JPH0417119A - Magnetic disk substrate and its production - Google Patents

Magnetic disk substrate and its production

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JPH0417119A
JPH0417119A JP12045890A JP12045890A JPH0417119A JP H0417119 A JPH0417119 A JP H0417119A JP 12045890 A JP12045890 A JP 12045890A JP 12045890 A JP12045890 A JP 12045890A JP H0417119 A JPH0417119 A JP H0417119A
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JP
Japan
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blank
texturing
plating
turning
height
Prior art date
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Pending
Application number
JP12045890A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinobu Kitamura
喜多村 忍
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Altemira Co Ltd
Original Assignee
Showa Aluminum Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a surface pattern with its pitch and height of crests within desired ranges and to obtain good CSS characteristics by executing rough machining of blank by means of lathe turning so as to provide a helical pattern on the blank, subjecting this blank to base Ni-P plating and then to texturing by heating at specified temp. so that the helical pattern appears. CONSTITUTION:An aluminum blank punched into a specified size is chamfered and machined with a lathe to provide a desired helical pattern which is to appear by texturing. After the surface is smoothened by grinding, the blank is subjected to Ni-P treatment as base coating to form a Ni-P film of 15 - 30mum thickness. Then the blank after Ni-P treatment is polished to have a mirror surface and subjected to texturing by heating at 180 - 300 deg.C to release the residual strain due to machining so that the helical pattern appears on the Ni-P treated surface. Thus, the surface becomes a rough surface having a uniform pitch and height of crests in a simple process, and the contact-start- stop (CSS) characteristics of the medium can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁性層をスパッタリングまたはめっきにより製
膜する、所謂スパッタ型またはめっき型磁気ディスクの
製造方法およびそれにより得られた磁気ディスク基板に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a so-called sputtering type or plating type magnetic disk, in which a magnetic layer is formed by sputtering or plating, and a magnetic disk substrate obtained thereby.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

一般に、コンピューター用として使用される磁気ディス
クのうち、アルミニウム等の金属を基板とする、所謂ハ
ードディスクはその磁性層の製膜方法により、スパッタ
型、塗布型、めっき型のハードディスクに大別される。
In general, among magnetic disks used for computers, so-called hard disks whose substrates are made of metal such as aluminum are broadly classified into sputtering type, coating type, and plating type hard disks, depending on the method of forming the magnetic layer.

このうち、スパッタ型またはめっき型ハードディスクは
塗布型ハードディスクよりも高記録密度が得られること
から注目されている。
Among these, sputter-type or plating-type hard disks are attracting attention because they provide higher recording density than coated-type hard disks.

このスパッタ型またはめっき型ハードディスクの製造方
法はアルミニウムブランクをチャンファ−加工により縁
取りし、粗研削加工および仕上げ研削加工により、ある
いは旋削加工および仕上げ研削加工により、鏡面仕上げ
し、この上に下地Ni−P処理および研磨加工後、テク
スチャー加工が施され、次いで、スパッタリングまたは
めっき処理により磁性層を製膜し、潤滑剤が塗布されて
メディアとされることにより得られる。
The manufacturing method for this sputter type or plating type hard disk is to edge an aluminum blank by chamfer processing, give it a mirror finish by rough grinding and finish grinding, or by turning and finish grinding, and then apply a Ni-P base layer on this. After treatment and polishing, texture processing is performed, and then a magnetic layer is formed by sputtering or plating, and a lubricant is applied to form a media.

このようなスパッタ型またはめっき型ハードディスクは
近時における高密度記録の要望を満たすため、ますます
記憶容量が大きくなるに伴って、ヘッドとディスクとを
近接させるようになっている。現状では、ヘットの浮上
高さは0゜1μmを下回る趨勢にある。従って、ヘッド
がディスク面に近接するスタート、ストップ時における
ヘッドとディスク面との摩擦抵抗が大きく、CSS (
コンタクト・スタート・ストップ)特性の向上が望まれ
ている。
In order to meet the recent demands for high-density recording in such sputter-type or plated-type hard disks, the head and disk are being brought closer together as the storage capacity becomes larger and larger. At present, the flying height of the head tends to be less than 0.1 μm. Therefore, the frictional resistance between the head and the disk surface is large during start and stop when the head is close to the disk surface, and CSS (
It is desired to improve the contact start/stop) characteristics.

そのため、従来のスパッタ型またはめっき型ハードディ
スクでは、その製造工程のスパッタまたはめっき処理前
にテクスチャー加工処理が施されている。このテクスチ
ャー加工処理はアルミナ粒子を付着させたテープを鏡面
仕上げしたディスク面に押圧摺動させることにより表面
を粗してC8S特性を向上させることからなる。
For this reason, conventional sputter-type or plating-type hard disks are subjected to texture processing before sputtering or plating in the manufacturing process. This texturing treatment consists of pressing and sliding a tape to which alumina particles are attached onto the mirror-finished disk surface to roughen the surface and improve the C8S characteristics.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、従来のアルミナ粒子を付着させたテープ
を用いるテクスチャー加工では形成される粗面が使用す
るテープのアルミナ粒子配列等により影響を受け、均一
な山ピッチ、山高さを有する粗面を得難く、ヘッドとデ
ィスクとの接触あるいは衝突の危険性を無視できず、さ
らにはテクスチャー加工による欠陥がその後の工程に影
響し、メディア欠陥となる問題点を有するものであった
However, in conventional texturing using a tape with alumina particles attached, the rough surface formed is affected by the alumina particle arrangement of the tape used, and it is difficult to obtain a rough surface with a uniform pitch and height. The risk of contact or collision between the head and the disk cannot be ignored, and furthermore, defects caused by texturing affect subsequent processes, resulting in media defects.

本発明は上記した如き従来の問題点を改善し、山ピッチ
、山高さを所望の範囲内に入るように設定し得、良好な
CSS特性を持たせた理想的な粗面を形成し得、しかも
それを簡単な工程で達成できるテクスチャー加工工程を
含む製造方法およびそれにより得られた磁気ディスク基
板を提供することを目的とするものである。
The present invention improves the conventional problems as described above, makes it possible to set the peak pitch and peak height within a desired range, and forms an ideal rough surface with good CSS characteristics. Moreover, it is an object of the present invention to provide a manufacturing method including a texturing step that can accomplish this through a simple process, and a magnetic disk substrate obtained thereby.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

一 本発明は磁性層をスパッタリングまたはめっきにより形
成する磁気ディスクの製造方法において、ブランクの粗
研削加工を旋削により行い、下地Ni−P処理後のテク
スチャー加工を180〜300℃の温度範囲で加熱して
前記旋削加工により生じた螺旋目形状を現出させること
により、前記課題を達成したものである。
One aspect of the present invention is a method for manufacturing a magnetic disk in which a magnetic layer is formed by sputtering or plating, in which rough grinding of a blank is performed by turning, and texturing after Ni-P base treatment is heated in a temperature range of 180 to 300°C. The above object has been achieved by making the spiral shape produced by the turning process appear.

本発明において、旋削加工は山ピッチ10〜200μm
、山高さ0.1〜5μmとなるように行うことができる
In the present invention, the turning process is performed at a pitch of 10 to 200 μm.
, the peak height may be 0.1 to 5 μm.

また、本発明において、旋削加工は山ピッチ20〜50
μm、山高さ0.2〜1μmとなるように行うことがで
きる。
In addition, in the present invention, the turning process is performed with a mountain pitch of 20 to 50.
[mu]m, and the peak height can be set to 0.2 to 1 [mu]m.

さらに、本発明により、上記のようなテクスチャー加工
して得られるハードディスク基板が得られる。
Further, according to the present invention, a hard disk substrate obtained by texture processing as described above can be obtained.

〔作  用〕[For production]

本発明ではテクスチャー加工を180〜300℃の温度
範囲で加熱することにより行うものであるため、この加
熱処理により旋削によって形成した螺旋目形状に沿った
残留応力が解放され、旋削加工時の螺旋目形状が研磨加
工により鏡面加工仕上げした下地Ni−Pコート面に再
び現われる。この加熱によるテクスチャー加工により螺
旋目形状の山ピッチがそのまま、そして山高さは加熱温
度に対応して現出するようになる。
In the present invention, texturing is performed by heating in a temperature range of 180 to 300°C, so this heat treatment releases the residual stress along the spiral shape formed by turning, and the spiral shape during turning is released. The shape reappears on the base Ni-P coated surface which has been polished to a mirror finish. Texturing by this heating allows the pitch of the spiral ridges to remain as is, and the height of the ridges to appear in accordance with the heating temperature.

従って、テクスチャー加工後の粗面粗さは旋削加工によ
って任意に制御することが可能となる。
Therefore, the roughness of the textured surface can be arbitrarily controlled by turning.

以下、本発明を図面を参照して説明する。Hereinafter, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図はスパッタ型ハードディスクを製造する場合の工
程説明図である。この第1図において、所定寸法に打ち
抜いたアルミニウムブランク(第1図(a))をチャン
ファ−加工により縁取りし、次いで旋削加工を施す。こ
の旋削加工はテクスチャー加工で現出させる所望の螺旋
目形状を旋削によって加工するものであり、旋削の山ピ
ッチは好ましくは10〜200 Pm、より好ましくは
20〜50μmとなるように、また山高さは好ましくは
0.1〜5μm、より好ましくは0.2〜1μmとなる
ように加工する(第1図(b))。これを研削加工によ
り表面を平滑にしく第1図(c))、次いで下地コート
としてNi−P処理を施し、15〜30μmのNi−P
皮膜を形成する(第1図(d))。この下地コー1〜は
磁化しない皮膜であることが必要であり、本発明ではこ
の下地コートとして常法に従って形成したNi−P皮膜
とするものである。下地Ni−P処理後、研磨加工によ
り鏡面仕上げしく第1図(、))、次いでテクスチャー
加工を施す。本発明のテクスチャー加工は180〜30
0°Cに加熱することにより(b)工程における旋削加
工時の残留応力を解放させ、旋削螺旋目形状を鏡面仕上
げした下地Ni−P処理面に現出させることにより行う
ものである(第1図(f))。加熱温度が180℃未満
では残留応力の解放が不十分となり、螺旋目形状の現出
が不鮮明となり、逆に加熱温度が300℃を超えると下
地Ni−P皮膜が磁性を帯びるようになる。
FIG. 1 is a process explanatory diagram for manufacturing a sputter type hard disk. In FIG. 1, an aluminum blank (FIG. 1(a)) punched to a predetermined size is edged by chamfer processing, and then turned. In this turning process, a desired spiral shape to be created by texture processing is processed by turning, and the turning pitch is preferably 10 to 200 Pm, more preferably 20 to 50 μm, and the peak height is is preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.2 to 1 μm (FIG. 1(b)). This was ground to make the surface smooth (Fig. 1(c)), and then Ni-P treatment was applied as an undercoat.
A film is formed (FIG. 1(d)). This undercoat 1-1 is required to be a non-magnetized film, and in the present invention, this undercoat is a Ni--P film formed according to a conventional method. After the base Ni-P treatment, polishing is performed to achieve a mirror finish (Fig. 1 (,)), and then texture processing is performed. The texture processing of the present invention is 180 to 30
This is done by heating to 0°C to release the residual stress during the turning process in step (b), and making the turning spiral pattern appear on the mirror-finished base Ni-P treated surface (first step). Figure (f)). If the heating temperature is less than 180°C, the release of residual stress will be insufficient and the appearance of the spiral pattern will become unclear, while if the heating temperature exceeds 300°C, the underlying Ni-P film will become magnetic.

本発明では旋削加工を前述のような山ピッチ、山高さと
なるように行うことにより、旋削螺旋目形状をもったス
パッタ型またはめっき型ハードディスク基板が得られる
In the present invention, a sputter type or plating type hard disk substrate having a turned spiral shape can be obtained by performing the turning process so that the crest pitch and crest height are as described above.

このようにしてテクスチャー加工した後、スパッタリン
グまたはめっきにより磁性層を厚さ200〜500人製
膜する。通常、磁性層の製膜はスパッタリングまたはめ
っきの他、塗布方法等によっても可能であるが、例えば
塗布による場合、塗膜厚さが1μm程度となり、前記の
テクスチャー加工で形成した山形状が埋まってしまうこ
とになるため1本発明では磁性層の形成はスパッタリン
グまたはめっきにより行う、所謂スパッタ型またはめっ
き型ハードディスクに特定される。スパッタリングまた
はめっき後、常法により潤滑剤を塗布することによりメ
ディアが得られる。
After texture processing in this manner, a magnetic layer is formed to a thickness of 200 to 500 layers by sputtering or plating. Normally, the magnetic layer can be formed by sputtering, plating, or other coating methods, but for example, when coating is used, the coating thickness is about 1 μm, and the mountain shape formed by the texturing described above is buried. Therefore, in the present invention, the magnetic layer is formed by sputtering or plating, which is the so-called sputter type or plating type hard disk. After sputtering or plating, a lubricant is applied by a conventional method to obtain media.

以下に実施例を示す。Examples are shown below.

〔実施例〕〔Example〕

厚さ1 、27mmのアルミニウムブランクを外径3.
5インチのドーナツ状ディスクに打ち抜き、チャンファ
−加工で縁取りした後、山ピッチ一 50μm、山高さ0.5μmとなるように旋削加工した
。これを研削して平滑面とした後、常法に従うNj、−
P処理により厚さ20μmのNi−P皮膜を形成した。
An aluminum blank with a thickness of 1 mm and an outer diameter of 3 mm.
It was punched into a 5-inch donut-shaped disk, edged by chamfer processing, and then turned so that the pitch of the ridges was 50 μm and the height of the ridges was 0.5 μm. After grinding this to a smooth surface, Nj, −
A Ni--P film with a thickness of 20 μm was formed by P treatment.

このNi−Pコート面を研磨加工し、表面を鏡面仕上げ
した。
This Ni--P coated surface was polished to give a mirror finish.

次いで、テクスチャー加工としての加熱処理を温度を変
えて実施した。加熱温度と現出した山高さとの関係を第
1表に示す。
Next, heat treatment as texturing was performed at different temperatures. Table 1 shows the relationship between the heating temperature and the peak height that appeared.

第1表 り基板が得られ、これを用いて作製したハードディスク
はテクスチャー加工に起因するメディア欠陥が減少する
A first surface substrate is obtained, and hard disks manufactured using this substrate have fewer media defects due to texture processing.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明方法を実施する場合の工程説明図である
。 なお、Raは少なくとも30Å以上とすることが好まし
い。 〔発明の効果〕
FIG. 1 is a process explanatory diagram for carrying out the method of the present invention. Note that Ra is preferably at least 30 Å or more. 〔Effect of the invention〕

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、磁性層をスパッタリングまたはめっきにより形成す
る磁気ディスクの製造方法において、ブランクの粗研削
加工を旋削により行い、下地Ni−Pめっき処理後のテ
クスチャー加工を180〜300℃の温度範囲で加熱す
ることにより前記旋削加工により生じた螺旋目形状を現
出させることを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 2、旋削加工を山ピッチ10〜200μm、山高さ0.
1〜5μmとなるように行う請求項1記載の方法。 3、旋削加工を山ピッチ20〜50μm、山高さ0.2
〜1μmとなるように行う請求項1記載の方法。 4、請求項1〜3のいずれかに記載の方法により得られ
た磁気ディスク基板。
[Claims] 1. In a method for manufacturing a magnetic disk in which a magnetic layer is formed by sputtering or plating, rough grinding of a blank is performed by turning, and texture processing after base Ni-P plating is performed at 180 to 300°C. A method for manufacturing a magnetic disk, characterized in that the spiral shape produced by the turning process is revealed by heating in a temperature range. 2. Turning is performed with a pitch of 10 to 200 μm and a height of 0.
The method according to claim 1, wherein the method is carried out so that the thickness is 1 to 5 μm. 3. Turning with a pitch of 20 to 50 μm and a height of 0.2
2. The method according to claim 1, wherein the method is carried out so that the thickness is 1 .mu.m. 4. A magnetic disk substrate obtained by the method according to any one of claims 1 to 3.
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