JPH04154758A - Production of 2-azetidinone derivative - Google Patents

Production of 2-azetidinone derivative

Info

Publication number
JPH04154758A
JPH04154758A JP2275195A JP27519590A JPH04154758A JP H04154758 A JPH04154758 A JP H04154758A JP 2275195 A JP2275195 A JP 2275195A JP 27519590 A JP27519590 A JP 27519590A JP H04154758 A JPH04154758 A JP H04154758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
group
reaction
compound
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2275195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3059475B2 (en
Inventor
Yoshimitsu Nagao
長尾 善光
Hiroshi Matsunaga
浩 松永
Toshio Kumagai
熊谷 年夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pfizer Japan Inc
Original Assignee
Lederle Japan Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lederle Japan Ltd filed Critical Lederle Japan Ltd
Priority to JP2275195A priority Critical patent/JP3059475B2/en
Publication of JPH04154758A publication Critical patent/JPH04154758A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3059475B2 publication Critical patent/JP3059475B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To readily and highly stereoselectively obtain the subject compound which is a synthetic raw material for carbapenem compounds useful as an antimicrobial agent in good yield by subjecting a new compound as a raw material to condensation cyclizing reaction and then, as necessary, eliminating protecting groups of OH, etc. CONSTITUTION:Carboxylic acids expressed by formula I (R<2> is protecting group of OH) are made to react with a compound expressed by formula II (R<3> is lower alkyl) to produce a compound expressed by formula III, which is subsequently reacted with a tin(II) triflate in the presence of a base to provide an enolate. The resultant enolate is then reacted with acetaldehyde to afford a compound expressed by formula IV. The OH of the obtained compound expressed by formula IV is subsequently protected to afford a compound expressed by formula V (R<11> is R<2>), which is then allowed to react with a 4-lower alkoxyphenylamine to produce a compound expressed by formula VI (R<4> is R<3>). The protecting group R<2> of the OH is subsequently eliminated therefrom to form a new compound expressed by formula VII which is a raw material. The resultant compound expressed by formula VII is then subjected to condensing reaction and, as necessary, the protecting group of OH or the 4-lower alkoxyphenyl group or both are eliminated to afford the objective compound expressed by formula VIII.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、抗菌剤として有用なカルバペネム化合物の合
成原料となりうる2−アゼチジノン誘導体の高立体選択
的な製造法に関し、より詳細には下記式(1) 式中、 R1は水素原子又は水酸基の保護基を表わし、2は水素
原子又は4−低級アルコキシフェニル基を表わす、 で示される化合物の高立体選択的な製造法及びその製造
中間体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a highly stereoselective method for producing 2-azetidinone derivatives that can be used as raw materials for the synthesis of carbapenem compounds useful as antibacterial agents, and more specifically, the present invention relates to a method for highly stereoselective production of 2-azetidinone derivatives, which can be used as raw materials for the synthesis of carbapenem compounds useful as antibacterial agents. 2 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group-protecting group, and 2 represents a hydrogen atom or a 4-lower alkoxyphenyl group. The present invention relates to a highly stereoselective method for producing a compound represented by the following, and intermediates for producing the same.

式(1)の2−アゼチジノン誘導体の製造法として、例
えば、D、A、 Evans et al、、 TeL
rahedronLetters、 Vol、 27.
 No、41.4961−4964 (1986)には
、β−アミノ酸誘導体の閉環反応によって下記式(A) で示される(3 S)   3  ((I R)   
l −tert−ブチルジメチルシリロキシエチル)−
2−アゼチジノンを合成する方法が記載されている。し
かし、この方法は中間体として異性化しやすい下記式(
B) 戸−一′ /″− で示されるアルデヒド誘導体を経由するものであって、
上記式(A)のアゼチジノン誘導体を高立体選択的に好
収率で製造することはできない。
As a method for producing the 2-azetidinone derivative of formula (1), for example, D. A. Evans et al., TeL
rahedron Letters, Vol, 27.
No. 41.4961-4964 (1986), (3 S) 3 ((IR)
l -tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-
A method for synthesizing 2-azetidinone is described. However, in this method, the following formula (
B) via an aldehyde derivative represented by
The azetidinone derivative of the above formula (A) cannot be produced with high stereoselectivity and good yield.

本発明の主なる目的は、前記式(+)で示されるアゼチ
ジノン誘導体を高立体選択的に好収率で製造することの
できる新規な方法を提供することである。
The main object of the present invention is to provide a novel method capable of producing the azetidinone derivative represented by the formula (+) with high stereoselectivity and good yield.

しかして、本発明によれば、下記式(■)式中、 R1+は水酸基の保護基を表わし、 R′は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物を縮合閉環反応に付し、次いで必要に
応じて、得られる化合物から水酸基の保護基及び/又は
4−低級アルコキシフェニル基ヲ脱離させることを特徴
とする下記式(1)式中、 R1は水素原子又は水酸基の保護基を表わし、2は水素
原子又は4−低級アルコキシフェニル基を表わす、 で示される化合物の製造方法が提供される。
Therefore, according to the present invention, a compound represented by the following formula (■), in which R1+ represents a hydroxyl group-protecting group and R' represents a lower alkyl group, is subjected to a condensation ring-closing reaction, and then, as necessary, In the following formula (1), R1 represents a hydrogen atom or a hydroxyl protecting group, and 2 represents a hydrogen atom or a 4-lower alkoxyphenyl group, and a method for producing a compound represented by these is provided.

以下本発明をさらに詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本明細書において使用する置換基の定義中、「低級」な
る語は、この語が付された基または化合物の炭素原子数
が1〜7個、好ましくは1〜4個であることを意味する
In the definition of substituents used herein, the term "lower" means that the group or compound to which this term is attached has 1 to 7 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. .

「低級アルキル基」は直鎖状または分岐鎖状のいずれで
あってもよく、たとえばメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブ
チル、tert−ブチル、n−ペンチル、インペンチル
、n−ヘキシル、イソヘキシル基等が包含される。
The "lower alkyl group" may be linear or branched, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, 5ec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, Included are impentyl, n-hexyl, isohexyl groups, and the like.

「低級アルコキシ基」としては、低級アルキル部分か上
記の意味を有する低級アルキルオキシ基であり、メトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、インプロポキシ、n−
ブトキシ、インブトキシ、5ec−ブトキシ、tert
−ブトキシ等が例示される。
The "lower alkoxy group" is a lower alkyl moiety or a lower alkyloxy group having the above meaning, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, impropoxy, n-
butoxy, imbutoxy, 5ec-butoxy, tert
-Butoxy etc. are exemplified.

「低級アルコキシフェニル基」は、上記低級アルコキシ
基でオルト−、メタ−またはパラ位が置換されたフェニ
ル基である。
A "lower alkoxyphenyl group" is a phenyl group substituted at the ortho-, meta- or para-position with the above lower alkoxy group.

また、「水酸基の保護基」は、ペプチド化学においてセ
リンの水酸基の保護基として一般に知られている任意の
保護基を意味し、たとえば、アセチル、ベンゾイル、メ
タンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の脂肪族ま
たは芳香族アシル基;ベンジル、トリフェニルメチル等
のアラルキル基;ベンジルオキシカルボニル ジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル等の置換もしくは非置換ベンジルオキシカルボ
ニル基;トリメチルシリル、tertーブチルジメチル
シリル、Lert−ブチルジフェニルシリル基、フェニ
ルイソプロピルジメチルシリル基等のシリル基を例示す
ることができる。
Furthermore, the term "hydroxyl group protecting group" refers to any protecting group generally known in peptide chemistry as a serine hydroxyl protecting group, such as acetyl, benzoyl, methanesulfonyl, p-toluenesulfonyl, etc. or aromatic acyl group; aralkyl group such as benzyl, triphenylmethyl; substituted or unsubstituted benzyloxycarbonyl group such as benzyloxycarbonylzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl; trimethylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, Lert- Examples include silyl groups such as butyldiphenylsilyl group and phenylisopropyldimethylsilyl group.

本発明の方法によれば、下式(■) 式中、R11およびR4は前記定義のとおりである、 で示される化合物が縮合閉環反応に付すことによって前
記式(1)で示される2−アゼチジノン誘導体が製造さ
れる。
According to the method of the present invention, the 2-azetidinone represented by the formula (1) is produced by subjecting the compound represented by the following formula (■), in which R11 and R4 are as defined above, to a condensation ring-closing reaction. A derivative is produced.

式(■)で示される化合物の縮合閉環反応は、例えば次
のようにして行なうことができる。
The condensation ring-closing reaction of the compound represented by formula (■) can be carried out, for example, as follows.

(1)式(■)で示される化合物を塩基の存在下に水酸
基の活性化試薬と反応させて反応性誘導体とし、次いで
、 (2)得られる反応性誘導体に塩基を作用させる。
(1) The compound represented by formula (■) is reacted with a hydroxyl group activation reagent in the presence of a base to form a reactive derivative, and (2) the resulting reactive derivative is reacted with a base.

上記工程(1)は、通常不活性有機溶媒中、例えば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類:
トルエン、キシレン、シクロヘキサン等の炭化水素類;
ジクロルメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、N、N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルな
ど;特にジクロルメタン、またはテトラヒドロ7ラン中
で好適に実施することができる。
The above step (1) is usually carried out using an ether such as diethyl ether or tetrahydrofuran in an inert organic solvent.
Hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane;
Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, N,N-dimethylformamide, acetonitrile and the like; particularly, the reaction can be suitably carried out in dichloromethane or tetrahydro-7 run.

本反応で使用される塩基としては、例えばリチウム、ナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属;例えばカルシウ
ム等のアルカリ土類金属;例えば水素化ナトリウム等の
アルカリ金属水素化物;例えば水素化カルシウム等のア
ルカリ土類金属水素化物;例えば水素化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;例えば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;例え
ば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩;例えばナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウム第三級ブトキシド等のアルカ
リ金属アルコキシド;例えば酢酸ナトリウム等のアルカ
ン酸アルカリ金属塩;例えば炭酸マグネシウム、炭酸力
ルンウム等のアルカリ土類金属炭酸塩;例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、N、N−ジイソプロピル
−N−エチルアミン等のトリ(低級)アルキルアミン:
例えばピリジン、ピコリン、ルチジン、N、N−ジメチ
ルピリジンのようなN、N−ジ(低級)アルキルアミノ
ピリジン等のピリジン化合物:キノリン;例えばN−メ
チルモルホリン等のN−i級アルキルモルホリン:例え
ばN、N−ジメチルベンジルアミン等のN、N−ジ(低
級)アルキルベンジルアミン等のような有機塩基または
無機塩基をあげることができるが、好ましくはトリエチ
ルアミン、N、N−’;イソプロピルーN−エチルアミ
ン等を用いることができる。塩基の使用量は、その種類
によっても異なるが、一般には、原料である式(■)で
示される化合物1モルに対して約1モルないし約4モル
の範囲内であることができる。
Examples of the base used in this reaction include alkali metals such as lithium, sodium, and potassium; alkaline earth metals such as calcium; alkali metal hydrides such as sodium hydride; and alkaline earth metals such as calcium hydride. Metal hydrides; alkali metal hydroxides such as sodium hydride and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide; alkali metal alkanoates such as sodium acetate; alkaline earth metal carbonates such as magnesium carbonate and carbonate; e.g. trimethylamine, triethylamine , N,N-diisopropyl-N-ethylamine and other tri(lower)alkylamines:
Pyridine compounds such as N,N-di(lower)alkylaminopyridine such as pyridine, picoline, lutidine, N,N-dimethylpyridine: quinoline; Ni-class alkylmorpholine such as e.g. N-methylmorpholine: e.g. , N-di(lower)alkylbenzylamine such as N-dimethylbenzylamine, etc., and preferably triethylamine, N,N-'; isopropyl-N-ethylamine. etc. can be used. The amount of the base to be used varies depending on the type thereof, but it can generally be in the range of about 1 mol to about 4 mol per 1 mol of the compound represented by formula (■) as a raw material.

また、水酸基の活性化試薬としては、メタンスルホニル
クロリド、4−トルエンスルホニルクロリドなどの有機
スルホニルハライド;アセチルクロリドなどのアシルハ
ライド等を例示することができ、その使用量は、一般に
は、原料である式(■)で示される化合物1モルに対し
て約1モルないし約4モルの範囲内であることができる
In addition, examples of hydroxyl group activation reagents include organic sulfonyl halides such as methanesulfonyl chloride and 4-toluenesulfonyl chloride; acyl halides such as acetyl chloride, and the amount used generally depends on the raw material. The amount can be in the range of about 1 mol to about 4 mol per 1 mol of the compound represented by formula (■).

本工程の反応は、厳密に制限されるものではないが、通
常、約−20°Cないし約60°C1好ましくは約0°
Cないし室温程度で、約30分間ないし約4時間撹拌す
ることによって行なうことができる。
Although the reaction in this step is not strictly limited, it is usually about -20°C to about 60°C, preferably about 0°C.
This can be carried out by stirring at a temperature of about 30°C to about room temperature for about 30 minutes to about 4 hours.

本工程によって得られる反応性誘導体は、必ずしも必要
ではないが、場合によって、通常の精製手段、例えば抽
出、またはクロマトグラフィー等によって単離精製する
ことができる。
The reactive derivative obtained by this step can be isolated and purified by conventional purification means, such as extraction or chromatography, depending on the case, although it is not always necessary.

工程(2)では、通常、上記に例示した如き不活性溶媒
から任意に選択される溶媒中で行なうことができるが、
特に、ジクロロメタンとジメチルホルムアミドとの混合
溶媒中で、上記で得られる式(■)で示される化合物の
反応性誘導体が塩基と反応せしめられる。
Step (2) can usually be carried out in a solvent arbitrarily selected from the inert solvents exemplified above.
In particular, the reactive derivative of the compound represented by formula (■) obtained above is reacted with a base in a mixed solvent of dichloromethane and dimethylformamide.

本工程の反応で使用される塩基としては、前記に例示し
た塩基の中から任意に選択することができるが、好まし
くは、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物を用
いることができる。この場合の塩基の使用量は、塩基の
種類によっても異なるが、一般には、原料である、上記
工程(1)で得られる反応性誘導体1モルに対して約1
モルないし約3モル、好ましくは約1.2モルないし約
2.0モルの範囲内で用いることができる。
The base used in the reaction of this step can be arbitrarily selected from the bases exemplified above, but preferably an alkali metal hydride such as sodium hydride can be used. The amount of base used in this case varies depending on the type of base, but is generally about 1 mole per mole of the reactive derivative obtained in step (1) above, which is the raw material.
It can be used in a range of mol to about 3 mol, preferably about 1.2 mol to about 2.0 mol.

反応は、厳密に制限されるものではないが、通常、約0
℃ないし約40°C1好ましくは室温程度で、約30分
間ないし約4時間撹拌することによって行なうことがで
きる。
The reaction is usually, but not strictly limited to, about 0
C. to about 40.degree. C., preferably at about room temperature, by stirring for about 30 minutes to about 4 hours.

本工程によって得られる前記式(I)で示される化合物
は、通常の精製手段、例えば抽出、またはクロマトグラ
フィー等によって単離、精製することができる。
The compound represented by the formula (I) obtained by this step can be isolated and purified by conventional purification means, such as extraction or chromatography.

以上の(1)および(2)の各工程における反応は、必
須ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素ガス、また
はアルゴンガス中で行なうのが望ましい。
Although the reactions in each of the above steps (1) and (2) are not essential, it is desirable to carry out the reactions in an inert atmosphere, for example, in nitrogen gas or argon gas.

また、前記式(■)で示される化合物の縮合閉環反応は
、例えば、式(■)で示される化合物に適当な縮合剤、
例えばトリフェニルホスフィンとジエチルアゾジカルポ
キンラートとの組合わせの適当量を作用させることによ
っても行なうことができる。
Further, the condensation ring-closing reaction of the compound represented by the formula (■) can be carried out using, for example, a condensing agent suitable for the compound represented by the formula (■),
For example, it can also be carried out by applying a suitable amount of a combination of triphenylphosphine and diethyl azodicarpoquinlate.

この反応は、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジ
オキサン等の不活性有機溶媒中、一般には、約0°Cな
いし約40°Cで約30分間ないし約2時間撹拌するこ
とによって行なうことができる。
This reaction can be carried out in an inert organic solvent such as tetrahydrofuran, acetonitrile, dioxane, etc., generally by stirring at about 0°C to about 40°C for about 30 minutes to about 2 hours.

以上の方法によって、下式(1−1) 式中、R11およびR4は前記定義のとおりである、 で示される化合物を製造することができる。By the above method, the following formula (1-1) In the formula, R11 and R4 are as defined above, A compound represented by can be produced.

上記式(I−1)で示される化合物は、必要に応じて水
酸基の保護基(R”)および/または4−低級アルコキ
シフェニル基を脱離することによって、下式(I−2) 式中、R1および2は前記定義のとおりである、ただし
、R1が水酸基の保護基(R”)である場合には、Zは
水素原子を表わす、で示される化合物に誘導体すること
ができる。
The compound represented by the above formula (I-1) can be prepared by removing the hydroxyl protecting group (R") and/or the 4-lower alkoxyphenyl group as required, to form the compound represented by the following formula (I-2) in the formula: , R1 and 2 are as defined above; however, when R1 is a hydroxyl protecting group (R"), Z represents a hydrogen atom.

式(ニー1)で示される化合、物からの4−低級アルコ
キシフェニル基の脱離反応は、適当な溶媒中、酸化剤を
用いて行なうことができる。
The elimination reaction of the 4-lower alkoxyphenyl group from the compound represented by formula (Ni 1) can be carried out using an oxidizing agent in a suitable solvent.

使用される酸化剤としては、硝酸第二セリウムアンモニ
ウム、過硫酸カリウム、オゾン等を例示することができ
るが、好ましくは硝酸第2セリウムアンモニウムが使用
される。
Examples of the oxidizing agent used include ceric ammonium nitrate, potassium persulfate, ozone, etc., but ceric ammonium nitrate is preferably used.

反応溶媒は、用いる酸化剤の種類によって異なり、例え
ば酸化剤として硝酸第二セリウムアンモニウムを用いる
場合には、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、メタノール
、エタノール等の有機溶媒と水との混合溶媒を用いるの
が好都合である。
The reaction solvent varies depending on the type of oxidizing agent used. For example, when using ceric ammonium nitrate as the oxidizing agent, a mixture of water and an organic solvent such as acetonitrile, acetone, tetrahydrofuran, dioxane, dimethylformamide, methanol, or ethanol is used. It is convenient to use a solvent.

酸化剤の使用量は、一般には、原料である式(1−1)
で示される化合物1モルに対して約1モルないし約4モ
ルの範囲内であることができる。
The amount of the oxidizing agent used is generally determined by the formula (1-1) that is the raw material.
The amount can be in the range of about 1 mol to about 4 mol per 1 mol of the compound represented by.

反応は、厳密に制限されるものではないが、通常、約−
20°Cないし約0°C程度の比較的低温下に、約5分
ないし約2時間撹拌することによって行なうことができ
る。
The reaction is typically, but not strictly limited to, about -
This can be carried out by stirring at a relatively low temperature of about 20°C to about 0°C for about 5 minutes to about 2 hours.

また、酸化剤として過硫酸カリウムを用いる場合には、
例えば、中性付近のリン酸緩衝液中、適当な温度条件下
で反応を行なうこともできる。
In addition, when using potassium persulfate as an oxidizing agent,
For example, the reaction can be carried out in a near-neutral phosphate buffer under appropriate temperature conditions.

さらに、酸化剤としてオゾンを用いる場合には、例えば
、ベンゼン、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジエチルエーテル、酢酸エチル、メタノール、エタ
ノール、アセトン、酢酸等の不活性溶媒中、約−50°
Cないし約50℃の温度条件下で反応を行なうことがで
きる。この場合、オゾンの使用量は、原料である式(1
−])で示される化合物1モルに対して過剰量であるこ
とが好ましく、反応終了後は、本反応の中間体であるオ
シニドを常法に従って分解せしめることによって、式(
I−1)で示される化合物を得ることができる。分解方
法としては、例えば熱分解、過酸化水素による酸化分解
、またはジメチルスルフィド、亜鉛末、トリフェニルホ
スフィン、チオ硫酸ナトリウム等による還元分解を挙げ
ることができる。
Further, when using ozone as an oxidizing agent, for example, in an inert solvent such as benzene, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, diethyl ether, ethyl acetate, methanol, ethanol, acetone, acetic acid, etc., at about -50°
The reaction can be carried out under temperature conditions of from 50°C to about 50°C. In this case, the amount of ozone used is determined by the formula (1
It is preferable that the amount is in excess of 1 mole of the compound represented by the formula (
A compound represented by I-1) can be obtained. Examples of decomposition methods include thermal decomposition, oxidative decomposition using hydrogen peroxide, and reductive decomposition using dimethyl sulfide, zinc dust, triphenylphosphine, sodium thiosulfate, and the like.

一方、式(1−1)で示される化合物からの水酸基の保
護基(R”)の脱離反応は、ソルボリシス、または水素
添加分解等のそれ自体既知の脱保護基反応条件下に行な
うことができ、例えば、メタノール、エタノール、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒中で、塩酸、硫酸
、酢酸等の酸の存在下に、約0°Cないし約100°C
の温度で約30分間ないし約24時間撹拌することによ
り行なうことができる。
On the other hand, the elimination reaction of the hydroxyl protecting group (R'') from the compound represented by formula (1-1) can be carried out under known deprotecting group reaction conditions such as solvolysis or hydrogenolysis. For example, in a solvent such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran, dioxane, etc., in the presence of an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or acetic acid, at about 0°C to about 100°C.
This can be carried out by stirring at a temperature of about 30 minutes to about 24 hours.

かくして得られる式(1)で示される化合物は、そのア
ゼチジノン環の3位炭素原子がS配位、3位側鎖の炭素
原子がR配位である立体特異的な構造を有する。
The compound represented by formula (1) thus obtained has a stereospecific structure in which the carbon atom at the 3-position of the azetidinone ring is S-coordinated and the carbon atom at the 3-position side chain is R-coordinated.

式(りで示される化合物は、さらに、それ自体既知の方
法、例えば柑橘らの方法[日本化学会58回春季年会予
稿集■、p1505(1989)に従って、4−アセト
キシ体へ誘導することができ、これによって得られる4
−アセトキシ−2−アゼチジノン誘導体は、立体特異的
なカルバペネム化合物の極めて重要な合成中間体となる
ものである(例えば、特開昭62−77384号公報、
特開昭62−212388号公報等参照)。
The compound represented by the formula (R) can be further induced into a 4-acetoxy form according to a method known per se, for example, the method of Shitachi et al. [Proceedings of the 58th Spring Annual Meeting of the Chemical Society of Japan, ■, p. This results in 4
-Acetoxy-2-azetidinone derivatives are extremely important synthetic intermediates for stereospecific carbapenem compounds (for example, JP-A-62-77384;
(See Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-212388, etc.).

なお、上記の製造法において出発原料として用いられる
前記式(■)で示される化合物は、従来の文献に未載の
新規な化合物であり、例えば、下記反応式Aに示される
方法によって合成することができる。
Note that the compound represented by the formula (■) used as a starting material in the above production method is a new compound that has not been described in conventional literature, and can be synthesized, for example, by the method shown in Reaction Formula A below. I can do it.

式中、 R2は水酸基の保護基を表わし、 R3は低級アルキル基を表わし、 R11およびR4は前記定義のとおりである。During the ceremony, R2 represents a hydroxyl protecting group, R3 represents a lower alkyl group, R11 and R4 are as defined above.

以下、上記反応式Aの各工程について説明する。Each step of the above reaction formula A will be explained below.

工程(a)は、式(II)で示されるカルボン酸または
その反応性誘導体と式(II[)で示される(4R)−
4−アルキル置換チアゾリジン−2−チオン誘導体とを
反応させて式(IV)で示される化合物を製造する工程
である。
Step (a) comprises combining a carboxylic acid represented by formula (II) or a reactive derivative thereof and (4R)- represented by formula (II[).
This is a step of producing a compound represented by formula (IV) by reacting with a 4-alkyl-substituted thiazolidine-2-thione derivative.

反応は、式(II)で示されるカルボン酸に、クロロホ
ルム、ジクロルメタン等の不活性溶媒中で、塩基存在下
にカルボン酸活性化試薬及び式1)の(4R)−4−ア
ルキル置換チアゾリジン−2−チオン誘導体を加えて撹
拌することによって行うことができる。
The reaction is carried out by adding a carboxylic acid activation reagent and (4R)-4-alkyl-substituted thiazolidine-2 of formula (1) to the carboxylic acid represented by formula (II) in the presence of a base in an inert solvent such as chloroform or dichloromethane. - It can be carried out by adding a thione derivative and stirring.

本反応で使用されるチアゾリジン−2−チオン誘導体の
4位アルキル基(R3)は、エチル基またはイソプロピ
ル基であることが好ましく。式(II[)で示される(
4R)−4−アルキル置換チアゾリジン−2−チオン誘
導体の使用量は厳密に制限されるものではないが、一般
には式(II)で示される化合物1モルに対して、約1
モルないし約2モルの範囲内であることができる。
The 4-position alkyl group (R3) of the thiazolidine-2-thione derivative used in this reaction is preferably an ethyl group or an isopropyl group. Represented by formula (II[) (
The amount of the 4R)-4-alkyl-substituted thiazolidine-2-thione derivative to be used is not strictly limited, but is generally about 1 mol per mol of the compound represented by formula (II).
It can range from 1 mole to about 2 moles.

また、塩基としては、ジメチルアミノピリジン、ピリジ
ン、キノリン、ルチジン、トリエチルアミン、水素化ナ
トリウム等を例示することができ、その使用量は、塩基
の種類によっても異なるが、一般には、原料であるカル
ボン酸1モルに対して約0.01モルないし約0.1モ
ルの範囲内であることができる。
In addition, examples of the base include dimethylaminopyridine, pyridine, quinoline, lutidine, triethylamine, sodium hydride, etc. The amount used varies depending on the type of base, but in general, the carboxylic acid that is the raw material It can be in the range of about 0.01 mole to about 0.1 mole per mole.

上記カルボン酸活性化試薬としては、塩酸1−エチル−
3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド、
ジシクロへキシルカルボジイミド等を例示することがで
きる。
The carboxylic acid activating reagent is 1-ethyl hydrochloride-
3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide,
Examples include dicyclohexylcarbodiimide.

反応は、厳密に制限されるものではないが、通常、約0
℃ないし約40℃、好ましくは室温程度で約1時間ない
し約24時間撹拌することによって行うことができる。
The reaction is usually, but not strictly limited to, about 0
C. to about 40.degree. C., preferably about room temperature, by stirring for about 1 hour to about 24 hours.

また、本工程は、式(If)のカルボン酸を予め反応性
誘導体となし、次いで式(II[)で示される化合物と
反応させることによっても行なうことができる。
Moreover, this step can also be carried out by previously converting the carboxylic acid of formula (If) into a reactive derivative and then reacting it with the compound represented by formula (II[).

カルボン酸の反応性誘導体は、例えば、クロロホルム、
ジクロルメタン等の不活性溶媒中で、ジメチルアミノピ
リジン、ピリジン、トリエチルアミン等の塩基の存在下
に式(n)のカルボン酸にクロル炭酸エチル、塩化チオ
ニル等のカルボン酸活性化試薬を反応させることによっ
て得ることができる。この場合に使用される塩基の量は
、一般には、原料であるカルボン酸1モルに対して、約
1モルないし約2モルの範囲内であることができる。こ
れによって得られる反応性誘導体は、上記と同様の条件
で式(III)で示される化合物と反応させることによ
り、式(TV)で示される化合物を製造することができ
る。
Reactive derivatives of carboxylic acids include, for example, chloroform,
Obtained by reacting the carboxylic acid of formula (n) with a carboxylic acid activation reagent such as ethyl chlorocarbonate or thionyl chloride in the presence of a base such as dimethylaminopyridine, pyridine, or triethylamine in an inert solvent such as dichloromethane. be able to. The amount of the base used in this case can generally be in the range of about 1 mol to about 2 mol per 1 mol of the carboxylic acid starting material. The reactive derivative obtained thereby can be reacted with a compound represented by formula (III) under the same conditions as above to produce a compound represented by formula (TV).

反応生成物は、通常の精製手段、たとえば抽出、クロマ
トグラフィー等の手段により分離、精製することによっ
て、式(IV)で示される化合物を単離することができ
る。
The compound represented by formula (IV) can be isolated by separating and purifying the reaction product by conventional purification means such as extraction and chromatography.

なお、本反応で用いられる式(III)で示される(4
R)−4−アルキル置換チアゾリジン−2−チオン誘導
体は、それ自体既知の方法、たとえば2−アミノアルコ
ールを塩基の存在下に二硫化炭素と反応させることによ
って容易に得ることができる(特開昭62−42964
号公報参照)。
In addition, (4) shown by the formula (III) used in this reaction
R)-4-Alkyl-substituted thiazolidine-2-thione derivatives can be easily obtained by methods known per se, for example by reacting a 2-amino alcohol with carbon disulfide in the presence of a base (see 62-42964
(see publication).

また、式(II)で示されるカルボン酸は、それ自体既
知の方法、たとえばアクリル酸エステルに適当なアルコ
ール誘導体を反応させることによって、容易に製造する
ことができる(後記実施例参照)。
Further, the carboxylic acid represented by formula (II) can be easily produced by a method known per se, for example, by reacting an acrylic acid ester with a suitable alcohol derivative (see Examples below).

工程(b)は、上記工程(a)で得られる式(IV)で
示される化合物をアルドール反応に付して、式(V)で
示される化合物を製造する工程である。
Step (b) is a step of subjecting the compound represented by formula (IV) obtained in step (a) above to an aldol reaction to produce a compound represented by formula (V).

具体的には、例えは、式(IV)で示される化合物を塩
基の存在下にスズ(■)トリフレートと反応させてエル
レートとし、次いでこれにアセトアルデヒドを反応させ
ることによって行うことができる。 エノール化反応は
、不活性有機溶媒中、例えは、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類;トルエン、キシレン、
シクロヘキサン等の炭化水素類;ジクロルメタン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素類など、特にジクロル
メタンまたはテトラヒドロフラン中で好適に実施するこ
とができる。
Specifically, the reaction can be carried out by, for example, reacting the compound represented by formula (IV) with tin (■) triflate in the presence of a base to form erulate, and then reacting this with acetaldehyde. The enolization reaction is carried out in an inert organic solvent, for example, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran; toluene, xylene,
Hydrocarbons such as cyclohexane; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; particularly, the reaction can be suitably carried out in dichloromethane or tetrahydrofuran.

反応温度は厳密に制限されるものではなく、使用する出
発原料等に応じて広範に変えることができるが、一般に
は約−100°Cないしほぼ室温程度、好ましくは約−
78°Cないし約0°Cの比較的低温で行うことができ
る。
The reaction temperature is not strictly limited and can be varied widely depending on the starting materials used, but is generally about -100°C to about room temperature, preferably about -100°C.
It can be carried out at relatively low temperatures of 78°C to about 0°C.

式(IV)で示される化合物に対するスズ(II)トリ
フレートの使用量は臨界的なものではないが、通常、式
(IV)で示される化合物1モルに対して約lないし約
3モル、好ましくは1.5ないし2゜5モルの範囲内で
用いることができる。
The amount of tin(II) triflate to be used relative to the compound represented by formula (IV) is not critical, but it is usually about 1 to about 3 mol, preferably about 3 mol per mol of the compound represented by formula (IV). can be used within the range of 1.5 to 2.5 mol.

上記反応は有利には塩基の存在下に実施され、使用しう
る塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、l、4−ジアザビシクロ[2,2
,2] オクタン、N−メチルモルホリン、N−エチル
ピペリジン、ピリジン等の第三級アミン等が挙げられ、
中でもトリエチルアミンまたはN−エチルピペリジンが
有利に用いられる。これらの塩基は、一般に、式(IV
)で示される化合物1モル当たり約1.0ないし約3モ
ル、好ましくは1.5ないし2.5モルの割合で使用す
ることができる。上記エノール化反応は上記条件下に一
般に約5分ないし約4時間で終わらせることができる。
The above reaction is advantageously carried out in the presence of a base; bases that can be used include, for example, triethylamine, diisopropylethylamine, l,4-diazabicyclo[2,2
, 2] Tertiary amines such as octane, N-methylmorpholine, N-ethylpiperidine, pyridine, etc.
Among them, triethylamine or N-ethylpiperidine is advantageously used. These bases generally have the formula (IV
) can be used in a proportion of about 1.0 to about 3 mol, preferably 1.5 to 2.5 mol, per mol of the compound represented by formula. The enolization reaction can generally be completed in about 5 minutes to about 4 hours under the above conditions.

このエノール化反応にひきつづいてそのまま、生成する
エルレートにアセトアルデヒドを反応せしめることがで
きる。
Following this enolization reaction, the produced erulate can be directly reacted with acetaldehyde.

前記エルレートとアセトアルデヒドとの間のアルドール
反応は、一般に、約−100℃ないしほぼ室温、好まし
くは約−78℃ないし約10°Cの温度において行なう
ことができる。この際のアセトアルデヒドの使用量は臨
界的ではなく適宜変更することができるが、通常、前記
エノール化反応に用いた式(IV)で示される化合物1
モル当たり約1ないし約5モル、好ましくは1.5ない
し3モルの範囲内で用いるのが適当である。
The aldol reaction between the erulate and acetaldehyde can generally be carried out at a temperature of from about -100°C to about room temperature, preferably from about -78°C to about 10°C. The amount of acetaldehyde used in this case is not critical and can be changed as appropriate, but usually the compound 1 of formula (IV) used in the enolization reaction is
It is appropriate to use within the range of about 1 to about 5 moles, preferably 1.5 to 3 moles per mole.

かかる条件下に、反応は一般に約5分ないし約5時間、
より一般的には約5分ないし約2時開路度で終わらせる
ことができる。
Under such conditions, the reaction generally lasts from about 5 minutes to about 5 hours.
More generally, it can be completed in about 5 minutes to about 2 o'clock.

前述のエノール化反応及び上記アルドール反応は、必須
ではないが、不活性雰囲気下、例えば窒素ガスまたはア
ルゴンガス雰囲気下に実施するのが望ましい。
The aforementioned enolization reaction and the aforementioned aldol reaction are preferably, but not necessarily, carried out under an inert atmosphere, for example under a nitrogen gas or argon gas atmosphere.

最後に、反応生成物は水で処理される。例えば、反応終
了後、弱酸性ないし中性付近の燐酸緩衝液または有機酸
水溶液、好ましくは燐酸緩衝液を加えて撹拌し、不溶物
をろ別する。生成する式(V)で示される化合物は常法
により、例えば抽出、再結晶、クロマトグラフィー等に
て分離、精製することができる。
Finally, the reaction product is treated with water. For example, after the reaction is completed, a weakly acidic to neutral phosphate buffer or organic acid aqueous solution, preferably a phosphate buffer, is added and stirred, and insoluble matter is filtered off. The resulting compound represented by formula (V) can be separated and purified by conventional methods such as extraction, recrystallization, chromatography, etc.

本工程は、式(IV)で示されるカルボン酸アミド誘導
体に立体選択的に1(R)−ヒドロキシエチル基を導入
する工程であり、その選択性は極めて良好なものである
This step is a step of stereoselectively introducing a 1(R)-hydroxyethyl group into the carboxylic acid amide derivative represented by formula (IV), and its selectivity is extremely good.

本工程で得られる式(V)で示される化合物のβ位の炭
素原子はS配位、β位の炭素原子はR配位となる。この
立体配位は以下の各工程においても実質的に完全に維持
されるため、本発明の立体特異的な中間体化合物である
式(■)の化合物を高収率で得ることができる。
The carbon atom at the β position of the compound represented by formula (V) obtained in this step has an S coordination, and the carbon atom at the β position has an R coordination. Since this steric coordination is maintained substantially completely in each of the following steps, the compound of formula (■), which is the stereospecific intermediate compound of the present invention, can be obtained in high yield.

工程(c)は、前期工程(b)で製造される式(V)で
示される化合物の水酸基を保護して、式(VI)で示さ
れる化合物を製造する工程である。
Step (c) is a step of protecting the hydroxyl group of the compound represented by formula (V) produced in the first step (b) to produce a compound represented by formula (VI).

反応は、それ自体既知の水酸基保護方法を用いて行うこ
とができ、例えば、ジクロルメタン、クロロホルム等の
不活性溶媒中で、塩基存在下に前記「水酸基の保護基」
として例示した各種置換基をもつハロゲン化物を反応さ
せて行うことができる。
The reaction can be carried out using a hydroxyl group protection method known per se. For example, the above-mentioned "hydroxyl protecting group" may be reacted in the presence of a base in an inert solvent such as dichloromethane or chloroform.
This can be carried out by reacting halides having various substituents as exemplified as .

使用される塩基としては、ジメチルアミノピリジン、ピ
リジン、イミダゾール、キノリン、ルチジン、トリエチ
ルアミン等を例示することができるが、イミダゾールが
好ましく用いられる。また、保護基としては、トリメチ
ルシリル、t−ブチルジメチルシリル等のシリル基が特
に好ましく用いることができる。
Examples of the base used include dimethylaminopyridine, pyridine, imidazole, quinoline, lutidine, and triethylamine, with imidazole being preferably used. Further, as the protecting group, silyl groups such as trimethylsilyl and t-butyldimethylsilyl can be particularly preferably used.

反応は窒素ガス等の不活性気体雰囲気中で行うことが好
ましく、約−20°Cないし室温程度、好ましくは約O
0Cで、約1時間ないし約24時間撹拌することによっ
て行うことができる。得られる式(IV)で示される化
合物は、通常の精製手段、例えば抽出またはクロマトグ
ラフィー等の手段によって単離、精製することができる
The reaction is preferably carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas, and at about -20°C to room temperature, preferably about O
This can be done by stirring at 0C for about 1 hour to about 24 hours. The resulting compound represented by formula (IV) can be isolated and purified by conventional purification means such as extraction or chromatography.

工程(d)は、上記工程(C)で得られる式(VDで示
される化合物を4−低級アルコキシフェニルアミンと反
応させて、式(■)で示される化合物を製造する工程で
ある。
Step (d) is a step of producing a compound represented by formula (■) by reacting the compound represented by formula (VD) obtained in step (C) above with 4-lower alkoxyphenylamine.

反応は、先に例示した如き不活性有機溶媒中、例えば、
ジクロルメタン、クロロホルム中で行なうことができる
The reaction is carried out in an inert organic solvent such as those exemplified above, for example,
It can be carried out in dichloromethane or chloroform.

本反応で使用される4−低級アルコキシフェニルアミン
としては4−アニシジン、4−エトキシフェニルアミン
等が例示することができ、その使用量は、一般には、式
(Vl)で示される化合物1モルに対して約1モルない
し約3モルの範囲内であることができる。
Examples of the 4-lower alkoxyphenylamine used in this reaction include 4-anisidine and 4-ethoxyphenylamine, and the amount used is generally per mole of the compound represented by formula (Vl). The amount may range from about 1 mol to about 3 mol.

反応は、厳密に制限されるものではないが、約0℃ない
し約60°C1好ましくは室温程度で約30分間ないし
約24時間撹拌することによって行なうことができる。
The reaction can be carried out by stirring at about 0° C. to about 60° C., preferably at room temperature, for about 30 minutes to about 24 hours, although it is not strictly limited.

反応生成物は、通常の精製手段、例えは抽出またはクロ
マトグラフィー等により分離、精製することによって、
式(■)で示される化合物を単離することができる。
The reaction product can be separated and purified by conventional purification means such as extraction or chromatography.
A compound of formula (■) can be isolated.

工程(e)は、上記工程(cl)で得られる式(■)の
化合物のR2で示される保護基を脱離せしめて、式(■
)で示される化合物を製造する工程である。
In step (e), the protecting group represented by R2 of the compound of formula (■) obtained in the above step (cl) is removed to form the compound of formula (■).
) is a process for producing a compound represented by

保護基の脱離反応は、前記工程(2)に関して説明した
ソルボリシスまたは水素添加分解等のそれ自体既知の脱
保護基反応によって行なうことができる。
The protective group elimination reaction can be carried out by a known deprotection reaction such as solvolysis or hydrogenolysis described in connection with step (2) above.

但し、式(■)で示される化合物には、R1+で保護さ
れた第二級の水酸基とR2で保護された第一級の水酸基
が存在する。そこで、本工程の脱保護基反応において、
R2の保護基のみを選択的に脱離せしめる条件を選択す
れば高収率で式(■)で示される化合物を得ることがで
きる。
However, the compound represented by formula (■) has a secondary hydroxyl group protected by R1+ and a primary hydroxyl group protected by R2. Therefore, in the deprotecting group reaction of this step,
By selecting conditions that selectively remove only the protecting group of R2, the compound represented by formula (■) can be obtained in high yield.

例えは、保護基R11とR2が同一である場合には、反
応温度を比較的低温で行うことによって、第一級水酸基
の保護基を優先的に脱離せしめることができる。また、
保護基R11とR2が異なる場合には、R2の保護基の
脱離に特に好ましい条件を選択することによって、高収
率で式(■)で示される化合物を製造することができる
For example, when the protecting groups R11 and R2 are the same, the protecting group for the primary hydroxyl group can be preferentially removed by carrying out the reaction at a relatively low temperature. Also,
When the protecting groups R11 and R2 are different, the compound represented by formula (■) can be produced in high yield by selecting particularly favorable conditions for removing the protecting group R2.

その−例を示せば以下のとおりである。An example of this is as follows.

例えば、R11がtert−ブチルジメチルシリル基で
あり、R2がベンジル基である場合 R2のベンジル基
のみを優先的に脱離せしめるためには、メタノールと酢
酸との混合溶媒中で、水素雰囲気下にパラジウム−炭素
を作用させることによって行なうことができる。この場
合の反応温度は約O°Cないし室温程度の比較的低温で
よく、約30分間ないし約6時間撹拌することによって
反応は終了する。
For example, when R11 is a tert-butyldimethylsilyl group and R2 is a benzyl group, in order to preferentially remove only the benzyl group of R2, it is necessary to remove the benzyl group in a mixed solvent of methanol and acetic acid under a hydrogen atmosphere. This can be done by reacting palladium on carbon. The reaction temperature in this case may be relatively low, from about 0° C. to room temperature, and the reaction is completed by stirring for about 30 minutes to about 6 hours.

以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
が、それらによって本発明の範囲は何ら限定されるもの
ではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

なお、以下の記載においては、下記略号を用いる。In addition, in the following description, the following abbreviations are used.

WSC:  塩酸1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイ ミド DAMP :  ジメチルアミノピリジンDMF:  
N、N−ジメチルホルムアミド→:  tert−ブチ
ルジメチルシリル実施例1 3−ベンジルオキシプロピオン酸(1)ベンジルアルコ
ール9.09に金属ナトリウム75mgを加え窒素気流
下室温で30分撹拌する。
WSC: 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride DAMP: Dimethylaminopyridine DMF:
N,N-dimethylformamide→: tert-butyldimethylsilyl Example 1 3-benzyloxypropionic acid (1) 75 mg of metallic sodium was added to 9.09 g of benzyl alcohol, and the mixture was stirred at room temperature under a nitrogen stream for 30 minutes.

この溶液にアクリル酸メチル6.5gを加え同条件下終
夜撹拌する。反応終了後、反応液に酢酸エチル及び飽和
塩化アンモニア水を加えて抽出し、飽和食塩水で洗浄後
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し得
られた残渣にエタノール150m12を加え、さらに1
規定水酸化ナトリウム水溶液を加え室温で1時間撹拌す
る。反応終了後、反応液を1規定塩酸で中和した後、溶
媒を減圧下留去する。残渣に酢酸エチル及び1規定塩酸
を加えて抽出し、氷水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去することによ
り、3−ベンジルオキシプロピオン酸(1)8.29 
 (60%)を得た。
6.5 g of methyl acrylate was added to this solution and stirred under the same conditions overnight. After the reaction is completed, ethyl acetate and saturated ammonium chloride water are added to the reaction solution for extraction, washed with saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, 150 ml of ethanol was added to the resulting residue, and 1
Add normal aqueous sodium hydroxide solution and stir at room temperature for 1 hour. After the reaction is completed, the reaction solution is neutralized with 1N hydrochloric acid, and then the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue is extracted with ethyl acetate and 1N hydrochloric acid, washed with ice water and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. By distilling off the solvent under reduced pressure, 3-benzyloxypropionic acid (1) 8.29
(60%).

実施例2 (4R)−3−ベンジルオキシブロバノイル−4−イソ
プロピル−1,3−チアゾリジン−2−チオン(2) 3−ベンジルオキシプロピオン酸(1)2.169の塩
化メチレン50mQ溶液に(4R)−イソプロピルチア
ゾリジン−2−チオン1.939とWSc  2.42
g及びDMAP  50mgを加えて、室温で終夜撹拌
する。反応終了後、反応液を水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトにて精製し、化
合物(2)を黄色油状物として3.329  (86%
)得た。
Example 2 (4R)-3-Benzyloxybrovanoyl-4-isopropyl-1,3-thiazolidine-2-thione (2) In a solution of 2.169 3-benzyloxypropionic acid (1) in 50 mQ of methylene chloride (4R) )-isopropylthiazolidine-2-thione 1.939 and WSc 2.42
g and 50 mg of DMAP are added and stirred at room temperature overnight. After the reaction is completed, the reaction solution is washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography to obtain compound (2) as a yellow oil with a concentration of 3.329 (86%).
)Obtained.

Ca IH−227,7° (CHCl 3、C1,3
7)IR:  1690  cm−’ NMR(δ、 CDClり: 0−95(3H,d、 
J=6.8Hz)、1.04(3H,d、J=6.8H
z)、2.37(IH,qd、J=6.8゜13.2H
z)、3.00(IH,dd、、hl、1.1l−4H
z)、3.43−3.59(3H,m)、3.70−3
.92(2H,m)、4.54(2H,s)、5.1(
h5.18(LH,m)、7.33C5H,s)実施例
3 (4R)−3−[(2S、3R)−3−ヒドロキシ−2
−(ベンジルオキシメチル)ブタノイル]−4−イソプ
ロピル−1,3−チアゾリジン−2−チオン(3) スズ(■)トリフレート(SnCOTflz)  11
.61gの塩化メチレン23m12溶液にN−エチルピ
ペリジン4.2mQ及び化合物(1)3gの塩化メチレ
ン20m12溶液を加えて窒素気流中−78°Cで30
分撹拌し、続いて過量のアセトアルデヒドの塩化メチレ
ン3mQ溶液を一78°Cで加え、同温で30分間撹拌
する。反応終了後、0.1規定リン酸緩衝液を加え、セ
ライトろ過した後、3液を水、飽和食塩水で順次洗浄し
、無水硫酸ナトIJウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去
し、得られた残渣をシリカゲルクロマトにて精製し化合
物(3)を黄色油状物として2.889  (84%)
得た。
Ca IH-227,7° (CHCl3, C1,3
7) IR: 1690 cm-' NMR (δ, CDCl: 0-95 (3H, d,
J=6.8Hz), 1.04(3H,d, J=6.8H
z), 2.37 (IH, qd, J=6.8°13.2H
z), 3.00 (IH, dd,, hl, 1.1l-4H
z), 3.43-3.59 (3H, m), 3.70-3
.. 92 (2H, m), 4.54 (2H, s), 5.1 (
h5.18(LH,m), 7.33C5H,s) Example 3 (4R)-3-[(2S,3R)-3-hydroxy-2
-(Benzyloxymethyl)butanoyl]-4-isopropyl-1,3-thiazolidine-2-thione (3) Tin (■) triflate (SnCOTflz) 11
.. 4.2 mQ of N-ethylpiperidine and a solution of 3 g of compound (1) in 20 ml of methylene chloride were added to a solution of 61 g of methylene chloride in 23 ml, and the mixture was heated at -78°C for 30 minutes in a nitrogen stream.
After stirring for 1 minute, a solution of an excess amount of acetaldehyde in 3 mQ of methylene chloride was added at -78°C, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes. After the reaction is completed, 0.1N phosphate buffer is added and the mixture is filtered through Celite, and the three solutions are washed successively with water and saturated saline, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography to obtain compound (3) as a yellow oil with a yield of 2.889 (84%).
Obtained.

[σ1汀−302,4° (CHC]3、C1,91)
IR: 3450.1690 am−’NIJR(δ、
 CDC13): 0.98(3H,d、 J−6,8
Hz)、1.05(3H,d、 J□6.8Hz)、1
.26(3H,d、 J=6.5Hz)、2.36(I
H,qd、 J=6.8.13.6Hz)、2.93(
IH,dd。
[σ1 -302,4° (CHC]3, C1,91)
IR: 3450.1690 am-'NIJR(δ,
CDC13): 0.98 (3H, d, J-6,8
Hz), 1.05 (3H, d, J□6.8Hz), 1
.. 26 (3H, d, J=6.5Hz), 2.36 (I
H, qd, J=6.8.13.6Hz), 2.93(
IH, dd.

J=1.0.1l−4Hz)、3.07(IH,d、 
19)1z)、3.27(IH,dd、 J=7.7.
11.4Hz)、3.78(IH,dd、 J=5.2
.9.2Hz)、3.91(IH,dd、 J=8.4
.9.2Hz)、4.26−4.33(IH,m)、4
.43(IH,d、 J=12.4Hz)、4.52(
IH,d、 J=12.4Hz)、4.98−5.04
(IH,m)、5.08−5.17(LH,m)、7.
27−7.37(5H,m)実施例4 (4R)  3  [(2S、 3R)  3−ter
t−ブチルジメチルシリロキシ−2−(ベンジルオキシ
メチル)ブタメイル]−4−イソグロピル−1゜3〜チ
アゾリジン−2−チオン(4) tert−ブチルジメチルクロロシラン2.6gの塩化
メチレン14mQ溶液にイミダゾール1.179を加え
て窒素気流中0°Cで1時間撹拌した後、化合物(3)
2.8Byの塩化メチレン8.5m12溶液を加えて同
条件下終夜撹拌する。反応終了後、反応液を水、飽和食
塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶
媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマト
にて精製して化合物(4)を黄色油状物として3.42
9  (91% )  得 tこ 。
J=1.0.1l-4Hz), 3.07(IH,d,
19) 1z), 3.27 (IH, dd, J=7.7.
11.4Hz), 3.78 (IH, dd, J=5.2
.. 9.2Hz), 3.91 (IH, dd, J=8.4
.. 9.2Hz), 4.26-4.33 (IH, m), 4
.. 43 (IH, d, J=12.4Hz), 4.52 (
IH, d, J=12.4Hz), 4.98-5.04
(IH, m), 5.08-5.17 (LH, m), 7.
27-7.37 (5H, m) Example 4 (4R) 3 [(2S, 3R) 3-ter
t-Butyldimethylsilyloxy-2-(benzyloxymethyl)butameyl]-4-isogropyl-1゜3~thiazolidine-2-thione (4) 1. imidazole was added to a solution of 2.6 g of tert-butyldimethylchlorosilane in 14 mQ of methylene chloride. After adding 179 and stirring at 0°C in a nitrogen stream for 1 hour, compound (3)
A 2.8 By methylene chloride solution (8.5 ml) is added and stirred under the same conditions overnight. After the reaction is completed, the reaction solution is washed successively with water and saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography to obtain compound (4) as a yellow oil with a concentration of 3.42
9 (91%).

Ca ]ff   247−1’  (CHCIs、C
1,1)IR:  1690 cm−’ NMR(δ、  CDClり:  0.01(3H,s
)、0−03(3H,s)、0.88(9H,s)、0
.98(3H,d、 6.8Hz)、1.05(3H,
d、  J=6.8Hz)、1.29(3H,d、  
J=6.1Hz)、2.36(LH,qd、  J=6
.8. 13.6Hz)、2.87(LH,aa。
Ca ]ff 247-1' (CHCIs, C
1,1) IR: 1690 cm-' NMR (δ, CDCl: 0.01 (3H, s
), 0-03 (3H, s), 0.88 (9H, s), 0
.. 98 (3H, d, 6.8Hz), 1.05 (3H,
d, J=6.8Hz), 1.29(3H,d,
J=6.1Hz), 2.36(LH,qd, J=6
.. 8. 13.6Hz), 2.87 (LH, aa.

1.0.11.4Hz)、3.16(IH,dd、 J
=7.7.11.4Hz)、3.83−3.87(2H
,m)、4.22−4.34(IH,m)、4.47(
2H,s)、4.92−5.09(2H,m)、7.2
8−7.34(5H,m)実施例5 (2S 、  3 R) −3−tert−プチルジメ
チルンリロキシ−2−(ベンジルオキシメチル)−N−
(4−メトキシフェニル)酪酸アミド(5)化合物(4
)3.0gの塩化メチレン20mff溶液にp−アニン
ジン920mgを加えて室温で終夜撹拌する。反応終了
後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を7リカゲルク
ロマトにて精製して、化合物(5)を白色結晶どして2
.76g (定量的) 得lこ。
1.0.11.4Hz), 3.16(IH, dd, J
=7.7.11.4Hz), 3.83-3.87(2H
, m), 4.22-4.34 (IH, m), 4.47 (
2H, s), 4.92-5.09 (2H, m), 7.2
8-7.34 (5H, m) Example 5 (2S, 3R) -3-tert-butyldimethylylyloxy-2-(benzyloxymethyl)-N-
(4-methoxyphenyl)butyric acid amide (5) compound (4
) 920 mg of p-aningine was added to a solution of 3.0 g of methylene chloride in 20 mff, and the mixture was stirred at room temperature overnight. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography to obtain compound (5) as white crystals.
.. 76g (quantitative).

[a]U  +8.7° (CHCI3、C2,16)
IR: 3320.1660.1510 cm−’NI
JR(δ、 CDCh)二〇、02(6H,s)、0−
80(9H,s)、1.06(3H,d、 J=6.3
Hz)、2.61−2.68(IH,m)、3.51(
LH,dd、 J−6,9,9,9Hz)、3.65(
3H,s)、3.81(IH,dd、 J=5.9.9
.9Hz)、(120(LH,m)、4.37(IH,
d、 J=11.9Hz)、4.48(IH,d、 J
=11.9Hz)、6.71(2H,d、 J=8.9
Hz)、7.20(5H,s)、7.24(2H,d、
 J=8.9Hz)、8.33(IH,brs)実施例
6 (2S、3R)−3−tert−ブチルジメチルシリロ
キシ−2−ヒドロキシメチル−N−(4−メトキシフェ
ニル)酪酸アミド(6) 化合物(5)1.0gのメタノール−酢酸(4:l)l
OmQ混液に、10%パラジウム炭素(含水50%)2
00+ngを加えて、水素気流下(4atm)室温で2
時間振とうする。反応終了後、パラジウム炭素をセライ
トにてろ去する。溶媒は減圧下留去し、得られた残渣を
シリカゲルクロマトにて精製して、化合物(6)を白色
結晶として725mg (91% )  得 Iこ 。
[a] U +8.7° (CHCI3, C2, 16)
IR: 3320.1660.1510 cm-'NI
JR (δ, CDCh) 20, 02 (6H, s), 0-
80 (9H, s), 1.06 (3H, d, J=6.3
Hz), 2.61-2.68 (IH, m), 3.51 (
LH, dd, J-6,9,9,9Hz), 3.65(
3H, s), 3.81 (IH, dd, J=5.9.9
.. 9Hz), (120 (LH, m), 4.37 (IH,
d, J=11.9Hz), 4.48(IH, d, J
= 11.9Hz), 6.71 (2H, d, J = 8.9
Hz), 7.20 (5H, s), 7.24 (2H, d,
J=8.9Hz), 8.33 (IH, brs) Example 6 (2S,3R)-3-tert-butyldimethylsilyloxy-2-hydroxymethyl-N-(4-methoxyphenyl)butyric acid amide (6 ) Compound (5) 1.0 g methanol-acetic acid (4:l) l
Add 10% palladium on carbon (50% water content) to the OmQ mixture.
00+ng was added, and the mixture was heated at room temperature under hydrogen flow (4 atm).
Shake for an hour. After the reaction is complete, palladium on carbon is filtered off through Celite. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel chromatography to obtain 725 mg (91%) of compound (6) as white crystals.

m、p、:  111℃ IR(KBr): 3370.1660.1560 c
m−’NMR(δ、 CDCl5): 0−01(3H
,s)、0.03(3H,s)、0.79(9H,s)
、1.13(3H,d、 J=6−3Hz)、1.53
(IH,brs)、2.49−2.54(IH,m)、
3.33(IH,dd。
m, p,: 111°C IR (KBr): 3370.1660.1560 c
m-'NMR (δ, CDCl5): 0-01 (3H
, s), 0.03 (3H, s), 0.79 (9H, s)
, 1.13 (3H, d, J=6-3Hz), 1.53
(IH, brs), 2.49-2.54 (IH, m),
3.33 (IH, dd.

J=3.6.8.9Hz)、3.65(3H,s)、3
.89−3.93(IH,m)、4.08−4.17(
IH,m)、6.73(2H,a、 J=8.9Hz)
、7.29(2H,d、  J=8.9Hz)、8.7
7(IH,brs)実施例7 (2S、 3 R) −3−tert−ブチルジメチル
シリロキシ−2−メタンスルホニルオキシメチル−N−
(4−メトキシフェニル)酪酸アミド(7)化合物(6
)900mgのテトラヒドロフラン12mff溶液にメ
タンスルホニルクロリド0.4mff及びトリエチルア
ミン0.71mQを加えて窒素気流中O′Cで30分間
、統いて室温で1時間撹拌する。
J=3.6.8.9Hz), 3.65(3H,s), 3
.. 89-3.93 (IH, m), 4.08-4.17 (
IH, m), 6.73 (2H, a, J=8.9Hz)
, 7.29 (2H, d, J=8.9Hz), 8.7
7(IH, brs) Example 7 (2S, 3R) -3-tert-butyldimethylsilyloxy-2-methanesulfonyloxymethyl-N-
(4-methoxyphenyl)butyric acid amide (7) compound (6
) Add 0.4 mff of methanesulfonyl chloride and 0.71 mQ of triethylamine to a 900 mg solution of 12 mff of tetrahydrofuran, stir at O'C in a nitrogen stream for 30 minutes, and then stir at room temperature for 1 hour.

反応終了後、反応液に酢酸エチル及び飽和塩化アンキニ
ア水を加え抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナト
リウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣
をシリカゲルクロマトにて精製して化合物(7)を無色
油状物としてl1g(定量的)得た。
After the reaction is completed, ethyl acetate and saturated aqueous anquinia chloride are added to the reaction solution for extraction, washed with saturated brine, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel chromatography to obtain 11 g (quantitative) of Compound (7) as a colorless oil.

[σ]ぢ +10.4° (CHC1,、c O,98
)IR: 1650.1350.1170 cm−’N
MR(δ、 CDCl5): 0.01(3H,s)、
0.02(3H,S)、0.80(9H,s)、1.0
8(3H,d、 J=5.9Hz)、2.8O−2−8
6(IH,m)、2.90(3H,s)、3.64(3
H,s)、4.03−4.12(IH,m)、Cl47
4.21(IH,m)、4.45−4.51(LH,m
)、6.71(2H,d、 J=8.9Hz)、7.2
1(2H,d、 J=8.9Hz)、8.15(IH,
brs)実施例8 (3S) −3−((l R) −1−tert−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル)−1−(4−メトキシフ
ェニル)−2−アゼチジノン(8) 水素化ナトリウム(55%油性)120mgの塩化メチ
レン−DMF (4: 1) 30m12懸濁液に、化
合物(7)1.09の塩化メチレン−DMF(4: l
) 20mff混液を30分かけて滴下し、窒素気流中
室温で1.5時間撹拌する。反応終了後、反応液を飽和
塩化アンモニア水、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去して
、得られた残渣をシリカゲルクロマトにて精製し化合物
(8)を白色結晶として776mg(定量的)得た。
[σ]ぢ +10.4° (CHC1,,c O,98
)IR: 1650.1350.1170 cm-'N
MR (δ, CDCl5): 0.01 (3H, s),
0.02 (3H, S), 0.80 (9H, s), 1.0
8 (3H, d, J=5.9Hz), 2.8O-2-8
6 (IH, m), 2.90 (3H, s), 3.64 (3
H, s), 4.03-4.12 (IH, m), Cl47
4.21 (IH, m), 4.45-4.51 (LH, m
), 6.71 (2H, d, J=8.9Hz), 7.2
1 (2H, d, J=8.9Hz), 8.15 (IH,
brs) Example 8 (3S) -3-((l R) -1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-(4-methoxyphenyl)-2-azetidinone (8) Sodium hydride (55% oily ) To a suspension of 120 mg of methylene chloride-DMF (4: 1) in 30 mL of methylene chloride-DMF (4: 1) was added 1.09 of compound (7) in methylene chloride-DMF (4: 1).
) A 20mff mixture was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred for 1.5 hours at room temperature in a nitrogen stream. After the reaction was completed, the reaction solution was sequentially washed with saturated aqueous ammonia chloride, water, and saturated brine, and then
Dry with anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified by silica gel chromatography to obtain 776 mg (quantitative) of compound (8) as white crystals.

[σ1冒 −58,2° (CHC1,、c 1.25
)IR: 1750.1515 cm−’NMR(δ、
 CDCl5): 0.01(3H,s)、0.02(
3H,s)、0.75(9H,s)、1.21(3H,
d、 J=6.3Hz)、3.20−3.25(IH,
m)、3.51−3.61(2H,m)、3.75(3
H,s)、4.22−4.30(LH,m)、6.82
(2H,d、 J=8.9Hz)、7.25(2B、 
d、 J=8.9Hz)実施例9 (3S)  3  ((l R)   l −tert
−ブチルジメチルシリロキシエチル)−2−アゼチジノ
ン化合物(8)300mgのアセトニトリル5.6mQ
溶液に、硝酸第二セリウムアンモニウム1.47gの水
溶液9m12を一15°Cで2分間で滴下し、同条件下
20分間撹拌する。反応終了後、反応液に酢酸エチルを
加え、水、10%亜硫酸ナトリウム水、5%炭酸ナトリ
ウム水、水、飽和塩化アンモニア水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下留去して、得
られた残渣をシリカゲルクロマトにて精製し、化合物(
8)を白色結晶として137mg(67%)得た。
[σ1 deterioration -58,2° (CHC1,,c 1.25
)IR: 1750.1515 cm-'NMR(δ,
CDCl5): 0.01 (3H, s), 0.02 (
3H, s), 0.75 (9H, s), 1.21 (3H,
d, J=6.3Hz), 3.20-3.25(IH,
m), 3.51-3.61 (2H, m), 3.75 (3
H, s), 4.22-4.30 (LH, m), 6.82
(2H, d, J=8.9Hz), 7.25 (2B,
d, J=8.9Hz) Example 9 (3S) 3 ((l R) l -tert
-butyldimethylsilyloxyethyl)-2-azetidinone compound (8) 300mg acetonitrile 5.6mQ
To the solution, 9 ml of an aqueous solution of 1.47 g of ceric ammonium nitrate was added dropwise at -15° C. over 2 minutes, and the mixture was stirred for 20 minutes under the same conditions. After the reaction is complete, ethyl acetate is added to the reaction solution, which is washed successively with water, 10% sodium sulfite solution, 5% sodium carbonate solution, water, and saturated ammonium chloride solution, and dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was purified using silica gel chromatography to obtain the compound (
8) was obtained as white crystals in an amount of 137 mg (67%).

[σJ汀 −74,1° (CHCl s、C1,73
)IR: 1750 cm−、’ NMR(δ、 CDCl5): 0.02(6H,s)
、0.80(9H,s)、1.12(3H,d、 J=
6.3Hz)、3.12−3.29(3H,to)、4
.09−4.18(II、 m)、5.84(IL  
brs)手続ネ甫正書(自発) 平成3年4月6日 特許庁長官 植 松   敏   殿 3、補正をする者 事件との関係    特許出願人 名称 日本レダリー株式会社 4、代理人 〒107 6、補正の対象 7、補正の内容 別紙のとおり (1) 本願特許請求の範囲(明細書第1頁第5行〜第
5頁第7行)を別紙のとおり訂正する。
[σJ 汀 −74,1° (CHCl s, C1,73
) IR: 1750 cm-,' NMR (δ, CDCl5): 0.02 (6H, s)
, 0.80 (9H, s), 1.12 (3H, d, J=
6.3Hz), 3.12-3.29 (3H, to), 4
.. 09-4.18 (II, m), 5.84 (IL
brs) Procedural Letter (Spontaneous) April 6, 1991 Director General of the Patent Office Satoshi Uematsu 3, Person making the amendment Relationship with the case Patent applicant name Nippon Ledery Co., Ltd. 4, Agent 〒107 6, Subject of Amendment 7, Contents of the Amendment As shown in the attached sheet (1) The claims of the present application (page 1, line 5 of the specification to page 5, line 7) are corrected as shown in the attached sheet.

(2) 明細書第1頁第5−1行にr tert−ブチ
ルジメチルシリル」とあるをj tert−ブチルジメ
チル」と訂正する。
(2) On page 1, line 5-1 of the specification, "r tert-butyldimethylsilyl" is corrected to "j tert-butyldimethyl".

(3) 同第35頁下から第3行に「(SnCOTf1
4)Jとあるをr 5n(OTf)z)Jと訂正する。
(3) In the third line from the bottom of page 35, “(SnCOTf1
4) Correct J to r 5n(OTf)z)J.

(4) 同第37頁第6行の化学構造式(4)を以下の
とおり訂正する。
(4) The chemical structural formula (4) on page 37, line 6 is corrected as follows.

」 (5) 同第38頁末行の化学構造式(4)および(5
)を以下のとおり訂正する。
(5) Chemical structural formulas (4) and (5) on the last line of page 38
) is corrected as follows.

□ 」 (6) 同第40頁第1行の化学構造式(5)および(
6)を以下のとおり訂正する。
□” (6) Chemical structural formula (5) and (
6) is corrected as follows.

」 (7) 同第41頁第6行の化学構造式(6)および(
7)を以下のとおり訂正する。
” (7) Chemical structural formula (6) and (
7) is corrected as follows.

」 (8) 同第42頁第14行の化学構造式(7)および
(8)を以下のとおり訂正する。
(8) Chemical structural formulas (7) and (8) on page 42, line 14 are corrected as follows.

」 (9) 同第44頁第1行の化学構造式(8)および゛
(9)を以下のとおり訂正する。
(9) Chemical structural formulas (8) and (9) on page 44, line 1 are corrected as follows.

」 以上 (別紙) [特許請求の範囲] r  1.下記式(■) 式中、 R”は水酸基の保護基を表わし、 R4は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物を縮合閉環反応に付し、次いで必要に
応じて、得られる化合物から水酸基の保護基及び/又は
4−低級アルコキシフェニル基を脱離させることを特徴
とする下記式(1)式中、 8皿は水素原子又は水酸基の保護基を表わし、2は水素
原子又は4−低級アルコキンフェニル基を表わす、 で示される化合物の製造方法。
” (Attachment) [Claims] r 1. A compound represented by the following formula (■) in which R'' represents a hydroxyl group-protecting group and R4 represents a lower alkyl group is subjected to a condensation ring-closing reaction, and then, if necessary, the hydroxyl group is removed from the resulting compound. In the following formula (1), which is characterized by eliminating a protecting group and/or a 4-lower alkoxyphenyl group, 8 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group protecting group, and 2 represents a hydrogen atom or a 4-lower alkoxyphenyl group. A method for producing a compound represented by the following, which represents a quinphenyl group.

2、下記式(■) 式中、 R”は水酸基の保護基を表わし、 R4は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物。2. The following formula (■) During the ceremony, R'' represents a hydroxyl protecting group, R4 represents a lower alkyl group, The compound shown in

3、(a)下記式(II) R20,A、/CO□H(I[) 式中、R2は水酸基の保護基を表わす、で示されるカル
ボン酸、またはその反応性誘導体を下記式(II[) 式中、R3は低級アルキル基を表わす、で示される化合
物と反応させ、 (b)得られる下記式(TV) 式中、R2およびR3は前記定義のとおりである、 で示される化合物を、塩基の存在下Uスズ(II)トリ
フレートと反応させてエルレートとした後、アセトアル
デヒドと反応させ、 (c)得られる下記式(V) 式中、R2およびR3は前記定義のとおりである、 で示される化合物の水酸基を保護し、 (d)得られる下記式(Vl) 式中、 R”は水酸基の保護基を表わし、 R2およびR3は前記定義のとおりである、で示される
化合物を4−低級アルコキシフェニルアミンと反応させ
、 (e)得られる下記式(■) 式中、 R4は低級アルキル基を表わし、 R11およびR2は前記定義のとおりである、で示され
る化合物から水酸基の保護基R2を脱離せしめることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の式(■)の化合
物の製造方法。
3, (a) The following formula (II) R20,A, /CO□H(I[) In the formula, R2 represents a hydroxyl group-protecting group. [) In the formula, R3 represents a lower alkyl group, and (b) the resulting compound is reacted with the following formula (TV), where R2 and R3 are as defined above. , reacted with U tin (II) triflate in the presence of a base to give erulate, and then reacted with acetaldehyde to obtain (c) the following formula (V), where R2 and R3 are as defined above, Protecting the hydroxyl group of the compound represented by (d) the following formula (Vl) obtained, where R'' represents a hydroxyl group-protecting group, and R2 and R3 are as defined above, the compound represented by 4 - Reacting with lower alkoxyphenylamine, (e) Obtaining the following formula (■) In the formula, R4 represents a lower alkyl group, and R11 and R2 are as defined above. A method for producing a compound of formula (■) according to claim 2, characterized in that R2 is eliminated.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、下記式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 式中、 R^1^1は水酸基の保護基を表わし、 R^4は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物を縮合閉環反応に付し、次いで必要に
応じて、得られる化合物から水酸基の保護基及び/又は
4−低級アルコキシフェニル基を脱離させることを特徴
とする下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1は水素原子又は水酸基の保護基を表わし、Zは水
素原子又は4−低級アルコキシフェニル基を表わす、 で示される化合物の製造方法。 2、下記式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 式中、 R^1^1は水酸基の保護基を表わし、 R^4は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物。 3、(a)下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^2は水酸基の保護基を表わす、 で示されるカルボン酸、またはその反応性誘導体を下記
式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^3は低級アルキル基を表わす、 で示される化合物と反応させ、 (b)得られる下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 式中、R^2およびR^3は前記定義のとおりである、 で示される化合物を、塩基の存在下下にスズ(II)トリ
フレートと反応させてエノレートとした後、アセトアル
デヒドと反応させ、 (c)得られる下記式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 式中、R^2およびR^3は前記定義のとおりである、 で示される化合物の水酸基を保護し、 (d)得られる下記式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 式中、 R^1^1は水酸基の保護基を表わし、 R^2およびR^3は前記定義のとおりである、で示さ
れる化合物を4−低級アルコキシフェニルアミンと反応
させ、 (e)得られる下記式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 式中、 R^4は低級アルキル基を表わし、 R^1^1およびR^2は前記定義のとおりである、で
示される化合物から水酸基の保護基R^2を脱離せしめ
ることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の式(V
III)の化合物の製造方法。
[Claims] 1. The following formula (VIII) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VIII) In the formula, R^1^1 represents a hydroxyl group protecting group, and R^4 represents a lower alkyl group. A compound represented by the following formula ( I ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (I) In the formula, R^1 represents a hydrogen atom or a protecting group for a hydroxyl group, and Z represents a hydrogen atom or a 4-lower alkoxyphenyl group. Production method. 2. The following formula (VIII) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (VIII) In the formula, R^1^1 represents a hydroxyl group protecting group, and R^4 represents a lower alkyl group. . 3. (a) Formula (II) below ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available ▼ (II) In the formula, R^2 represents a protecting group for the hydroxyl group. Formula (III) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (III) In the formula, R^3 represents a lower alkyl group. React with the compound shown by (b) The following formula (IV) obtained ▲ Formula , chemical formulas, tables, etc. ▼ (IV) In the formula, R^2 and R^3 are as defined above. A compound represented by is reacted with tin (II) triflate in the presence of a base. The resulting enolate is reacted with acetaldehyde, and (c) the following formula (V) is obtained. Protect the hydroxyl group of a compound represented by (d) and obtain the following formula (VI) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VI) In the formula, R^1^1 represents a protecting group for the hydroxyl group. , R^2 and R^3 are as defined above, react the compound represented by with 4-lower alkoxyphenylamine, and (e) obtain the following formula (VII) ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼(VII) In the formula, R^4 represents a lower alkyl group, R^1^1 and R^2 are as defined above, and the hydroxyl protecting group R^2 is removed from the compound represented by The formula (V
III) Method for producing the compound.
JP2275195A 1990-10-16 1990-10-16 Method for producing 2-azetidinone derivative Expired - Fee Related JP3059475B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2275195A JP3059475B2 (en) 1990-10-16 1990-10-16 Method for producing 2-azetidinone derivative

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2275195A JP3059475B2 (en) 1990-10-16 1990-10-16 Method for producing 2-azetidinone derivative

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04154758A true JPH04154758A (en) 1992-05-27
JP3059475B2 JP3059475B2 (en) 2000-07-04

Family

ID=17552009

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2275195A Expired - Fee Related JP3059475B2 (en) 1990-10-16 1990-10-16 Method for producing 2-azetidinone derivative

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3059475B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JP3059475B2 (en) 2000-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2004355A1 (en) Process for intermediate compounds for preparing penems and carbapenems
HU207288B (en) Process for enenthioselective producing phenyl-isoserine derivatives
KR900001170B1 (en) A preparation process for 4-acetoxy-3-hydroxyl ethyl-azetizin-2-one derivatives
EP0333268A1 (en) Process for synthesis of a chiral 3-beta hydrogen (3R) 4-aroyloxy azetidinone
JP3138834B2 (en) Method for producing fucopyranose analog and intermediate compound thereof
CA2025108C (en) Process for preparing an enol silyl ether compound
JPH04154758A (en) Production of 2-azetidinone derivative
JPH075590B2 (en) 4-substituted β-lactam compound
KR910005230B1 (en) Process for producing azetidinones
EP0232822B1 (en) Process for preparing optically active fluorine-containing compounds
JP3748933B2 (en) Process for producing 1-substituted azetidinone derivatives
KR0132532B1 (en) Process for preparing 4-acyloxy-2-acetidinone
JPS62164689A (en) Novel beta-lactam compound and production thereof
US5075439A (en) Processes for (3S,4R)-3-[1(R)-t-butyl-dimethylsilyloxy)-ethyl]-4-[1-oxo-3-thiolanylthio(thiocarbonyl)thio]azetidin-2-ones and intermediates therefor
US5145957A (en) Stereoselective synthesis of a chiral cis 3-beta hydrogen (3R) 4-aroyloxy azetidinone
JP2818890B2 (en) Method for producing allylamine compound and method for producing intermediate for producing same
JPS62289558A (en) Beta-lactam compound and production thereof
JP4157175B2 (en) Method for producing 2&#39;-pyrrolidinepropanoic acid derivative
JP2604794B2 (en) Method for producing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one
JP2933651B2 (en) Method for producing 4-acyloxy-2-azetidinone derivative
JP2719624B2 (en) Method for producing 4-acyloxy-2-azetidinone derivative
JP2922943B2 (en) Imidazolidinone derivatives
JP2739505B2 (en) Method for producing optically active 3,4-dehydropyrrolidine compound
JPS6229577A (en) Oxazolidine derivative
JPH0343278B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees