JPH04137297U - 磁気軸受式ターボ分子ポンプ - Google Patents
磁気軸受式ターボ分子ポンプInfo
- Publication number
- JPH04137297U JPH04137297U JP4580691U JP4580691U JPH04137297U JP H04137297 U JPH04137297 U JP H04137297U JP 4580691 U JP4580691 U JP 4580691U JP 4580691 U JP4580691 U JP 4580691U JP H04137297 U JPH04137297 U JP H04137297U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor shaft
- rotor
- magnetic bearing
- temperature
- electromagnets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000007667 floating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 9
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的簡単な構成で、半導体製造装置等に利
用する際のプロセスガスの温度低下時に反応で生じる生
成物の部材への堆積を阻止する。 【構成】 回転センサー38からの回転検知信号が入力
されるシステムコントローラ70でロータ軸18の非回
転が検出され、さらに、磁気浮上用コントローラ80か
らのシステムコントローラ70でロータ軸18の非浮上
を検出したロータ15の未作動時に、ロータ軸18の浮
上中より大なる電流を半径方向電磁石20、24と、軸
方向電磁石32、34に供給してコイルを発熱させ、そ
の発熱により温度上昇を行う。
用する際のプロセスガスの温度低下時に反応で生じる生
成物の部材への堆積を阻止する。 【構成】 回転センサー38からの回転検知信号が入力
されるシステムコントローラ70でロータ軸18の非回
転が検出され、さらに、磁気浮上用コントローラ80か
らのシステムコントローラ70でロータ軸18の非浮上
を検出したロータ15の未作動時に、ロータ軸18の浮
上中より大なる電流を半径方向電磁石20、24と、軸
方向電磁石32、34に供給してコイルを発熱させ、そ
の発熱により温度上昇を行う。
Description
【0001】
本考案は半導体製造装置等に利用する磁気軸受式ターボ分子ポンプに関し、特
に、ロータの未作動時にも温度上昇を行うようにして、半導体製造装置等に利用
する場合の温度低下時にプロセスガスの反応で発生する生成物の部材への堆積を
阻止する磁気軸受式ターボ分子ポンプに関する。
【0002】
従来、半導体製造装置等、例えば、エッチング装置、CVD等ではロータを磁
気浮上させる非接触回転の磁気軸受式ターボ分子ポンプを用いてSiH4 、PH 3
、B2 H6 、A5 H3 等のプロセスガスを排出している。
半導体製造装置に配置された磁気軸受式ターボ分子ポンプは、この磁気軸受式
ターボ分子ポンプを流通するプロセスガスが温度が50°乃至60°に低下する
と反応して生成物が発生し、この生成物が隣接した内壁等に付着することが知ら
れている。
【0003】
この場合、メンテナンスや休業等で運転停止を度々行うとロータ翼およびステ
ータ翼の堆積物が増大して、結果的に磁気軸受式ターボ分子ポンプを起動できな
い場合があった。
このため、磁気軸受式ターボ分子ポンプにはヒーターと、このヒーターの発熱
制御を行うための制御回路が設けられている。
【0004】
このヒーターの通電を制御して、例えば、プロセスガスが存在しているままで
運転停止した場合に、磁気軸受式ターボ分子ポンプの温度が低下しないようにし
ている。
【0005】
しかしながら、上記従来例の磁気軸受式ターボ分子ポンプは、ヒーターと、制
御回路が必要であり、構成が複雑となる欠点があった。
本考案は、上記課題に鑑みてなされ、比較的簡単な構成で半導体製造装置等に
利用する際の温度低下時に、プロセスガスの反応で発生する生成物の部材への堆
積が阻止できる優れた磁気軸受式ターボ分子ポンプを提供することを目的とする
。
【0006】
上記目的を達成するために、本考案の磁気軸受式ターボ分子ポンプは、ステー
タ翼と、磁気軸受とロータ軸およびロータ翼を有するロータと、モータ機構と、
温度上昇手段とを備える磁気軸受式ターボ分子ポンプであって、温度上昇手段は
、ロータ軸の非回転を検出する第1の検出手段と、ロータ軸の非浮上を検出する
第2の検出手段と、第1の検出手段でロータの非回転が検出されるとともに第2
の検出手段でロータ軸の非浮上が検出される際に、ロータ軸の浮上中より大なる
値の電流を電磁石に供給して発熱させるための電流制御手段とを備えるものであ
る。
【0007】
上記のように構成される本考案の磁気軸受式ターボ分子ポンプでは、第1の検
出手段でロータ軸の非回転が検出されるとともに、第2の検出手段でロータ軸の
非浮上が検出されるロータの未作動時の温度低下時に、ロータ軸の浮上中より大
なる電流を電磁石に供給して発熱させ、その発熱により温度上昇を行うようにし
ている。
【0008】
このため、比較的簡単な構成で、半導体製造装置等に利用する際のプロセスガ
スの温度低下時に反応で生じる生成物の部材への堆積が阻止できる。
【0009】
以下、本考案の磁気軸受式ターボ分子ポンプに係る一実施例の構成を図面をも
とに詳細に説明する。
図1は実施例の全体構成を示しており、半導体製造装置等内に設置されてプロ
セスガスの排出を行うものである。
【0010】
この例は、円筒状の外装体10の内側に複数のステータ翼12が配置されてお
り、このそれぞれのステータ翼12間に複数のロータ翼14が配置されている。
ロータ翼14はロータ15の外周囲壁に設けられ、磁性体のロータ軸18にボ
ルトで固定されており、このロータ軸18に連動して回転する。
ロータ15は、周知の磁気軸受けを利用しており、ロータ翼14をロータ軸1
8にボルトで固定した近傍のロータ軸18の周囲に、ロータ軸18を挟み、且つ
90°間隔で対向した一対づつの合計4個からなる半径方向電磁石20が配置さ
れるとともに、この半径方向電磁石20のそれぞれの前記ボルトの反対側の位置
に隣接して、一対づつの合計4個からなる半径方向センサー22が設けられてい
る。
【0011】
さらに、半径方向電磁石20から離間した位置に、半径方向電磁石20と同様
構成の一対づつの合計4個からなる半径方向電磁石24が配置され、この半径方
向電磁石24の半径方向センサー22側にも隣接して一対づつの合計4個からな
る半径方向センサー26が設けられている。
この半径方向電磁石20、24に励磁電流が供給されてロータ軸18が磁気浮
上し、この浮上時における半径方向センサー22、26の位置検知信号によって
、ロータ軸18を所定位置に保持するように励磁電流を制御するようになってい
る。
【0012】
また、外装体10の内側の半径方向センサー22と半径方向センサー26との
間に高周波モータ30が設けられている。この高周波モータ30に通電されるこ
とによって、ロータ軸18、すなわち、ロータ翼14が回転する。
また、ロータ軸18には円盤状の磁性体の金属ディスク31が設けられており
、この金属ディスク31を挟み、且つ対向した一対づづの軸方向電磁石32、3
4が設けられている。さらにロータ軸18の切断端部に隣接して、外装体10の
一部をなす部材に軸方向センサー36が配置されている。
【0013】
この軸方向電磁石32、34の励磁電流を軸方向センサー36からの位置検知
信号によって、ロータ軸18を軸方向で所定位置に保持するように励磁電流を制
御するようになっている。
また、このロータ軸18の端部には、ロータ軸の回転数を検出するための磁気
感応式パルスゼネレーター等の回転センサー38が配置されている。この回転セ
ンサー38はロータ軸18の端部に磁石が固定され、その近傍の外装体10の一
部をなす部材に検知コイルが配置された周知の構成である。
【0014】
これらの各部は、軸方向電磁石32、34の近傍に設けられたコネクタ44を
通じて、磁気軸受コントローラやメインコントローラ等を備える信号処理系に接
続されている。
図2は上記における電気的構成を示している。
この例はマイクロプロセッサ(MPU)等を用いたシステムコントローラ70
と、磁気浮上用コントローラ80とで概略構成されている。
【0015】
システムコントローラ70は、CPU70a、プログラムを格納したROM7
0b、ワーキング用RAM70c、キーボードインタフェ−ス(I/F)70d
、表示器I/F70e、I/O70f、70g、70hを備えており、これらは
内部バスライン70jに接続されている。
キーボ−ドI/F70dには、各種の動作指示等の操作を行うキーボード74
が接続されている。
【0016】
また表示器I/F70eには、キーボード74からの操作状態や浮上状態、さ
らに動作状態を表示するためのLCD等の表示器76が接続されている。
I/O70fは磁気浮上用コントローラ80と接続され、この磁気浮上用コン
トローラ80は、一対づつの半径方向センサー22、26と軸方向センサー36
からの位置検知信号が各々入力されるPID(補正回路)82a、82b、82
c、82d、82eが設けられている。
【0017】
さらにPID82a、82b、82c、82d、82eのそれぞれの出力端に
増幅器84a、84b、84c、84d、84eが接続されている。
増幅器84a、84b、84c、84dの出力部に一対ずつのコイルで構成さ
れる半径方向電磁石20、24が接続されている。また増幅部84eの出力部に
は、一対ずつのコイルで構成される軸方向電磁石32、34が接続されている。
【0018】
この磁気浮上用コントローラ80はロータ軸18が磁気浮上する際に、半径方
向センサー22、26からの位置検知信号に基づいて、磁気浮上したロータ軸1
8を所定位置で保持するように増幅器84a、84b、84c、84dの増幅率
を変化させて半径方向電磁石20、24に供給する励磁電流を変化させる制御を
行う。
【0019】
同時に、磁気浮上用コントローラ80は、磁気浮上した際のロータ軸18の軸
方向の所定位置に保持するように軸方向センサー36からの位置検知信号にもと
づいて増幅器82e増幅率を変化させ、軸方向電磁石32、34に供給する励磁
電流を変化させる制御を行う。
I/O70gには、回転センサー38が接続されており、この回転センサー3
8からのパルス信号をCPU70aで読み取り、ロータ軸18の回転数を検知す
る。また、I/O70hはモータドライバー77に接続されている。
【0020】
なお、上記構成にあって、第1の検出手段は回転センサー38とシステムコン
トローラ70のI/O70g、CPU70aが対応し、また、第2の検出手段は
磁気浮上用コントローラ80とシステムコントローラ70のI/O70f、CP
U70aが対応する。さらに、電流制御手段は、モータドライバー77とシステ
ムコントローラ70のI/O70h、CPU70aが対応する。
【0021】
次に、上記の構成における温度上昇の制御動作について説明する。
この制御は、ロータ15の未作動時の温度低下でプロセスガスの反応による生
成物がロータ翼14およびステータ翼12に堆積するのを阻止するため半径方向
電磁石20、24と軸方向電磁石32、34のそれぞれのコイルに、ロータ軸1
8の浮上中の励磁電流より大きい値の電流を通電して、その発熱により温度上昇
を行うものである。
【0022】
先ず、全体の動作の後、磁気浮上用コントローラ80の通電制御で半径方向電
磁石20、24と、軸方向電磁石32、34に、それぞれ増幅器84a、84b
、84c、84d、84eを通じて励磁電流が供給されて作動し、ロータ軸18
が外装体10内で浮上して所定位置に保持される。
続いて、CPU70aの制御によりI/O70hを通じてモータードライバー
77が駆動され、このモータードライバー77内の図示しないインバータ部から
所定の電圧が高周波モータ30に印加される。この通電によりロータ軸18が回
転する。同時に、回転センサー38からのパルス信号をI/O70gを通じてC
PU70aがポーリング、割り込み処理等で取り込む。
【0023】
ここでロータ翼14が回転して半導体製造装置等におけるプロセスガスの排出
が行われる。
次に、図3のフローチャートに示す制御を行う。
ステップ(S)100では、I/O70gを通じてCPU70aが回転センサ
ー38からの回転検知信号を取り込む。
【0024】
S101では、回転検知信号の有無を判断する。すなわち、高周波モータ30
に通電されて、ロータ軸18が回転しているか否かを判断する。回転中のYes
の場合は、図示しないヒーター等が作動しており、所定の高温であり、プロセス
ガスの反応による生成物が発生しないとして、S100にリターンして以降の処
理を繰り返す。回転していないNoの場合は次のS102に進む。
【0025】
S102では、磁気浮上用コントローラ80から、半径方向電磁石20、24
と、軸方向電磁石32、34に通電中の制御信号をI/O70fを通じてCPU
70aが取り込む。
S103では、S102で取り込んだ制御信号からロータ軸18が浮上中か否
かをCPU70aで判断する。通電中のYesの場合は、S100にリターンす
る。すなわち、半径方向電磁石20、24と、軸方向電磁石32、34に磁気浮
上用コントローラ80から通電中である。この場合、図示しないヒーター等が作
動しており、所定の高温であり、プロセスガスの反応による生成物はし発生しな
いとしてS100にリターンして以降の処理を繰り返す。Noの場合は、次のS
104に進む。
【0026】
S104では、磁気浮上用コントローラ80内の増幅器84a、84b、84
c、84dの増幅率を変化させて、通常の浮上時よりも半径方向電磁石20、2
4と、軸方向電磁石32、34に大電流を供給するように制御を行う。
この大電流の通電の制御は、回転検知信号がシステムコントローラ70に入力
された場合のロータ15の未動作時に停止される。さらに、この大電流の通電の
制御は半径方向電磁石20、24と、軸方向電磁石32、34に対する通電電流
を磁気浮上用コントローラ80を通じてシステムコントローラ70が検知した場
合のロータ15の未動作時にも停止されることになる。
【0027】
このようにして、ロータ15の未作動時に半径方向電磁石20、24と軸方向
電磁石32、34のそれぞれのコイルに、ロータ軸18の浮上中の励磁電流より
大きい値の電流を通電する。これによって、コイル部材が抵抗で発熱して温度が
上昇して、ロータ15の未作動時に温度低下が生じることなく、プロセスガスの
反応による生成物がロータ翼14およびステータ翼12に堆積するのを阻止する
ことができる。
【0028】
この場合、半径方向電磁石20、24と軸方向電磁石32、34のそれぞれの
コイルに電流を通電する制御を行うのみであり構成が簡単である。
なお、上記実施例では、半径方向電磁石20、24と軸方向電磁石32、34
全部に大電流を供給したが、いずれか一つに大電流を通電するようにしても同様
の作用効果が得られる。
【0029】
また、温度センサーを外装体10内に配置し、この温度センサーからの検知信
号をシステムコントローラ70に入力して半径方向電磁石20、24と軸方向電
磁石32、34への通電電流の値を制御し、あるいは間歇的に通電を行うように
して、一定温度に保持する温度制御を行うこともできる。
【0030】
本考案の磁気軸受式ターボ分子ポンプは、上記説明から明らかなように、ロー
タの非回転とロータ軸の非浮上が検出されるロータの未作動時の温度低下時にロ
ータ軸の浮上中より大なる電流を電磁石に供給して発熱させ、その発熱により温
度上昇を行うようにしたので、比較的簡単な構成で、半導体製造装置等に利用す
る際のプロセスガスの温度低下時に反応で生じる生成物の部材への堆積が阻止で
きるという効果を有する。
【図1】本考案の磁気軸受式ターボ分子ポンプに係る一
実施例を示す構成図である。
実施例を示す構成図である。
【図2】実施例の電気的構成を示すブロック線図であ
る。
る。
【図3】図2に示すモータドライバーのフローチャート
図である。
図である。
12 ステータ翼
14 ロータ翼
15 ロータ
18 ロータ軸
20、24 半径方向電磁石
30 高周波モータ
32、34 軸方向電磁石
38 回転センサー
70 システムコントローラ
70a CPU
70f、70g、70h I/O
77 モータドライバー
80 磁気浮上用コントローラ
Claims (1)
- 【請求項1】 ステータ翼と、磁気軸受とロータ軸およ
びロータ翼を有するロータと、モータ機構と、温度上昇
手段とを備える磁気軸受式ターボ分子ポンプであって、
上記温度上昇手段は、上記ロータ軸の非回転を検出する
第1の検出手段と、上記ロータ軸の非浮上を検出する第
2の検出手段と、上記第1の検出手段で上記ロータの非
回転が検出されるとともに、第2の検出手段で上記ロー
タ軸の非浮上が検出される際に、上記ロータ軸の浮上中
より大なる値の電流を電磁石に供給して発熱させるため
の電流制御手段と、を備えることを特徴とする磁気軸受
式ターボ分子ポンプ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4580691U JPH04137297U (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 磁気軸受式ターボ分子ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4580691U JPH04137297U (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 磁気軸受式ターボ分子ポンプ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04137297U true JPH04137297U (ja) | 1992-12-21 |
Family
ID=31925573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4580691U Pending JPH04137297U (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | 磁気軸受式ターボ分子ポンプ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04137297U (ja) |
-
1991
- 1991-06-18 JP JP4580691U patent/JPH04137297U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108374800B (zh) | 磁轴承控制装置及真空泵 | |
EP2469096A1 (en) | Vacuum pump | |
JP5764141B2 (ja) | 磁気軸受の制御装置と該装置を備えた排気ポンプ | |
KR102106659B1 (ko) | 전자 회전 장치 및 그 전자 회전 장치를 구비한 진공 펌프 | |
US20230220848A1 (en) | Vacuum pump and vacuum pump cleaning system | |
CN110159584B (zh) | 磁悬浮控制装置以及真空泵 | |
JP6801481B2 (ja) | 磁気軸受装置および真空ポンプ | |
JPH04137297U (ja) | 磁気軸受式ターボ分子ポンプ | |
JP2001086704A (ja) | モータ一体構造の磁気軸受装置 | |
EP4303447A1 (en) | Vacuum pump and vacuum exhaust device | |
JP3254049B2 (ja) | 磁気軸受式回転機械 | |
JP2565155Y2 (ja) | ターボ分子ポンプ装置 | |
JP2596376Y2 (ja) | ターボ分子ポンプ装置 | |
KR20230116781A (ko) | 진공 펌프 | |
EP4202227A1 (en) | Vacuum pump, fixed blade, and spacer | |
US20240026888A1 (en) | Vacuum pump and rotating cylinder provided in vacuum pump | |
WO2022163341A1 (ja) | 真空ポンプ及びスペーサ | |
EP4163498A1 (en) | Vacuum pump and vacuum pump rotating body | |
US20230383757A1 (en) | Vacuum pump and vacuum exhaust system using the vacuum pump | |
JP4000969B2 (ja) | 制御型磁気軸受装置 | |
WO2023037985A1 (ja) | 真空ポンプ及び真空ポンプの熱移動抑制部材 | |
EP4310338A1 (en) | Vacuum pump, vacuum pump control device, and remote control device | |
EP4194699A1 (en) | Vacuum pump and rotor blade for vacuum pump | |
EP4438904A1 (en) | Vacuum pump and control device | |
US20240141906A1 (en) | Vacuum pump |