JPH0412975B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、角膜の外側表面上の手術に係わる眼
科手術に関する。

〔従来の技術〕

必要とされる特性の手術は角膜移植及び角膜切
開を含み、そのような手術は、伝統的に、切断器
械の熟練操作を必要とする。しかしながら、切断
刃の鋭さで、角膜の表面への刃のほんの入口は、
入口の両方の側上で、入口によつて押退けられる
身体細胞に対するくさび形のような側方への圧力
をもたらす。そのような側方への圧力は、入口の
両方の側上の細胞にいくらつかの層に損害を与
え、直されるべき傷ができるのを減ずる限界があ
り、傷跡組織の構造を結果として生じる。1983年
11月17日に出願された本発明者の原特許出願番号
第552883号は、眼科手術、特に、角膜の前方表面
上で行われる手術をレーザ放射の種々の有効な波
長の効果の背景的義輪を含んでいる。紫外線波長
での放射が、その高い光子エネルギの理由によつ
て望ましいことが説明されている。このエネルギ
は、組織での衝突で大きい効果があり、組織の分
子が光子衝突で分解され、結果として光分解にる
組織除去を生じる。照射された表面での分子は、
残りの基質を傷つけることく、小さい揮発性の破
片に割られ、除去の機構は、光化学、即ち、分子
内バンドの直接分解である。光熱の及び／又は光
凝固の効果は、紫外線波長での除去では特有では
なく、観察されず、除去に対する細胞損傷は微々
たるものである。

上記関連した出願は、種々のコンセプトを扱
い、それによつて、200nm以下の紫外線波長での
レーザ放射は、角膜の前方表面の視覚的に使用さ
れる領域へのレーザ放射の発射に制御され、基質
に侵入し、角膜組織の予め決定できる容積除去を
達成し、それによつて、前方表面の輪郭を矯正的
に変化し、そのようなレーザ手術の前に存在した
近視、遠視、乱視の異常を減少する。

上記関連した出願は、又、基質の彫刻侵入を扱
い、1987年３月13日に出願された本発明者の出願
番号第49333号及び1987年６月８日に出願された
本発明者の出願番号第59617号は、上記関連した
出願のような彫刻手術と共に用意された角膜上の
手先及び他の手術を扱う。本出願は、本質的に彫
刻を扱い、上記出願番号第49333号及び第59617号
の手先の、予備の、及び他の手術は、ここで述べ
られるための彫刻方法及び手段に関連してただち
に提出されたのが理解されるだろう。

特許出願番号第891285号の彫刻技術は、簡単に
言えば、角膜の視覚的に使用用される領域の前方
表面曲率の除去された変化を達成するために、変
化するスポツト寸法のレーザビームに角膜照射を
もたらしている。

〔発明が解決しようとする課題〕

種々の手段が、この結果を達成するために述べ
られているが、ほとんどの便利で前に述べた手段
は、与られた輪郭変化を達成するために、スポツ
ト寸法の領域が予め定められたように変化するコ
ース内に、与えられれた照射プログラムを確実に
するためのマイクロプロセツサ手段を必要とす
る。

本発明の目的は、必要とされる目の光学的改善
を達成するために、角膜の前方表面の調節できる
スポツト寸法のレーザ彫刻のための方法及び手段
を提供することにある。

特別な目的は、スポツト寸法を変化するための
マイクロプロセツサ制御を必要としない簡単な技
術で上記目的を達成することにある。

他の特別な目的は、達成されるべき光学的変化
に従つて、存庫品から選択された異なつて予め特
徴づけられた使い捨ての要素の在庫品で、眼科手
術を提供することによつて上記目的を達成するこ
とにあり、例えば、外科医は、例えば、ジオプト
リーに関連された変化量の中から、プラス又はマ
イナス球形の変化及び／又はプラス又はマイナス
円柱形の変化に対して、選択し、その変化は、外
科医が、与えられた目の光学的性能を改善するた
めに必要とされると思うものである。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、角膜へのレーザビーム照射のパスの
中への選択的配置に適合された使い捨て要素の在
庫品を提供することによつて上述した目的を達成
する。使い捨て要素の各々は、レーザビームを通
さず、レーザビームが照射されたとき、除去のた
めに計画的に受けられた膜をもつており、膜の厚
さは、与えられたレーザビームの照射コースが膜
を局所的に除去するために大きいまたは小さい時
間を必要とするだろうような局所領域の予め縛徴
づけられた関数であり、それによつて、膜を通つ
てのレーザビーム照射と角膜での対応した局所的
除去衝突を可能とする。換言すれば、角膜で変化
するスポツト寸法が、各特別に選択可能な要素に
特に一致したジオプトリー変化を達成するように
設計された予め定められた領域制御によつて、膜
の時間解放関数によつて達成される。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。

第１図において、本発明は、特許第4665913号
に述べられた目−保持装置１０に適用して示され
ている。装置１０は、従つて、中空の環で、鞏膜
−角膜領域を介して目を固定し、保持するため
に、輪郭に合せて作られた空気−透過性の材料の
集中的な軸の回りの端壁１１を持つ。真空ポンプ
への側方−ポート接続１２は手術されるべき角膜
１４に対する壁１１のかみ合いの保持を可能に
し、光学的に、装置１０は、（図示しない手段に
よつて）レーザ装置に結合された固定的に付けら
れている。

好ましくは及びふさわしくは、レーザ装置は、
エキシマレーザであり、例えば、アルゴン−フツ
化物レーザによる193nmで供給されるような、
200ナノメータ以下でのパルス紫外線放射で行わ
れる。好ましくは、又、レーザの出力ビームは、
整形のため及び流量分布の均質のため、目の光学
軸に中央に調整された（例えば、５又は６mmの直
径の）円形断面の均質コヒーレントビームの指向
性の投射のために処理される。そのような円形断
面の均質ビームを発生するためのエキシマレーザ
の出力を処理するための手段は、1987年２月２日
に出願されたテルフアー（Telfair）他の出願番
号第9724号に詳細に述べられている。従つて、さ
らにここで詳説する必要はないので、第１図に適
当な説明文によつて同定される。

本発明によれば、適当に予め特徴づけられた厚
さ分布の除去可能な膜１６は、軸１５のレーザビ
ーム投射の経路に選択的に置くことが可能であ
る。都合よく、膜１６は、レーザビームを通過さ
せる材料の平面−平行保持基板１７の上面上にコ
ーテジングされている。この基板のための適当な
材料は、合成融解石英（例えば、スープラシル
（Suprasil）ヘラウス−アメルシル（Heraeus−
Amersil）社の製品）、フツ化カルシウム、フツ
化マグネシウム、フツ化バリウムのようなフツ化
化合物である。示された形において、基板１７は
目−保持装置１０の円形上部縁端に同心にかみ合
うために、依存するフランジ２０を介して、適合
された、環部材１９の内側環状フランジ１８に収
容されている。

膜１６は、好ましくは（必ずしもそうではない
が）、角膜の基質にレーザビーム除去侵入の速度
に対応する速度でレーザビームの働きの下で除去
可能である。換言すれば、角膜上のレーザ手術の
中央円形領域内で、除去可能な膜１６の最大厚さ
は、特定の矯正手順に伴う基質侵入の最大限度の
ために、露出した膜の全体の最大厚さが除去的に
除かれるように観察されたとき、手術の照射が終
えることできるようなものである。除去可能な膜
１６のための適当な材料は、ポリイミド、マイラ
ー、及びポリ（エチレンテレフタレート）を含
む。

第２図は、２つの選択的な除去可能な要素の
各々に対する縦断面の厚さの図を提供し、その
各々は近視減少の効果のために形造られている。
例えば、小さい最大厚さＴ１の輪郭２１は、５mm
のレーザビーム断面直径の場合において、中央軸
の回りで減少する半径の関数のように、その最大
から零に減少しているように思われる。そして、
大きい最大厚さＴ２の輪郭２２は、また、中央軸
の回りで減少する半径の関数のように、その最大
から零に減少しているように思われる。２つの輪
郭の間の基本的な効果の差異は、膜１６が輪郭２
１によつて特徴づけられた場合も、膜１６が輪郭
２２によつて特徴づけられたとき、いつぱいに５
mm円形穴のために膜１６の深く関係のある中央円
形領域を減少するために、多くの時間をとるとい
うことである。この事実は、厚さ輪郭Ｔ１の膜１
６に対する場合よりも、厚さ輪郭Ｔ２の膜１６に
対する角膜曲率内に大きいジオプトリー減少を成
し遂げることと言い換える。両方の場合、除去さ
れる膜１６は、本例の場合2.5mmである、円柱穴
を５mm直径の光学的に使用される曲率矯正を達成
すること成しとげることが観察されたとき、レー
ザビーム照射は終了せねばならない。第３図にお
いて、新しく達成された曲率矯正が角膜１４の近
視的なものと輪郭２４に関連づけて、点線２３に
よつて示唆されている。

第４図の膜１６に対して示された厚さ輪郭２５
−２６は、(a)小さい最大厚さＴ１を使用して、低
い程度の遠視減少を達成し、(b)大きい最大厚さＴ
２を使用して、高い程度の遠視減少を達成するこ
とが、最大膜１６厚さにおいて必要であること
を、それぞれ示している。小さい厚さ輪郭２５の
場合において、厚さは、中央で最大（T1）で、
光学的矯正の外側限度で（例えば、2.5mmの半径
で）零の厚さの点に減少する半径の関数であり、
大きい厚さ輪郭２５の場合において、厚さは、
又、中央で最大（T1）で、又、光学的矯正の外
側限度で、零の厚さの点に減少する半径の関数で
ある。もし、輪郭２５−２６の両方が光学的矯正
の外側限度で終わつたら、そのとき、角膜１４の
結果として生じる彫刻は急にはつきり示された外
側円柱壁によつて特徴づけられるが、半径の次の
0.5から0.75mmの増分を、例えば、光学的矯正の
外側限度の半径外方へ向けて、最大に膜厚さを先
細りに利用することによつて、そのような壁の鋭
い端を実質的に減らすことができる。従つて、角
膜上の除去は、光学的矯正の図示された外側限度
から遠視減少の輪郭２７（第５図）を生じ、角膜
の残りの外側の露出されない領域に比較的滑らか
な推移の緩やかに面取りされた輪２７′を生じる。
第４図及び第５図に関連して述べられた“面取り
された”遠視減少結果を生じることが分り、近視
減少（第２図及び第３図）の場合よりも、わずか
に大きい半径（例えば、6.5から７mm）へレーザ
ビームの円形断面を調節する必要があが、そのよ
うな断面領域選択は、上記テルフアー他の出願番
号第9724号に述べられた装置の能力の中にある。

第２−３図及び第４−５図において、球形の矯
正する状態について述べられた除去可能な膜技術
は、それぞれ、乱視の減少のために必要とされる
円柱の矯正を達成することも、さらに適用できる
と思われる。例えば、第２図が、乱視矯正の円柱
軸が第２図の軸１５にかつ通して直角で、第２図
が、もはや回転の厚さ輪郭を表しているように理
解せず、むしろ、環１９に関して直径の直線に沿
つて延びる一般にＶ字型の縦溝輪郭のように、縦
断面輪郭を表すように取つたら、述べられた照射
コース角膜曲率の円柱減少を達成するだろう。も
し、環１９が、円柱放射が患者の乱視の診断され
た方向と一致するように向けられた軸の回りに回
転して予めセツトされていたら、そのとき、乱視
は、厚さの特徴づけられた除去可能な膜１６の最
大厚さの単に正しい選択によつて、規定されたジ
オプトリー減少範囲に減少できる。第１図におい
て、環１９上の矢印２８は、環回転によつて、装
置１０上の方位目盛り２９に対して表すのを仕向
け、乱視減少手順のための方向の正確なセツテイ
ングを可能とする。

すでに述べられた実施例に於いて、厚さの特徴
づけられた膜１６は、基質除去放射の変化するス
ポツト寸法を達成するように設計されており、基
板を介して、それは必要とされる放射を通過させ
る。そして、この状態において、それは基板と目
の光学的寸法に関して自己を中心に移す円形の環
内のその除去可能な膜とをを具体化するために特
に都合が良い。しかし、必要な透明な基板材料は
比較的高価であることがわかる。

第１Ａ図の断片的な図は、基板の費用が、厚さ
の特徴づけられた除去可能な膜１６′を保持する
基板として平面鏡３０を使用する代わりのもの
で、問題にする必要がないことを示している。第
１図において、鏡３０は、支持フレーム構造３２
内の円形口内に差込み可能に置かれた環要素３１
の部分であり、支持フレーム構造はレーザハウジ
ングに固定された付属物である。鏡３０は、角膜
１４に垂直な下方への外科発射のためにそれを折
曲げ、与えられた外科手術のコース内に膜１６′
の除去によつて決定された前進的に変化するスポ
ツト寸法範囲となるように、入射レーザビームに
対して45゜に傾いて示されている。要素３１の膜
がコートされた表面での入射の前に、レーザビー
ムは、また、近視減少手術に対して５から６mmの
直径である、その円形断面に沿つて、均質に分布
した流れ密度であると理解されたい。しかし、要
素３１の膜がコートされた表面で、入射の領域
は、短軸が水平な楕円であり、短軸での厚さ輪郭
は、５mmの短軸の広さに対して、第２図に示され
るように、第２図に示された広さであると理解さ
れたい。他方、長軸の広さは、第６図に7.08mmと
して示されるように、大きく、変化する厚さの曲
線２１′−２２′は、第６図の長軸断面平面内に各
最大厚さＴ１，Ｔ２に対して、対応する広がつた
スケールで第２図の輪郭２１−２２に従うように
示されている。とにかく、膜厚さが第１Ａ図の反
射状態の近視放射として特徴づけられた楕円パタ
ーンは、楕円の中央で零の厚さから楕円の境界線
で最大の厚さＴ１（又はＴ２）へ移ることが分
る。従つて、与えられた近視減少の外科手術のう
ちに、初期に反射されたビームは、円形断面の中
央スポツトとなり、このスポツトは入射レーザビ
ームの十分な円形断面が角膜での外科入射に反射
されるまで、特徴づけられた膜が前進的に除去さ
れれるように前進的に広がり、この点で、外科手
術は、角膜の前方表面で規定された近視減少を完
成する。

（第１Ａ図に示されるような）反射システムの
動作において、短軸が水平となるように除去可能
な膜１６′の楕円厚さパターンが矯正的に方向づ
けられることが重要であり、調節スロツトとびよ
うかみ合いが環３１の点と構造３２の基準点との
間に３５で概略的に示されている。

それぞれ、第２図及び第６図に従つた短軸及び
長軸断面平面において予め特徴づけられた膜１
６′の除去による近視減少について言われたこと
が、また、膜１６′がそれぞれ第４図及び第７図
に従つた短軸及び長軸断面平面において予め特徴
づけられるとき、遠視減少についても言える。し
かしながら、前述での議論からつぎのことがわか
る。わずかに大きい円形断面のレーザビームが遠
視減少手術に対して望まれ、第７図から明らか
に、斜面２７′の最後の彫刻が、第１図の伝送手
術に対してと同様に、変化可能なスポツト寸法の
照射（第１Ａ図）の反射手術に対しても可能であ
ることは当然である。

述べられた発明は、全ての述べられた目的を達
成し、角膜のレーザ除去の再曲率を実行するもつ
と容易で経済的な方法及び手段を提供することが
分る。膜コートされた環１９（又は３１）の外科
医の目録は、厚さと全ての眼科の外科医によつて
良く理解される用語で、即ち、ジオプトリーやそ
の破片、プラス又はマイナスの球形として適し
て、円柱に矯正する特徴のあるなしで、ラベルさ
れた厚さ輪郭によつて、予め特徴づけられてい
る。環１９は、与えられたジオプトリー変化を達
成するために予め定められた最終の基質の連続す
る増加に対して段階別にされた厚さに、基板１７
の当てる標準化されたコーテイング１６によつて
用意されており、一様な厚さ層は、上記に説明さ
れた場合の１つ以上の技術に従つたレーザ除去に
よつて、その予め特徴づけられた厚さ輪郭に“カ
ツト”される。例えば、マイクロプロセツサ制御
の下で、上記第891285号の、それぞれ、第８／９
図又は第１５／１６図の装置を使用すると、ひと
は、第２図で球形または円柱形の矯正厚さ輪郭を
もつ膜１６を持つ複数の環１９を目録に対して用
意し、上記第891285号の第３０図の装置を使用す
ることによつて、人は第４図の厚さ輪郭をもつ膜
１６をもつ複数のそのような環１９をさらに目録
に対して用意する。

第１Ａ図に使用される厚さの特徴づけられた反
射環３１の製造は、第１図に使用される伝送環１
９における場合のように、簡単であることに注意
すべきだ。特に、近視減少又は遠視減少のための
膜１６を特徴づけるために述べられたような、上
記第891285号の同じ装置を使用すると、単なる差
は、一様な厚い（T1又はT2）膜１６′が、同じ
ものを予め特徴づけられるとき、入射均質な円形
ビームに40゜で傾斜されなければならないことで
ある。そのような傾きは、調節参照35を使用し
て、正確な楕円釣合わせと方位で、述べられた輪
郭の自動生成を可能にする。

しかしながら、乱視矯正のために特徴づけられ
た環３１を製造するために、第１Ａ図の反射シス
テムの使用において、一連の方位の合せの量子化
された増加の各々で、乱視矯正のために予め特徴
づけられた一連の環を用意することが必要であ
る。そのような製造の目的のために、上記第
891285号の第１５／１６図の乱視減少装置が、方
位の合せのために選択的に調節可能であり、その
ような一連の環３１を用意することに良く適して
いる。

膜１６又は１６′の予め特徴づけられた厚さ輪
郭の限度の一つを説明するためにここで用いられ
た、“零厚さ”の表現は、（“最大厚さ”の表現と
共に）開始の便利な点と理解すべきで、厚さ変化
の範囲は、角膜の与えられた曲率輪郭を達成する
ために予めの特徴づけを伴う。従つて、ある目的
において、本当の零厚さを避けることがさらに便
利で望ましい。例えば、外科医に、与えられた膜
１６（又は１６′）のテストを、例えば、角膜の
彫刻として使用する前に、実行するのを可能とす
るために、述べられた輪郭の下に膜１６又は１
６′の一様に分布された厚さを加えるのを提供す
る場合にそうである。そのように特徴づけられた
膜への均質なビームのテスト照射は、外科医に、
彼のストツプウオツチで、加えられた一様な増分
の除去分解の広さに広がるために必要とされる時
間を決定させることが実例的に可能であり、その
ような時間は、膜の最小厚さの範囲で初期のレー
ザビームの出現を決定することによつて、視覚的
い観察される。外科医がこの時間を決定したと
き、外科医は、膜材料の侵入除去のその速度に対
して、彼の差し込まれた膜を実際において測定
し、従つて、外科医は、かれが規定した矯正ジオ
プトリー変化の値を持つ膜を要素１９又は３１に
選択するかどうかをを確立し、または、外科医
は、その段々に大きい又は小さいジオプトリー変
化の特性において設計された膜で異なつた環１９
又は３１を選択することによつて処方を達成すべ
きかどうかを確立する。代わりに、知られた一様
な厚さによつて特徴づけられた膜１６又は１６′
をもつ要素１９又は３１が、外科医の目録の測定
装置形成部品であり、そのような要素のいつぱい
の膜厚さを介して除去するためのレーザ能力のタ
イミングは、外科医にレーザビームの現在の除去
効率を直接決定させるのを可能し、従つて、例え
ば、小さい最大厚さのレーザジオプトリー変化特
性に対して設計された厚さの特徴づけられた膜１
６，１６′を持つ要素１９，３１を、与えられた
彫刻手術対して単に選択することによつて、除去
効率の低下に対して、適当な値引を可能にさせ
る。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、スポツト寸法を変化するためにマイクロプロ
セツサ制御を必要とせずに、調節できるスポツト
寸法で角膜の前方表面のレーザ彫刻を行うことが
できる。また、達成されるべき光学的変化に従つ
て、在庫品の中から予め特徴づけられた使い捨て
の要素を選択することによつて、眼科手術を行な
えるという利点もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は与えられた角膜のレーザ手術に使用す
るための、彫刻の選択された除去可能な膜要素を
保持するための手段を縦断面で示す簡単化された
図、第１Ａ図は変形例を示す破片的な断面図、第
２図は異なつて引伸ばされ拡張された横座標及び
縦座標のスケールに、第１図の状況において近視
減少の結果を達成するために、除去可能な膜厚さ
の輪郭を示すグラフ図、第３図は第２図のように
特徴づけられた除去可能な膜で達成された近視減
少彫刻表面の矯正を示す簡単化された断面図、第
４図及び第５図は第２図及び第３図に対応し、第
２図のように特徴づけられた除去可能な膜で達成
された遠視減少彫刻表面の矯正を示す図、第６図
及び第７図は第２図及び第３図に対応し、第１Ａ
図の変形例の関係を示す図である。 １０……目−保持装置、１１……集中的な軸の
回りの端壁、１２……側方−ポート接続、１４…
…角膜、１５……光学軸、１６，１６′……除去
可能な膜、１７……平面−平行保持基板、１８…
……内側環状フランジ、１９……環部材、２０…
…従属フランジ、２１，２１′，２２，２１′……
輪郭、２３……点線、２４……近視的なもとの輪
郭、２５，２６……厚さ輪郭、２７……遠視減少
の輪郭、２７′……穏やかに面取りされた輪（斜
面）、２８……矢印、２９……方位目盛り、３０
……平面鏡、３１……環要素、３２……支持フレ
ーム構造、３５……調節スロツトとびようかみ合
い。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 角膜の前方表面の光学的に使用される中央領
   域の予め定められた除去し易い彫刻を提供するた
   めに消耗使用するための除去可能な膜をもつ彫刻
   用物品であつて、上記膜は、紫外線放射を通さ
   ず、中心で零の厚さから上記中央領域の予め定め
   られた外側限度で最大厚さの範囲に変化する厚さ
   の中央領域をもつ彫刻用物品。 ２ 紫外線放射を通過させる基板材料の平面平行
   板と、角膜の前方表面の光学的に使用される中央
   領域の予め定められた除去し易い彫刻を提供する
   ために消耗使用するために、上記板によつて保持
   される除去可能な膜層と、をもつ彫刻用物品であ
   つて、上記膜は、紫外線放射を通さず、中央領域
   の予め定められた中心内側と半径方向の外側限度
   の間の半径の関数で変化する厚さの中央円形領域
   をもち、厚さは、上記限度の一方で零から上記限
   度の他方で最大に広がり、上記膜に、紫外線放射
   の与えられた強さに対して、上記最大厚さの総合
   除去を達成するために予め定められた総合照射を
   必要とするように、上記円形領域内でそのような
   最大厚さであり、上記予め定められた総合照射
   は、上記板を通した透過による紫外線放射にさら
   される角膜の前方表面の与えられた彫刻の新しい
   曲率に対して与えられた最大基質−侵入深さを達
   成するように予め定められている彫刻用物品。 ３ 紫外線放射の反射体である平らな表面をもつ
   基板と、角膜の前方表面の光学的に使用される中
   央領域の予め定められた除去し易い彫刻を提供す
   るような消耗使用のために上記表面によつて支持
   される除去可能な膜層と、をもつ彫刻用物品であ
   つて、上記膜は、紫外線放射を通さず、楕円領域
   の中心内側と半径方向の外側限度の間の半径の関
   数で変化する厚さの中央楕円領域をもち、厚さ
   は、上記限度の一方で零から上記限度の他方で最
   大に広がり、上記膜は、紫外線放射の与えられた
   強さに対して、上記最大厚さの総合除去を達成す
   るために予め定められた総合照射を必要とするよ
   うに、上記楕円領域内でそのような最大厚さであ
   り、上記予め定められた総合照射は、上記表面か
   らの反射による紫外線放射にさらされる角膜の前
   方表面の与えられた彫刻の新しい曲率に対して与
   えられた最大基質−侵入深さを達成するように予
   め定められている彫刻用物品。 ４ 厚さ変化は上記限度の間で半径の増加関数で
   あり、それによつて、近視減少角膜の新しい曲率
   を達成する請求項２又は３記載の彫刻用物品。 ５ 厚さ変化は上記限度の間で半径の減少関数で
   あり、それによつて、遠視減少角膜の新しい曲率
   を達成する請求項２又は３記載の彫刻用物品。 ６ 上記基板及び膜は、周囲環状の支持フレーム
   に組立てられ、上記円形領域は上記フレームに同
   軸である請求項２記載の彫刻用物品。 ７ 上記基板及び膜は、環状の支持フレームに組
   立てられ、上記フレームの周囲の少なくとも１つ
   の領域に角張つた鍵で締める構造を占める請求項
   ３記載の彫刻用物品。 ８ 厚さ変化は上記限度の間で半径の減少関数で
   あり、それによつて、遠視減少角膜の新しい曲率
   を達成し、半径方向に変化する厚さの外側環が上
   記領域の周囲に連続する請求項２又は３記載の彫
   刻用物品。 ９ 請求項２記載の彫刻用物品を製造する方法に
   おいて、上記板にその一方の平らな表面上の一様
   な厚さ膜層を準備し、その中央領域を選択式の紫
   外線放射にさらし、膜材料の容積の除去の除去し
   易い光分解を上記中央領域内の一方の場所でいつ
   ぱいの深さ侵入で、上記中央領域内の他方の場所
   で実質上零の深さ侵入で伴い、それで予め定めら
   れた厚さ輪郭が上記場所の間に設けられる製造方
   法。 １０ 紫外線放射を通過させる基板材料の平面平
   行板と、角膜の前方表面の光学的に使用される中
   央領域の予め定められた除去し易い乱視減少彫刻
   を提供するために消耗使用するために、上記板に
   よつて保持される除去可能な膜層と、をもつ彫刻
   用物品であつて、上記膜は、紫外線放射を通さ
   ず、中央領域の中心を通る直径の方向に延びる幾
   何学的軸から横に外れた増加関数で変化する厚さ
   の中央円形領域をもち、厚さは、零から上記直径
   の方向に延びる軸に沿つて等しく最大に広がり、
   かつ、上記直径の方向に延びる軸から外れて逆の
   横に制限し、上記膜は、紫外線放射の与えられた
   強さに対して、上記最大厚さの総合除去を達成す
   るために予め定められた総合照射を必要とするよ
   うに、上記中央領域内でそのような最大厚さであ
   り、上記予め定められた総合照射は、上記板を通
   した透過による紫外線放射にさらされる角膜の前
   方表面の与えられた彫刻乱視減少の新しい曲率に
   対して与えられた最大基質−侵入深さを達成する
   ように予め定められている彫刻用物品。 １１ 紫外線放射の反射体である平らな表面をも
   つ基板と、角膜の前方表面の光学的に使用される
   中央領域の予め定められた乱視減少除去し易い彫
   刻を提供するような消耗使用のために上記表面に
   よつて支持される除去可能な膜層と、をもつ彫刻
   用物品であつて、上記膜は、紫外線放射を通さ
   ず、楕円領域の長及び短軸の交点を通る直径の方
   向に延びる幾何学的軸から横に外れた増加関数で
   変化する厚さの中央楕円領域をもち、厚さは、零
   から上記直径の方向に延びる軸に沿つて、上記直
   径の方向に延びる軸から等しく反対の外れた限度
   で最大に広がり、上記膜は、紫外線放射の与えら
   れた強さに対して、上記最大厚さの総合除去を達
   成するために予め定められた総合照射を必要とす
   るように、上記楕円領域内でそのような最大厚さ
   であり、上記予め定められた総合照射は、上記表
   面からの反射による紫外線放射にさらされる角膜
   の前方表面の与えられた彫刻乱視減少の新しい曲
   率に対して与えられた最大基質−侵入深さを達成
   するように予め定められている彫刻用物品。 １２ 請求項２又は３又は１０又は１１記載の複
   数の彫刻用物品を有する彫刻セツトに於いて、複
   数の彫刻用物品は、第１及び小さい最大厚さの除
   去可等な膜をもつ少なくとも１つの彫刻用物品
   と、第２及び大きい最大厚さの除去可能な膜をも
   つ第２の彫刻用物品と、を有する彫刻セツト。 １３ 請求項２又は３又は１０又は１１記載の複
   数の彫刻用物品を有する彫刻セツトに於いて、複
   数の彫刻用物品は、上記請求項の一つに従つた少
   なくとも１つの彫刻用物品と、上記請求項の他の
   ものに従つた少なくとも他の彫刻用物品と、を有
   する彫刻セツト。 １４ 請求項３記載の彫刻用物品を製造する方法
   に於いて、上記平らな表面上に一様な厚さ膜層を
   もつ上記反射体を準備し、方向的に入射の鋭角の
   角度で、その中央領域を選択式の紫外線放射にさ
   らし、膜材料の容積の除去の除去し易い光分解
   を、上記中央領域内の一方の場所でいつぱいの深
   さ侵入で、上記中央領域の他方の場所で実質的に
   零の深さ侵入で、伴い、それで予め定められた厚
   さ輪郭が上記場所の間に設けられる製造方法。 １５ 紫外線放射は上記膜層で入射の中央軸の回
   りに円対称なビームによつて特徴づけられる請求
   項９又は１４に記載の製造方法。 １６ 請求項２又は３又は１０又は１１に記載の
   複数の彫刻用物品を有する彫刻セツトに於いて、
   複数の彫刻用物品は、異なつた最大深さで同様の
   変化する厚さの除去可能な膜をもち、少なくとも
   他のそのような彫刻用物品で膜層は予め定められ
   た一様な厚さであり、それによつて、第１に除去
   する紫外線放射源へ一様な厚さ膜をさらし、上記
   予め定められた一様な厚さのいつぱいの範囲に分
   解するために必要とされるそのような照射の全体
   を注意し、上記源の現在の除去効力を検査するこ
   とができ、それによつて、所望の角膜曲率変化を
   もつともよく達成することができる上記複数の彫
   刻用物品の一つを角膜彫刻のために選択するその
   ような効力に対して適切な許容量を用意する彫刻
   セツト。