってイ
ンキ・ローラ５の偏芯及び振動等による誤差を防ぐこと
ができる）。 ２） 図１０，図１１において、円盤９にインキ吸収
波長フイルタ１０，水吸収波長フィルタ１１及びインキ
及び水に吸収されない波長のフィルタ１２（参照波長フ
ィルタ）を取り付ける。 ３） 円盤９はモータ１３によって一定速度で回転す
る。 ４） フィルタに投光する光源１４としてはインキの
吸収，水の吸収及びどちらにも吸収されない各々の波長
に対して光量が大きいものがよい。 ５） 最初にインキ及び水がインキ・ローラ５に付着
してないときの反射光量１５を計測する。 ６） 反射光量１５の測定は半導体の光量高価を利用
した受光素子１６を用いる。 ７） 上記５）において、光源１４からインキ吸収波
長フィルタ１０を通り抜けインキ・ローラ５に当たって
反射してきたときの反射光量１５をＩＯ，光源１４から
水吸収波長フィルタ１１を通り抜けローラに当たって反
射してきたときの反射光量１５をＷＯ，光源１４か参照
波長フィルタ１２を通り抜けインキ・ローラ５に当たっ
て反射してきたときの反射光量１５をＳＯとする。 ８） 次にインキ及び水がインキ・ローラ５に付着し
たときの反射光量１５は上記７）と同様にＩ，Ｗ及びＳ
と計測される。 ９） インキ膜厚７と含水率８を絶対値表示するため
には、何らかの方法で反射光量１５とインキ膜厚７及び
水膜厚との関係を校正しなければならない。 １０） 上記９）について予め、図１３，図１４に示
すように反射光量１５の比〔（Ｉ／ＩＯ）／（Ｓ／ＳＯ
）〕、〔（Ｗ／ＷＯ）／（Ｓ／ＳＯ）〕に対するインキ
膜厚及び水膜厚を校正しておく（比を取る理由はインキ
・ローラ５の偏芯や振動の影響を除去するためである）
。 １１） 上記１０）で求めた校正カーブによって、イ
ンキ・ローラ５上のインキ膜厚及び水膜厚は求まり、含
水率ｗは次式より求まることから、表示装置１７に絶対
値表示可能となる。 含水率ｗ＝水膜厚／（インキ膜厚＋水膜厚）
９乃至図１１に示す。回転中のインキ・ローラ５上のイ
ンキ膜厚７及び含水率８をリアルタイムで計測する手段
を下記に示す。 １） 図１２に示すように、インキ及び水の赤外分光
吸収特性を測定する。これよりインキは３．４μｍ，水
は２．９６μｍに各々吸収波長が存在することが分かる
。 また、インキ及び水に影響を受けない波長としては４．
６μｍを選択する（ 参照波長を設けることによってイ
ンキ・ローラ５の偏芯及び振動等による誤差を防ぐこと
ができる）。 ２） 図１０，図１１において、円盤９にインキ吸収
波長フイルタ１０，水吸収波長フィルタ１１及びインキ
及び水に吸収されない波長のフィルタ１２（参照波長フ
ィルタ）を取り付ける。 ３） 円盤９はモータ１３によって一定速度で回転す
る。 ４） フィルタに投光する光源１４としてはインキの
吸収，水の吸収及びどちらにも吸収されない各々の波長
に対して光量が大きいものがよい。 ５） 最初にインキ及び水がインキ・ローラ５に付着
してないときの反射光量１５を計測する。 ６） 反射光量１５の測定は半導体の光量高価を利用
した受光素子１６を用いる。 ７） 上記５）において、光源１４からインキ吸収波
長フィルタ１０を通り抜けインキ・ローラ５に当たって
反射してきたときの反射光量１５をＩＯ，光源１４から
水吸収波長フィルタ１１を通り抜けローラに当たって反
射してきたときの反射光量１５をＷＯ，光源１４か参照
波長フィルタ１２を通り抜けインキ・ローラ５に当たっ
て反射してきたときの反射光量１５をＳＯとする。 ８） 次にインキ及び水がインキ・ローラ５に付着し
たときの反射光量１５は上記７）と同様にＩ，Ｗ及びＳ
と計測される。 ９） インキ膜厚７と含水率８を絶対値表示するため
には、何らかの方法で反射光量１５とインキ膜厚７及び
水膜厚との関係を校正しなければならない。 １０） 上記９）について予め、図１３，図１４に示
すように反射光量１５の比〔（Ｉ／ＩＯ）／（Ｓ／ＳＯ
）〕、〔（Ｗ／ＷＯ）／（Ｓ／ＳＯ）〕に対するインキ
膜厚及び水膜厚を校正しておく（比を取る理由はインキ
・ローラ５の偏芯や振動の影響を除去するためである）
。 １１） 上記１０）で求めた校正カーブによって、イ
ンキ・ローラ５上のインキ膜厚及び水膜厚は求まり、含
水率ｗは次式より求まることから、表示装置１７に絶対
値表示可能となる。 含水率ｗ＝水膜厚／（インキ膜厚＋水膜厚）
【０００３
】
】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術には次
のような問題点がある。 １） 赤外線吸収波長を利用するため、墨色インキは
計測不可能である（黒色インキ中にはカーボンが存在し
、光源から照射された赤外線がカーボンに吸収され反射
光量が極端に小さくなるため）。 ２） インキ膜厚７及び含水率８を絶対値表示させる
ためには、赤外線吸収波長反射光量１５とインキ膜厚及
び水膜厚との関係を予め校正しておく必要がある。
のような問題点がある。 １） 赤外線吸収波長を利用するため、墨色インキは
計測不可能である（黒色インキ中にはカーボンが存在し
、光源から照射された赤外線がカーボンに吸収され反射
光量が極端に小さくなるため）。 ２） インキ膜厚７及び含水率８を絶対値表示させる
ためには、赤外線吸収波長反射光量１５とインキ膜厚及
び水膜厚との関係を予め校正しておく必要がある。
【０００４】
１） ある基準Ａから金属ローラ間の変位ａを計測す
る手段を設ける。 ２） 基準Ａから金属ローラ上膜厚間の変位ｂを計測
する手段を設ける。 ３） 基準Ａから金属ローラ間の静電容量Ｃを計測す
る手段を設ける。 ４） 変位ａ，変位ｂ，及び静電容量Ｃより演算しイ
ンキ膜厚及び含水率を算出する演算装置を設ける。
る手段を設ける。 ２） 基準Ａから金属ローラ上膜厚間の変位ｂを計測
する手段を設ける。 ３） 基準Ａから金属ローラ間の静電容量Ｃを計測す
る手段を設ける。 ４） 変位ａ，変位ｂ，及び静電容量Ｃより演算しイ
ンキ膜厚及び含水率を算出する演算装置を設ける。
【０００５】
１） 図１に示すように、複合センサ４から金属イン
キ・ローラ５迄の変位ａは、渦電流変位計１で計測され
る。 ２） 金属インキ・ローラ５上インキ膜厚７から渦電
流変位計１迄の変位ｂは、レーザ外径測定器３（レーザ
を巾方向にスキャンし、遮蔽された距離を測る測定器）
で計測される。 ３） 渦電流変位計１及び静電容量計２から金属イン
キ・ローラ５間の静電容量Ｃは、静電容量計２で計測さ
れる。 ４） 図３乃至図５に示すように、渦電流変位計１か
ら金属インキ・ローラ５間の静電容量Ｃは、等価的に空
気によるものＣａ，インキ膜厚７によるものＣｉ，水に
よるものＣｗの合成容量とみなされる。 ５） 上記合成容量は次式で表される。
キ・ローラ５迄の変位ａは、渦電流変位計１で計測され
る。 ２） 金属インキ・ローラ５上インキ膜厚７から渦電
流変位計１迄の変位ｂは、レーザ外径測定器３（レーザ
を巾方向にスキャンし、遮蔽された距離を測る測定器）
で計測される。 ３） 渦電流変位計１及び静電容量計２から金属イン
キ・ローラ５間の静電容量Ｃは、静電容量計２で計測さ
れる。 ４） 図３乃至図５に示すように、渦電流変位計１か
ら金属インキ・ローラ５間の静電容量Ｃは、等価的に空
気によるものＣａ，インキ膜厚７によるものＣｉ，水に
よるものＣｗの合成容量とみなされる。 ５） 上記合成容量は次式で表される。
【０００６】
【数１】
６） 空気による静電容量Ｃａは、変位ｂが既知であ
るため次式で計算できる。
るため次式で計算できる。
【０００７】
【数２】
但し、εａ：空気の誘電率
ｋ：電極及びローラの形状によって定まる定数７）
インキによる静電容量Ｃｉは等価インキ膜厚をｄｉとす
ると次式で表される。
インキによる静電容量Ｃｉは等価インキ膜厚をｄｉとす
ると次式で表される。
【０００８】
【数３】
但し、εｉ：インキの誘電率
８） 水による静電容量Ｃｗは等価水膜厚をｄｗとす
ると次式で表される。
ると次式で表される。
【０００９】
【数４】
但し、εｗ：水の誘電率
９） また、等価インキ膜厚ｄｉと等価水膜厚ｄｗの
和ｄは、変位ａと変位ｂとの差に等しい。
和ｄは、変位ａと変位ｂとの差に等しい。
【００１０】
【数５】
１０） ■〜■式より等価インキ膜厚ｄｉ及び等価水
膜厚ｄｗは求まる。 １１） 含水率８・Ｗは次式で表される。
膜厚ｄｗは求まる。 １１） 含水率８・Ｗは次式で表される。
【００１１】
【数６】
【００１２】
【実施例】本発明の実施例を図１乃至図８について説明
する。 １） 図１に示すような渦電流変位計１、静電容量２
及びレーザ外径測定器３が一体となった構造の複合セン
サ４を図３のようにインキ・ローラ５上に取り付ける。 ２） 各出力を演算装置６に接続する。 ３） 空気（温度の影響によって、若干真空中の誘電
率とは異なる）、インキ（インキ中の顔料及び溶剤の物
性によって若干異なる）及び水（湿し水の成分によって
若干異なる）の誘電率は、予め測定しておき、演算装置
に入力しておくか、既知でない場合は次に述べるような
方法で計測し演算装置に入力する（図６〜図８参照）。
する。 １） 図１に示すような渦電流変位計１、静電容量２
及びレーザ外径測定器３が一体となった構造の複合セン
サ４を図３のようにインキ・ローラ５上に取り付ける。 ２） 各出力を演算装置６に接続する。 ３） 空気（温度の影響によって、若干真空中の誘電
率とは異なる）、インキ（インキ中の顔料及び溶剤の物
性によって若干異なる）及び水（湿し水の成分によって
若干異なる）の誘電率は、予め測定しておき、演算装置
に入力しておくか、既知でない場合は次に述べるような
方法で計測し演算装置に入力する（図６〜図８参照）。
【００１３】
３．１ 複合センサ４とインキ・ローラ５間にインキ
が付着していない状態にて、渦電流変位計１或いはレー
ザ外径測定器３によって複合センサ４とインキ・ローラ
５間の距離ｘ１を計測する。 ３．２ 上記状態にて静電容量Ｃ１を測る。 ３．３ 複合センサ４とインキ・ローラ５間の距離を
変化させ、渦電流変位計１或いはレーザ外径測定器３に
よって複合センサ４とインキ・ローラ５間の距離ｘ２を
計測する。
が付着していない状態にて、渦電流変位計１或いはレー
ザ外径測定器３によって複合センサ４とインキ・ローラ
５間の距離ｘ１を計測する。 ３．２ 上記状態にて静電容量Ｃ１を測る。 ３．３ 複合センサ４とインキ・ローラ５間の距離を
変化させ、渦電流変位計１或いはレーザ外径測定器３に
よって複合センサ４とインキ・ローラ５間の距離ｘ２を
計測する。
【００１４】
３．４ Ｃ１，ｘ１，Ｃ２，ｘ２より■式によってｋ
及びεａを求める。 ３．５ 複合センサ４とインキ・ローラ５間にインキ
のみ付着させた状態にて、渦電流変位計１では複合セン
サ４とインキ・ローラ５間の距離ｘを測定しておき、或
いはレーザ外径測定器３によって複合センサ４とインキ
・ローラ５上インキ膜厚７間の距離ｙを計測しておき、
εａ及びｋが（４）より既知並びにＣｗは存在しないの
で■〜■式によってεｉは求まる。
及びεａを求める。 ３．５ 複合センサ４とインキ・ローラ５間にインキ
のみ付着させた状態にて、渦電流変位計１では複合セン
サ４とインキ・ローラ５間の距離ｘを測定しておき、或
いはレーザ外径測定器３によって複合センサ４とインキ
・ローラ５上インキ膜厚７間の距離ｙを計測しておき、
εａ及びｋが（４）より既知並びにＣｗは存在しないの
で■〜■式によってεｉは求まる。
【００１５】
３．６ 複合センサ４とインキ・ローラ５間に湿し水
のみ付着させた状態にて、渦電流変位計１では複合セン
サ４とインキ・ローラ５間の距離ｘ′を或いはレーザ外
径測定器３によっては複合センサ４とインキ・ローラ５
上水膜厚間の距離ｙ′を計測しておき、εａ及びｋが（
４）より既知並びにＣｉは存在しないので■〜■式によ
ってεｗは求まる。 ４） インキ・ローラ５上に水分を含んだインキが付
着すると、演算装置６が■〜■式の演算を行う。 ５） インキ・ローラ５は印刷機が運転中、回転して
いなるので、偏芯及び振動によって複合センサ４からイ
ンキ・ローラ５までの変位ａは時間の経過に伴って変動
する。しかし、渦電流変位計１によって複合センサ４か
ら金属インキ・ローラ５間の変位ａ及びレーザ外形測定
器３によって複合センサ４から含水インキまでの変位ｂ
が計測できるため、含水インキの膜厚は前記ａ−ｂで計
算され、インキ・ローラ５の偏芯及び振動による外乱は
キャンセルすることができる。 ６） 演算装置６より算出されたインキ・ローラ５上
インキ膜厚７及び含水率１２値は表示装置１７に出力さ
れる。
のみ付着させた状態にて、渦電流変位計１では複合セン
サ４とインキ・ローラ５間の距離ｘ′を或いはレーザ外
径測定器３によっては複合センサ４とインキ・ローラ５
上水膜厚間の距離ｙ′を計測しておき、εａ及びｋが（
４）より既知並びにＣｉは存在しないので■〜■式によ
ってεｗは求まる。 ４） インキ・ローラ５上に水分を含んだインキが付
着すると、演算装置６が■〜■式の演算を行う。 ５） インキ・ローラ５は印刷機が運転中、回転して
いなるので、偏芯及び振動によって複合センサ４からイ
ンキ・ローラ５までの変位ａは時間の経過に伴って変動
する。しかし、渦電流変位計１によって複合センサ４か
ら金属インキ・ローラ５間の変位ａ及びレーザ外形測定
器３によって複合センサ４から含水インキまでの変位ｂ
が計測できるため、含水インキの膜厚は前記ａ−ｂで計
算され、インキ・ローラ５の偏芯及び振動による外乱は
キャンセルすることができる。 ６） 演算装置６より算出されたインキ・ローラ５上
インキ膜厚７及び含水率１２値は表示装置１７に出力さ
れる。
【００１６】
【発明の効果】本発明によるインキ膜厚・含水率計測装
置は、ある基準Ａから金属ローラ間の変位ａを計測する
手段と、基準Ａから金属ローラ上膜厚間の変位ｂを計測
する手段と、基準Ａから金属ローラ間の静電容量Ｃを計
測する手段と、前記変位ａ，変位ｂ，及び静電容量Ｃよ
り演算し、インキ膜厚及び含水率を算出する演算装置と
を具えたことにより、次の効果を有する。 １） あらゆるインキ（墨色，特色及びニス）の膜厚
及び水分が計測可能である。 ２） 空気，インキ及び水の誘電率が既知であれば予
め校正する必要が無く、インキ膜厚及び含水率を絶対値
表示できる。また、既知でなくても簡単に誘電率を計測
することが可能である。
置は、ある基準Ａから金属ローラ間の変位ａを計測する
手段と、基準Ａから金属ローラ上膜厚間の変位ｂを計測
する手段と、基準Ａから金属ローラ間の静電容量Ｃを計
測する手段と、前記変位ａ，変位ｂ，及び静電容量Ｃよ
り演算し、インキ膜厚及び含水率を算出する演算装置と
を具えたことにより、次の効果を有する。 １） あらゆるインキ（墨色，特色及びニス）の膜厚
及び水分が計測可能である。 ２） 空気，インキ及び水の誘電率が既知であれば予
め校正する必要が無く、インキ膜厚及び含水率を絶対値
表示できる。また、既知でなくても簡単に誘電率を計測
することが可能である。
【図１】本発明インキ膜厚・含水率計測装置の実施例の
概略配置図である。
概略配置図である。
【図２】図１におけるレーザ外径測定器の巾方向スキャ
ンの説明図である。
ンの説明図である。
【図３】複合センサの使用状態の概略図である。
【図４】渦電流変位計とローラ表面及びインキ膜表面と
の間の等価静電容量を示した図である。
の間の等価静電容量を示した図である。
【図５】図４の含水インキ層を分解して示した図である
。
。
【図６】誘電率測定の第１ステップを示した図である。
【図７】誘電率測定の第２ステップを示した図である。
【図８】誘電率測定の第３ステップを示した図である。
【図９】従来のインキ膜厚・含水率計を示す概略配置図
である。
である。
【図１０】図９に示した装置の作用を示す説明図である
。
。
【図１１】図１０におけるフィルター付円盤の正面図で
ある。
ある。
【図１２】インキ及び水の分光吸収特性を示すグラフで
ある。
ある。
【図１３】赤外線反射光量比とインキ膜厚との関係を示
すグラフである。
すグラフである。
【図１４】赤外線反射光量比と水膜厚との関係を示すグ
ラフである。
ラフである。
１ 渦電流変位計
２ 静電容量計
３ レーザ外径測定器
４ 複合センサ
６ 演算装置
１７ 表示装置
Claims (1)
- 【請求項１】 ある基準点と計測対象の金属ローラ表
面との距離ａを計測する手段と、ある基準点から上記ロ
ーラに付着したインキと水の混合液層の表面までの距離
ｂを計測する手段と、ある基準点と計測対象の金属ロー
ラ表面間の静電容量Ｃを計測する手段と、上記変位ａ，
変位ｂ，及び静電容量Ｃより演算し、ローラ偏芯及び振
動による外乱を除いたインキ膜厚及び含水率を算出する
演算装置とから構成されたことを特徴とするインキ膜厚
・含水率計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2400698A JPH04212861A (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | インキ膜厚・含水率計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2400698A JPH04212861A (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | インキ膜厚・含水率計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04212861A true JPH04212861A (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=18510579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2400698A Withdrawn JPH04212861A (ja) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | インキ膜厚・含水率計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04212861A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08508229A (ja) * | 1994-02-28 | 1996-09-03 | クロネス・アーゲー・ヘルマン・クロンセデル・マシーネンファブリーク | 物品用ラベル貼付機 |
| DE10236904A1 (de) * | 2002-08-12 | 2004-02-26 | Fogra Forschungsgesellschaft Druck Ev | Vorrichtung und Verfahren zur Messung und/oder Kontrolle der Dicke einer Lackschicht auf einer rotierenden Walze einer Lackiermaschine |
| DE102011011911A1 (de) | 2010-03-02 | 2011-12-01 | Fujimi Incorporated | Polierzusammensetzung und diese verwendendes Polierverfahren |
| JP6343708B1 (ja) * | 2017-09-11 | 2018-06-13 | 岩瀬 裕之 | 撥水層の厚み計測方法 |
-
1990
- 1990-12-06 JP JP2400698A patent/JPH04212861A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08508229A (ja) * | 1994-02-28 | 1996-09-03 | クロネス・アーゲー・ヘルマン・クロンセデル・マシーネンファブリーク | 物品用ラベル貼付機 |
| DE10236904A1 (de) * | 2002-08-12 | 2004-02-26 | Fogra Forschungsgesellschaft Druck Ev | Vorrichtung und Verfahren zur Messung und/oder Kontrolle der Dicke einer Lackschicht auf einer rotierenden Walze einer Lackiermaschine |
| DE102011011911A1 (de) | 2010-03-02 | 2011-12-01 | Fujimi Incorporated | Polierzusammensetzung und diese verwendendes Polierverfahren |
| JP6343708B1 (ja) * | 2017-09-11 | 2018-06-13 | 岩瀬 裕之 | 撥水層の厚み計測方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980312 |