JPH04186610A - Board holding device - Google Patents

Board holding device

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Publication number
JPH04186610A
JPH04186610A JP2310177A JP31017790A JPH04186610A JP H04186610 A JPH04186610 A JP H04186610A JP 2310177 A JP2310177 A JP 2310177A JP 31017790 A JP31017790 A JP 31017790A JP H04186610 A JPH04186610 A JP H04186610A
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JP
Japan
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mask
exposure
substrate
ray
cassette
Prior art date
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Pending
Application number
JP2310177A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Chiba
千葉 裕司
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH04186610A publication Critical patent/JPH04186610A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To identify an exposure board in an X-ray exposure device and to obtain a board holding device which improves maintenance and management of the board by providing a controller for referring to identification mark information read by mark reading means and judging whether the board to be held is a desired exposure board or not. CONSTITUTION:A conveyance controller receives a detection read signal from an optical sensor 19 attached to the end of a finger 12a if holding an X-ray mask 1 on a containing mask stage 5 by moving into a mask cassette 7 in the case of holding the mask by a mask hand 10, holds the mask 1 by the hand 10 if the mask 1 to be held is as desired, converts the direction of the hand 10 to a conveying direction (to the side of an exposure mask stage) and conveys the mask 1. A board can be identified with a simple structure by this device, not only a mistake of mounting but also a state that the board is not yet contained can be found, and removal of a containing cassette to a minimum limit as required can be an irreducible minimum.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は半導体露光装置の基板把持装置に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a substrate gripping device for a semiconductor exposure apparatus.

(従来の技術〕 従来、半導体露光装置としては光露光装置およびX線露
光装置が知られており、共に、減圧雰囲気(例えば減圧
He)中の露光ということからも露光回路パターンが描
かれた露光用基板の識別の重要性か高まっている。
(Prior Art) Conventionally, optical exposure equipment and X-ray exposure equipment have been known as semiconductor exposure equipment, and both of them require exposure in which an exposure circuit pattern is drawn because they are exposed in a reduced pressure atmosphere (for example, reduced pressure He). The importance of identifying printed circuit boards is increasing.

光露光装置の場合、光露光用の基板であるレチクル上に
、バーコードもしくは文字コート等の識別マークを描画
しておき、該レチクルを横方向に保持して収納カセット
内から取出し、その後、該レチクルを、露光用ステージ
上へ搬送する際、その搬送経路中に設けたレチクル識別
用のステージ上に一旦載置して、該ステージ上に備えら
れている識別マーク読取装置によって前記識別マークを
読取る構成のものか知られている(例えば特開昭62−
102527号公報に記載のもの)。さちに、上述のよ
うな光露光装置については、特開昭62−180833
、同62−273748号公報にて、前記レチクルの識
別に関するスルーブツトの向上、冗長度を高める提案も
なされている。
In the case of a light exposure device, an identification mark such as a bar code or character coat is drawn on the reticle, which is a substrate for light exposure, and the reticle is held horizontally and taken out from the storage cassette, and then the When the reticle is transported onto the exposure stage, it is placed on a reticle identification stage provided in the transport path, and the identification mark is read by an identification mark reading device provided on the stage. It is known whether the structure is (for example, JP-A-62-
102527). By the way, regarding the above-mentioned light exposure device, Japanese Patent Application Laid-Open No. 180833/1983
, No. 62-273748 proposes to improve the throughput and redundancy regarding the reticle identification.

一方、X線露光装置の場合、露光用基板は光露光装置で
用いるものとその形状および構造か異なるものであり、
第4図に示すようなハンドによって略立てた状態で把持
され、その状態で5収納カセツトから取出されて露光用
ステージ上へ搬送される(例えば特開平2−10031
1号公報に記載のもの)。
On the other hand, in the case of an X-ray exposure device, the exposure substrate is different in shape and structure from that used in an optical exposure device.
It is held in a substantially upright state by a hand as shown in FIG.
(as described in Publication No. 1).

第4図は露光用基板であるX線マスク60を把持したマ
スクハントを示しており、該マスクハンドは、平面視略
コ字状のハント本体50の両側部に支軸52a、52b
によって回動自在に軸支した2つのフィンガー部51a
、51bの一端側を、該フィンガー部51a、51bと
ハント本体50との間にそれぞれ介在する圧縮ばね54
a、54bのばね力とソレノイド53a、53bの伸縮
によって開閉させることて、X線マスク60を、そのマ
スクパターン62を支持するマスクフレーム61の側縁
にて、前記フィンガー部51a、51bの一端側にそれ
ぞれ取付けられている爪55a、55bによって把持し
、さちに、前記ハンド本体50の内部空所に設けられた
、永久磁石を備えた磁気ユニット56によって前記マス
クフレーム61を磁気的に吸着保持する構成となってい
る。
FIG. 4 shows a mask hand holding an X-ray mask 60, which is an exposure substrate, and the mask hand has support shafts 52a and 52b on both sides of a hunt main body 50 that is approximately U-shaped in plan view.
Two finger portions 51a rotatably supported by
, 51b is connected to a compression spring 54 interposed between the finger portions 51a, 51b and the hunt body 50, respectively.
By opening and closing the X-ray mask 60 by the spring force of a and 54b and the expansion and contraction of the solenoids 53a and 53b, the X-ray mask 60 is placed on one end side of the finger portions 51a and 51b at the side edge of the mask frame 61 that supports the mask pattern 62. The mask frame 61 is held by claws 55a and 55b attached to the hand body 50, respectively, and then the mask frame 61 is magnetically attracted and held by a magnetic unit 56 provided with a permanent magnet provided in the internal space of the hand body 50. The structure is as follows.

このようなxl&露光装置においても、上述のように減
圧雰囲気中で露光を行なうため、露光用基板の識別は重
要とされているが、未た確立されたものがない。
Even in such an xl&exposure apparatus, since exposure is performed in a reduced pressure atmosphere as described above, identification of the exposure substrate is considered important, but nothing has been established yet.

〔発明が解決しようとしている課題〕[Problem that the invention is trying to solve]

上記従来例では光露光装置ての露光用基板の識別方式を
開示しているか、光露光用の基板とは構造の異なるX&
I露光装置の露光用基板についての識別方式は、未た確
立されたものかなく、また、従来の光露光装置の基板識
別方式を修正して使用することも考えられるが、X線露
光用基板の構造および該X線露光用基板の搬送時のハン
トリンク方式か前記光露光装置の場合とは異なることか
ら困難である。
The above conventional example discloses an identification method for an exposure substrate in a light exposure apparatus, or an X&
Identification methods for exposure substrates in I-exposure equipment have not yet been established, and it is conceivable to use a modified substrate identification method for conventional optical exposure equipment, but This is difficult because the structure of the X-ray exposure substrate and the hunt link method for transporting the X-ray exposure substrate are different from those of the optical exposure apparatus described above.

本発明は、上記従来の技術が有する問題点に鑑みてなさ
れたもので、X線露光装置について露光用基板の識別を
可能にし、該露光用基板の保守、管理の信頼性を向上さ
せる基板把持装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the problems of the above-mentioned conventional techniques, and is a substrate gripping device that enables the identification of an exposure substrate in an X-ray exposure apparatus and improves the reliability of maintenance and management of the exposure substrate. The purpose is to provide equipment.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、基板収納用カセット内の収納ステージて吸着
保持した露光用基板を、前記基板収納用カセット内に進
入して該露光用基板の側縁にて把持するための2つのフ
ィンガー部を有する基板把持装置において、 前北露光用基板の反収納ステージ側表面の、前記フィン
ガー部による把持部分の少なくとも一方の近傍に該露光
用基板を識別するために描画された識別マークに対応し
て、前記2つのフィンガー部の少なくとも一方の先端に
、前記基板収納用カセット内への進入時の移動にともな
って、前記識別マークに対向して移動して該識別マーク
を読取るマーク読取手段か取付けられており、さちに、
前記マーク読取手段か読取った識別マーク情報を参照し
て、把持しようとしている露光用基板が所望の露光用基
板か否か判断する制御部を備えたものであり、 前記フィンガー部に取付けられたマーク読取手段が光学
センサであり、露光用基板に描画されている識別マーク
が光学式マーつてある場合が考えられる。
The present invention has two finger parts for entering the substrate storage cassette and gripping the exposure substrate by the side edges of the exposure substrate sucked and held by a storage stage in the substrate storage cassette. In the substrate gripping device, the above-mentioned mark is drawn on the surface of the front-north exposure substrate on the side opposite to the storage stage, in the vicinity of at least one of the parts gripped by the finger portion, in order to identify the exposure substrate. A mark reading means is attached to the tip of at least one of the two finger parts, and the mark reading means moves opposite to the identification mark and reads the identification mark as the board moves when entering the substrate storage cassette. , later,
The control unit includes a control unit that refers to identification mark information read by the mark reading means and determines whether or not the exposure substrate to be gripped is a desired exposure substrate, and the mark attached to the finger portion A case may be considered in which the reading means is an optical sensor and the identification mark drawn on the exposure substrate is an optical mark.

(作用) 本発明の基板把持装置は、露光用基板を把持するために
基板収納用カセットに進入する際に、前記露光用基板に
描画されている識別マークを読取るので、前記露光用基
板を基板収納用カセットから取出すことなく該露光用基
板か所望のものであるか否か判断することができる。
(Function) The substrate gripping device of the present invention reads the identification mark drawn on the exposure substrate when entering the substrate storage cassette in order to grip the exposure substrate. It can be determined whether the exposure substrate is the desired one without taking it out from the storage cassette.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の基板把持装置の一実施例を示す斜視図
である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the substrate gripping device of the present invention.

本実施例では、XIwI露光用の基板であるX線マスク
1か、収納用のマスクカセット7内に立設された複数の
収納用マスクステージ5それぞれに吸着保持されて収納
されており、該X線マスク1を、基板把持装置であるマ
スクハンド1oかマスクカセット7内に進入して把持し
、該マスクカセット7から順次取出して不図示の露光用
マスクステージへ搬送する。
In this embodiment, the X-ray mask 1, which is a substrate for XIwI exposure, is sucked and held on each of a plurality of storage mask stages 5 installed upright in a storage mask cassette 7, and the The line mask 1 is entered into a mask cassette 7 by a mask hand 1o, which is a substrate gripping device, and is gripped, and is sequentially taken out from the mask cassette 7 and conveyed to an exposure mask stage (not shown).

前記X線マスク1は、マスクパターン2を支持する支持
フレーム3の、前記マスクパターン2とは反対側の裏面
に、前記収納用マスクステージ5上での位置決めのため
の位置決め溝3aが形成されており、さちに、該支持フ
レーム3の周縁には、前記マスクハンド10によって把
持された際、該マスクハント10の2つのフィンガー部
12a、12bにて接圧される2つの接圧溝3b(他方
は不図示)か形成されている。また、前記X線マスク!
の支持フレーム3の表面には、前記マスクハンド10の
一方のフィンガー部12aによって接圧される接圧溝3
bの近傍に、マスク識別のための識別マーつてあるバー
コード4か2マスクハンド10のマスクカセット7内へ
の進入方向く図中X軸方向)と同方向に描画されている
In the X-ray mask 1, a positioning groove 3a for positioning on the storage mask stage 5 is formed on the back surface of the support frame 3 that supports the mask pattern 2, on the opposite side from the mask pattern 2. In addition, two contact pressure grooves 3b (the other (not shown) is formed. Also, the aforementioned X-ray mask!
A contact pressure groove 3 is provided on the surface of the support frame 3, which is pressed by one finger portion 12a of the mask hand 10.
Near b, an identification mark for mask identification is drawn in the same direction as the direction in which the mask hand 10 enters the mask cassette 7 (X-axis direction in the figure).

前記マスクカセット7内の収納用マスクステージ5は、
磁気吸着方式によって前記X線マスク1をその支持フレ
ーム3にて吸着保持するものであり、磁気吸着用の、不
図示の磁気ユニットは前言己収納用マスクステージ5の
マスク保持面に、前記支持フレーム3に沿うように複数
個設けられている。また、収納用マスクステージ5のマ
スク保持面には、前記X線マスクlの位置決めのための
3つの位置決めビン6a、6b、6cが間隔を設けて配
設されており、その内の位置決めビン6a。
The storage mask stage 5 in the mask cassette 7 is
The X-ray mask 1 is attracted and held on its support frame 3 by a magnetic attraction method, and a magnetic unit (not shown) for magnetic attraction is attached to the mask holding surface of the mask stage 5 for storing the X-ray mask 1 on the support frame 3. A plurality of them are provided along the line 3. Further, on the mask holding surface of the storage mask stage 5, three positioning bins 6a, 6b, and 6c for positioning the X-ray mask l are arranged at intervals, and among these, the positioning bin 6a .

6bは収納用マスクステージ5にて吸着保持したX線マ
スク1の周縁に当接して、該X線マスク1の面内方向の
位置決めを行なう。位置決めピン6Cは、前記位置決め
ピン6a、6bの中間位置に設けられており、収納用マ
スクステージ5にて吸着保持したX線マスク1の支持フ
レーム3の裏面に形成されている位置決め溝3aと係合
して、該X線マスク1の回転方向の位置決めを行なう。
6b comes into contact with the periphery of the X-ray mask 1 held by suction on the storage mask stage 5 to position the X-ray mask 1 in the in-plane direction. The positioning pin 6C is provided at an intermediate position between the positioning pins 6a and 6b, and engages with a positioning groove 3a formed on the back surface of the support frame 3 of the X-ray mask 1 held by suction on the storage mask stage 5. At the same time, the X-ray mask 1 is positioned in the rotational direction.

前記マスクカセット7は、レール8a、8bが形成され
たカセット台8上に載置されており、X線マスク1の一
枚についての露光か終了して該X線マスク1かマスクカ
セット7内に収容された際、次の露光用のX線マスク1
を選択するため、前記レール8a、8bに沿って移動す
る(図中Z軸方向)。
The mask cassette 7 is placed on a cassette stand 8 on which rails 8a and 8b are formed, and when the exposure of one X-ray mask 1 is completed, the X-ray mask 1 is placed in the mask cassette 7. When stored, X-ray mask 1 for next exposure
In order to select , the user moves along the rails 8a and 8b (in the Z-axis direction in the figure).

次に、マスクハンド10について説明する。Next, the mask hand 10 will be explained.

このマスクハンド10は、平面視略コ字状に形成したハ
ント本体11がアーム21を介して不図示の搬送装置に
連結されており、該搬送装置の動作によって、把持した
X線マスクlを露光用マスクステージへ搬送する。前言
己ハンド本体11の両側部には、把持したX@マスク1
の面と平行方向に突出する不図示の支持部が形成されて
おり、該支持部には、それぞれ、X線マスク1を把持す
るための一対のフィンガー部12a、12bか支軸15
a、15bによって回動自在に軸支されている。
In this mask hand 10, a hunt main body 11 formed in a substantially U-shape in plan view is connected to a transport device (not shown) via an arm 21, and the gripped X-ray mask l is exposed by the operation of the transport device. transport to the mask stage. On both sides of the hand body 11, there is a gripped X@mask 1.
A support portion (not shown) is formed that protrudes in a direction parallel to the plane of
It is rotatably supported by shafts a and 15b.

このフィンガー部12a、12bには、それぞれ、反ア
ーム側の一端に、前記X線マスク1の支持フレーム3に
形成されている二つの接圧13bを接圧する爪13a、
13bが取付けられており、他端側には、前記一端側を
閉しる方向に常時付勢する不図示の圧縮ばねと該圧縮ば
ねのばね力に抗して前記フィンガー部12a、12bを
開く方向へ駆動するソレノイド14a、14bとが前記
ハンド本体11との間に介在されている。
Each of the finger parts 12a and 12b includes a claw 13a at one end on the opposite arm side, which applies two contact pressures 13b formed on the support frame 3 of the X-ray mask 1;
13b is attached to the other end, and a compression spring (not shown) that constantly biases the one end in the direction of closing, and a compression spring (not shown) that opens the finger portions 12a, 12b against the spring force of the compression spring. Solenoids 14a and 14b that drive in the direction are interposed between the hand body 11 and the hand body 11.

さちに、一方のフィンガー部12aの一端には、反収納
用マスクステージ側の側面に、前記X線マスク1の支持
フレーム3に描画されているバーコード4を読取るため
の光学センサ19か取付けられた取付部材20が、前記
光学センサ19を前記収納用マスクステージ5方向に向
けるようにして固着されている。
At the same time, an optical sensor 19 for reading the barcode 4 drawn on the support frame 3 of the X-ray mask 1 is attached to one end of one finger portion 12a on the side surface opposite to the storage mask stage. A mounting member 20 is fixed so as to direct the optical sensor 19 toward the storage mask stage 5.

この先学センサ19の取付位置は、前記マスクハント1
0がマスクカセット7内に進入する際、該光学センサ1
9か、前記マスクハンド10のフィンガー部12a、1
2bか開いた状態で、前記X線マスク1のへ〜コート4
上を通過するように調整されており、該バーコード4上
を通過する際に検知した前記バーコード4の情報を示す
検出読取信号を不図示の搬送制御部へ出力する。
The mounting position of this sensor 19 is the mask hunt 1
0 enters the mask cassette 7, the optical sensor 1
9, the finger portions 12a, 1 of the mask hand 10
2b is open, coat the X-ray mask 1 to coat 4.
The bar code 4 is adjusted so as to pass over the bar code 4, and a detection reading signal indicating information on the bar code 4 detected when passing over the bar code 4 is output to a conveyance control section (not shown).

また、ハント本体11の内部空所には、前記X線マスク
1をその支持フレーム3にて磁気的に吸着保持するため
の磁気ユニット18が連結されているとともに歪ケージ
16aが立設された歪ケージユニット16が、二つの平
行板ばね17a、17bによって前記ハント本体11に
可撓的に取付けられている。
In addition, a magnetic unit 18 for magnetically adsorbing and holding the X-ray mask 1 with its support frame 3 is connected to the internal space of the hunt main body 11, and a strain cage 16a is provided upright. A cage unit 16 is flexibly attached to the hunt body 11 by two parallel leaf springs 17a, 17b.

前記磁気ユニット18は、一体的に設けられた支持棒1
8aが前記歪ゲージユニット16の中央部に形成された
不図示の軸受孔に、軸方向に移動自在に軸支されて、所
定の微小距離たけ移動できるように前記歪ケージユニッ
ト16に連結されている。磁気ユニット18の支持棒1
8aは、前記軸受孔の反磁気ユニット側に突出しており
、その先端は、前記歪ケージユニット16から立設され
た歪ケージ16aの自由端側か当接して、該歪ケージ1
6aによって、前記磁気ユニット18を、把持したX線
マスク1側へ常時付勢するように構成されている。この
歪ケージユニット16ては、マスクハント10かX線マ
スク1を把持する際、また、該X線マスク1の搬送の際
、あるいは該X線マスク1の位置決めを行なうとき、X
線マスク1を介して磁気ユニット18へ押付力か加わり
、その押付力によって磁気ユニット18の支持棒18a
が歪ケージ16aを押圧することになるので、そのとき
の歪みケージ16aの歪みを監視すれば、X線マスク1
の搬送時の把持状態、あるいはX線マスク1の位置決め
の際に該X線マスク1へ加わる押付力をコントロールす
ることができる。前記歪みケージ16aの歪みを示′f
信号は検出力信号として、前述の検出読取信号と同様に
搬送制御部へ出力される。
The magnetic unit 18 includes an integrally provided support rod 1.
8a is pivotally supported in a bearing hole (not shown) formed in the center of the strain gauge unit 16 so as to be movable in the axial direction, and connected to the strain cage unit 16 so as to be movable over a predetermined minute distance. There is. Support rod 1 of magnetic unit 18
8a protrudes toward the demagnetizing unit side of the bearing hole, and its tip abuts against the free end side of the strain cage 16a erected from the strain cage unit 16, so that the strain cage 1
6a, the magnetic unit 18 is always biased toward the gripped X-ray mask 1. This strain cage unit 16 is used when gripping the X-ray mask 1 with the mask hunt 10, when transporting the X-ray mask 1, or when positioning the X-ray mask 1.
A pressing force is applied to the magnetic unit 18 through the line mask 1, and the pressing force causes the support rod 18a of the magnetic unit 18 to
presses the strain cage 16a, so if the strain of the strain cage 16a at that time is monitored, the X-ray mask 1
It is possible to control the gripping state during transportation or the pressing force applied to the X-ray mask 1 when positioning the X-ray mask 1. Indicates the strain of the strain cage 16a.
The signal is output as a detection force signal to the conveyance control section in the same manner as the detection read signal described above.

また、前記搬送装置は、前1己マスクハンド10を前記
マスクカセット7と露光用マスクステージとの間で(X
軸方向)移動させるトラバーサと、該マスクハンド10
の向きを転換する旋回機構と前記マスクハンド10を収
納用マスクステージ5のマスク保持面に対して垂直な方
向(Z軸方向)に移動させるZIth駆動部とを備えて
いる。
Further, the transport device moves the front mask hand 10 between the mask cassette 7 and the exposure mask stage (X
a traverser that moves (in the axial direction) and the mask hand 10
and a ZIth drive unit that moves the mask hand 10 in a direction perpendicular to the mask holding surface of the storage mask stage 5 (Z-axis direction).

ここで、搬送制御部について説明する。Here, the transport control section will be explained.

搬送制御部は、前記搬送装置を駆動して、X線マスク1
の搬送動作、マスクハント10によるX線マスク1の把
持動作およびX線マスク1の位置決め動作のコントロー
ルを行なう。
The transport control unit drives the transport device to transport the X-ray mask 1.
, the gripping operation of the X-ray mask 1 by the mask hunt 10, and the positioning operation of the X-ray mask 1 are controlled.

X線マスク1の搬送時では、搬送速度を所定の速度にコ
ン4トロールするとともに、前記歪ゲージユニット16
からの検出力信号を受取ってX線マスク1の把持状態を
監視する。
When transporting the X-ray mask 1, the transport speed is controlled to a predetermined speed, and the strain gauge unit 16
The grip state of the X-ray mask 1 is monitored by receiving a detection force signal from the X-ray mask 1.

X線マスク1の位置決めの際は、前記収納用マスクステ
ージ5の位置決めピン6a、6bあるいは露光用マスク
ステージ上の位置決め部材に対する、X線マスク1の押
付力を、前記歪ケージユニット16からの検出力信号に
よって監視し、X線マスク1の位置決めか所定の押付力
でネテなわれるようにコントロールする。
When positioning the X-ray mask 1, the strain cage unit 16 detects the pressing force of the X-ray mask 1 against the positioning pins 6a, 6b of the storage mask stage 5 or the positioning member on the exposure mask stage. The X-ray mask 1 is monitored by the force signal and controlled so that the X-ray mask 1 is positioned or pressed with a predetermined pressing force.

マスクハント10によるX線マスク1の把持動作の際は
、該マスクハンド10を前記マスクカセット7内の収納
用マスクステージ5あるいは露光用マスクステージの、
マスク保持面上へ移動させて該マスクハント10のフィ
ンガー部12a、12bの開閉を行なわせる。特に、マ
スクハント10かマスクカセット7内へ移動して収納用
マスクステージ5上のX線マスク1を把持する場合、フ
ィンガー部12aの先端に取付けられている光学センサ
19からの検出読取信号を受けて、把持しようとしてい
るX線マスク1か所望のマスクであるか否か判断する。
When the mask hunt 10 grips the X-ray mask 1, the mask hand 10 is moved to the storage mask stage 5 in the mask cassette 7 or the exposure mask stage.
The fingers 12a and 12b of the mask hunt 10 are opened and closed by moving it onto the mask holding surface. In particular, when moving into the mask hunt 10 or mask cassette 7 and grasping the X-ray mask 1 on the storage mask stage 5, a detection reading signal from the optical sensor 19 attached to the tip of the finger part 12a is received. Then, it is determined whether the X-ray mask 1 to be grasped is the desired mask.

把持しようとするX線マスク1か所望のマスクであった
場合、該X線マスク1を前記マスクハント10によって
把持し、該マスクハンド10の向きを搬送方向(露光用
マスクステージ側)へ転換してX線マスク1の搬送を行
なう。また、把持しようとするX線マスク1か所望のマ
スクでなかった場合、再度、X線マスク1を選択するた
め、前記マスクカセット7を移動させて次のX線マスク
1の識別を行なう。X線マスク1のバーコード4を読取
ることができなかった場合、該xI!マスク1について
、再度、バーコード4の読取りを行ない、二度目も読取
れなかった場合は、該X線マスク1を不良として、マス
クカセット7内の対応する予備のx!Iマスクの識別を
行なう。もし、対応するマスクがない場合、マスクカセ
ット7を取出すシーケンスへ分岐する。
If the X-ray mask 1 to be gripped is a desired mask, the X-ray mask 1 is gripped by the mask hunt 10, and the direction of the mask hand 10 is changed to the transport direction (toward the exposure mask stage side). Then, the X-ray mask 1 is transported. If the X-ray mask 1 to be held is not the desired one, the mask cassette 7 is moved to identify the next X-ray mask 1 in order to select the X-ray mask 1 again. If barcode 4 of X-ray mask 1 cannot be read, the xI! The barcode 4 of the mask 1 is read again, and if the barcode 4 cannot be read the second time, the X-ray mask 1 is determined to be defective, and the corresponding spare x! The I mask is identified. If there is no corresponding mask, the sequence branches to a sequence for removing the mask cassette 7.

次に、本実施例の動作について、第2図に示すフローチ
ャートに沿って説明する。
Next, the operation of this embodiment will be explained along the flowchart shown in FIG.

ここでは、マスクカセット7内に複数のX線マスク1が
露光の順に収納されており、さちに、各X線マスク1に
対応して予備のマスクも所定の収納ステージによって保
持されているものとする。
Here, it is assumed that a plurality of X-ray masks 1 are stored in the mask cassette 7 in the order of exposure, and that a spare mask corresponding to each X-ray mask 1 is also held by a predetermined storage stage. do.

まず、マスクカセット7を移動させて、所望のX線マス
ク1か保持されている収納用マスクステージ5を選択す
る(ステップ31)。マスクカセット7で収納用マスク
ステージ5か選択されると、マスクハント10をマスク
カセット7方向に向けて移動させ(ステップ32)、マ
スクカセット7内に進入する直前て一旦停止させる。そ
して、マスクハント10か前記収納用マスクステージ5
のマスク保持面に沿うような位置まで2軸方向に移動さ
せ(ステップ33)、さちに、該マスクハンド10のフ
ィンガー部12a、12bを開状態にして(ステップ3
4)、該マスクハント10を前記収納用マスクステージ
5のX線マスク1の位置まで移動させる(ステップ35
)にのとき、マスクハンド10は前記収納用マスクステ
ージ5のマスク保持面に沿うようにして移動し、また、
第3図(a)に示すように、一方のフィンガー部12a
の先端に取付けられている光学センサ19か、X線マス
ク1のバーコード4上を通過して該バーコード4を読取
る。このバーコード4の読取りにおいて、搬送制御部か
前記光学センサ19からの検出読取信号を受取ると、該
検出読取信号を参照して、正常に読取れたか否か判断す
る(ステップ36)。この判断て、バーコード4か正常
に読取られていれば、前記検出読取信号の内容を参照し
て、把持しようとしているX線マスク1が所望のマスク
か否か判断する(ステップ37)。この判断において、
バーコード4を読取ったX線マスク1が所望のマスつて
あると判定した場合、マスクハント10のフィンガー部
12a、12bを閉状態にして、第3図(b)に示すよ
うに、前記X線マスク1を把持しくステップ38)、前
記収納用マスクステージ5によるX線マスク1の吸着状
態を解除した後、前記マスクハンド10を収納用マスク
ステージ5の反マスク保持面方向へ移動させて(ステッ
プ39)、該マスクハントlOをマスクカセット7がら
退出させる(ステップ40)。そして、該マスクハント
i。
First, the mask cassette 7 is moved to select the storage mask stage 5 holding the desired X-ray mask 1 (step 31). When the storage mask stage 5 is selected in the mask cassette 7, the mask hunt 10 is moved toward the mask cassette 7 (step 32) and is once stopped just before entering the mask cassette 7. Then, Mask Hunt 10 or the storage mask stage 5
The finger portions 12a and 12b of the mask hand 10 are moved in two axial directions to a position along the mask holding surface (step 33), and the finger portions 12a and 12b of the mask hand 10 are opened (step 3).
4) Move the mask hunt 10 to the position of the X-ray mask 1 on the storage mask stage 5 (step 35)
), the mask hand 10 moves along the mask holding surface of the storage mask stage 5, and
As shown in FIG. 3(a), one finger portion 12a
The optical sensor 19 attached to the tip of the X-ray mask 1 passes over the barcode 4 and reads the barcode 4. When reading the barcode 4, when the conveyance control section receives a detection reading signal from the optical sensor 19, it refers to the detection reading signal to determine whether or not it has been read normally (step 36). After this determination, if the barcode 4 is read normally, it is determined whether or not the X-ray mask 1 to be held is the desired mask by referring to the content of the detection read signal (step 37). In this judgment,
When it is determined that the X-ray mask 1 that has read the barcode 4 is located at the desired mask, the fingers 12a and 12b of the mask hunt 10 are closed, and the X-ray After gripping the mask 1 (Step 38) and releasing the adsorption state of the X-ray mask 1 by the storage mask stage 5, the mask hand 10 is moved in the direction opposite to the mask holding surface of the storage mask stage 5 (Step 38). 39), the mask hunt IO is removed from the mask cassette 7 (step 40). And the mask hunt i.

およびX線マスク1がマスクカセット7外へ出ると、マ
スクハント10の向きを露光用マスクステージ側へ転換
してその方向へ移動させ、前記X線マスク1を露光用マ
スクステージへ搬送する(ステ・・メゾ41)。
When the X-ray mask 1 comes out of the mask cassette 7, the direction of the mask hunt 10 is changed to the exposure mask stage side and moved in that direction, and the X-ray mask 1 is transported to the exposure mask stage (step ...Mezzo41).

−・方、上述のステップ36におけるバーコード4の読
取りについての正常性の判断て、収納用マスクステージ
5.ヒでのX線マスク1の位置ずれ、あるいはバーコー
ド4の剥離等の原因によって、バーコード4が正常に読
取られていなかった場合、このX線マスクlについて読
取りが異常となった回数を調べる(ステップ42)。こ
こでは、−回目であるので、マスクハント10をマスク
カセット7外の所定の待機位置に移動させて(ステップ
43)5再度マスクカセット7内のX線マスク1の位置
まで進入させる(ステップ35)、、このとき、光学セ
ンサ19によって再びバーコード4を読取り、ステップ
36において同様な判断を行なう。この判断においても
バーコード4の読取りが異常となった場合は、同様にス
テップ42において読取りが異常となった回数を調へる
か、ここては2回目であるので、前記X線マスク1を不
良と判断し、マスクハンド10を−旦前記待機位置まで
戻して(ステップ44)、不良となったX線マスク1に
対応する予備のマスクの有無を調べ(ステップ45)、
有る場合は予備のマスクを選択するため、前述のステッ
プ31以陣の動作を経返す。また”、予備のマスクかな
い場合、異常として装置を停止し、マスクカセット7内
のマスクの点検等を行なう。
- On the other hand, after determining the normality of the reading of the barcode 4 in the above-mentioned step 36, the storage mask stage 5. If the barcode 4 is not being read correctly due to misalignment of the X-ray mask 1 or peeling of the barcode 4, check the number of abnormal readings for this X-ray mask l. (Step 42). Here, since it is the -th time, the mask hunt 10 is moved to a predetermined standby position outside the mask cassette 7 (step 43), and the mask hunt 10 is moved to the position of the X-ray mask 1 inside the mask cassette 7 again (step 35). . . . At this time, the barcode 4 is read again by the optical sensor 19, and a similar determination is made in step 36. If the reading of the barcode 4 becomes abnormal in this judgment, either check the number of times the reading becomes abnormal in step 42, or remove the X-ray mask 1 since this is the second time. It is determined that the mask hand 10 is defective, the mask hand 10 is returned to the standby position (step 44), and the presence or absence of a spare mask corresponding to the defective X-ray mask 1 is checked (step 45).
If there is a spare mask, the operation of step 31 described above is repeated in order to select a spare mask. Furthermore, if there is no spare mask, the apparatus is stopped as an abnormality and the mask in the mask cassette 7 is inspected.

一方、バーコード4の読取りが正常に行なわれ、その後
のステップ37における所望のマスクか否かの判断で、
所望のマスクでないと判定した場合、前述のステップ3
1のマスクカセット7の選択において選択ミス、あるい
は収納用マスクステージ5へのマスクの収納ミスが生じ
たものとしてマスクハンド10を、−旦、前記待機位置
へ戻して(ステップ46)、再びステップ31以降の動
作を繰返す。
On the other hand, barcode 4 is successfully read, and in the subsequent step 37 it is determined whether or not it is the desired mask.
If it is determined that the mask is not the desired mask, the step 3 described above is performed.
Assuming that a selection error has occurred in selecting the first mask cassette 7 or a mistake has been made in storing the mask on the storage mask stage 5, the mask hand 10 is returned to the standby position (step 46) and then returned to step 31. Repeat the following operations.

上述したように、本実施例によりば、X&!マスク1を
マスクカセット7内に収納した状態で、その正常性を判
断することかでき、不良となったX線マスク1を前記マ
スクカセット7から取出すことなく、不測の事態の際も
迅速に対処することかできる。また、X線マスク1を収
納用マスクステージ5で吸着保持した状態で該X線マス
ク1の情報を確認できるので、該収納用マスクステージ
5上てのマスク装着の有無および位置ずれ等の確認を行
なうことができる。
As described above, according to this embodiment, X&! The normality of the mask 1 can be determined while it is stored in the mask cassette 7, and an unexpected situation can be dealt with quickly without taking out a defective X-ray mask 1 from the mask cassette 7. I can do something. In addition, since information on the X-ray mask 1 can be checked while the X-ray mask 1 is being held by suction on the storage mask stage 5, it is possible to check whether the mask is attached on the storage mask stage 5 and whether it is misaligned. can be done.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、以上説明したように構成されているのて、下
記のような効果がある。
The present invention, configured as described above, has the following effects.

(1)g光用基板を基板収納用カセット内に収納した状
態で該露光用基板の識別マークを読取るのて、露光用基
板を略立てた状態で把持、搬送するようなX線露光装置
に対しても、露光用基板の搬送経路り等の基板収納用カ
セット外に基板識別用の特別な装置を設けることなく、
簡単な構造で基板識別を実現することができる。
(1) For X-ray exposure equipment that reads the identification mark on the exposure substrate while it is stored in the substrate storage cassette, and then grips and transports the exposure substrate in an approximately upright position. In contrast, there is no need to install a special device for substrate identification outside the substrate storage cassette, such as on the transportation path of the exposure substrate.
Board identification can be realized with a simple structure.

(2)読取った識別マーク情報からその露光用基板が所
望の基板か否か判断するので、露光用基板の装着ミスの
みならず、識別マーク読取りの良、不良から基板収納用
カセット内での露光用基板の板の未収納等についても認
識でき、そのような不測な事態に迅速に対処可能となる
(2) Since it is determined whether or not the exposure substrate is the desired substrate from the read identification mark information, it is not only the case that the exposure substrate is installed incorrectly, but also the exposure inside the substrate storage cassette based on whether the identification mark is read well or not. It is also possible to recognize whether or not a board is not stored, and such unforeseen situations can be dealt with quickly.

(3)露光用基板の収納用カセットからの取出しを必要
最小限にすることか可能であるので、ゴミ、塵等の発生
も抑えることができる。
(3) Since it is possible to minimize the number of times the exposure substrate is removed from the storage cassette, the generation of dirt, dust, etc. can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の基板把持装置の一実施例を示す斜視図
、第2図は本発明の基板把持装置の動作の一例を示すフ
ローチャート、第3図(a)は、基板収納用カセット内
に基板把持装置か進入する際の該基板把持装置と基板を
示す正面図、第3図(b)は、基板収納用カセット内で
基板把持装置が基板を把持した状態を示す正面図、′M
4図は従来のマスクハンドを示す側面図である。 1−X線マスク、   2・・・マスクパターン、3・
・・支持フレーム、  4−・バーコード、5・・・収
納用マスクステージ、 6・・・位置決めビン、 7・・・マスクカセット、8
・・・カセット台、   8a、8 b−・・レール、
10−・・マスクハンド、11・・・ハント本体、工2
・・・フィンガー部、13・・・爪、14・・・ソレノ
イド、  15・・・支軸、16・・・歪ケージユニッ
ト、 16a・・・歪ケージ、  17・・・平行板ばね、t
 S−・・磁気ユニット、18a・・・支持棒、19−
・・光学センサ、  20・・・取付部材、21・・・
アーム、    31〜46・・・ステップ。 特許出頗人  キャノン株式会社
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of the substrate gripping device of the present invention, FIG. 2 is a flowchart showing an example of the operation of the substrate gripping device of the present invention, and FIG. 3(a) shows the inside of the substrate storage cassette. FIG. 3(b) is a front view showing the substrate gripping device and the substrate when the substrate gripping device enters the substrate storage cassette.
FIG. 4 is a side view showing a conventional mask hand. 1-X-ray mask, 2...mask pattern, 3.
...Support frame, 4-Barcode, 5...Mask stage for storage, 6...Positioning bin, 7...Mask cassette, 8
...Cassette stand, 8a, 8b-...Rail,
10--mask hand, 11--hunt body, work 2
...Finger portion, 13...Claw, 14...Solenoid, 15...Spindle, 16...Strain cage unit, 16a...Strain cage, 17...Parallel leaf spring, t
S-... Magnetic unit, 18a... Support rod, 19-
...Optical sensor, 20...Mounting member, 21...
Arm, 31-46...step. Patent issuer Canon Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板収納用カセット内の収納ステージで吸着保持し
た露光用基板を、前記基板収納用カセット内に進入して
該露光用基板の側縁にて把持するための2つのフィンガ
ー部を有する基板把持装置において、 前記露光用基板の反収納ステージ側表面の、前記フィン
ガー部による把持部分の少なくとも一方の近傍に該露光
用基板を識別するために描画された識別マークに対応し
て、前記2つのフィンガー部の少なくとも一方の先端に
、前記基板収納用カセット内への進入時の移動にともな
って、前記識別マークに対向して移動して該識別マーク
を読取るマーク読取手段が取付けられており、 さちに、前記マーク読取手段が読取った識別マーク情報
を参照して、把持しようとしている露光用基板が所望の
露光用基板か否か判断する制御部を備えたことを特徴と
する基板把持装置。 2、フィンガー部に取付けられたマーク読取手段が光学
センサであり、露光用基板に描画されている識別マーク
が光学式マークであることを特徴とする請求項1記載の
基板把持装置。
[Scope of Claims] 1. Two parts for entering the substrate storage cassette into the substrate storage cassette and gripping the exposure substrate by the side edge thereof, which is held by suction on the storage stage in the substrate storage cassette. In a substrate gripping device having a finger portion, an identification mark corresponding to an identification mark drawn to identify the exposure substrate near at least one of the portions gripped by the finger portion on the surface of the exposure substrate on the side opposite to the storage stage. A mark reading means is attached to the tip of at least one of the two finger parts to move in opposition to the identification mark and read the identification mark as the board moves into the substrate storage cassette. The apparatus further comprises a control unit that refers to the identification mark information read by the mark reading means and determines whether or not the exposure substrate to be gripped is a desired exposure substrate. Substrate gripping device. 2. The substrate gripping device according to claim 1, wherein the mark reading means attached to the finger portion is an optical sensor, and the identification mark drawn on the exposure substrate is an optical mark.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100614635B1 (en) * 1999-07-08 2006-08-22 삼성전자주식회사 A exposure system for a semiconductor device fabrication installation
US8960798B2 (en) 2010-09-01 2015-02-24 Shiroki Corporation Reclining apparatus

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