JPH0417321Y2 - - Google Patents

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JPH0417321Y2
JPH0417321Y2 JP1987121969U JP12196987U JPH0417321Y2 JP H0417321 Y2 JPH0417321 Y2 JP H0417321Y2 JP 1987121969 U JP1987121969 U JP 1987121969U JP 12196987 U JP12196987 U JP 12196987U JP H0417321 Y2 JPH0417321 Y2 JP H0417321Y2
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surface plate
guide roller
arm
retaining ring
polishing
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この考案は、ポリツシング装置等の研磨装置に
関する。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) This invention relates to a polishing device such as a polishing device.

(従来技術) 一般に、ポリツシング装置は回転する定盤を有
し、この定盤の表面と被加工物の研磨すべき面と
を保持リングにより圧接させ、両者間にポリツシ
液(スラリー)を供給して研磨加工を行う装置で
ある。
(Prior art) Generally, a polishing device has a rotating surface plate, the surface of the surface plate and the surface of the workpiece to be polished are brought into pressure contact with each other by a retaining ring, and polishing liquid (slurry) is supplied between the two. This is a device that performs polishing processing.

第4図は、この種のポリツシング装置の従来例
の斜視図を示すものである。定盤1の中央のセン
ターローラ2が配設されるとともに、定盤1の外
周上に4個のガイドローラ装置3が配設されてい
る。各ガイドローラ5と前記センターローラ2の
周面に保持リング6を保持させ、定盤1の回転に
より保持リング6に回転を与えるように構成され
ている。また、保持リング6に上方からウエイト
6aが必要に応じて加えられる。
FIG. 4 shows a perspective view of a conventional example of this type of polishing device. A center roller 2 is provided at the center of the surface plate 1, and four guide roller devices 3 are provided on the outer periphery of the surface plate 1. A retaining ring 6 is held on the circumferential surface of each guide roller 5 and the center roller 2, and rotation of the surface plate 1 causes the retaining ring 6 to rotate. Further, a weight 6a is added to the retaining ring 6 from above as necessary.

したがつて、各保持リング6に被加工物を保持
させて定盤1を回転させることにより、保持リン
グ6とともに被加工物を回転させ、定盤1に被加
工物を圧接させ研磨する。
Therefore, by rotating the surface plate 1 while holding the workpiece in each holding ring 6, the workpiece is rotated together with the holding ring 6, and the workpiece is brought into pressure contact with the surface plate 1 for polishing.

上記ポリシング装置では、ガイドローラの位置
が固定されていたため、自動化を図る上で困難で
あつた。このため、本出願人は、ガイドローラが
可動するポリシング装置を案出している(実公昭
62−28363号、この考案は、第5図に示すように、
アーム7の先端にシリンダ8を設け、このシリン
ダ8の駆動軸8aの先端にガイドローラ9を連繋
したものである。この考案では、シリンダ8を駆
動することにより、ガイドローラ9を上昇させ
て、被加工物を定盤と共に移動させることができ
る。
In the polishing apparatus described above, the position of the guide roller is fixed, making it difficult to automate the polishing apparatus. For this reason, the applicant has devised a polishing device with movable guide rollers (Jikkosho).
No. 62-28363, this invention, as shown in Figure 5,
A cylinder 8 is provided at the tip of the arm 7, and a guide roller 9 is connected to the tip of a drive shaft 8a of the cylinder 8. In this invention, by driving the cylinder 8, the guide roller 9 can be raised and the workpiece can be moved together with the surface plate.

(考案が解決しようとする課題) しかしながら、上記従来の研磨装置には以下の
課題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) However, the above conventional polishing apparatus has the following problems.

シリンダ8が設けられたアーム7の先端が定盤
の上方に位置しているので、ガイドローラ9を上
下動させる際に、駆動軸8aが摺動して微小なゴ
ミが発生し、定盤上に落ちて加工不良の原因にな
る。また、ポリシング液としてのスラリーがシリ
ンダの可動部分に付着して作動不良の原因にな
る。
Since the tip of the arm 7 on which the cylinder 8 is installed is located above the surface plate, when the guide roller 9 is moved up and down, the drive shaft 8a slides and generates minute dust, causing the surface plate to fall. This can cause machining defects. Further, slurry as a polishing liquid adheres to the movable parts of the cylinder, causing malfunction.

また、アーム7の先端にシリンダ8が設けられ
ているので、アーム7の先端が重くなり、アーム
7だけでなく枢軸等にも大きな負担がかかつてし
まう。
Further, since the cylinder 8 is provided at the tip of the arm 7, the tip of the arm 7 becomes heavy, and a large burden is placed not only on the arm 7 but also on the pivot and the like.

そこで、この考案は、上記課題を解決するもの
であり、定盤上へのゴミなどの落下等を防止した
研磨装置を提供することを目的とする。
Therefore, this invention is intended to solve the above-mentioned problems, and aims to provide a polishing device that prevents dirt and the like from falling onto the surface plate.

(課題を解決するための手段) この考案は上記課題を解決するために次の構成
を備えてなる。
(Means for Solving the Problems) This invention has the following configuration in order to solve the above problems.

すなわち、定盤の中心にセンターローラを配置
するとともに、定盤の周縁近傍に位置するガイド
ローラを有するガイドローラ装置を配置し、被加
工物を保持した保持リングを定盤上に載置し、定
盤を回転することにより、定盤の所定位置で前記
センターローラとガイドローラとの周面に保持リ
ングを当接させるとともに、定盤の回転により保
持リングを自転させ被加工物を研磨する研磨装置
において、 前記ガイドローラ装置は、 先端が定盤周縁の上方に位置し、基部側が定盤
外方の基台上に延出するアームを有し、 該アームの先端に前記ガイドローラが設けら
れ、 前記アームをガイドローラと共に定盤の表面に
対して接離する方向に移動するアームのシリンダ
装置を前記基台側に設け、該アームのシリンダ装
置によりガイドローラが保持リングに当接する位
置と、非当接位置とにわたつて移動可能としたこ
とを特徴とする。
That is, a center roller is arranged at the center of the surface plate, a guide roller device having a guide roller located near the periphery of the surface plate is arranged, and a holding ring holding the workpiece is placed on the surface plate, By rotating the surface plate, the holding ring is brought into contact with the peripheral surfaces of the center roller and guide roller at a predetermined position on the surface plate, and the holding ring is rotated by rotation of the surface plate to polish the workpiece. In the apparatus, the guide roller device has an arm whose tip is located above the periphery of the surface plate and whose base side extends above the base outside the surface plate, and the guide roller is provided at the tip of the arm. , a cylinder device for an arm that moves the arm together with a guide roller in a direction toward and away from the surface of the surface plate is provided on the base side, and a position where the guide roller abuts the retaining ring by the cylinder device for the arm; It is characterized by being movable between a non-contact position and a non-contact position.

(作用) 次に、作用について述べる。(effect) Next, we will discuss the effect.

ポリシング時には、保持リングをセンターロー
ラと定盤上方に位置するガイドローラで保持す
る。
During polishing, the retaining ring is held by a center roller and a guide roller located above the surface plate.

そして、保持リングを取り出す際には、基台側
に設けられた上下動手段により、ガイドローラを
アームと共に上方に移動させ、保持リングを定盤
と共に移動可能とする。
When the retaining ring is taken out, the guide roller is moved upward together with the arm by the vertical moving means provided on the base side, so that the retaining ring can be moved together with the surface plate.

(実施例) 以下この考案の好適な実施例を添付図面に基づ
いて詳細に説明する。
(Embodiments) Hereinafter, preferred embodiments of this invention will be described in detail based on the accompanying drawings.

第1図はガイドローラ装置を示す部分断面側面
図である。第2図はガイドローラ装置の平面図で
ある。
FIG. 1 is a partially sectional side view showing the guide roller device. FIG. 2 is a plan view of the guide roller device.

ポリツシング装置の基台中央に定盤10が配置
され、この定盤10の外周部に臨んでガイドロー
ラ装置12が設けられている。
A surface plate 10 is arranged at the center of the base of the polishing device, and a guide roller device 12 is provided facing the outer periphery of this surface plate 10.

定盤10に配置された保持リング14の側面に
接触して保持リング14を回転保持するガイドロ
ーラ16を有するガイドローラユニツト18がア
ーム20の先端に回転可能に支持されている。
A guide roller unit 18 having a guide roller 16 that rotates and holds the retaining ring 14 in contact with the side surface of the retaining ring 14 disposed on the surface plate 10 is rotatably supported at the tip of the arm 20.

前記アーム20の後端は、定盤10の周囲の本
体22上面に固定された固定ベース30の上面を
スライドするスライドベース32上に回動可能に
枢着されている。また、固定ベース30とスライ
ドベース32とはアリとアリ溝係合によりスライ
ド可能に設けられている。さらに、固定ベース3
0はボルト31により固定され、このボルト31
の頭部31aはスライドベース32の透孔32a
を貫通し、ワツシヤ33を介してボルト31でス
ライドベース32の位置を固定できる。
The rear end of the arm 20 is pivotably mounted on a slide base 32 that slides on the upper surface of a fixed base 30 fixed to the upper surface of the main body 22 around the surface plate 10. Further, the fixed base 30 and the slide base 32 are slidably provided by dovetail and dovetail groove engagement. Furthermore, fixed base 3
0 is fixed by a bolt 31, and this bolt 31
The head 31a of the slide base 32 has a through hole 32a.
The position of the slide base 32 can be fixed with a bolt 31 through a washer 33.

そして、固定ベース30の後端に側面L字状の
規制板36が固定されるとともに、この規制板3
6の上端にネジ38が螺合し、このネジ38の先
端がスライドベース30に当接している。このた
め、ネジ38を回動させることにより、ネジ38
の先端がスライドベース32を押し、スライドベ
ース32を前後動させる。これに伴なつて、アー
ム20およびガイドローラユニツト18が前後動
する。
A regulating plate 36 having an L-shaped side surface is fixed to the rear end of the fixed base 30, and this regulating plate 36 is fixed to the rear end of the fixed base 30.
A screw 38 is screwed into the upper end of the screw 6, and the tip of the screw 38 is in contact with the slide base 30. Therefore, by rotating the screw 38, the screw 38
The tip of the slide base 32 pushes the slide base 32 and moves the slide base 32 back and forth. Along with this, the arm 20 and the guide roller unit 18 move back and forth.

前記スライドベース30の側方に2つの壁体2
6a,26aが起立し、この壁体26a,26a
に軸28が架設され、そして前述するようにアー
ム20の後端が軸止めされている。また、アーム
20の中途部に、上下に貫通するボルト21が螺
合してこの下端が固定ベース30上面に当接して
いる。そして、ボルト21の調整によりアーム2
0の水平を調節することができる。
Two walls 2 are provided on the sides of the slide base 30.
6a, 26a stand up, and this wall body 26a, 26a
A shaft 28 is installed on the shaft 28, and the rear end of the arm 20 is fixed to the shaft as described above. Further, a bolt 21 passing vertically is screwed into the middle part of the arm 20, and the lower end of the bolt 21 is in contact with the upper surface of the fixed base 30. Then, by adjusting the bolt 21, the arm 2
The horizontal level of 0 can be adjusted.

さらに、アーム20は上下動手段により上下動
させられる。すなわち、固定ベース30の前部に
本体22内部からシヤフト34が突出し、シヤフ
ト34の先端に設けられたシヤフトキヤツプ34
aを介して当接している。また、シヤフト34の
後端は本体22内部のシリンダ25に連繋してい
る。また、シヤフト34は固定ベース30に設け
られたピンブツシユ37a,Oリング37bを介
して支持されている。このため、前記シリンダ2
5を駆動するとシヤフト34が上昇し、これに伴
つてアーム20が軸28を介して垂直面内で回動
する。
Furthermore, the arm 20 is moved up and down by the up and down movement means. That is, a shaft 34 protrudes from inside the main body 22 at the front part of the fixed base 30, and a shaft cap 34 provided at the tip of the shaft 34
They are in contact via a. Further, the rear end of the shaft 34 is connected to a cylinder 25 inside the main body 22. Further, the shaft 34 is supported via a pin bush 37a and an O-ring 37b provided on the fixed base 30. Therefore, the cylinder 2
When the shaft 34 is driven, the shaft 34 is raised, and the arm 20 is accordingly rotated in a vertical plane via the shaft 28.

また、アーム20の先端に孔20bが穿設され
この孔20bに軸40が貫通し、この軸40の上
端がワツシヤ52を介してキヤツプスクリユウ5
4が螺合し、軸40が強固に固定されている。こ
の軸40下端にボールベアリング42が嵌着し、
このボールベアリング42を下方から下ベアリン
グケース44で覆うとともに、上方からベアリン
グキヤツプ46で覆つている。このベアリングキ
ヤツプ46と下ベアリングケース44をボルト4
5で一体に形成してベアリングケースを構成して
いる。そして、下ベアリングケース44の下部に
段差部44aが形成され、前記ガイドローラ16
の内周面は下ベアリングケース44の外周面に倣
つており、ガイドローラ16が下ベアリングケー
ス44に嵌着している。また、ガイドローラ16
は、ベアリングキヤツプ46により固定されてい
る。さらに、ガイドローラ16を保護するキヤツ
プ50が軸40の中途部に嵌着している。
Further, a hole 20b is bored at the tip of the arm 20, a shaft 40 passes through this hole 20b, and the upper end of this shaft 40 is connected to the cap screw 5 through a washer 52.
4 are screwed together, and the shaft 40 is firmly fixed. A ball bearing 42 is fitted to the lower end of this shaft 40,
This ball bearing 42 is covered from below by a lower bearing case 44 and from above by a bearing cap 46. Connect this bearing cap 46 and lower bearing case 44 with bolts 4.
5 are integrally formed to constitute a bearing case. A step portion 44a is formed at the lower part of the lower bearing case 44, and the guide roller 16
The inner peripheral surface of the guide roller 16 follows the outer peripheral surface of the lower bearing case 44, and the guide roller 16 is fitted into the lower bearing case 44. In addition, the guide roller 16
is fixed by a bearing cap 46. Furthermore, a cap 50 that protects the guide roller 16 is fitted to the midway portion of the shaft 40.

第3図は、ポリツシング装置の部分平面図を示
す。固定ベース30の先端部は平面三角形状に形
成され、その側面から補助アーム59が延出し、
この下面にリミツトスイツチ(図示せず)が設け
られている。このリミツトスイツチは定盤10上
の保持リング14の通過を感知するものである。
FIG. 3 shows a partial plan view of the polishing device. The distal end of the fixed base 30 is formed into a planar triangular shape, and an auxiliary arm 59 extends from the side thereof.
A limit switch (not shown) is provided on this lower surface. This limit switch senses the passage of the retaining ring 14 on the surface plate 10.

次の、上記研磨装置の動作について述べる。 Next, the operation of the above polishing apparatus will be described.

定盤10の中央に回動可能なセンターローラ6
0が配置され、定盤10の周囲には前述するよう
にガイドローラ装置12が配置されている。定盤
10は反時針方向に回転し、この定盤10に載置
された保持リング14が定盤10とともに移動す
るのを防止するようにガイドローラ16が位置し
ている。このため、保持リング14はセンターロ
ーラ60とガイドローラ16とにくい込むように
圧接され、摩擦力によつて自転する。この回転の
間に定盤10の表面がポリツシ液を介在させて被
加工物の加工面に接触し、研磨加工が行われる。
A rotatable center roller 6 in the center of the surface plate 10
0 is arranged, and the guide roller device 12 is arranged around the surface plate 10 as described above. The surface plate 10 rotates in the counterclockwise direction, and a guide roller 16 is positioned to prevent the retaining ring 14 placed on the surface plate 10 from moving together with the surface plate 10. Therefore, the retaining ring 14 is pressed into contact with the center roller 60 and the guide roller 16 so as to be embedded, and rotates due to the frictional force. During this rotation, the surface of the surface plate 10 comes into contact with the processing surface of the workpiece with the polishing liquid interposed therebetween, and polishing is performed.

そして、被加工物の加工終了後、シリンダ25
を駆動して、シヤフト34を介してアーム20を
押上げ、保持リング14を定盤10上で移動可能
とし、保持リング14および被加工物を側方から
取り出すことができる。また、保持リング14お
よび被加工物を一定位置から定盤10に供給し、
奥部のガイドローラ装置12から順次セツトし、
供給した保持リング14を保持するようにすれば
良い。この場合、補助アーム59に設けたリミツ
トスイツチを用いることにより、保持リング14
の自動供給が一層容易となる。すなわち、リミツ
トスイツチが保持リング14の通過の有無を確認
し、これに連動してシリンダが駆動することによ
り保持リング14の自動供給が実現できる。
After finishing machining the workpiece, the cylinder 25
is driven to push up the arm 20 via the shaft 34, the holding ring 14 is movable on the surface plate 10, and the holding ring 14 and the workpiece can be taken out from the side. Further, the holding ring 14 and the workpiece are supplied to the surface plate 10 from a certain position,
Set the rollers in sequence starting from the guide roller device 12 at the back.
The supplied retaining ring 14 may be retained. In this case, by using a limit switch provided on the auxiliary arm 59, the retaining ring 14
This makes automatic supply even easier. That is, the limit switch confirms whether or not the retaining ring 14 has passed, and the cylinder is driven in conjunction with this, thereby realizing automatic supply of the retaining ring 14.

なお、上記実施例ではガイドローラ装置のリミ
ツトスイツチは必ずしも必要ない。また、上記実
施例でアームを一端において回動可能とし、この
アームの下方からシヤフトで押し上げてガイドロ
ーラを移動させたが、アームをガイドローラと共
に水平状態で前記上下動手段により上下動させる
ようにしても良いなど、考案の精神を逸脱しない
範囲内で多くの改変を施し得ることは勿論であ
る。
In addition, in the above embodiment, the limit switch of the guide roller device is not necessarily required. In addition, in the above embodiment, the arm is rotatable at one end, and the shaft is pushed up from below to move the guide roller. Of course, many modifications may be made without departing from the spirit of the invention.

(考案の効果) この考案は上述するように構成され、次に示す
ような著効を奏する。
(Effects of the invention) This invention is constructed as described above, and has the following effects.

アームの後端側の基台に上下動手段が設けら
れているので、従来のように微小なゴミが発生
し、定盤上に落ちて加工不良の原因になること
がない。
Since a vertical movement means is provided on the base at the rear end of the arm, there is no possibility that minute dust will be generated and fall onto the surface plate, causing machining defects, as in the conventional case.

また、ポリシング液としてのスラリーがシリ
ンダの可動部分に付着して作動不良の原因にな
ることもない。
Further, slurry as a polishing liquid does not adhere to the movable parts of the cylinder and cause malfunction.

さらに、アーム先端にシリンダが設けられて
いないので、アーム先端に大きな負担がかかる
ことがない。
Furthermore, since no cylinder is provided at the tip of the arm, no large burden is placed on the tip of the arm.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの考案の研磨装置のガイドローラ装
置の断面側面図、第2図ガイドローラ装置の平面
図、第3図は研磨装置の部分平面図、第4図は従
来の研磨装置の斜視図、第5図はガイドローラの
部分断面側面図を示す。 10……定盤、12……ガイドローラ装置、1
4……保持リング、16……ガイドローラ、18
……ガイドローラユニツト、20……アーム、2
2……フレーム、25……シリンダ。
Fig. 1 is a cross-sectional side view of the guide roller device of the polishing device of this invention, Fig. 2 is a plan view of the guide roller device, Fig. 3 is a partial plan view of the polishing device, and Fig. 4 is a perspective view of the conventional polishing device. , FIG. 5 shows a partially sectional side view of the guide roller. 10...Surface plate, 12...Guide roller device, 1
4... Retaining ring, 16... Guide roller, 18
...Guide roller unit, 20...Arm, 2
2...Frame, 25...Cylinder.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 定盤の中心にセンターローラを配置するととも
に、定盤の周縁近傍に位置するガイドローラを有
するガイドローラ装置を配置し、被加工物を保持
した保持リングを定盤上に載置し、定盤を回転す
ることにより、定盤の所定位置で前記センターロ
ーラとガイドローラとの周面に保持リングを当接
させるとともに、定盤の回転により保持リングを
自転させ被加工物を研磨する研磨装置において、 前記ガイドローラ装置は、 先端が定盤周縁の上方に位置し、基部側が定盤
外方の基台上に延出するアームを有し、 該アームの先端に前記ガイドローラが設けら
れ、 前記アームをガイドローラと共に定盤の表面に
対して接離する方向に移動するアームのシリンダ
装置を前記基台側に設け、該アームのシリンダ装
置によりガイドローラが保持リングに当接する位
置と、非当接位置とにわたつて移動可能としたこ
とを特徴とする研磨装置。
[Claim for Utility Model Registration] A center roller is arranged at the center of the surface plate, and a guide roller device having guide rollers located near the periphery of the surface plate is arranged, and a retaining ring holding the workpiece is attached to the surface plate. By rotating the surface plate, the retaining ring is brought into contact with the circumferential surfaces of the center roller and guide roller at a predetermined position on the surface plate, and the retaining ring is rotated by the rotation of the surface plate, so that the retaining ring is rotated. In a polishing device for polishing a workpiece, the guide roller device has an arm whose tip is located above the periphery of the surface plate and whose base side extends above the base outside the surface plate, and at the tip of the arm. The guide roller is provided, and a cylinder device for an arm that moves the arm together with the guide roller in a direction toward and away from the surface of the surface plate is provided on the base side, and the cylinder device for the arm allows the guide roller to move toward the retaining ring. A polishing device characterized in that it is movable between a contact position and a non-contact position.
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JPS4934094A (en) * 1972-07-31 1974-03-29

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