JPH04130420A - Optical writing type liquid crystal light valve - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
本発明は、光プリンターの中間記録媒体、画像表示装置
、光シャッタ、画像処理装置、光情報処理ソステム等に
使用される光書き込み型液晶ライトバルブに関するもの
である。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an optical writing type liquid crystal light used in intermediate recording media of optical printers, image display devices, optical shutters, image processing devices, optical information processing systems, etc. It concerns valves.
本発明は、暗時には高抵抗率、光照射時には高い導電率
を示す高怒度な光導電層と、適度な導電率と高い反射率
を有する光反射層としての誘電体ミラーとを組み合わせ
た光書き込み型液晶ライトバルブに関するものである。The present invention is a light-emitting device that combines a high-temperature photoconductive layer that exhibits high resistivity in the dark and high conductivity when irradiated with light, and a dielectric mirror as a light-reflecting layer that has moderate conductivity and high reflectance. This invention relates to a writing type liquid crystal light valve.
光導電層としては、特にライトノ\ルブ作成時の温度(
〜200− c )に対し安定で、暗時の比抵抗が高く
、光照射時に光導電率の大きな水素化アモルファスシリ
コン(a−3i:H)等が良好な特性を与える。光反射
層としては、SiとGeとの化合物層とS i Oz
jiiとを交互に多層積層した誘電体ミラーを用い、そ
の化合物層の分子式を5i1−XGexとしたとき、0
1≦x≦0.6の組成である。さらに、化合物層、S
IOz層の各層の厚みdは、λ/4膜を形成するように
、所定の波長λ、材料の屈折率n、膜厚dとすれば、d
=J/4nとしている。As a photoconductive layer, the temperature (
Hydrogenated amorphous silicon (a-3i:H), etc., which is stable with respect to ~200-c), has a high specific resistance in the dark, and has a high photoconductivity when irradiated with light, provides good characteristics. As the light reflection layer, a compound layer of Si and Ge and a SiOz
When using a dielectric mirror in which multiple layers of .jii and .
The composition is 1≦x≦0.6. Furthermore, a compound layer, S
The thickness d of each layer of the IOz layer is d, assuming a predetermined wavelength λ, material refractive index n, and film thickness d so as to form a λ/4 film.
=J/4n.
本発明によるライトバルブを用いる事により、高精細な
画像表示が可能であり、書込み速度も速く動画表示可能
な光書込み型画像投射装置を提供する事ができる。By using the light valve according to the present invention, it is possible to provide an optical writing type image projection device that can display high-definition images, has a fast writing speed, and can display moving images.
[従来の技術]
従来より光情報処理、光パターン認識の研究においては
インコヒーレント光情報をコヒーレント光情報に変換す
るためや、光情報を空間光変調するため光書き込み型液
晶ライトバルブが数多(研究されてきた。[Prior art] In research on optical information processing and optical pattern recognition, many optical writing type liquid crystal light valves have been used to convert incoherent optical information into coherent optical information and to perform spatial light modulation of optical information. has been studied.
上記光書き込み型液晶ライトバルブは、解像度やコント
ラストや応答速度を改善するために、使用する液晶層に
強誘電性液晶やTN液晶やSmA液晶などを用いたり、
光導電層として水素化アモルファスソリコン(後述では
a−5i:Hと記号で表す)やCdSeのようなカルコ
ゲナイド化合物あるいは有機光導電性材料を用いたり多
くの試みがなされてきた。In order to improve resolution, contrast, and response speed, the above-mentioned optical writing type liquid crystal light valve uses ferroelectric liquid crystal, TN liquid crystal, SmA liquid crystal, etc. for the liquid crystal layer.
Many attempts have been made to use hydrogenated amorphous silicon (hereinafter referred to as a-5i:H), a chalcogenide compound such as CdSe, or an organic photoconductive material as the photoconductive layer.
特に、反射型で光情報を読み出すような型の光書き込み
型液晶ライトバルブにおいては反射率が高く、液晶駆動
回路パラメータに適合した電気特性を持つ誘電体ミラー
としてSi/SiO□多層膜ミラーが応用されてきた。In particular, Si/SiO□ multilayer film mirrors are used as dielectric mirrors that have high reflectance and electrical characteristics that suit the parameters of the liquid crystal drive circuit in optical writing type liquid crystal light valves that read out optical information. It has been.
その他にもS i Ot / T i O2、Z n
S / M gF2などの組合せによる誘電体ミラーを
形成する研究が試みられてきた。In addition, S i Ot / T i O2, Z n
Research has been attempted to form dielectric mirrors by combinations such as S/M gF2.
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、上記のような従来のS i / S I
O2で誘電体ミラーを作製した場合では、面内方向での
比抵抗が低すぎるため、光を照射すると全面に電圧が印
加され、そしてその度合によっては画像がぼけたり、む
らができたり、画像を書き込む事ができなかったりして
、解像度を上げることができないという問題があった。[Problem to be solved by the invention] However, the above-mentioned conventional S i / S I
When a dielectric mirror is made with O2, the specific resistance in the in-plane direction is too low, so when light is irradiated, a voltage is applied to the entire surface, and depending on the degree, the image may be blurred, uneven, or distorted. There was a problem that the resolution could not be increased because it could not be written.
また、光導電膜であるa−3i:Hと誘電体ミラーの半
導体接合によっても上記と同様な特性を示すという問題
点を有していた。Furthermore, a semiconductor junction between a-3i:H, which is a photoconductive film, and a dielectric mirror also has the problem of exhibiting characteristics similar to those described above.
[課題を解決するための手段]
上記問題点を解決する為に本発明に関わる光書き込み型
液晶ライトバルブは、光反射層を、SiとGeとの化合
物層とSin、層とを交互に多層積層した誘電体ミラー
で構成し、その化合物の分子式をSI+−xGe、lと
したとき0.01≦x≦0,6の組成とした。[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the optical writing type liquid crystal light valve according to the present invention has a light reflecting layer made of a multilayer consisting of a Si and Ge compound layer and a Sin layer alternately. It is composed of stacked dielectric mirrors, and has a composition of 0.01≦x≦0.6, where the molecular formula of the compound is SI+-xGe,l.
さらに、誘電体ミラーは、少なくとも2種類のGeの元
素濃度を有する化合物層を用いた多層積層構造、もしく
は、各化合物層のGe元素濃度が、光導電層側から液晶
配向層側に向かって減少する濃度勾配を有する多層積層
構造とした。Furthermore, the dielectric mirror has a multilayer stacked structure using compound layers having at least two types of Ge element concentrations, or the Ge element concentration of each compound layer decreases from the photoconductive layer side to the liquid crystal alignment layer side. It has a multilayered structure with a concentration gradient.
さらに、誘電体ミラーと光導電層との間に絶縁層を挿入
する構造とした。Furthermore, a structure was adopted in which an insulating layer was inserted between the dielectric mirror and the photoconductive layer.
[作用コ
このような構成を有する本発明の光書き込み型液晶ライ
トバルブによれば、SiとGeとの化合物層とSin、
層とを交互に多層積層し、その化合物層の分子式を5j
l−XGeXとしたとき0.1≦x≦0.6の組成とし
て誘電体ミラーを構成することにより、強誘電性液晶の
比抵抗(10”−10′!Ω・C11)と光導電層のa
−3i:Hの比抵抗(明暗では10’Ω・。、暗時では
1010〜10日Ω・cJから液晶ライトバルブを最適
に駆動するために要求される誘電体ミラーの比抵抗10
’〜1010を達成している。[Function] According to the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention having such a configuration, a compound layer of Si and Ge,
The molecular formula of the compound layer is 5j.
By configuring the dielectric mirror with a composition of 0.1≦x≦0.6 when l-XGeX, the specific resistance of the ferroelectric liquid crystal (10''-10'!Ω・C11) and the photoconductive layer are a
-3i:H specific resistance (10'Ω・in bright and dark conditions, 1010 to 10Ω・cJ in dark conditions), the specific resistance of the dielectric mirror required to optimally drive the liquid crystal light valve is 10
'~1010 has been achieved.
また、誘電体ミラーをSiとGeとの化合物層とSi0
g層とを交互に多層積層構造とすることにより、誘電体
ミラーの光反射特性を高め、SiとGeとの化合物層の
光吸収により光透過率をほぼ0%に抑えることができ、
可視光反射率が高く、読み出し光に対して前記光導電層
が受ける影響の小さい誘電体ミラーを実現している。In addition, the dielectric mirror is made of a compound layer of Si and Ge and Si0
By forming a multilayer structure in which the G layers are alternately stacked, the light reflection characteristics of the dielectric mirror can be enhanced, and the light transmittance can be suppressed to almost 0% due to the light absorption of the compound layer of Si and Ge.
A dielectric mirror is realized which has a high visible light reflectance and whose photoconductive layer is less affected by readout light.
さらに、誘電体ミラーを構成する前記各化合物層のGe
元素濃度を光導電層側から液晶配向層側に向かって減少
する濃度勾配とすることにより、使用波長帯域を広くす
ることができ、また、少なくとも2種類のGeの元素濃
度の化合物層を用いて多層積層構造とすることにより、
各化合物層において異なる波長帯を中心とした反射特性
を有し、それらが重なりあって使用波長帯域を広くする
ことができる。Furthermore, Ge of each of the compound layers constituting the dielectric mirror is
By setting the element concentration to a concentration gradient that decreases from the photoconductive layer side to the liquid crystal alignment layer side, the usable wavelength band can be widened, and by using compound layers with at least two types of Ge element concentrations, By making it a multilayer laminated structure,
Each compound layer has reflection characteristics centered around different wavelength bands, and these overlap to widen the usable wavelength band.
また、光導電層と誘電体ミラーとの間に絶縁層を設ける
ことにより、光導電層と誘電体ミラーとの半導体接合を
回避し、その半導体接合に寄因する面内方向での比抵抗
の低下を防止している。Furthermore, by providing an insulating layer between the photoconductive layer and the dielectric mirror, the semiconductor junction between the photoconductive layer and the dielectric mirror can be avoided, and the specific resistance in the in-plane direction due to the semiconductor junction can be reduced. Preventing the decline.
ここで、誘電体ミラーを構成する化合物層、SiO2層
の各層は、λ/4として形成することが好ましく、所定
の波長λ、各層の屈折率nとすれば、各層の厚みdは、
d=λ/4nとして形成する必要がある。Here, each layer of the compound layer and the SiO2 layer constituting the dielectric mirror is preferably formed as λ/4, and if the predetermined wavelength is λ and the refractive index of each layer is n, then the thickness d of each layer is as follows:
It is necessary to form it as d=λ/4n.
[実施例]
第1図は、本発明による暗時には高砥抗率、光照射時に
は高い導電率を示す高感度な光導を層と、適度な導電率
と高い反射率を有する誘電体ミラーを組み合わせた光書
き込み型液晶ライトバルブの構造を示す断面図である。[Example] Figure 1 shows a combination of a highly sensitive light guide layer according to the present invention that exhibits high abrasive resistivity when dark and high conductivity when irradiated with light, and a dielectric mirror that has moderate conductivity and high reflectance. FIG. 2 is a cross-sectional view showing the structure of an optical writing type liquid crystal light valve.
本実施例においては、先ず透明基板118.11bとし
て透明ガラス基板を用意し、透明電極層12a、12b
として表面にITOI明1を極層を形成し、更に透明基
板11bの外側の表面に無反射コーティング層18を形
成した。In this embodiment, first, a transparent glass substrate is prepared as the transparent substrate 118.11b, and the transparent electrode layers 12a, 12b are
A polar layer of ITOI Bright 1 was formed on the surface, and a non-reflective coating layer 18 was further formed on the outer surface of the transparent substrate 11b.
また、光書き込み側透明電極層1.2 a上には、S
i F4を主体とするガスを放電分解して厚さ2〜3μ
mのイントリンシツクなa−3iHを形成し、光導電層
15とした。Further, on the optical writing side transparent electrode layer 1.2a, S
i Discharge and decompose gas mainly consisting of F4 to a thickness of 2 to 3μ
A photoconductive layer 15 was formed by forming an intrinsic a-3iH of m.
光導電層15上に絶縁層22を介して、更にSi −G
eの化合物層とS iOを層との多層積層からなる誘電
体ミラー17を形成した。誘電体ミラー17及び投影側
の透明電極上に一酸化珪素(Si0)を基板の法線方向
に対して82度の角度で且つ蒸着の法線方向にセットし
た膜厚計で200OAの厚さに斜方藤着して液晶配向層
13a、13bを形成した。透明基板11a、llbは
その配向層13a、13b側を対向させ、直径1,5μ
mのグラスファイバーを加えた接着剤よりスペーサ19
を介して間隙を制御、形成し、強誘電性液晶層14を挟
持するようにした。封入した強誘電性液晶組成物は、エ
ステル系SmC液晶混合物として、4((4″−オクチ
ル)フェニル)安息香酸(3”−フルオロ、4”−オク
チルオキシ)フェニルエステルと、4− ((4’
−オクチルオキシ)安息香酸(3”−フルオ0.4”オ
クチルオキシ)フェニルエステルを1=1に混合したも
のを用い、これに光学活性物質として5−オクチルオキ
シナフタレンカルボン酸、1゛ −シアンエチルエステ
ルを、25重量%を加えて強誘電性液晶組成物としたも
のを用いた。Further, Si-G is formed on the photoconductive layer 15 via the insulating layer 22.
A dielectric mirror 17 consisting of a multilayer stack of a compound layer of e and a SiO layer was formed. Silicon monoxide (Si0) was deposited on the dielectric mirror 17 and the transparent electrode on the projection side to a thickness of 200 OA using a film thickness meter set at an angle of 82 degrees to the normal direction of the substrate and in the normal direction of vapor deposition. The liquid crystal alignment layers 13a and 13b were formed by diagonal gluing. The transparent substrates 11a and llb have alignment layers 13a and 13b facing each other, and have a diameter of 1.5 μm.
Spacer 19 from adhesive with m glass fiber added
A gap was controlled and formed through the ferroelectric liquid crystal layer 14 to sandwich the ferroelectric liquid crystal layer 14 therebetween. The encapsulated ferroelectric liquid crystal composition contains 4((4″-octyl)phenyl)benzoic acid (3″-fluoro, 4″-octyloxy)phenyl ester and 4-((4″-octyl)phenyl) as an ester-based SmC liquid crystal mixture. '
-octyloxy) benzoic acid (3"-fluoro0.4" octyloxy) phenyl ester mixed in a ratio of 1=1, and as an optically active substance, 5-octyloxynaphthalenecarboxylic acid and 1'-cyanethyl A ferroelectric liquid crystal composition was used by adding 25% by weight of ester.
次に、第1図に示す本発明に関わる光書き込み型液晶ラ
イトバルブにおける誘電体ミラー17の各実施例の構成
を、図に基づいて説明する。Next, the configuration of each embodiment of the dielectric mirror 17 in the optical writing type liquid crystal light valve according to the present invention shown in FIG. 1 will be explained based on the drawings.
第2図は、本発明に関わる誘電体ミラーの第1実施例を
示す構成図である。光導電層15であるa−3i:H上
に真空蒸着法でSiO□24を約942人とS i+−
x CeX23を600人A交互に7回繰り返し、さら
にその上にS I +−X G e z23を600人
形成した構造である。FIG. 2 is a configuration diagram showing a first embodiment of a dielectric mirror according to the present invention. About 942 people and Si+-
This is a structure in which 600 layers of x CeX23 are alternately repeated 7 times, and then 600 layers of S I + -X G e z23 are formed thereon.
また、光導電層15であるa−3i:HとSiつCeX
23との間には絶縁層22であるSiO□を挟持した。In addition, the photoconductive layer 15 a-3i:H and SiCeX
23, an insulating layer 22 of SiO□ was sandwiched.
これにより、a−5i:Hと誘電体ミラー17の半導体
接合によって面内方向での比抵抗が低すぎ、光を照射す
ると全面に電圧が印加されるのを防ぐことができた。今
回は絶縁層にSingを用いたが、他にG e Oz
、 T i 02、A1.O,などの絶縁層でも可能で
ある。As a result, the specific resistance in the in-plane direction was too low due to the semiconductor junction between a-5i:H and the dielectric mirror 17, and it was possible to prevent voltage from being applied to the entire surface when irradiated with light. This time, we used Sing for the insulating layer, but we also used G e Oz.
, T i 02, A1. It is also possible to use an insulating layer such as O.
第3図は、本発明に関わる誘電体ミラーの組成比に対す
る比抵抗の特性を示したものである0本発明の液晶ライ
トバルブの強誘電性液晶の比抵抗は10”〜10”Ω’
cmで、a−3iHO比抵抗は明暗では105Ω・。FIG. 3 shows the characteristics of resistivity with respect to the composition ratio of the dielectric mirror according to the present invention.
cm, the specific resistance of a-3iHO is 105Ω・in light and darkness.
、暗時では1010〜1゜1Ω・。であり、液晶ライト
バルブを最適に駆動するには誘電体ミラーの比抵抗は1
09〜1o10Ω、c、でなければならない。横軸にs
i、−えGe8の組成比Xを取り、縦軸にその組成時の
比抵抗を取った。図より誘電体ミラーの比抵抗が109
〜10111Ω・。になる時は組成比Xが0.25〜0
.50の間であることがわかった。今回はXの値は上記
のようになったが作製条件により作製したSi、Gex
O比抵抗が蒸着条件によって図中のA線とB&lの範囲
で変動するので組成比は0.1 ≦x≦0.6とした。, 1010~1°1Ω・in the dark. To optimally drive the liquid crystal light valve, the specific resistance of the dielectric mirror is 1.
Must be 09~1o10Ω, c. s on the horizontal axis
The composition ratio X of i, -e Ge8 was taken, and the specific resistance at that composition was taken on the vertical axis. From the figure, the specific resistance of the dielectric mirror is 109
~10111Ω・. When the composition ratio X is 0.25 to 0
.. It turned out to be between 50 and 50. This time, the value of X was as above, but Si, Gex
The composition ratio was set to 0.1≦x≦0.6 because the O resistivity varies in the range between line A and B&l in the figure depending on the deposition conditions.
第4図は、第2図に示す第1実施例の誘電体ミラーの光
学特性を示したものである。図より可視光反射率が90
%であり、可視光透過率はほぼ0%であった。反射率が
90%であるのに透過率がほぼ0%であるのはSiとG
eの化合物層の光吸収があるためである。このように可
視光反射率が高く、書き込み光のみ透過し、読み出し光
を反射する特性を有することがわかる。FIG. 4 shows the optical characteristics of the dielectric mirror of the first embodiment shown in FIG. 2. From the figure, the visible light reflectance is 90.
%, and the visible light transmittance was almost 0%. The reason why the reflectance is 90% but the transmittance is almost 0% is Si and G.
This is due to the light absorption of the compound layer e. It can be seen that the material has a high visible light reflectance, and has the property of transmitting only the writing light and reflecting the reading light.
しかし本発明の高屈折率材料の5i−GeはGeを含ん
でいるため光の吸収が大きく、そのため、実質的な光の
反射率の低下をまねいている。However, since 5i-Ge, which is a high refractive index material of the present invention, contains Ge, it absorbs a lot of light, resulting in a substantial decrease in light reflectance.
第5図は、本発明に関わる誘電体ミラーの第2実施例を
示す構成図である。本実施例における誘電体ミラー17
は、光導電層15であるa−3i:H上に真空蒸着法で
x=0.41の5it−xGe、25を約580人とS
iO□26を約890人交互に3回繰り返し、その上に
上記組成と同し5i−Ge 27を前記S l l−X
G eg 25と同し厚さに形成した多層膜30と、
その上にSiO228を約942人とx=0.19のS
1t−X Gex 29を約600人交互に4回繰り
返した多層膜31を組み合わせた構造である。FIG. 5 is a configuration diagram showing a second embodiment of a dielectric mirror according to the present invention. Dielectric mirror 17 in this embodiment
About 580 people and S
iO
A multilayer film 30 formed to the same thickness as G eg 25,
On top of that, about 942 SiO228 people and S of x=0.19
It has a structure in which a multilayer film 31 is formed by repeating 1t-X Gex 29 four times by about 600 people alternately.
また、光導電層15であるa−3i:Hと多層膜30と
の間には絶縁層である5iOz22を挟持した。これに
より、a−3i:Hの光導電層15と誘電体ミラー17
の半導体接合によって面内方向での比抵抗が低すぎ、光
照射すると全面に電圧が印加される現象を防くことがで
きた。今回は絶縁層にSiC2を用いたが、他にGe0
z、MgFzなどの絶縁層でも可能である。Furthermore, an insulating layer of 5iOz22 was sandwiched between the a-3i:H photoconductive layer 15 and the multilayer film 30. As a result, the a-3i:H photoconductive layer 15 and the dielectric mirror 17
Due to the semiconductor junction, the specific resistance in the in-plane direction is too low, and it was possible to prevent the phenomenon in which a voltage would be applied to the entire surface when irradiated with light. This time, we used SiC2 for the insulating layer, but we also used Ge0
It is also possible to use an insulating layer such as MgFz or MgFz.
第6図、第5図に示す第2実施例の誘電体ミラーの光学
特性を示したものである。図より可視光反射率が95%
であり、可視光透過率は0%であった0反射率が95%
であるのに透過率0%であるのはGeの光吸収が大きい
ためであり、このように構成した本実施例の誘電体ミラ
ーは第1実施例の誘電体ミラーに比べ可視光反射率が高
く、書き込み光のみ透過し、読み出し光を反射する悟性
を有することがわかる。6 shows the optical characteristics of the dielectric mirror of the second embodiment shown in FIGS. 6 and 5. FIG. From the figure, the visible light reflectance is 95%.
The visible light transmittance was 0% and the 0 reflectance was 95%.
However, the reason why the transmittance is 0% is because the light absorption of Ge is large, and the dielectric mirror of this example configured in this way has a visible light reflectance that is lower than that of the dielectric mirror of the first example. It can be seen that it has the ability to transmit only the writing light and reflect the reading light.
第7図は本発明に関わる誘電体ミラーの第3実施例を示
す構成図である。本実施例による誘電体ミラー17は、
光導電層15であるa−3i:H上に絶縁層5iOx2
2を挟み真空蒸着法でSiC2を約942人と34.−
、Ge、を約600人交互に7回繰り返しその上に5i
I−XGeXを形成した15層構造であり、またこの実
施例ではS++−XcexのGeの組成Xをそれぞれ第
1層と第3層32はx =0.45、第5層と第7N3
3はX−0,40、第9層と第11層34はx =0.
30、第13層と第15層35はx=0.25の構造に
した。FIG. 7 is a configuration diagram showing a third embodiment of a dielectric mirror according to the present invention. The dielectric mirror 17 according to this embodiment is
An insulating layer 5iOx2 is formed on the photoconductive layer 15 a-3i:H.
Approximately 942 people and 34. −
, Ge, is repeated 7 times for approximately 600 people, and then 5i
In this example, the Ge composition X of S++-Xcex is x = 0.45 for the first layer and the third layer 32, and x = 0.45 for the fifth layer and the seventh layer 32.
3 is X-0,40, and the 9th layer and the 11th layer 34 are x = 0.
30, the 13th layer and the 15th layer 35 had a structure where x=0.25.
この実施例では液晶配向層に近い側13aからの5i1
−XGeX層の組成を2層ずつ変えていったが、何層で
組成を変えてもかまわない、液晶配向層に近い側が元素
濃度が小さいように元素濃度が勾配するような構造なら
ば仕様に合わせてどのように組み合わせようがかまわな
い。In this example, 5i1 from the side 13a close to the liquid crystal alignment layer.
-The composition of the XGeX layer was changed two at a time, but it does not matter how many layers the composition is changed, as long as the structure has a gradient of element concentration so that the element concentration is lower on the side closer to the liquid crystal alignment layer, it meets the specifications. It doesn't matter how you combine them.
第8図は、第7図に示す第3実施例の誘電体ミラーの光
学特性を示したものである。圀より可視光反射率が95
%であり、可視光透過率はほぼ0%であった。反射率が
95%であるのに透過率がほぼ0%であるのはSiとG
eとの化合物層の光吸収があるためである。このように
第1実施例の誘電体ミラーより可視光反射率が高く、書
き込み光のみ透過し、読み出し光を反射する特性を有す
ることがわかる。FIG. 8 shows the optical characteristics of the dielectric mirror of the third embodiment shown in FIG. 7. Visible light reflectance is 95 compared to Kuni.
%, and the visible light transmittance was approximately 0%. The reason why the reflectance is 95% but the transmittance is almost 0% is Si and G.
This is because there is light absorption in the compound layer with e. Thus, it can be seen that the visible light reflectance is higher than that of the dielectric mirror of the first embodiment, and that it has the characteristic of transmitting only the writing light and reflecting the reading light.
以上のように各実施例において誘電体ミラーは、真空蒸
着法で作製したが、その他の製膜法であるスパッタ法、
CVD法などの方法でも作製可能である。As mentioned above, the dielectric mirror in each example was produced by vacuum evaporation, but other film-forming methods such as sputtering,
It can also be produced by a method such as a CVD method.
本発明による光書き込み型液晶ライトバルブに画像情報
等をLDやLED等を用いて書き込む場合は、先ず第一
に液晶ライトパルプの全面に光照射を行いしきい値電圧
よりも十分に大きな直流電圧を印加する、若しくは光照
射を行わない場合には暗時のしきい値電圧よりも十分に
大きい直流バイアス電圧を印加して強誘電性液晶を一方
向の安定状態に揃え、その状態でメモリさせる工程を行
つ。When writing image information, etc. to the optical writing type liquid crystal light valve according to the present invention using an LD or LED, first, the entire surface of the liquid crystal light pulp is irradiated with light, and a DC voltage sufficiently higher than the threshold voltage is applied. or, if no light irradiation is performed, apply a DC bias voltage that is sufficiently larger than the dark threshold voltage to align the ferroelectric liquid crystal to a stable state in one direction and store it in that state. carry out the process.
次に、光照射を行わないで、暗時にはしきい値電圧以下
であり、光照射時にはしきい(i電圧以上となる逆極性
の直流電圧を与えておき、レーザビームやLED等の光
書き込み手段を用いて投射表示したい画像情報を光で書
き込む。ここで用いている光導電層は700〜850n
mの波長の光に対して十分高い感度を有しているため、
例えば780nmの中心波長を持つ半導体レーザを照射
すると光照射を受けた光導電膜15はキャリアを発生し
て低抵抗状態となり、印加されていたバイアス電圧は抵
抗分割された形で液晶層に印加され液晶分子を励起する
。光照射を受けない領域は高抵抗を保持したままであり
、従って液晶分子には殆ど電圧が印加されない為液晶分
子は励起されず、この結果光照射部と非光照射部の液晶
分子の配列方向を異にしたままメモリされる事になる。Next, without light irradiation, a DC voltage of opposite polarity is applied, which is below the threshold voltage during dark and above the threshold (i voltage) during light irradiation, and an optical writing device such as a laser beam or LED is applied. The image information to be projected and displayed is written using light.The photoconductive layer used here has a thickness of 700 to 850 nm.
Because it has a sufficiently high sensitivity to light with a wavelength of m,
For example, when irradiated with a semiconductor laser having a center wavelength of 780 nm, the photoconductive film 15 exposed to light generates carriers and enters a low resistance state, and the applied bias voltage is applied to the liquid crystal layer in the form of resistance division. Excite liquid crystal molecules. The region that is not irradiated with light maintains a high resistance, and therefore, almost no voltage is applied to the liquid crystal molecules, so the liquid crystal molecules are not excited, and as a result, the alignment direction of the liquid crystal molecules in the light irradiated area and the non-light irradiated area is changed. It will be stored in memory with different values.
この様にして書き込まれた画像情報は、偏光子を通った
直線偏光の投射光を照射すると反射層で反射され、検光
子を通ってスクリーン上に投射表示される。偏光子、検
光子に偏光度99.9%、単体透過率38%の偏光板を
用いて、双安定状態間でのコントラスト比を測定したと
ころ、400:1以上の極めて高い値を示した。双安定
性及びメモリ性を持たないTN型、DSM型等の液晶表
示モードでは、液晶分子は直接液晶分子に印加された電
圧によって反射光量が変調される事になるが、その画像
保持時間は究めて短い。The image information written in this way is reflected by the reflective layer when linearly polarized projection light that has passed through the polarizer is projected onto the screen after passing through the analyzer. When the contrast ratio between the bistable states was measured using a polarizing plate with a degree of polarization of 99.9% and a single transmittance of 38% as a polarizer and an analyzer, it showed an extremely high value of 400:1 or more. In liquid crystal display modes such as TN type and DSM type that do not have bistability or memory properties, the amount of reflected light is modulated by the voltage directly applied to the liquid crystal molecules, but the image retention time is difficult to determine. It's short.
一方、本発明によれば光反射率は、そのしきい値特性、
双安定メモリ性から中間調をとり得ず1か0となるが、
書き込まれた画像は、外部からのしきい値電圧以上の電
圧印加或は強い圧力等を受けぬ限り、半永久的に保持さ
れる事になる。画像を形成後電圧をオープン状態にして
3日後再度測定したところ殆どコントラスト比が変化し
ておらず極めて優れたメモリ性を有している事も確認さ
れている。On the other hand, according to the present invention, the light reflectance is determined by its threshold characteristic,
Due to the bistable memory property, it cannot take halftones and becomes 1 or 0, but
The written image will be retained semi-permanently unless a voltage higher than the threshold voltage or strong pressure is applied from the outside. After the image was formed, the voltage was left open and measurements were taken again three days later, and it was confirmed that there was almost no change in the contrast ratio, and that the film had extremely excellent memory properties.
本発明に用いる液晶配向膜としては、SiO斜方蒸着膜
の他に、垂直配向処理剤である塩基性クロム錯体と水平
配向処理側であるポリイミドの混合溶液を塗布焼成した
後、ラビング処理を施して、10゛〜30°の高プレテ
ィルト角を与える配向膜であっても何ら差し障りはない
。又、封入する液晶として、ピリミジン系のカイラルス
メクチック混合液晶組成物や、エステル系カイラルスメ
クチ、り液晶組成物とピリミジン系カイラルスメクチッ
ク液晶組成物による液晶混合物を用いても、全く同様の
効果が得られている。In addition to the SiO oblique evaporation film, the liquid crystal alignment film used in the present invention is prepared by applying and baking a mixed solution of a basic chromium complex as a vertical alignment agent and polyimide as a horizontal alignment agent, and then subjecting it to a rubbing treatment. Therefore, there is no problem in using an alignment film that provides a high pretilt angle of 10° to 30°. Furthermore, even if a pyrimidine-based chiral smectic mixed liquid crystal composition or a liquid crystal mixture consisting of an ester-based chiral smectic liquid crystal composition and a pyrimidine-based chiral smectic liquid crystal composition are used as the liquid crystal to be encapsulated, exactly the same effect can be obtained. There is.
上記第1、第2、第3実施例において、本発明に関わる
誘電体ミラーは、読み出し光透過率を極めて小さくする
ことができるため、従来の光書き込み型液晶ライトバル
ブで用いられきた遮光層を、該誘電体ミラーと前記光導
電層との間に設ける必要がない。もちろん、該遮光層を
付加して、より強い読み出し光を用いることができるよ
うな構成の光書き込み型液晶ライトバルブしとてもよい
ことは言うまでもない。In the first, second, and third embodiments described above, the dielectric mirror according to the present invention can have an extremely low readout light transmittance, so that the light shielding layer used in the conventional optical writing type liquid crystal light valve is not required. , there is no need to provide it between the dielectric mirror and the photoconductive layer. Of course, it goes without saying that an optical writing type liquid crystal light valve having a structure in which the light-shielding layer is added so that stronger readout light can be used is very good.
次に、本発明の光書き込み型液晶ライトバルブの応用例
を説明する。第9図は、本発明の光書き込み型液晶ライ
トバルブを応用した、デジタルカラーレーザープリンタ
ーの概念図である。図中37a、37b、37cが本発
明に関わる光書き込み型液晶ライトバルブであり、それ
ぞれレーザースキャナ38により、レッドR・グリーン
G・フルーB各色に対応する像が書き込まれたのち、投
影光学系39によりそれぞれの色に対応するフィルター
を用いて波長を限定した光でメディア4゜上にそれぞれ
の色の像を形成する。前記メディア31は、第1O図に
示すようなそれぞれ異なった波長の光に反応して硬化す
るマイクロカプセル50a、50b、50cに、各々イ
xo−y、 シアンC,マゼンタMのロイコ染料を封
入したものをベース51上に分散塗布したもので、発色
剤を塗布したレンーハーシート41に圧接ローラ42で
圧接することにより、レシーバ−シート41上にカラー
画像を形成するものである。Next, an application example of the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention will be explained. FIG. 9 is a conceptual diagram of a digital color laser printer to which the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention is applied. In the figure, 37a, 37b, and 37c are optical writing type liquid crystal light valves related to the present invention, and after images corresponding to each color of red R, green G, and full B are written by a laser scanner 38, the projection optical system 39 An image of each color is formed on the media 4° using light whose wavelength is limited using a filter corresponding to each color. The medium 31 has leuco dyes of xo-y, cyan C, and magenta M encapsulated in microcapsules 50a, 50b, and 50c that harden in response to light of different wavelengths as shown in FIG. 1O, respectively. A color image is formed on the receiver sheet 41 by applying pressure with a pressure roller 42 to the Lenher sheet 41 coated with a coloring agent.
前記のようなシステムに、本発明による光書き込み液晶
ライトバルブを応用することにより、画像の品位が高く
、出力時間の短いデジタルカラーレーザープリンターを
実現することができた。By applying the optical writing liquid crystal light valve according to the present invention to the above system, it was possible to realize a digital color laser printer with high image quality and short output time.
また、前記デジタルカラーレーザープリンターのメディ
ア40の位置にスクリーンをおき、3色を同時に投影す
ることにより、高品位のカラープロジェクタ−を実現す
ることもできる。Furthermore, a high-quality color projector can be realized by placing a screen at the position of the media 40 of the digital color laser printer and projecting three colors at the same time.
次に、本発明の光書き込み型液晶ライトバルブをインコ
ヒーレント・コヒーレント変換器とする場合について説
明する。この場合、第1図の光導電層15としてCdS
を真空蒸着したもの、もしくはSe、5eTe等、ある
いは有機物、また、機能分離型の多層構成ものを使用す
る。その他の構成は前述のものと同じものである。Next, a case where the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention is used as an incoherent-coherent converter will be explained. In this case, CdS is used as the photoconductive layer 15 in FIG.
A vacuum-deposited material such as Se, 5eTe, etc., an organic material, or a functionally separated multilayer structure is used. The other configurations are the same as those described above.
上記のようなインコヒーレント・コヒーレント変換器に
よれば、セル外面からのインコヒーレントな書き込み光
20によって強誘電性液晶層I4に像形成が行われ、書
き込みにより形成された像は、あらかじめ書き込み時の
印加方向と逆の電界印加により揃えられた液晶分子の配
向方向(またはそれに直角方向)に偏光軸を合わせた偏
光子を通したコヒーレントな投影光21の照射、及び、
全消去時の反射光の偏光方向乙こ直角(または平行)な
方向の検光子を通した投影により読み出すことができる
。According to the above-described incoherent-coherent converter, an image is formed on the ferroelectric liquid crystal layer I4 by incoherent writing light 20 from the outer surface of the cell, and the image formed by writing is previously Irradiation of coherent projection light 21 through a polarizer whose polarization axis is aligned with the orientation direction (or perpendicular direction thereof) of liquid crystal molecules aligned by applying an electric field opposite to the application direction, and
It can be read by projecting through an analyzer in a direction perpendicular (or parallel) to the polarization direction of the reflected light during total erasure.
以下、本発明の液晶ライトパルプをインコヒーレント・
コヒーレント変換器として応用する場合の例を説明する
。The liquid crystal light pulp of the present invention will be described below as an incoherent liquid crystal light pulp.
An example of application as a coherent converter will be explained.
第11図は、本発明に関わる光書き込み液晶ライトバル
ブを用いた可干渉光相関システムの概念図である。測定
対象物61からの反射光は、レンズ62により本発明に
関わる光書き込み型液晶ライトバルブを用いた液晶光学
素子63上に結像される、ここで、本発明に関わる液晶
光学素子は、非線形光学結晶を用いたものに較べて大面
積であるため、測定対象物が大きくても対応でき、また
、TN、DSM等のモードの液晶を用いたものに較べて
応答速度が速いため、リアルタイムに近い高速処理が可
能である。光書き込み型液晶ライトハルプロ3に生した
像は、偏光ビームスプリッタ−64により分岐され、そ
の偏光軸方向が全消去時の強誘電性液晶分子のダイレク
タ方向に合ったコヒーレント光65が照射される。照射
光は、書き込みによってダイレクタの反転が起こった部
分でのみ、複屈折による偏光状態の変換を受けて反射さ
れる。前記反射光は、複屈折による偏光状態の変換を受
けた部分のみ、偏光ビームスプリンタ64 ヲ6過レン
ズ66、マンチドフィルタ67、レンズ68を通って相
関座標面69上に結像させることにより、光情報処理を
行うものである。本応用例に於て、本発明の液晶光学素
子によるインコヒーレント・コヒーレント変換器を用い
たことにより、大きな物体にも用いることができ、かつ
、リアルタイムに近い高速処理が可能な可干渉光相関シ
ステムが実現される。FIG. 11 is a conceptual diagram of a coherent optical correlation system using an optically written liquid crystal light valve according to the present invention. The reflected light from the measurement object 61 is imaged by a lens 62 onto a liquid crystal optical element 63 using an optical writing type liquid crystal light valve according to the present invention. Since the area is larger than those using optical crystals, it can be measured even when the object to be measured is large.Also, the response speed is faster than those using liquid crystals in modes such as TN and DSM, so it can be used in real time. Near high-speed processing is possible. The image produced on the optical writing type liquid crystal light HALPRO 3 is split by a polarizing beam splitter 64, and coherent light 65 whose polarization axis direction matches the director direction of the ferroelectric liquid crystal molecules at the time of complete erasure is irradiated. . The irradiated light undergoes polarization state conversion due to birefringence and is reflected only at the portion where the director is inverted due to writing. The reflected light passes through a polarizing beam splinter 64, a pass lens 66, a mantid filter 67, and a lens 68, and forms an image on a correlation coordinate plane 69, so that only the portion whose polarization state has been changed by birefringence is formed on a correlation coordinate plane 69. It performs optical information processing. In this application example, by using the incoherent-coherent converter using the liquid crystal optical element of the present invention, a coherent optical correlation system that can be used for large objects and can perform high-speed processing close to real time is developed. is realized.
次に、本発明の光書き込み型液晶ライトバルブを光双安
定性メモリとする場合について説明する。Next, a case where the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention is used as an optical bistable memory will be explained.
この場合、第1図の光導電層15は、5iFaを主体と
するガスを放電分解して3〜lOμmの厚さのa−3t
:H層とした。ここで該光導電層15は、放電分解時に
B、P等を添加した膜組成もしくはa−5i:H層とI
TO這明電極との間にn型、あるいはp型の他の組成の
半導体膜を績層した構成、または印刷法などにより形成
された有機光導電膜や、Se、5eTeなどの蒸着によ
る光導電膜を用いてもよい、尚、その他の構成は第1図
に示すとおりであり、既に説明済みのためここでの説明
は省略する。In this case, the photoconductive layer 15 in FIG.
: H layer. Here, the photoconductive layer 15 has a film composition to which B, P, etc. are added during discharge decomposition, or a-5i:H layer and I
A structure in which an n-type or p-type semiconductor film of other composition is layered between the TO transparent electrode, or an organic photoconductive film formed by a printing method, or a photoconductive film formed by vapor deposition of Se, 5eTe, etc. A membrane may also be used.The other configuration is as shown in FIG. 1, and since it has already been explained, the explanation here will be omitted.
ここで書き込まれたデータは、あらかしめ書き込み時の
印加方向と逆の電界印加により揃えられた液晶分子の方
向(またはそれに直角方向)に偏光軸を合わせた偏光子
を通した読み出し光(投射光)21の照射、及び、前記
の全消去時の反射光の偏光方向に直角(または平行)な
方向の検光子を通した反射光の強度測定により読み出す
ことができる。The data written here is read out by the readout light (projected light ) 21 and measurement of the intensity of the reflected light through an analyzer in a direction perpendicular to (or parallel to) the polarization direction of the reflected light during the total erasure.
このような液晶ライトパルプを用いたメモリは、記録密
度がレーザービームのスポット径に依存するので、CD
−ROMと同等の高密度記録ができ、かつ、アクセス速
度が速く、また、何度でも消去、書き替えができ、バッ
クアップ電源が不要な光双安定メモリであることが確認
された。Memory using such liquid crystal light pulp has a recording density that depends on the spot diameter of the laser beam, so CD
- It has been confirmed that the optical bistable memory is capable of high-density recording equivalent to ROM, has fast access speed, can be erased and rewritten as many times as possible, and does not require a backup power source.
以下、本発明の液晶ライトバルブを光双安定メモリに応
用した例を説明する。An example in which the liquid crystal light valve of the present invention is applied to an optical bistable memory will be described below.
第12図は、本発明の液晶ライトバルブを用いた光デイ
スクメモリの概念図であり、第13図は、前記光デイス
クメモリの中央部のみを拡大した閏である。第12図中
の、メモリ部71a、71bの構造は、第1図と同しで
あり、CDピックアップと同様な構成に偏光子及び検光
子を付加した読み出し光学系73をメモリ部71a、7
1bの光導電層がない側に、半導体レーザーを用いた書
き込み光学系72をメモリ部71a、72bの光導電膜
側に配置した。また、咳光ディスクメモリ70の中央部
は、第13図に示すように透明電極基板の透明電極が、
それぞれ露出した部分81381bを設けてあり、この
部分に回転軸82a82bに設けられた電極バット83
a、83bを接触せしめて露光ディスクメモリに電界を
印加しながら回転させる。走査は、この回転と書き込み
光学系72及び読み出し光学系73のディスクの径方向
の移動により行われる。FIG. 12 is a conceptual diagram of an optical disk memory using the liquid crystal light valve of the present invention, and FIG. 13 is an enlarged view of only the central portion of the optical disk memory. The structure of the memory sections 71a and 71b in FIG. 12 is the same as that in FIG.
A writing optical system 72 using a semiconductor laser was placed on the photoconductive film side of the memory sections 71a and 72b on the side of 1b where there is no photoconductive layer. In addition, as shown in FIG. 13, the central part of the cough optical disk memory 70 has transparent electrodes on a transparent electrode substrate.
Each has an exposed portion 81381b, and the electrode butt 83 provided on the rotating shaft 82a82b is provided in this portion.
A and 83b are brought into contact and rotated while applying an electric field to the exposure disk memory. Scanning is performed by this rotation and movement of the writing optical system 72 and the reading optical system 73 in the radial direction of the disk.
本応用例の光デイスクメモリは、記録密度がレーザービ
ームのスボ、ト径に依存するノテ、CROMと同等の高
密度記録ができ、かつ、アクセス速度が速く、また、何
度でも消去、書き替えができ、ハノクアフプ電源が不要
な光双安定メモリであることが確認された。The optical disk memory of this application example is capable of high-density recording equivalent to CROM, whose recording density depends on the diameter of the laser beam, and has fast access speed, and can be erased and rewritten any number of times. It was confirmed that the Hanokhupu is an optical bistable memory that does not require a power supply.
また、該光メモリは上記と異なり、カート型の形状に作
製し、書き込みをポリゴンミラーまたはガルバノミラ−
を用いた光学系、あるいはLEDアレイ等により行った
ところ、高密度記録ができ、かつ、アクセス速度が速く
、また、何度でも消去、書き替えができ、ハノクアフプ
を源が不要な光双安定メモリであることが確認された。Also, unlike the above, the optical memory is manufactured in a cart-like shape, and writing is performed using a polygon mirror or galvano mirror.
Optical bistable memory that can perform high-density recording, has fast access speed, can be erased and rewritten any number of times, and does not require a power source. It was confirmed that
[発明の効果]
以上のように、本発明の液晶ライトバルブによればコン
トラスト比が大きい上、応答速度が速くレーザー光など
による高速書き込みが可能で、解像度の高い液晶ライト
バルブや簡便な工程で製造でき解像度が高く、大面積で
高速なインコヒーレント・コヒーレント変換器及びコン
トラスト比が大きく、短い時間でレーザーなどの光でア
ドレッシングが可能で高密度で高速アクセスができ、消
去書き替えが可能で、かつバ、クアノプ電源が不要な光
双安定メモリが光導電層の変更のみで実現でき、もって
光プリンターの中間記録媒体、画像表示装置、光シヤツ
ター、可干渉相関ノステムその他の画像処理装置、光情
報システム等の性能・応用範囲を飛躍的に増大せしめる
ものである。[Effects of the Invention] As described above, the liquid crystal light valve of the present invention not only has a large contrast ratio, but also has a fast response speed and can perform high-speed writing using laser beams. A high-resolution, large-area, high-speed incoherent-coherent converter that can be manufactured, has a large contrast ratio, can be addressed with light such as a laser in a short time, can be accessed at high density and at high speed, and can be erased and rewritten. In addition, an optical bistable memory that does not require a power source can be realized by simply changing the photoconductive layer, and can be used as an intermediate recording medium for optical printers, image display devices, optical shutters, coherent correlation systems and other image processing devices, and optical information. This dramatically increases the performance and range of applications of systems, etc.
また、本発明の液晶ライトバルブに用いた誘電体ミラー
は反射率が高く、液晶駆動回路パラメータに適合した電
気特性を有し、画像がぼけたり、むらができたりするこ
となく解像度をあげることができた。In addition, the dielectric mirror used in the liquid crystal light valve of the present invention has a high reflectance and has electrical characteristics that match the parameters of the liquid crystal drive circuit, making it possible to increase the resolution without blurring or unevenness of the image. did it.
第1図は本発明の光書き込み型液晶ライトバルブの構造
を示す断面図、第2図は本発明に関わる誘電体ミラーの
構成図、第3図はSiとGeの組成比に対する比抵抗の
特性を示す図、第4図は第2図に示す第1実施例の誘電
体ミラーの光学特性を示す図、第5図は本発明に関わる
誘電体ミラーの第2実施例を示す構成図、第6図は第5
図に示す第2実施例の誘電体ミラーの光学特性を示す図
、第7図は本発明に関わる誘電体ミラーの第3実施例を
示す構成図、第8図は第7図に示す第3実施例の誘電体
ミラーの光学特性を示す図、第9図は本発明の光書き込
み型液晶ライトバルブを応用したデジタルカラーレーザ
ープリンターの概略図、第10図は第9図に示すデジタ
ルカラーレーザープリンタに用いる書き込みメディアの
構成を示す模式図、第11図は本発明の光書き込み型液
晶ライトバルブを用いた光相関システムの概略図、第1
2図は本発明の光書き込み型液晶ライトバルブ用いた光
デイスクメモリの概略図、第13図は第8図に示す光デ
ィスクのメモリの中央拡大図である。
11a、11b・・・透明基板
12a、12b・・・透明電極層
13a、13b・・・液晶配向膜層
14 ・・・強誘電性液晶層
・・・光導電層
・・・誘電体ミラー
・・・無反射コーティング層
・・スペーサ、接着剤
・・・書き込み光
・・読み出し光
・・・絶縁層
・・−3i +−x G eX
・・・SiO□
・・・第1層と第3層
・・・第5層と第7層
・・・第9Nと第11層
・・・第13層と第15層
37c・・・液晶ライトバルブ
・・・レーザースキャナ
・・・投影光学系
・・・書き込みメディア
・・・レシーバ−シート
50b、 50c・・・マイクロカプセル・・・ヘー
ス
7b
・・・測定対象物
・・・レンズ
・・・光書き込み方液晶ライトバルブ
・・・偏光ビームスプリ、り
・・・コヒーレント光
・・透過レンズ
・・・マンチドフィルター
・・・レンズ
・・・相関座標面
・・・光磁気ディスクメモリ
71b・・・メモリ一部
・・・光学系
b ・・・透明電極
b ・・・回転軸
b ・・・電極パット
以上
出願人 セイコー電子工業株式会社
代理人 弁理士 林 敬 之 助
も
圓
第
図
比抵抗(rLcm )
C%)
汲長
第4図
第
図
第13図Fig. 1 is a cross-sectional view showing the structure of the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention, Fig. 2 is a configuration diagram of a dielectric mirror related to the present invention, and Fig. 3 is the characteristic of resistivity with respect to the composition ratio of Si and Ge. 4 is a diagram showing the optical characteristics of the dielectric mirror of the first embodiment shown in FIG. 2, and FIG. 5 is a configuration diagram showing the second embodiment of the dielectric mirror according to the present invention. Figure 6 is the fifth
FIG. 7 is a diagram showing the optical characteristics of the dielectric mirror of the second embodiment shown in the figure, FIG. 7 is a configuration diagram showing the third embodiment of the dielectric mirror according to the present invention, and FIG. A diagram showing the optical characteristics of the dielectric mirror of the example, FIG. 9 is a schematic diagram of a digital color laser printer to which the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention is applied, and FIG. 10 is a diagram showing the digital color laser printer shown in FIG. 9. FIG. 11 is a schematic diagram showing the configuration of a writing medium used in the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram of an optical disk memory using the optical writing type liquid crystal light valve of the present invention, and FIG. 13 is an enlarged view of the center of the optical disk memory shown in FIG. 8. 11a, 11b...Transparent substrates 12a, 12b...Transparent electrode layers 13a, 13b...Liquid crystal alignment film layer 14...Ferroelectric liquid crystal layer...Photoconductive layer...Dielectric mirror...・Anti-reflective coating layer...Spacer, adhesive...Writing light...Reading light...Insulating layer...-3i +-x G eX...SiO□...First layer and third layer... ...5th layer and 7th layer...9th layer and 11th layer...13th layer and 15th layer 37c...Liquid crystal light valve...Laser scanner...Projection optical system...Writing Media...Receiver sheet 50b, 50c...Microcapsule...Heath 7b...Measurement object...Lens...Light writing method Liquid crystal light valve...Polarizing beam splitter, lens... Coherent light...transmission lens...mantid filter...lens...correlation coordinate plane...magneto-optical disk memory 71b...part of memory...optical system b...transparent electrode b...・Rotation axis b...Electrode pad and above Applicant: Seiko Electronic Industries Co., Ltd. Agent Patent attorney: Keinosuke Hayashi
Claims (2)
び電圧印加手段を具備し、レーザビーム、LEDなどの
光による情報を書き込める光書き込み型液晶ライトバル
ブにおいて、前記光反射層が、一般式Si_1_−_x
Ge_xで示されるSiとGeの化合物層とSiO_2
層とを交互に多層積層した誘電体ミラーで構成したこと
を特徴とする光書き込み型液晶ライトバルブ。(1) In an optical writing type liquid crystal light valve that is equipped with a photoconductive layer, a light reflection layer, a liquid crystal alignment layer, a liquid crystal layer, and a voltage application means and can write information using light such as a laser beam or an LED, the light reflection layer is , general formula Si_1_−_x
Si and Ge compound layer denoted by Ge_x and SiO_2
An optical writing type liquid crystal light valve characterized by being composed of a dielectric mirror in which multiple layers are laminated alternately.
項1記載の光書き込み型液晶ライトバルブ(3)前記光
反射層を構成する前記化合物層のGeの元素濃度が、前
記光導電層に近い層が大きく、前記液晶配向層に近い層
が小さい元素濃度勾配とする請求項1もしくは2記載の
光書き込み型液晶ライトバルブ。(2) The optical writing type liquid crystal light valve according to claim 1, wherein the compound layer satisfies 0.1≦x≦0.6. (3) The elemental concentration of Ge in the compound layer constituting the light reflecting layer is 3. The optical writing type liquid crystal light valve according to claim 1, wherein the element concentration gradient is large in a layer near the photoconductive layer and small in a layer near the liquid crystal alignment layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2253065A JP3041402B2 (en) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | Optical writing liquid crystal light valve |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH04130420A true JPH04130420A (en) | 1992-05-01 |
JP3041402B2 JP3041402B2 (en) | 2000-05-15 |
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ID=17246005
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2253065A Expired - Fee Related JP3041402B2 (en) | 1990-09-21 | 1990-09-21 | Optical writing liquid crystal light valve |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3041402B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5548420A (en) * | 1993-03-16 | 1996-08-20 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Liquid-crystal display device and method for both displaying fast moving images and holding static images |
US5566012A (en) * | 1994-01-04 | 1996-10-15 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optically addressed liquid crystal displaying and recording device |
JP2008287066A (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Dic Corp | Method for manufacturing optically anisotropic body |
-
1990
- 1990-09-21 JP JP2253065A patent/JP3041402B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5548420A (en) * | 1993-03-16 | 1996-08-20 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Liquid-crystal display device and method for both displaying fast moving images and holding static images |
US5566012A (en) * | 1994-01-04 | 1996-10-15 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Optically addressed liquid crystal displaying and recording device |
JP2008287066A (en) * | 2007-05-18 | 2008-11-27 | Dic Corp | Method for manufacturing optically anisotropic body |
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JP3041402B2 (en) | 2000-05-15 |
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