JP2839990B2 - Liquid crystal spatial light modulator - Google Patents

Liquid crystal spatial light modulator

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JP2839990B2
JP2839990B2 JP24019092A JP24019092A JP2839990B2 JP 2839990 B2 JP2839990 B2 JP 2839990B2 JP 24019092 A JP24019092 A JP 24019092A JP 24019092 A JP24019092 A JP 24019092A JP 2839990 B2 JP2839990 B2 JP 2839990B2
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liquid crystal
light modulator
film
spatial light
light
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照高 徳丸
俊一 佐藤
行雄 東條
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Consejo Superior de Investigaciones Cientificas CSIC
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2225/00Active addressable light modulator
    • G03H2225/20Nature, e.g. e-beam addressed
    • G03H2225/22Electrically addressed SLM [EA-SLM]

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、画像表示装置、画像処
理装置、光情報処理システム等に使用され、かつホログ
ラフィックディスプレイに応用可能な液晶空間光変調素
子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal spatial light modulator used for an image display device, an image processing device, an optical information processing system and the like and applicable to a holographic display.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶空間光変調素子の機能は、例えば画
像等の2次元的なパターンを書き込み光によって液晶空
間光変調素子に書き込み、読み出し光によってその書き
込まれている2次元パターンを読み出すものである。こ
れによって、画像光の増幅、しきい値処理、反転又は読
み出し光と書き込み光の間のインコヒーレント・コヒー
レント変換、波長変換等の処理を行うことができる。ま
た、光の干渉パターンを書込み光によって液晶空間光変
調素子に書込み、読み出し光によってその書き込まれて
いる光の干渉パターンを読み出せば、この液晶空間光変
調素子をホログラフィックディスプレイとして用いるこ
とができる。このときホログラフィックディスプレイと
して必要な解像度は、少なくとも数100lp/mm以
上である。
2. Description of the Related Art The function of a liquid crystal spatial light modulator is to write a two-dimensional pattern, such as an image, on a liquid crystal spatial light modulator by writing light and read the written two-dimensional pattern by reading light. is there. Thereby, it is possible to perform processing such as amplification of image light, threshold processing, inversion or incoherent-coherent conversion between readout light and write light, and wavelength conversion. Further, by writing an interference pattern of light to the liquid crystal spatial light modulator by writing light and reading an interference pattern of the written light by reading light, the liquid crystal spatial light modulator can be used as a holographic display. . At this time, the resolution required for the holographic display is at least several 100 lp / mm or more.

【0003】従来の液晶空間光変調素子の構造として
は、液晶の配向状態をツイストネマティック(Applied
Optics,vol.26,p.241,1987)又は、スーパーツイストネ
マティック(電子通信情報学会技術研究報告,Vol.90,N
o.431,p.23,1990 )としたものが知られている。従来例
として、図7に液晶の配向状態をスーパーツイストネマ
ティックとした液晶空間光変調素子の構造を示す。図7
において、101a及び101bはガラス基板、102
a及び102bは透明電極、103a及び103bは液
晶配向膜、104は光導電膜、105は配向状態をスー
パーツイストネマティックとしたネマティック液晶、1
07は書き込み光、108は読み出し光、110は誘電
体ミラーである。図7の構造においては、光導電膜10
4として水素化アモルファスシリコン(以下a−Si:
Hと略す)が用いられ、誘電体ミラー110を介してネ
マティック液晶105が充填されている。ここで、ネマ
ティック液晶105の配向状態がスーパーツイストネマ
ティックとなるように配向処理を施されている。書き込
み光107が照射された部分では、光導電膜104の比
抵抗が低下しこれに応じてネマティック液晶105の印
加電圧が増大し、液晶のしきい値電圧を越えるため、ガ
ラス基板101a及びガラス基板101bの面に沿って
配向していた液晶軸が電圧印加方向に向く。このため、
直線偏光の読み出し光108では偏光面の回転が起きな
い。一方、書き込み光107が照射されていない部分で
は、液晶軸がガラス基板101a及びガラス基板101
bの面の沿ったままのため、読み出し光108の偏光面
が回転する。このため、図示しないアナライザを通して
読み出せば、書き込みパターンに応じたパターンを読み
出すことができる。
[0003] As a structure of a conventional liquid crystal spatial light modulator, the orientation state of liquid crystal is controlled by twisted nematic (Applied).
Optics, vol. 26, p. 241, 1987) or Super Twist Nematic (IEICE Technical Report, Vol. 90, N
o.431, p.23, 1990). As a conventional example, FIG. 7 shows a structure of a liquid crystal spatial light modulator in which the alignment state of liquid crystal is super twist nematic. FIG.
, 101a and 101b are glass substrates, 102
a and 102b are transparent electrodes; 103a and 103b are liquid crystal alignment films; 104 is a photoconductive film; 105 is a nematic liquid crystal having a super twist nematic alignment state;
07 is a writing light, 108 is a reading light, and 110 is a dielectric mirror. In the structure of FIG.
Hydrogenated amorphous silicon (hereinafter a-Si: 4)
H), and the nematic liquid crystal 105 is filled via the dielectric mirror 110. Here, the alignment processing is performed so that the alignment state of the nematic liquid crystal 105 becomes super twist nematic. In the portion irradiated with the writing light 107, the specific resistance of the photoconductive film 104 decreases, and the voltage applied to the nematic liquid crystal 105 increases accordingly, exceeding the threshold voltage of the liquid crystal. Therefore, the glass substrate 101a and the glass substrate The liquid crystal axis oriented along the plane of 101b is oriented in the voltage application direction. For this reason,
The rotation of the plane of polarization does not occur in the linearly polarized readout light 108. On the other hand, in the portion where the writing light 107 is not irradiated, the liquid crystal axes are aligned with the glass substrates 101a and 101a.
The polarization plane of the readout light 108 rotates because it remains along the plane b. For this reason, a pattern corresponding to the write pattern can be read by reading through an analyzer (not shown).

【0004】また、他の従来例として、図8に示すよう
に、強誘電性液晶を用いたものも知られている(第51
回応用物理学会講演会予稿集及びApplied Physics Lett
ers,Vol.158,No.8,p.787,1991 )。図8において、20
1a及び201bはガラス基板、202a及び202b
は透明電極、203a及び203bは液晶配向膜、20
4は光導電膜、205は強誘電性液晶、207は書き込
み光、208は読み出し光、210は誘電体ミラーであ
る。図8の液晶空間光変調素子の構造においては、液晶
層として強誘電性液晶205が充填されている。この液
晶空間光変調素子に数100lp/mm程度の空間周波
数のパターンをコヒーレント光の干渉などを用いて書き
込めば、この液晶空間光変調素子は回析格子としてふる
まい、ホログラフィックディスプレイとして用いること
ができる。
As another conventional example, as shown in FIG. 8, a liquid crystal display using a ferroelectric liquid crystal is also known (No. 51).
Annual Meeting of the Japan Society of Applied Physics and Applied Physics Lett
ers, Vol.158, No.8, p.787, 1991). In FIG. 8, 20
1a and 201b are glass substrates, 202a and 202b
Are transparent electrodes, 203a and 203b are liquid crystal alignment films, 20
Reference numeral 4 denotes a photoconductive film, 205 denotes a ferroelectric liquid crystal, 207 denotes a writing light, 208 denotes a reading light, and 210 denotes a dielectric mirror. In the structure of the liquid crystal spatial light modulator of FIG. 8, a ferroelectric liquid crystal 205 is filled as a liquid crystal layer. If a pattern having a spatial frequency of about several hundred lp / mm is written in the liquid crystal spatial light modulator using interference of coherent light or the like, the liquid crystal spatial light modulator behaves as a diffraction grating and can be used as a holographic display. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術における液晶空間光変調素子では、以下のよう
な問題点がある。
However, the liquid crystal spatial light modulator according to the above-mentioned prior art has the following problems.

【0006】(1) 図7に示す構造の液晶の配向状態
をツイストネマティック又はスーパーツイストミマティ
ックとした液晶空間光変調素子では、書き込み光が照射
された部分と照射されない部分とで読み出し光の偏光面
が異なる効果を利用しているため、この構造の液晶空間
光変調素子に干渉パターンを書き込んで回折格子とした
場合、この回折格子は強度変調型となり、発生する回折
光の回折効率が低くなってしまう。また、この液晶空間
光変調素子による強度変調型の回折格子において、高い
空間周波数の領域では、回折光強度が非常に弱く、ホロ
グラフィックディスプレイに用いるために必要な数10
0lp/mm以上の高空間周波数で回折効率の測定さえ
行われていないのが現状である。
(1) In a liquid crystal spatial light modulator in which the alignment state of the liquid crystal having the structure shown in FIG. 7 is twisted nematic or super twisted mimatic, the polarization of the read light is divided into a portion irradiated with the writing light and a portion not irradiated. Since different planes use different effects, if an interference pattern is written into a liquid crystal spatial light modulator with this structure to form a diffraction grating, this diffraction grating will be of the intensity modulation type, and the diffraction efficiency of the generated diffracted light will be low. Would. Further, in the intensity modulation type diffraction grating using the liquid crystal spatial light modulator, the intensity of the diffracted light is very weak in a high spatial frequency region, and the intensity required for use in a holographic display is several tens.
At present, the diffraction efficiency is not measured even at a high spatial frequency of 0 lp / mm or more.

【0007】(2) 図8の強誘電性液晶を用いた液晶
空間光変調素子の構造では、強度変調型の回折格子とし
た場合、(1)と同様の理由により、高空間周波数領域
で十分な回折効率は得られていない。また、ホログラフ
ィック・ディスプレイ研究会会報,1991,No.2,p.15 に
は、位相変調型の回折格子とした液晶空間光変調素子が
示されているが、ホログラフィックディスプレイに用い
るために必要な数100lp/mm以上の高空間周波数
で十分な回折効率は得られていない。また、強誘電性液
晶を用いているためその双安定性により、液晶の配向状
態を段階的に変化させることができず、書き込み光の強
度に対応させて回折光の強度を変化させることができな
いという欠点もある。
(2) In the structure of the liquid crystal spatial light modulator using the ferroelectric liquid crystal shown in FIG. 8, when an intensity modulation type diffraction grating is used, it is sufficient in a high spatial frequency region for the same reason as (1). No high diffraction efficiency has been obtained. In addition, a holographic display research society bulletin, 1991, No. 2, p.15 shows a liquid crystal spatial light modulator using a phase modulation type diffraction grating, but it is necessary to use it for a holographic display. Sufficient diffraction efficiency has not been obtained at a high spatial frequency of several hundred lp / mm or more. Further, since the ferroelectric liquid crystal is used, the orientation state of the liquid crystal cannot be changed stepwise due to its bistability, and the intensity of the diffracted light cannot be changed corresponding to the intensity of the writing light. There is also a disadvantage.

【0008】従って、本発明は、上記事情を鑑み、ホロ
グラフィックディスプレイに用いるために必要な数10
0lp/mm以上の高空間周波数において十分な回折効
率を有し、ホログラフィックディスプレイへの応用が可
能となる液晶空間光変調素子を提供することを目的とす
る。
Accordingly, the present invention has been made in consideration of the above circumstances, and has been made in consideration of the above-described formula (10) for use in a holographic display.
It is an object of the present invention to provide a liquid crystal spatial light modulator that has a sufficient diffraction efficiency at a high spatial frequency of 0 lp / mm or more and can be applied to a holographic display.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶空間光変調
素子は、透明電極が夫々表面に形成された第1のガラス
基板及び第2のガラス基板と、該第1のガラス基板の
透明電極上に形成されており水素化アモルファスシ
リコン膜から成る光導電膜と、該光導電膜上に形成され
た第1の液晶配向膜と、前記第2のガラス基板の前記
明電極上に形成された第2の液晶配向膜と、前記第1の
液晶配向膜と前記第2の液晶配向膜との間に狭持されて
おり、0°以上90°以下のティルト角を有するティル
ト配向状態のネマチィック液晶層とを備えた液晶空間光
変調素子であって、前記光導電膜の膜厚を、前記ネマチ
ィック液晶層より薄く形成したものである
SUMMARY OF THE INVENTION Liquid crystal spatial light modulation of the present invention
The element has a first glass substrate and a second glass substrate each having a transparent electrode formed on the surface thereof, and a device in front of the first glass substrate.
Serial is formed on the transparent electrode, a photoconductive layer made of hydrogenated amorphous silicon film, a first liquid crystal alignment film formed on the photoconductive layer, the permeability <br of the second glass substrate /> and the second liquid crystal alignment film formed on the transparent electrode, the being sandwiched between the first liquid crystal alignment layer and the second liquid crystal alignment layer, 0 ° to 90 ° of tilt And a nematic liquid crystal layer in a tilt alignment state having an angle , wherein the photoconductive film has a film thickness of the nematic liquid crystal layer.
It is formed thinner than the liquid crystal layer .

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【作用】上記の如く、本発明による液晶空間光変調素
は、ネマチィック液晶層の配向状態を、0°以上90°
以下のティルト角を有するティルト配向とするととも
に、水素化アモルファスシリコン膜から成る光導電膜の
膜厚を、前記ネマチィック液晶層より薄く形成してい
ので、ホログラフィックディスプレイに用いるために必
要な数100lp/mm以上の高空間周波数で十分に高
い回折効率を得ることができる。従って、本発明の液晶
空間光変調素子を用いれば、ホログラフィックディスプ
レイへの応用が可能となる。
[Action] As described above, the liquid crystal spatial light modulator element according to the present invention
Is the orientation of Ne Machiikku liquid crystal layer, 0 ° or 90 °
Tomo If you tilt orientation having the following tilt angle
First, a photoconductive film made of hydrogenated amorphous silicon film
Film thickness, it is possible to obtain a sufficiently high diffraction efficiency the Nemachiikku Runode are thinner than liquid crystal layer, the number 100 lp / mm or more high spatial frequency necessary for use in a holographic display. Therefore, if the liquid crystal spatial light modulator of the present invention is used, it can be applied to a holographic display.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明に係わる実施例について図面を
参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明に係わる液晶空間光変調素
子の一実施例の構造を示す断面図である。図1に示すよ
うに、ガラス基板1a及び1bには、夫々ITO等の透
明電極2a及び2bが設けられており、さらに、透明電
極2a上には光導電膜4である水素化アモルファスシリ
コン(a−Si:H)膜が形成されている。光導電膜4
上及び透明電極2b上には、夫々、ネマティック液晶を
ティルト配向させるための液晶配向膜3a及び3bが形
成されており、これらの配向膜3aと配向膜3bとの間
には、ネマティック液晶5が挟持されている。また、ネ
マティック液晶5の両側にはスペーサー6が夫々設けら
れている。7は書き込み光、8は読み出し光である。
FIG. 1 is a sectional view showing the structure of one embodiment of a liquid crystal spatial light modulator according to the present invention. As shown in FIG. 1, transparent electrodes 2a and 2b made of ITO or the like are provided on glass substrates 1a and 1b, respectively. Further, on the transparent electrode 2a, hydrogenated amorphous silicon (a -Si: H) film is formed. Photoconductive film 4
Liquid crystal alignment films 3a and 3b for tilt-aligning the nematic liquid crystal are formed on the upper and transparent electrodes 2b, respectively. Nematic liquid crystal 5 is interposed between these alignment films 3a and 3b. It is pinched. Spacers 6 are provided on both sides of the nematic liquid crystal 5, respectively. 7 is a writing light and 8 is a reading light.

【0017】次に、本発明で採用したネマティック液晶
の配向状態であるティルト配向に関して図2を用いて説
明する。図2において、11a及び11bはガラス基
板、13a及び13bは液晶配向膜、15は液晶分子で
ある。図2(a)に示すように、ティルト配向とは、液
晶分子15が液晶配向膜13a及び13bの形成された
ガラス基板11a及び11bの面に対して一定の角度
(ティルト角θ)で傾斜し、かつ同一方位に配列してい
る配向状態のことである。特に図2(b)に示すよう
に、このティルト角θが0°の場合のティルト配向状
態、すなわちガラス基板11a及び11bの面に対して
平行に液晶分子15が配列している配向状態はホモジニ
アス配向と呼ばれ、また図2(c)に示すように、ティ
ルト角が90°の場合のティルト配向状態、すなわちガ
ラス基板11a及び11bの面に垂直に液晶分子15が
配列している配向状態はホメオトロピック配向と呼ばれ
ており、本発明でのティルト配向とは、ホモジニアス配
向及びホメオトロピック配向も含む。そして、液晶分子
15の配列がガラス基板11a及びガラス基板11bの
両基板間で連続的に曲がっている、すなわちティルト角
θが両基板間で連続的に変化している場合でも、このと
きのティルト角が0°以上90°以下の範囲であれば、
この配向状態も本発明でのティルト配向に含まれる。
Next, the tilt alignment, which is the alignment state of the nematic liquid crystal employed in the present invention, will be described with reference to FIG. 2, 11a and 11b are glass substrates, 13a and 13b are liquid crystal alignment films, and 15 is a liquid crystal molecule. As shown in FIG. 2A, the tilt alignment means that the liquid crystal molecules 15 are inclined at a certain angle (tilt angle θ) with respect to the surfaces of the glass substrates 11a and 11b on which the liquid crystal alignment films 13a and 13b are formed. And aligned in the same direction. In particular, as shown in FIG. 2B, the tilt alignment state when the tilt angle θ is 0 °, that is, the alignment state in which the liquid crystal molecules 15 are arranged parallel to the surfaces of the glass substrates 11a and 11b is homogeneous. As shown in FIG. 2C, the tilt alignment state when the tilt angle is 90 °, that is, the alignment state in which the liquid crystal molecules 15 are aligned perpendicular to the surfaces of the glass substrates 11a and 11b is called an alignment. It is called homeotropic alignment, and the tilt alignment in the present invention includes a homogeneous alignment and a homeotropic alignment. Then, even if the arrangement of the liquid crystal molecules 15 is continuously bent between the glass substrate 11a and the glass substrate 11b, that is, even if the tilt angle θ is continuously changed between the two substrates, the tilt at this time is changed. If the angle is in the range of 0 ° or more and 90 ° or less,
This orientation state is also included in the tilt orientation in the present invention.

【0018】次に、上記実施例による液晶空間光変調素
子の作製方法について図1を参照して説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal spatial light modulator according to the above embodiment will be described with reference to FIG.

【0019】光導電膜4であるa−Si:H膜の形成
は、透明電極2aとしてITOが形成された書き込み側
のガラス基板1a上に、Ar(アルゴン)とH2 (水
素)との混合ガス中でSiターゲットを用いて、スパッ
タ法により成膜を行い、イントリンシックなa−Si:
H膜4を得る。このように形成したa−Si:H膜4の
特性は、例えば、暗導電率が約10-10 S/cm、光導
電率が約10-7S/cmであり、その膜厚は約1.5μ
mである。ここで、本実施例による液晶空間光変調素子
に用いる光導電膜であるa−Si:H膜4としては、暗
導電率と光導電率との比が2桁以上もあり、特に100
Hz以上の周波数で駆動する場合には、光導電率が10
-8S/cm以上であることが望ましい。なお、本実施例
においてはa−Si:H膜をスパッタ法により形成した
が、プラズマCVD等によって形成しても良い。
The a-Si: H film, which is the photoconductive film 4, is formed by forming a mixed gas of Ar (argon) and H 2 (hydrogen) on the glass substrate 1a on the writing side on which ITO is formed as the transparent electrode 2a. A film is formed by a sputtering method using a Si target in an intrinsic a-Si:
An H film 4 is obtained. The characteristics of the a-Si: H film 4 thus formed are, for example, dark conductivity of about 10 −10 S / cm, photoconductivity of about 10 −7 S / cm, and a film thickness of about 1 −7 S / cm. .5μ
m. Here, the a-Si: H film 4, which is a photoconductive film used in the liquid crystal spatial light modulator according to the present embodiment, has a ratio of dark conductivity to photoconductivity of two digits or more, and particularly 100
When driving at a frequency higher than 1 Hz, the photoconductivity is 10
Desirably, it is -8 S / cm or more. In this embodiment, the a-Si: H film is formed by a sputtering method, but may be formed by a plasma CVD or the like.

【0020】次に、透明電極2aとしてのITOとa−
Si:H膜4とが形成された書き込み側のガラス基板1
aと、透明電極2bとしてITOが形成された読み出し
側のガラス基板1bとのそれぞれに、ネマティック液晶
5をティルト配向させるための液晶配向膜3a及び液晶
配向膜3bを形成する。この液晶配向膜3a及び液晶配
向膜3bとしては、SiOをガラス基板面の法線方向に
対して85°の角度で斜方蒸着により形成することが好
ましい。尚、本実施例では液晶配向膜3a及び液晶配向
膜3bとして斜方蒸着により形成したSiO膜を用いた
が、ポリイミド若しくはポリビニルアルコールにラビン
グ処理を施した液晶配向膜や、又はその他の配向剤を塗
布して形成した液晶配向膜など、ネマティック液晶の配
向状態0°以上90°以下のティルト角を有するティル
ト配向が得られる液晶配向膜であれば良い。
Next, ITO as the transparent electrode 2a and a-
Writing-side glass substrate 1 on which Si: H film 4 is formed
A liquid crystal alignment film 3a and a liquid crystal alignment film 3b for tilt-aligning the nematic liquid crystal 5 are formed on the glass substrate 1b on which ITO is formed as the transparent electrode 2b. The liquid crystal alignment films 3a and 3b are preferably formed by oblique deposition of SiO at an angle of 85 ° with respect to the normal direction of the glass substrate surface. In the present embodiment, an SiO film formed by oblique evaporation is used as the liquid crystal alignment films 3a and 3b. However, a liquid crystal alignment film obtained by rubbing polyimide or polyvinyl alcohol, or another alignment agent is used. Any liquid crystal alignment film, such as a liquid crystal alignment film formed by coating, may be used as long as the liquid crystal alignment film has a tilt angle of 0 ° or more and 90 ° or less.

【0021】このように形成した液晶配向膜3a及び液
晶配向膜3bを対向させ、スペーサ6により隙間を形成
し、この隙間にネマティック液晶5を充填し、厚さ3μ
mの液晶層を形成する。本実施例では、ネマティック液
晶5として、位相シフト量を十分に大きくするために大
きな複屈折を示すものが望ましく、例えばメルク社のE
44を使用し得る。なお、本実施例では、ネマティック
液晶が印加される電圧の強さに応じて、ガラス基板面と
ほぼ平行な状態からガラス基板面と垂直の状態に配向の
方向が変化する正の誘電異方性を示すネマティック液晶
をホモジニアス配向にして用いたが、負の誘電異方性を
示すネマティック液晶をホメオトロピック配向にして用
いても良い。
The liquid crystal alignment film 3a and the liquid crystal alignment film 3b thus formed are opposed to each other, a gap is formed by the spacer 6, and the gap is filled with the nematic liquid crystal 5 to have a thickness of 3 μm.
An m liquid crystal layer is formed. In the present embodiment, it is desirable that the nematic liquid crystal 5 exhibit a large birefringence in order to sufficiently increase the amount of phase shift.
44 may be used. In this example, the positive dielectric anisotropy in which the direction of orientation changes from a state substantially parallel to the glass substrate surface to a state perpendicular to the glass substrate surface according to the intensity of the voltage to which the nematic liquid crystal is applied. Although the nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is used in a homogeneous alignment, the nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy may be used in a homeotropic alignment.

【0022】このように作製された本実施例の液晶空間
光変調素子の構造において、位相シフト量は、低い空間
周波数では、ネマティック液晶の複屈折と液晶層の厚さ
の積になり、液晶層の厚さの厚い方が位相シフト量は大
きくなるが、高い空間周波数では、むしろ液晶層の厚さ
の薄い方が位相シフト量は大きくなる。従って、ホログ
ラフィックディスプレイに用いるのに必要な数100l
p/mm以上の高空間周波数で十分な回折効率を得るた
めには、この高空間周波数領域で十分な位相シフト量を
得ることができるように、液晶層の厚さは薄い方が望ま
しく、本実施例では約3μmである。また、a−Si:
H膜4の膜厚は、a−Si:H膜4と液晶層との電気容
量の比から液晶層と同程度かそれ以上が望ましいが、本
実施例の液晶空間光変調素子においては、ホログラフィ
ックディスプレイに用いるのに必要な数100lp/m
m以上の高空間周波数で十分な回折効率を得るために、
a−Si:H膜4の膜厚を液晶層より薄い1.5μmと
するのが好ましい。
In the structure of the liquid crystal spatial light modulator of this embodiment manufactured as described above, the amount of phase shift at a low spatial frequency is the product of the birefringence of the nematic liquid crystal and the thickness of the liquid crystal layer. The larger the thickness of the liquid crystal layer, the larger the amount of phase shift. However, at a high spatial frequency, the smaller the thickness of the liquid crystal layer, the larger the amount of phase shift. Therefore, the number 100 l required for use in a holographic display
In order to obtain a sufficient diffraction efficiency at a high spatial frequency of p / mm or more, it is desirable that the thickness of the liquid crystal layer is thin so that a sufficient amount of phase shift can be obtained in this high spatial frequency region. In the embodiment, it is about 3 μm. Also, a-Si:
The thickness of the H film 4 is desirably about the same as or larger than that of the liquid crystal layer from the ratio of the electric capacity of the a-Si: H film 4 to the liquid crystal layer. 100 lp / m required for graphic display
m to obtain sufficient diffraction efficiency at high spatial frequencies
It is preferable that the thickness of the a-Si: H film 4 is 1.5 μm, which is thinner than the liquid crystal layer.

【0023】続いて、上記のように作製した液晶空間光
変調素子の動作特性について述べる。図3は、上記実施
例の液晶空間光変調素子の回折効率の測定系を示す構成
図である。図3において、9は液晶空間光変調素子、2
0は書き込み用のHe−Neレーザ光源、21は書き込
み光の強度を調整するNDフィルタ、22はビームエキ
スパンダ、23はハーフミラー、24はミラー、25は
読み出し用のHe−Neレーザ光源、26は読み出し光
の強度を調整するNDフィルタ、27は光パワーメータ
である。書き込み用のHe−Neレーザ光源20からの
直線偏光のレーザ光は、NDフィルタ21により強度を
減衰されてから、ビームエキスパンダ22によりビーム
径を拡大され、ハーフミラー23で分離される。そし
て、ハーフミラー23で反射されたレーザ光がミラー2
4で反射され、ハーフミラー23を透過したレーザ光と
の干渉により、2光束干渉縞が液晶空間光変調素子9の
書き込み側に照射され、2光束干渉縞が液晶空間光変調
素子9に書き込まれる。
Next, the operation characteristics of the liquid crystal spatial light modulator manufactured as described above will be described. FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a measurement system of the diffraction efficiency of the liquid crystal spatial light modulator of the above embodiment. In FIG. 3, reference numeral 9 denotes a liquid crystal spatial light modulator, 2
0 is a writing He-Ne laser light source, 21 is an ND filter for adjusting the intensity of writing light, 22 is a beam expander, 23 is a half mirror, 24 is a mirror, 25 is a reading He-Ne laser light source, 26 Is an ND filter for adjusting the intensity of the read light, and 27 is an optical power meter. The intensity of the linearly polarized laser light from the writing He-Ne laser light source 20 is attenuated by the ND filter 21, the beam diameter is expanded by the beam expander 22, and separated by the half mirror 23. Then, the laser beam reflected by the half mirror 23 is
The two light flux interference fringes are radiated to the writing side of the liquid crystal spatial light modulator 9 by interference with the laser light reflected by 4 and transmitted through the half mirror 23, and the two light flux interference fringes are written to the liquid crystal spatial light modulator 9. .

【0024】一方、読み出し用のHe−Neレーザ光源
25からの直線偏光のレーザ光は、NDフィルタ26に
より減衰された後、液晶空間光変調素子9の読み出し側
に照射される。このとき、図1における透明電極2と透
明電極2bとの間に交流電圧を印加しておくと、2光束
干渉縞の書き込みにより液晶空間光変調素子9の液晶層
に、ネマティック液晶の複屈折による位相変調型の反射
回折格子が形成される。ここで、λを読み出し光の波長
とすると、書き込み光の干渉縞の空間周波数nに対し
て、 sinθ=nλ となる回折角θで、読み出し光の1次回折光が生じる。
この1次回折光の回折効率γを次のように定義する。
On the other hand, the linearly-polarized laser light from the He-Ne laser light source 25 for reading is attenuated by the ND filter 26 and then applied to the reading side of the liquid crystal spatial light modulator 9. At this time, if an AC voltage is applied between the transparent electrode 2 and the transparent electrode 2b in FIG. 1, the birefringence of the nematic liquid crystal is applied to the liquid crystal layer of the liquid crystal spatial light modulator 9 by writing the two-beam interference fringes. A phase modulation type reflection diffraction grating is formed. Here, assuming that λ is the wavelength of the reading light, a first-order diffracted light of the reading light is generated at a diffraction angle θ such that sin θ = nλ with respect to the spatial frequency n of the interference fringe of the writing light.
The diffraction efficiency γ of the first-order diffracted light is defined as follows.

【0025】γ(%)=A1/A0×100 ここで、A1は1次回折光の強度、A0は0次回折光の
強度である。これによれば、1次回折光及び0次回折光
のそれぞれの強度を、光パワーメータ27で測定するこ
とにより、その空間周波数における回折効率を求めるこ
とができる。
Γ (%) = A1 / A0 × 100 where A1 is the intensity of the first-order diffracted light, and A0 is the intensity of the 0th-order diffracted light. According to this, by measuring the respective intensities of the first-order diffracted light and the zero-order diffracted light with the optical power meter 27, the diffraction efficiency at the spatial frequency can be obtained.

【0026】図4に、上記のような測定系を用いて、本
実施例において作製した液晶空間変調素子の回折効率を
測定した結果を示す。このときの測定条件は、書き込み
光強度を6mW/cm2 、読み出し光強度を0.1mW
/cm2 、印加電圧を6V、印加周波数を150Hzと
した。この測定結果より、空間周波数100lp/mm
において回折効率5.7%、空間周波数500lp/m
mにおいて回折効率0.05%であった。この結果は、
本実施例において作成した液晶空間変調素子がホログラ
フィックディスプレイに用いるために必要な数100l
p/mm以上の高空間周波数において、十分に高い回折
効率が得られることを示しており、従って、ホログラフ
ィックディスプレイへの応用が十分に可能なことを示し
ている。
FIG. 4 shows the results of measuring the diffraction efficiency of the liquid crystal spatial modulation device manufactured in this example using the above-described measurement system. The measurement conditions at this time were: write light intensity of 6 mW / cm 2 , read light intensity of 0.1 mW
/ Cm 2 , the applied voltage was 6 V, and the applied frequency was 150 Hz. From this measurement result, a spatial frequency of 100 lp / mm
At a diffraction efficiency of 5.7% and a spatial frequency of 500 lp / m
m, the diffraction efficiency was 0.05%. The result is
100 l required for using the liquid crystal spatial modulation device produced in this embodiment for a holographic display
It shows that a sufficiently high diffraction efficiency can be obtained at a high spatial frequency of p / mm or more, and thus shows that application to a holographic display is sufficiently possible.

【0027】以下、本発明に係わる液晶空間変調素子の
第2の実施例として、誘電体ミラーを有する構造の液晶
空間光変調素子について述べる。
Hereinafter, a liquid crystal spatial light modulator having a structure having a dielectric mirror will be described as a second embodiment of the liquid crystal spatial modulator according to the present invention.

【0028】図5は、本発明に基づき作製した液晶空間
光変調素子の構造を示す断面図である。図5において、
31a及び31bはガラス基板、32a及び32bはI
TO等の透明電極、33aおよび33bはネマティック
液晶をティルト配向させるための液晶配向膜、34は光
導電膜である水素化アモルファスシリコン(a−Si:
H)膜、35はネマティック液晶、36はスペーサー、
37は書き込み光、38は読み出し光、39は液晶空間
光変調素子、40は誘電体ミラーである。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of a liquid crystal spatial light modulator manufactured according to the present invention. In FIG.
31a and 31b are glass substrates, 32a and 32b are I
Transparent electrodes such as TO, 33a and 33b are liquid crystal alignment films for tilt-aligning nematic liquid crystal, and 34 is hydrogenated amorphous silicon (a-Si:
H) film, 35 is a nematic liquid crystal, 36 is a spacer,
37 is a writing light, 38 is a reading light, 39 is a liquid crystal spatial light modulator, and 40 is a dielectric mirror.

【0029】誘電体ミラー40は、高屈折率誘電体又は
十分に光導電率の低い半導体と低屈折率誘電体を交互に
多層積層したものであり、本実施例では、十分に光導電
率の低い半導体としてa−Si:Hを、低屈折率誘導体
として二酸化シリコン(以下SiO2 と略す)を用い
た。これらの形成には、いずれもスパッタ法により成膜
を行い、第1の実施例と同様に透明電極32aとしてI
TOが形成された書き込み側のガラス基板31a上に形
成したa−Si:H膜34上に、アルゴン(Ar)ガス
中でSiO2 ターゲットを用いてSiO2 を形成した
後、この上にアルゴン(Ar)と水素(H2 )との混合
ガス中でSiターゲットを用いてa−Si:Hを形成
し、これらを交互に同様に形成し5つの層から成る誘電
体ミラー40を形成する。ここで、a−Si:Hの成膜
には光誘電率が十分に低くなるような条件で成膜した。
なお、本実施例では、高屈折率誘電体又は十分に光導電
率の低い半導体としてa−Si:Hを用いたが、TiO
2 、ZnS等を用いても良く、また低屈折率誘電体とし
てMgF2 、Si3 4 等を用いても良い。なお、本実
施例では、誘電体ミラーの形成方法としてスパッタ法を
用いたが、真空蒸着法等により、形成しても良い。さら
に、本実施例では、誘電体ミラーの積層数を5層とした
がこれに限られるものではなく、十分に本発明の効果を
得るためには、積層数が少なく誘電体ミラー全体の厚さ
が薄いほうが好ましい。
The dielectric mirror 40 is formed by alternately laminating a high-refractive-index dielectric or a semiconductor having a sufficiently low photo-conductivity and a low-refractive-index dielectric. In this embodiment, the dielectric mirror 40 has a sufficiently high photo-conductivity. A-Si: H was used as a low semiconductor, and silicon dioxide (hereinafter abbreviated as SiO 2 ) was used as a low refractive index derivative. In each of these formations, a film is formed by a sputtering method, and a transparent electrode 32a is formed as in the first embodiment.
SiO 2 is formed on the a-Si: H film 34 formed on the glass substrate 31 a on the writing side on which TO is formed using an SiO 2 target in an argon (Ar) gas, and then argon (Ar) is formed thereon. A-Si: H is formed using a Si target in a mixed gas of Ar) and hydrogen (H 2 ), and these are alternately formed in the same manner to form a dielectric mirror 40 having five layers. Here, a-Si: H was formed under such conditions that the photodielectric constant was sufficiently low.
In this embodiment, a-Si: H is used as a high refractive index dielectric or a semiconductor having a sufficiently low photoconductivity.
2 , ZnS or the like may be used, and MgF 2 , Si 3 N 4 or the like may be used as the low refractive index dielectric. In this embodiment, a sputtering method is used as a method for forming the dielectric mirror. However, the dielectric mirror may be formed by a vacuum evaporation method or the like. Further, in this embodiment, the number of laminated dielectric mirrors is five, but the present invention is not limited to this. To sufficiently obtain the effects of the present invention, the number of laminated dielectric mirrors is small and the thickness of the entire dielectric mirror is small. Is preferably thinner.

【0030】第2の実施例の液晶空間光変調素子におい
て、この誘電体ミラー以外は、全く第1の実施例と同様
にして作製した。
The liquid crystal spatial light modulator of the second embodiment was manufactured in exactly the same manner as the first embodiment except for the dielectric mirror.

【0031】上記の第2の実施例による液晶空間光変調
素子の動作特性について、第1の実施例と同様に図3に
構造を示す測定系で回折効率の測定を行った。この結果
を図6に示す。このときの測定条件は、書き込み光強度
を4mW/cm2 、読み出し光強度を10mW/c
2 、印加電圧8V、印加周波数を1kHzとした。こ
の測定結果より、空間周波数200lp/mmにおいて
回折効率0.4%、空間周波数400lp/mmにおい
て回折効率0.01%であった。このように、誘電体ミ
ラーを有する構造では、第1の実施例と比較すると、回
折効率の値は若干小さくなってしまうが、読み出し光と
して強度の強い読み出し光を用いることができ、明るい
回折光を得ることができる。この結果は、第2の実施例
による液晶空間変調素子が、ホログラフィックディスプ
レイに用いために必要な数100lp/mm以上の高空
間周波数において、十分に高い回折効率が得られ、かつ
明るい回折光が得られることを示しており、従って、ホ
ログラフィックディスプレイへの応用が十分に可能なこ
とを示している。
Regarding the operating characteristics of the liquid crystal spatial light modulator according to the second embodiment, the diffraction efficiency was measured by a measuring system having the structure shown in FIG. 3 as in the first embodiment. The result is shown in FIG. The measurement conditions at this time were: write light intensity of 4 mW / cm 2 , read light intensity of 10 mW / c.
m 2 , applied voltage of 8 V, and applied frequency of 1 kHz. From these measurement results, the diffraction efficiency was 0.4% at a spatial frequency of 200 lp / mm, and the diffraction efficiency was 0.01% at a spatial frequency of 400 lp / mm. As described above, in the structure having the dielectric mirror, the value of the diffraction efficiency is slightly reduced as compared with the first embodiment. However, a strong read light can be used as the read light, and a bright diffracted light can be used. Can be obtained. This result indicates that the liquid crystal spatial modulation device according to the second embodiment can obtain a sufficiently high diffraction efficiency at a high spatial frequency of several hundred lp / mm or more necessary for use in a holographic display, and can produce bright diffracted light. This indicates that the method can be applied to a holographic display.

【0032】なお、図5に示した上記第2の実施例によ
る液晶空間光変調素子において、読み出し光38の強度
がさらに強くa−Si:H膜34まで読み出し光38が
到達するような場合、遮光膜をa−Si:H膜34と誘
電体ミラー40との間に形成しても良い。この遮光膜の
材料としては、遷移金属酸化膜や十分に光導電率が低い
半導体などが適当である。また、遮光膜を形成する場合
この厚さが厚いと、上記実施例の効果が十分に得られな
いことがあるので、遮光膜の厚さを薄くすることが好ま
しい。
In the liquid crystal spatial light modulator according to the second embodiment shown in FIG. 5, when the intensity of the reading light 38 is further increased and the reading light 38 reaches the a-Si: H film 34, A light shielding film may be formed between the a-Si: H film 34 and the dielectric mirror 40. As a material of the light-shielding film, a transition metal oxide film, a semiconductor having sufficiently low photoconductivity, or the like is appropriate. When the light-shielding film is formed, if the thickness is large, the effect of the above embodiment may not be sufficiently obtained. Therefore, it is preferable to reduce the thickness of the light-shielding film.

【0033】また、図1に示した第1の実施例による液
晶空間光変調素子においても、読み出し光8の強度がさ
らに強くa−Si:H膜4まで読み出し光8が到達する
ような場合、遮光膜をa−Si:H膜4と液晶配向膜3
aとの間に形成しても良い。
Also in the liquid crystal spatial light modulator according to the first embodiment shown in FIG. 1, when the intensity of the reading light 8 is further increased and the reading light 8 reaches the a-Si: H film 4, A-Si: H film 4 and liquid crystal alignment film 3
a.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による液晶
空間光変調素子は、0°以上90°以下のティルト角を
有するティルト配向状態のネマチィック液晶層を備える
ととともに、水素化アモルファスシリコン膜から成る光
導電膜の膜厚を、前記ネマチィック液晶層より薄く形成
たので、ホログラフィックディスプレイに用いるため
に必要な数100lp/mm以上の高空間周波数で十分
に高い回折効率を得ることができる。従って、本発明の
液晶空間光変調素子を用いれば、ホログラフィックディ
スプレイへの応用可能となり、さらに、ホログラフィ
ックディスプレイによる立体表示も可能となる。
As described above, the liquid crystal spatial light modulator according to the present invention includes a nematic liquid crystal layer in a tilt alignment state having a tilt angle of 0 ° to 90 °.
Together with the light consisting of hydrogenated amorphous silicon film
The thickness of the conductive film is formed to be thinner than the nematic liquid crystal layer.
Since the, it is possible to obtain a sufficiently high diffraction efficiency by the number 100 lp / mm or more high spatial frequency necessary for use in a holographic display. Therefore, if the liquid crystal spatial light modulator of the present invention is used, application to a holographic display becomes possible, and further, three-dimensional display by a holographic display becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる液晶空間光変調素子の一実施例
の構造を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the structure of one embodiment of a liquid crystal spatial light modulator according to the present invention.

【図2】本発明に係わる液晶空間変調素子のネマティッ
ク液晶の配向状態を示す概念図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram showing an alignment state of a nematic liquid crystal in a liquid crystal spatial light modulator according to the present invention.

【図3】液晶空間光変調素子の回折効率の測定系を示す
構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing a measurement system of a diffraction efficiency of a liquid crystal spatial light modulation element.

【図4】図1に示す液晶空間光変調素子の回折効率の測
定結果を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a measurement result of a diffraction efficiency of the liquid crystal spatial light modulator shown in FIG.

【図5】本発明に係わる液晶空間光変調素子の他の実施
例の構造を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing the structure of another embodiment of the liquid crystal spatial light modulator according to the present invention.

【図6】図5に示す液晶空間光変調素子の回折効率の測
定結果を示すグラフである。
6 is a graph showing a measurement result of a diffraction efficiency of the liquid crystal spatial light modulator shown in FIG.

【図7】従来の液晶空間光変調素子の一例の構造を示す
断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing the structure of an example of a conventional liquid crystal spatial light modulator.

【図8】従来の液晶空間光変調素子の他の例の構造を示
す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing the structure of another example of the conventional liquid crystal spatial light modulator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b ガラス基板 2a,2b 透明電極 3a,3b 液晶配向膜 4 光導電膜 5 ネマティック液晶 6 スペーサ 7 書き込み光 8 読み出し光 9 液晶空間光変調素子 1a, 1b Glass substrate 2a, 2b Transparent electrode 3a, 3b Liquid crystal alignment film 4 Photoconductive film 5 Nematic liquid crystal 6 Spacer 7 Write light 8 Read light 9 Liquid crystal spatial light modulator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−20720(JP,A) 特開 平3−264918(JP,A) 特開 平5−323123(JP,A) 特開 平6−51340(JP,A) Applied Optics,Vo l.26,p.241,1987 Applied Physics L etters,Vol.58,No.8, p.787,1991 電子通信情報学会技術研究報告,Vo l.90,No.431,p.23,1990 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/135────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-3-20720 (JP, A) JP-A-3-264918 (JP, A) JP-A-5-323123 (JP, A) JP-A-6-320 51340 (JP, A) Applied Optics, Vol. 26, p. 241, 1987 Applied Physics Letters, Vol. 58, No. 8, p. 787, 1991 IEICE Technical Report, Vol. 90, no. 431, p. 23, 1990 (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G02F 1/135

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明電極が夫々表面に形成された第1のガ
ラス基板及び第2のガラス基板と、 該第1のガラス基板の前記透明電極上に形成されてお
水素化アモルファスシリコン膜から成る光導電膜
と、 該光導電膜上に形成された第1の液晶配向膜と、 前記第2のガラス基板の前記透明電極上に形成された第
2の液晶配向膜と、 前記第1の液晶配向膜と前記第2の液晶配向膜との間に
狭持されており、0°以上90°以下のティルト角を有
するティルト配向状態のネマチィック液晶層とを備えた
液晶空間光変調素子であって、 前記光導電膜の膜厚を、前記ネマチィック液晶層より薄
く形成した ことを特徴とする液晶空間光変調素子。
A first glass substrate and a second glass substrate each having a transparent electrode formed on a surface thereof; and a first glass substrate formed on the transparent electrode of the first glass substrate, the first glass substrate being formed of a hydrogenated amorphous silicon film. A first liquid crystal alignment film formed on the photoconductive film; a second liquid crystal alignment film formed on the transparent electrode of the second glass substrate; A tilt-aligned nematic liquid crystal layer sandwiched between the liquid crystal alignment film and the second liquid crystal alignment film and having a tilt angle of 0 ° or more and 90 ° or less.
A liquid crystal spatial light modulator, wherein the thickness of the photoconductive film is thinner than that of the nematic liquid crystal layer.
A liquid crystal spatial light modulator characterized by being formed well .
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Applied Physics Letters,Vol.58,No.8,p.787,1991
電子通信情報学会技術研究報告,Vol.90,No.431,p.23,1990

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