JPH04205792A - Non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Non-volatile semiconductor memory

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Publication number
JPH04205792A
JPH04205792A JP2335376A JP33537690A JPH04205792A JP H04205792 A JPH04205792 A JP H04205792A JP 2335376 A JP2335376 A JP 2335376A JP 33537690 A JP33537690 A JP 33537690A JP H04205792 A JPH04205792 A JP H04205792A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vpp
source line
line
level
memory cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP2335376A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Nakayama
武志 中山
Yasushi Terada
寺田 康
Yoshikazu Miyawaki
宮脇 好和
Shinichi Kobayashi
真一 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2335376A priority Critical patent/JPH04205792A/en
Publication of JPH04205792A publication Critical patent/JPH04205792A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To facilitate the layout of a VPP switch even when a device is highly integrated by connecting the output of the VPP switch to the word line of a memory cell row which is not connected to the same source line and switching the source line in terms of an 'L' level and a floating state. CONSTITUTION:The word lines WL9, WL11, WL10 and WL12 of the memory cell row which is not connected to the same source line are connected to the output of the same VPP. In the case of selecting the word line WL1, a transistor(Tr) 20 is turned on and a Tr19 is turned off according to a predecoding signal, and 'L' is inputted in the VPP switch 37. At such a time, a VPPWL 41 becomes VCC in the case of readout, and it becomes VPP in the case of write, then the word lines WL9 and WL11 become VCC or VPP. In such a state, a source line decoding signal EVEN 46 is made 'L', an ODD 47 is made 'H'. Then, the Tr 44 is turned off and the Tr 45 is turned on so as to set the source line 42 floating and the line 43 at 'L' level. Thus, the readout and the write of the WL9 are executed. Therefore, the VPP switch is reduced and the layout is facilitated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は不揮発性半導体記憶装置、特にEFROM 
、フラッシュEEFROMに関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] This invention is applicable to non-volatile semiconductor memory devices, particularly EFROM.
, regarding flash EEFROM.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は従来のメモリアレイの一部とロウデコーダ回路
の一部を示す回路図である。図において、(1)〜(8
)はEPROMあるいはFRAS)IEEPROMのメ
モリセル、(9)〜(12)はワード線、(13)  
(14)はビット線、(15)は1つのアレイ内で共通
なソース線、(+6)  (+8)はPチャネルトラン
ジスタ、(17)  (19)〜(26)はNチャネル
トランジスタ、(27)〜(34)は4木のワード線(
Wl、l NWL4 )をデコートするプリデコーダ出
力、(35)はNANDゲート、(36)は4本のワー
ド線により構成されるブロックをデコートするプリデコ
ーダ出力、(37)はトランジスタ(16)〜(+8)
で構成されるVppスイッチ、(38)〜(40)はV
I)rlスイッチ(37)と同様の回路構成であること
を示す。(41)は書き込み時にVpp、読み出し時に
Vccになるワード線用電源線である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing part of a conventional memory array and part of a row decoder circuit. In the figure, (1) to (8
) are memory cells of EPROM or FRAS) IEEPROM, (9) to (12) are word lines, (13)
(14) is a bit line, (15) is a common source line within one array, (+6) (+8) is a P-channel transistor, (17) (19) to (26) are N-channel transistors, (27) ~(34) is a 4-tree word line (
(35) is a NAND gate, (36) is a predecoder output that decodes a block composed of four word lines, (37) is a transistor (16) to ( +8)
Vpp switch consisting of (38) to (40) are V
I) It shows that it has the same circuit configuration as the rl switch (37). (41) is a word line power supply line which becomes Vpp during writing and Vcc during reading.

また、(28)  (30)  (32)  (:I4
)は正論理信号、(27) (29)  (31)  
(:+3)はそれぞれ(28)(30)  (32) 
 (34)の負論理信号である。
Also, (28) (30) (32) (:I4
) is a positive logic signal, (27) (29) (31)
(:+3) are (28) (30) (32) respectively
(34) is a negative logic signal.

次に動作について説明する。Next, the operation will be explained.

この従来のデコード方式ではNANDゲート(35)に
より4本のワード線からなるブロックを選択し、トラン
ジスタ(19)〜(26)により4木のワード線から1
本のワード線を選択する。まず、プリデコード信号(3
6)かずへて°H“になるNANDゲート(35)の出
力が“L”になる。ワード線WL+(9)を選択する場
合、正のプリデコード信号(28)が“°H″になり、
負のプリデコード信号(27)か“L”になる。これに
より、トランジスタ(20)はオン、トランジスタ(1
9)はオフすることから、Vppスイッチ(37)にN
ANDゲート(35)の出力”L“′が人力される。V
ppスイッチは“L ”か人力された時、その出力を電
源線VPPWL  (41)のレベルまで立ち−Fげ、
“°H”°が人力された時、出力を“L”レベルにする
。そのため、書き込ミノ場合、電源線VPPWL  (
41) LLVppになることから、VpI)スイッチ
(37)の出力、つまりワード線WLI(9)はVpp
レヘレベなる。また読み出しの場合、電源線VPPWL
  (41)はVccになることから、ワード線WLI
(9)はVccレベルになる。同時に、正のプリデコー
ド信号(30)(32)  (34)が“L゛、負のプ
リデコード信号(29)  (31)  (33)が“
Hパであることから、トランジスタ(22)  (24
)  (26)がオフし、トランジスタ(2])  (
23)  (25)がオンする。そのため、Vl)I)
スイッチ(38)  (:19)  (40)には“H
”が人力されることから、VpI)スイッチ(38)(
39)  (40)の出力、つまりワード線(10)(
11)  (12)は°゛L゛L゛レベル。この時、他
のブロックのNへNDゲートでは少なくとも1つの入力
がL”になっているため、その出力は°“H”になる。
In this conventional decoding method, a block consisting of four word lines is selected by a NAND gate (35), and one block from the four word lines is selected by transistors (19) to (26).
Select the book's word line. First, the predecode signal (3
6) The output of the NAND gate (35) becomes "L" after reaching "H". When selecting the word line WL+ (9), the positive predecode signal (28) becomes "H". ,
The negative predecode signal (27) becomes "L". As a result, the transistor (20) is turned on, and the transistor (1) is turned on.
9) is turned off, so N is applied to the Vpp switch (37).
The output "L"' of the AND gate (35) is input manually. V
When the PP switch is set to "L" or manually operated, its output rises to the level of the power supply line VPPWL (41) -F.
When “°H”° is input manually, the output is set to “L” level. Therefore, in the case of writing, the power line VPPWL (
41) Since it becomes LLVpp, the output of the VpI) switch (37), that is, the word line WLI (9), becomes Vpp.
Rehelebe becomes. In addition, in the case of reading, the power supply line VPPWL
(41) becomes Vcc, so the word line WLI
(9) becomes the Vcc level. At the same time, the positive predecode signals (30), (32), and (34) are "L", and the negative predecode signals (29, (31), and (33) are "L".
Since it is H-pass, transistors (22) (24
) (26) turns off and transistor (2]) (
23) (25) turns on. Therefore, Vl)I)
Switches (38) (:19) (40) are set to “H”.
” is manually operated, VpI) switch (38) (
39) The output of (40), that is, the word line (10) (
11) (12) is °゛L゛L゛ level. At this time, since at least one input of the N to ND gate of the other block is at "L", its output becomes "H".

そこて、他のブロックのトランジスタ(20)に対応す
るトランジスタがオンし、トランジスタ(19)に対応
するトランジスタがオフしても、Vl)I)スイッチに
人力されるのは“H”レベルであることから、ワード線
はL°“レベルになる。以上の動作により、1本のワー
ド線のみを選択し、他のワード線を被選択にする。
Therefore, even if the transistor corresponding to the transistor (20) in another block is turned on and the transistor corresponding to the transistor (19) is turned off, the voltage applied to the Vl)I) switch is "H" level. Therefore, the word line becomes L°" level. By the above operation, only one word line is selected and the other word lines are made selected.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

従来の不揮発性半導体記憶装置は以上のように構成され
ていたので、フラッシュEEPROMではメモリセルが
トランジスタ1つたけで構成されているため、メモリセ
ルサイズを極めて小さくすることができる。しかし、3
つのトランジスタからなるVl)pスイッチ回路がワー
ド線単位に必要となり、そのため、高集積化が進むとV
ppスイッチのレイアウトが非常に困難になるという問
題点があった。
Since the conventional nonvolatile semiconductor memory device is configured as described above, the memory cell size of the flash EEPROM can be made extremely small because the memory cell is configured with only one transistor. However, 3
A Vl)p switch circuit consisting of two transistors is required for each word line.
There was a problem in that the layout of the pp switch was extremely difficult.

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、メモリセルサイズが小さくなっても、Vll
l)スイッチのレイアウトを可能にする不揮発性半導体
記憶装置を得ることを目的とする。
This invention was made to solve the above problems, and even if the memory cell size becomes smaller, the Vll
l) The object is to obtain a nonvolatile semiconductor memory device that enables switch layout.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、Vppスイ
ッチの出力を同一ソース線に接続されていない複数のメ
モリセル行のワード線に接続し、ソース線を°゛L°L
°ルヘルーティング状態とでスイッチする手段を備えた
ものである。
The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention connects the output of the Vpp switch to word lines of a plurality of memory cell rows that are not connected to the same source line, and connects the source line to °゛L°L.
The system is equipped with means for switching between the 3 and 3 route routing states.

〔作用〕[Effect]

この発明における不揮発性半導体記憶装置は、Vppス
イッチの出力を同一ソース線に接続されていない複数の
メモリセル行に接続し、ソース線を“°L“レベルとフ
ローティング状態でスイッチする手段を備えたので、メ
モリが高集積化できメモリセルのサイズが小さくなって
もVppスイッチのレイアウトが容易に行える。
The nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention includes means for connecting the output of the Vpp switch to a plurality of memory cell rows that are not connected to the same source line, and switching the source line between the "°L" level and a floating state. Therefore, even if the memory can be highly integrated and the size of the memory cell can be reduced, the layout of the Vpp switch can be easily performed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はメモリアレイの一部とロウデコーダ回路の一部を示
す回路図である。図中前記従来のもの同一符号は同一に
つきその説明は省略する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1st
The figure is a circuit diagram showing part of a memory array and part of a row decoder circuit. In the figure, the same reference numerals as those in the conventional device are the same, and the explanation thereof will be omitted.

図において、(42)  (4:l)は互いに独立した
ソース線、(44)  (45)はソース線(42) 
 (43)を制御するNチャンネルトランジスタ、(4
6)  (47)はソース線(42)  (43)をテ
コードする信号、同一ソース線に接続しない2つのメモ
リセル行のワード線(WLI とWL3 、WL2とW
L4 )を同−VIII)スイッチの出力を接続する。
In the figure, (42) (4:l) are mutually independent source lines, (44) (45) are source lines (42)
(43), an N-channel transistor controlling (43);
6) (47) is a signal that codes the source lines (42) and (43), and the word lines of two memory cell rows that are not connected to the same source line (WLI and WL3, WL2 and W
Connect L4) to the output of the same-VIII) switch.

本実施例では1つのVppスイッチの出力を2本のワー
ド線に接続する場合について説明する。
In this embodiment, a case will be described in which the output of one Vpp switch is connected to two word lines.

次に動作について説明する。ここではワード線WLIに
接続するメモリセルを選択する場合について述べる。V
l)pスイッチ(37)に“L“が入力されるまでの過
程は前記従来のものと同一である。
Next, the operation will be explained. Here, a case will be described in which a memory cell connected to word line WLI is selected. V
l) The process up to the input of "L" to the p switch (37) is the same as the conventional one.

読み出しの場合、VPPWL (4] )はVccにな
ることから、VpI)スイッチ(37)の出力、つまり
ワード線WLI(9)とWl、3  (11)はVcc
レベルになる。また、ソース線デコード信号A(4B)
をL“レベル、ソース線デコード信号B (47)を“
Hルベルにすることにより、トランジスタ(44)はオ
フし、(45)はオンする。このことにより、ソース線
(42)はフローティング、ソース線(4:] )は”
 L ”レベルになる。読み出し時はB旧 (13)、
BL2  (+4)ともに1.5V程度の電位を与えて
、メモリセルに電流が流れるか流れないかをビット線に
接続したセンスアンプ(図示せず)てセンスづ−る。メ
モリセルに電流が流れる場合はしきい値電圧が低い状態
(消去状態)で、電流が流れない場合はしきい値電圧が
高い状態(書き込み状態)である。メモリセル(1)が
消去状態の場合、ワード線WLI(9)は前記の説明の
ようにV c、cレベル、ソース線(43)はL”レベ
ルであることから、メモリセル(1)はオンして電流が
流れるため、読み出しを行なうことができる。メモリセ
ル(1)が書き込み状態の場合、ワード線WLI(9)
、ソース線(43)は前記のレベルになっているが、メ
そリセル(1)のしきい値電圧か高いため、メモリセル
(1)に電流は流れない。この時、同時にVccレベル
になるワード線WL3  (11)に接続したメモリセ
ル(5)(6)が消去状態であっても、以下の理由によ
りビット線BLI  (13)には電流は流れない。メ
モリセル(5)(6)が消去状態て、ワード線WL3 
 (11)がVccレベルであることから、メモリセル
(5)(6)はオンして、フローティングであるソース
線(42)のレベルは1.5 Vになる。しかし、電流
の流れるバスは存在しないため、ビット線BLI  (
13)に電流は流れない。
In the case of reading, since VPPWL (4) becomes Vcc, the output of the VpI) switch (37), that is, the word lines WLI (9) and Wl,3 (11), becomes Vcc.
become the level. Also, source line decode signal A (4B)
to L" level, source line decode signal B (47) to "
By setting the level to H, the transistor (44) is turned off and the transistor (45) is turned on. As a result, the source line (42) is floating, and the source line (4:]) is "
It becomes L” level. When reading, it is B old (13),
A potential of about 1.5 V is applied to both BL2 (+4), and a sense amplifier (not shown) connected to the bit line senses whether or not current flows in the memory cell. When current flows through the memory cell, the threshold voltage is in a low state (erased state), and when no current flows, the threshold voltage is in a high state (written state). When the memory cell (1) is in the erased state, the word line WLI (9) is at the Vc, c level and the source line (43) is at the L'' level as explained above, so the memory cell (1) is in the erased state. Since it is turned on and current flows, reading can be performed.When the memory cell (1) is in the write state, the word line WLI (9)
Although the source line (43) is at the above level, no current flows through the memory cell (1) because the threshold voltage of the memory cell (1) is high. At this time, even if the memory cells (5) and (6) connected to the word line WL3 (11), which simultaneously attains the Vcc level, are in the erased state, no current flows through the bit line BLI (13) for the following reason. When memory cells (5) and (6) are in erased state, word line WL3
(11) is at the Vcc level, the memory cells (5) and (6) are turned on, and the level of the floating source line (42) becomes 1.5V. However, since there is no bus through which current flows, the bit line BLI (
No current flows through 13).

書キ込ミノ場合、電源線VPPWL  (41)はVl
)pになることから、Vpl)スイッチ(37)の出力
、つまりワード線WLI(9)とWl3  (11)は
Vl)pレベルになる。また、読み出し時と同様、デコ
ード信号(47)に°“H”を午えることにより、トラ
ンジスタ(44)はオフ、トランジスタ(45)はオン
し、(42)はフローティング、(43)はL”レベル
になる。メモリセル(1)に書き込みを行なう場合、ワ
ード線WLI  (9) ニVpp 、  ソース線S
1,2(4:])に“L ”レベル、ビット線81、+
  (+3)に6V程度の電位を与える。この時、メモ
リセル(1)のドレインからソースに電流が流れて、ソ
ース近傍で発生したホットエレクトロンがフローティン
グゲートに注入される。フローティングゲートにはエレ
クトロンが蓄積されるため、メモリセル(1)のしきい
値電圧は高くなる。また、書き込みが行なわれないビッ
ト線BL2(+4)はフローティングである。上記の電
位条件の時、ワード線WL3  (11)もVlll+
レベルであることがら、(5)  (42)  (6)
  (14)  (2)という経路で電流が流れる。し
かし、メモリセル(1)において流れる電流に比べて、
後者の電流は十分少ないため、メモリセル(5)(6)
(2)において発生するホットエレクトロンは無視でき
るほど少ないことから、しきい値電圧の変動はない。
In case of writing, power line VPPWL (41) is Vl
)p, the output of the Vpl) switch (37), that is, the word lines WLI (9) and Wl3 (11), becomes the Vl)p level. Also, as in the case of reading, when the decode signal (47) is set to "H", the transistor (44) is turned off, the transistor (45) is turned on, (42) is floating, and (43) is low. When writing to memory cell (1), word line WLI (9) 2Vpp, source line S
1, 2 (4:]) “L” level, bit line 81, +
(+3) is given a potential of about 6V. At this time, a current flows from the drain to the source of the memory cell (1), and hot electrons generated near the source are injected into the floating gate. Since electrons are accumulated in the floating gate, the threshold voltage of the memory cell (1) becomes high. Furthermore, the bit line BL2 (+4) on which writing is not performed is floating. Under the above potential conditions, word line WL3 (11) is also Vllll+
Level (5) (42) (6)
(14) Current flows through the path shown in (2). However, compared to the current flowing in memory cell (1),
Since the latter current is sufficiently small, memory cells (5) (6)
Since the number of hot electrons generated in (2) is negligible, there is no fluctuation in the threshold voltage.

ワード線WL3  (11)に接続したメモリセルを選
択する場合は、ソース線デコード信−号A(4B)を“
Ho”レベル、ソース線デコード信号B (47)を“
Lo”レベルにすることにより行なう。後の動作はワー
ド線WLIの場合と同様である。また、ワード線WL2
 、 Wl4の選択についても同様の動作を行なう。
When selecting a memory cell connected to word line WL3 (11), source line decode signal A (4B) is set to “
Ho” level, source line decode signal B (47) is “
This is done by setting the word line WL2 to Lo” level.The subsequent operation is the same as that for the word line WLI.
, Wl4 is selected.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上のように、この発明によれば、複数のワード線に1
つのVppスイッチがあればよいためメモリが高集積化
てき、またメモリセルサイズが小さくなってもVppス
イッチのレイアウトが容易に行えるという効果がある。
As described above, according to the present invention, one
Since only one Vpp switch is required, the memory can be highly integrated, and even if the memory cell size is reduced, the layout of the Vpp switch can be easily performed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例であるメモリアレイの一部
とロウデコーダ回路の一部を示す回路図、第2図は従来
のメモリアレイの一部とロウデコーダ回路の一部を示す
回路図である。 図において、(1)〜(8)はメモリセル、(9)〜(
12)はワード線、(+3)  (14>はヒツト線、
(15)はソース線、(16)〜(22)はトランジス
タ、(27)〜(30)  (36)はプリデコーダ出
力、(35)ハNANDゲート、(37)  (38)
 ハVppスイッチを示す。 なお、図中、同一符号は同一、または相ツ1部分を示す
FIG. 1 is a circuit diagram showing part of a memory array and part of a row decoder circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing part of a conventional memory array and part of a row decoder circuit. It is a diagram. In the figure, (1) to (8) are memory cells, (9) to (
12) is a word line, (+3) (14> is a hit line,
(15) is a source line, (16) to (22) are transistors, (27) to (30) (36) are predecoder outputs, (35) are NAND gates, (37) (38)
C shows the Vpp switch. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or identical parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ロウ方向に配置されたVppスイッチの出力を、同一
ソース線に接続されていない複数のメモリセル行のワー
ド線に接続し、前記ソース線を“L”レベルとフローテ
ィング状態にスイッチする手段を備えたことを特徴とす
る不揮発性半導体記憶装置。
The output of the Vpp switch arranged in the row direction is connected to word lines of a plurality of memory cell rows that are not connected to the same source line, and means is provided for switching the source line to an "L" level and a floating state. A nonvolatile semiconductor memory device characterized by:
JP2335376A 1990-11-28 1990-11-28 Non-volatile semiconductor memory Pending JPH04205792A (en)

Priority Applications (1)

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JP2335376A JPH04205792A (en) 1990-11-28 1990-11-28 Non-volatile semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

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JP2335376A JPH04205792A (en) 1990-11-28 1990-11-28 Non-volatile semiconductor memory

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JP (1) JPH04205792A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106024060A (en) * 2016-05-31 2016-10-12 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Memory array

Cited By (1)

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CN106024060A (en) * 2016-05-31 2016-10-12 上海华虹宏力半导体制造有限公司 Memory array

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