JPH04208254A - フェノキシアルキルアミン誘導体の製造方法 - Google Patents

フェノキシアルキルアミン誘導体の製造方法

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JPH04208254A
JPH04208254A JP33644990A JP33644990A JPH04208254A JP H04208254 A JPH04208254 A JP H04208254A JP 33644990 A JP33644990 A JP 33644990A JP 33644990 A JP33644990 A JP 33644990A JP H04208254 A JPH04208254 A JP H04208254A
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JP
Japan
Prior art keywords
formula
reaction
phenoxyalkylamine
general formula
compound
Prior art date
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Pending
Application number
JP33644990A
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English (en)
Inventor
Ichiro Nasuno
一郎 那須野
Masatoshi Kamimura
上村 雅俊
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はトリアジン系除草剤の中間体として有用なフェ
ノキシアルキルアミン誘導体の製造方法に関する。
[従来の技術および発明が解決しようとする課題]トリ
アジン系除草剤として、特開昭63=264465号公
報にはフェノキシアルキルアミノ基がトリアジン環に置
換されたトリアジン系除草剤が開示されており、同公報
によれば、このトリアジン系除草剤は、除草効果に優れ
ているとともに水稲に対して薬害がないという顕著な利
点を有することが記載されている。
このフェノキシアルキルアミノ基置換トリアジン系除草
剤は、フェノキシアルキルアミン誘導体をトリアジン化
合物と反応させることにより得られる。そしてこのトリ
アジン系除草剤を製造するために用いられる一方の原料
であるフェノキシアルキルアミン誘導体は、従来、下式
に示すようにフェノールとアジリジン化合物とを常圧下
、溶媒の還流温度で反応させることにより得られている
(J、 Am、 Chem、 Soc、+ 73258
4 (1951乃。
甘 しかし上記従来の方法では、寄られるフェノキシアルキ
ルアミン誘導体の収率が50%程度以下と低いという欠
点があった。
従って本発明の目的は、フェノキシアルキルアミン誘導
体を高収率で製造することができる方法を提供すること
にある。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、上記従来技術の方法で得られるフェノキ
シアルキルアミン誘導体の収率が極めて低収率である原
因を検討した結果、この従来技術の方法によれば、(i
)反応を常圧下で行なっているため、反応中に低沸点の
アジリジン化合物が蒸発により散逸してしまう、(if
)反応を溶媒の還流温度で行なっているため、反応温度
が限定され、高温とすることができない等の理由によっ
てフェノキシアルキルアミン誘導体の収率が低くなって
しまうことを明らかにした。そして、出発物質として、
上記従来技術の方法で用いた出発物質と同一のものを用
いて、反応を加圧下、」−00〜250°Cで行なうこ
とにより、フェノキシアルキルアミン誘導体を高収率で
製造することができること   −を見い出し本発明を
完成した。
従って本発明は、一般式[I] λ。
(式中、Xは01〜4アルキル基であり、nは0.1ま
たは2である) で示されるフェノール化合物と、          
 す一般式[I[] Hす (式中、R1及びR2は、水素又はC1〜3アル   
ノキル基であり、同一または異なっていてもよい)  
 −で示されるアジリジン化合物とを、 bo反圧下100〜250℃の温度で反応させることを
特徴とする、一般式[III] R。
(式中X、  n、  R1及びR2は上記と同じであ
る) C示されるフェノキシアルキルアミン誘導体の製り方法
を要旨とするものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明のフェノキシアルキルアミン誘導体の製置方法に
おいて、出発物質である一般式[I]のフェノール化合
物としては、フェノールそれ自体、〕−11mまたはp
−メチルフェノール、0−1n−またはp−エチルフェ
ノール、0−lm−まこはp−のn−もしくは1so−
プロピルフェノール、○−1m−またはp−のn−1i
so−、ヨec−もしくはtert−ブチルフェノール
、2.3−12,4−12,5−12,6−13゜4−
13,5−ジメチルフェノールなどが挙げられ、また一
般式[II]のアジリジン化合物としては、エチレンイ
ミン、プロピレンイミン、2,2−ジメチルアジリジン
、2−エチルアジリジン、2−n−プロピルアジリジン
、2−iso−プロピルアジリジン、2−メチル−2−
エチルアジリジン、2.2−ジエチルアジリジン、2−
メチル−2−n−プロピルアジリジン、2−メチル−2
−iso−プロピルアジリジンなどが挙げられる。
一般式[I]の化合物/一般式[I[]の化合物のモル
比は、0.5〜10、好ましくは3〜5である。
本発明のフェノキシアルキルアミン誘導体の製造方法は
、上記一般式[I]の化合物と上記一般式[II]の化
合物との反応を加圧下、−100〜250℃の温度で行
なうことを必須要件とし、これにより目的物質であるフ
ェノキシアルキルアミン誘導体を高収率で得ることがで
きる。
本発明の方法の必須要件である、反応を加圧下で行なう
ためには反応容器としてオートクレーブなどの圧力容器
を用いるのが好ましい。反応圧力は後記の反応温度にも
依存するが、一般に1kg/cfGを超え、15kg/
c♂G以下の圧力に保つのが好ましい。その理由は圧力
が1kg/c♂Gでは常圧となり、一方15kg/cJ
Gを超えると副生物が多くなるからである。特に好まし
い反応圧力は5〜10kg/c櫂Gである。
本発明の方法は、反応温度を100〜250℃に設定す
ることも必須要件とする。反応温度を100〜250℃
に設定した理由は、100°C未満では反応が進みにく
く、目的物質の収率が低く、一方250°Cを超えると
副生物が多くなるからである。特に好ましい反応温度は
150〜200°Cである。
反応は無溶媒でも行なうことができるが、ヘキサン、オ
クタン、デカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン
、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;ピ
リジン等の含窒素炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、ク
ロロホルムなどの塩素化炭化水素系溶媒;アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒などの存在下
に行なうのが好ましい。特に好ましい溶媒は、脂肪族炭
化水素系溶媒および芳香族炭化水素系溶媒である。
反応時間は、上述の他の反応条件にもよるが、通常は3
0分〜10時間、好ましくは1〜6時間である。
[実施例] 以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
[実施例1コ °H2 3,5−キシレノール24.4g (0,20モル)、
プロピレンイミン3.8g (0,067モル)および
トルエン20m1をオートクレーブ中、−〇  −++
−− 10kg/c♂G、200°Cにて1時間反応させた。
反応物をエーテル50mj2に分散し、5%塩酸50m
Aにて3回抽出後、水層を水酸化ナトリウムで中和し、
エーテル50m1で3回抽出した。エーテル層を水洗、
乾燥後エーテルを留去し、残留物を減圧蒸留することに
より、沸点87〜89℃10.3mmHgの成分として
、1− (3,5−キシレノキシ)−2−プロピルアミ
ン8.3gを得た。収率は70%であり、高収率であっ
た。
IH−NMR:  (δ) 1.14 (d、3H) 、1.45 (s、2H)、
2、 27 (s、  6H) 、3. 1−3. 9
 (m。
3H) 、6. 4−6. 7 (m、  3H)IR
:  (cm−1) 3380.3300.3020.1615.1598.
1460.1380.1165、[比較例] 実施例1で用いたものと同一の出発物質を用いて、公知
文献[J、 Am、 Chem、 Soc、+ 732
584(1951)]の方法により反応を行なった。す
なわち、3.5−キシレノール24.4g (0,20
モル)をクロロホルム100mj2に溶解し、常圧で還
流した。プロピレンイミン3.8g (0,067モル
)をクロロホルム20mj2に溶解したものを30分間
かけて滴下し、さらに3時間加熱還流を続けた。反応物
を5%塩酸50m1で3回抽出後、水層を水酸化ナトリ
ウムで中和し、エーテル50mAで3回抽出した。エー
テル層を水洗、乾燥後エーテルを留去し、残留物を減圧
蒸留することにより、1−(3,5−キシレノキシ)−
2−プロピルアミン3.9gを得た。収率は33%で低
収率であった。
[実施例2] m−クレゾール21.6g (0,20モル)、プロピ
レンイミン2. 3g (0,04モル)およびn−デ
カン20m1をオートクレーブ中、5kg= 11− / On? G、150℃にて6時間反応させた。以下
実施例1同様の処理により、1−(3−メチルフェノキ
シ)−2−プロピルアミン訊 8gを得た。
収率は57%であり、高収率であった。
’H−NMR:  (δ) 1、 15 (d、  3H) 、1. 68 (s、
  2H)、2、 30 (s、  3H) 、3. 
1−3. 9 (m。
3H) 、6. 6−7、 3 (m、 4H)IR:
(cm’) 3390.3310.3050.1610゜1593.
1468.1387.1050、[発明の効果] 以上説明したように、本発明のフェノキシアルキルアミ
ン誘導体の製造方法によれば、反応を加圧下に100〜
250°Cの温度で行なうことにより、目的物質である
フェノキシアルキルアミン誘導体を高収率で得ることが
できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] (式中、XはC_1_〜_4アルキル基であり、nは0
    、1または2である) で示されるフェノール化合物と、 一般式[II] ▲数式、化学式、表等があります▼[II] (式中、R_1及びR_2は、水素又はC_1_〜_3
    アルキル基であり、同一または異なっていてもよい)で
    示されるアジリジン化合物とを、 加圧下、100〜250℃の温度で反応させることを特
    徴とする、一般式[III] ▲数式、化学式、表等があります▼[III] (式中X、n、R_1及びR_2は上記と同じである) で示されるフェノキシアルキルアミン誘導体の製造方法
JP33644990A 1990-11-30 1990-11-30 フェノキシアルキルアミン誘導体の製造方法 Pending JPH04208254A (ja)

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