JPH04124746U - High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer - Google Patents
High frequency inductively coupled plasma mass spectrometerInfo
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Description
【考案の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本考案は、高周波誘導コイルに高周波エネルギ
ーを供給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合
プラズマを生じさせ、該プラズマを用いて試料を
励起してイオンを生じさせ、該イオンをノズルと
スキマーからなるインターフェイスを介して質量
分析計に導いて検出することにより、前記試料中
の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラズマ
質量分析計に関し、特に、低コストの拡散ポンプ
を使用しディスクトップ可能な高周波誘導結合プ
ラズマ質量分析計に関する。[Detailed explanation of the invention] <Industrial application field>
The present invention supplies high-frequency energy to a high-frequency induction coil to form a high-frequency magnetic field to generate high-frequency inductively coupled plasma, and uses the plasma to excite a sample to generate ions. Regarding high frequency inductively coupled plasma mass spectrometers that analyze analyte elements in the sample by guiding them through an interface to a mass spectrometer for detection, in particular high frequency inductively coupled plasma mass spectrometers that use low cost diffusion pumps and are desktop capable. Concerning coupled plasma mass spectrometry.
<従来の技術>
第3図は、高周波誘導結合プラズマを用いた分
析計の一般的な構成説明図である。この図におい
て、プラズマトーチ1の外室1bと最外室1cに
はガス調節器2を介してアルゴンガス供給源3か
らアルゴンガスが供給され、内室1aには試料導
入装置4内の固体試料がレーザ光源5から照射さ
れたレーザ光によって気化されてのちキャリアガ
スであるアルゴンガスによって搬入されるように
なっている。尚、試料が液体の場合は、第3図の
試料導入装置4とレーザ光源5が除去され、導入
される液体試料を霧化してプラズマトーチ1の内
室1aに供給するネブライザが装着される。また、
試料は固体であることよりも液体であることが多
い。<Conventional technology>
FIG. 3 is an explanatory diagram of a general configuration of an analyzer using high frequency inductively coupled plasma. In this figure, argon gas is supplied from an argon gas supply source 3 to an outer chamber 1b and an outermost chamber 1c of a plasma torch 1 via a gas regulator 2, and an inner chamber 1a is supplied with a solid sample in a sample introducing device 4. is vaporized by the laser light emitted from the laser light source 5, and then carried in by argon gas, which is a carrier gas. If the sample is a liquid, the sample introduction device 4 and laser light source 5 shown in FIG. 3 are removed, and a nebulizer is installed to atomize the liquid sample to be introduced and supply it to the inner chamber 1a of the plasma torch 1. Also, the sample is more likely to be a liquid than a solid.
一方、プラズマトーチ1に巻回された高周波誘
導コイル6には高周波電源10によって高周波電
流が流され、該コイル6の周囲に高周波磁界(図
示せず)が形成されている。この状態で上記高周
波磁界の近傍でアルゴンガス中に電子かイオンが
植え付けられると、該高周波磁界の作用によって
瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる。On the other hand, a high frequency current is passed through a high frequency induction coil 6 wound around the plasma torch 1 by a high frequency power supply 10, and a high frequency magnetic field (not shown) is formed around the coil 6. When electrons or ions are planted in the argon gas in the vicinity of the high frequency magnetic field in this state, high frequency inductively coupled plasma 7 is instantaneously generated by the action of the high frequency magnetic field.
また、ノズル8とスキマー9に挟まれたフォア
チャンバー本体11内は、真空ポンプ12によっ
て例えば1Torr.に吸引されている。更に、
センターチャンバー13内にはイオンレンズ14
a、14bが設けられると共に、該センターチャ
ンバー13の内部は第1油拡散ポンプ15によっ
て例えば10−4Torr.に吸引され、マスフ
ィルタ(例えば四重極マスフィルタ)16を収容
しているリアチャンバー17内は第2油拡散ポン
プ18によって例えば10−5Torr.に吸引
されている。Further, the inside of the forechamber main body 11 sandwiched between the nozzle 8 and the skimmer 9 is heated to a pressure of, for example, 1 Torr by a vacuum pump 12. is attracted to. Furthermore, an ion lens 14 is installed in the center chamber 13.
a and 14b, and the interior of the center chamber 13 is heated to a temperature of, for example, 10 −4 Torr. The interior of the rear chamber 17, which accommodates a mass filter (for example, a quadrupole mass filter) 16, is heated to a pressure of, for example, 10 −5 Torr. is attracted to.
この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述の
ようにして気化された試料が導入され、イオン化
や発光が行われる。該プラズマ7内のイオンは、
ノズル8、スキマー9、および引出し電極9−を
経由してのちイオンレンズ14a、14b(若し
くはダブレット四重極レンズ)の間を通って収束
され、その後、マスフィルタ16を通り二次電子
増倍管19に導かれて検出される。この検出信号
が信号処理部20に送出されて演算・処理される
ことによつて、前記試料中の被測定元素分析値が
求められるようになっている。In this state, the sample vaporized as described above is introduced into the high-frequency inductively coupled plasma, and ionization and light emission are performed. The ions in the plasma 7 pass through the nozzle 8, the skimmer 9, and the extraction electrode 9 , and then are focused between the ion lenses 14a and 14b (or doublet quadrupole lens), and then pass through the mass filter 16. The electrons are guided to the secondary electron multiplier tube 19 and detected. By sending this detection signal to the signal processing section 20 and calculating and processing it, the analysis value of the element to be measured in the sample is determined.
第3図は第2図のA−A−断面図であり、図中、
第2図と同一記号は同一意味を持たせて使用しこ
こでの重複説明は省略する。また、21は第2の
フォアチャンバー11とセンターチャンバー13
を結んでいる接続部、22は第1油拡散ポンプ1
5をセンターチャンバー13に接続させる例えば
パチン錠タイプのホルダである。FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and in the figure, the same symbols as in FIG. 2 are used with the same meanings, and redundant explanation will be omitted here. Further, 21 indicates the second forechamber 11 and the center chamber 13.
22 is the connection part connecting the first oil diffusion pump 1
5 is connected to the center chamber 13, for example, by a snap-lock type holder.
この図において、第1油拡散ポンプ15は垂直
に設置することが絶対条件となっている。このた
め、第1油拡散ポンプ15の高さl1、にセンター
チャンバー13の高さl2が加わるようになって
いる。従って、ICP−MSとしての高さが大と
なり、ICP−MSの小型化が困難で、その結果、
ICP−MSのいわゆるディスクトップ化も困難
となっていた。In this figure, it is an absolute requirement that the first oil diffusion pump 15 be installed vertically. Therefore, the height l 2 of the center chamber 13 is added to the height l 1 of the first oil diffusion pump 15 . Therefore, the height of the ICP-MS becomes large, making it difficult to miniaturize the ICP-MS, and as a result, making it difficult to convert the ICP-MS into a so-called desktop.
<考案が解決しようとする問題点>
本考案は、かかる状況に鑑みてなされものであ
り、その課題は、低コストの拡散ポンプを使用し
ディスクトップ可能な高周波誘導結合プラズマ質
量分析計を提供することにある。<Problem that the idea aims to solve>
The present invention has been devised in view of the above circumstances, and its object is to provide a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that uses a low-cost diffusion pump and is capable of being desktop-operated.
<課題を解決するための手段>
本考案は、高周波誘導コイルに高周波エネルギ
ーを供給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合
プラズマを生じさせ、該プラズマを用いて試料を
励起してイオンを生じさせ、該イオンをノズルと
スキマーからなるインターフェイスを介して質量
分析計に導いて検出することにより、前記試料中
の被測定元素を分析する高周波誘導結合プラズマ
質量分析計において、ノズルとスキマーに挟まれ
たフォアチャンバーに接続されるセンターチャン
バーと、該センターチャンバーの内部を減圧する
第1油拡散ポンプと、前記質量分析計の検出器を
収容するリアチャンバーと、該リアチャンバーの
内部を減圧する第2油拡散ポンプとを設け、前記
センターチャンバーを逆Lの字形に形成し空間部
に前記第1油拡散ポンプを収容するようにしたこ
とにある。<Means to solve the problem>
The present invention supplies high-frequency energy to a high-frequency induction coil to form a high-frequency magnetic field to generate high-frequency inductively coupled plasma, and uses the plasma to excite a sample to generate ions. In a high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer that analyzes the analyte in the sample by guiding it to the mass spectrometer via an interface and detecting it, a center chamber is connected to a forechamber sandwiched between a nozzle and a skimmer. , a first oil diffusion pump that depressurizes the inside of the center chamber, a rear chamber that accommodates a detector of the mass spectrometer, and a second oil diffusion pump that depressurizes the inside of the rear chamber; is formed into an inverted L shape, and the first oil diffusion pump is accommodated in the space.
<実施例>
以下、本考案について図を用いて詳細に説明す
る。第1図は本考案実施例の要部構成説明図であ
り、図中、第3図と同一記号は同一意味をもたせ
て使用しここでの重複説明は省略する。また、2
3は例えばアルミブロックを削り出して製造した
逆Lの字形のセンターチャンバー、22−は第1
油拡散ポンプ15をセンターチャンバー21に接
続させる例えばパチン錠タイプのホルダ、24は
電源や真空変換器などを収納する収納スペースで
ある。このような要部構成からなる本考案の実施
例において、第1油拡散ポンプ15は逆Lの字形
のセンターチャンバー21の空間部(より詳しく
は、逆Lの字形のセンターチャンバー21と収納
スペース23で形成される空間部)に配置されて
いる。このため、第1油拡散ポンプ15とセンタ
ーチャンバー21の部分は、垂直寸法も奥行き寸
法も第3図のに示した従来例に比して小さくなり、
その結果、ICP−MS全体としても小型化され
所謂ディスクトップも可能となる。<Example>
Hereinafter, the present invention will be explained in detail using figures. FIG. 1 is an explanatory diagram of the main structure of an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as in FIG. 3 are used with the same meanings, and redundant explanation will be omitted here. Also, 2
3 is an inverted L-shaped center chamber manufactured by cutting an aluminum block, and 22 - is the first chamber.
For example, a snap-lock type holder connects the oil diffusion pump 15 to the center chamber 21, and 24 is a storage space for storing a power source, a vacuum converter, and the like. In the embodiment of the present invention having such a configuration of main parts, the first oil diffusion pump 15 is connected to the space of the inverted L-shaped center chamber 21 (more specifically, the inverted L-shaped center chamber 21 and the storage space 23 It is located in a space formed by For this reason, the first oil diffusion pump 15 and the center chamber 21 are both smaller in vertical dimension and depth than in the conventional example shown in Fig. 3, and as a result, the ICP-MS as a whole becomes smaller. This also makes it possible to create a so-called desktop.
尚、本考案は上述の実施例に限定されることな
く種々の変形が可能であり、例えば、第1油拡散
ポンプ15の一部が収納スペース23の下方ライ
ンから一部飛出しているような構成であっても良
い。また、ICP−MSの動作自体は前記従来例
の場合と全く同一であるため、ここでの重複説明
は省略する。It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment and can be modified in various ways. For example, a part of the first oil diffusion pump 15 may be partially protruded from the lower line of the storage space 23. It may be a configuration. Further, since the operation of the ICP-MS itself is exactly the same as that of the conventional example, repeated explanation will be omitted here.
第1図は本考案実施例の要部構成説明図、第2
図は高周波誘導結合プラズマ質量分析計の一般的
な構成説明図、第3図は従来例の要部構成説明図
である。
1……プラズマトーチ、2……流量制御部、3
……アルゴンガス供給源、4……試料セル、6…
…高周波誘導コイル、7……高周波誘導結合プラ
ズマ、8……ノズル、9……スキマー、16……
マスフィルタ、17……リアチヤンバー、20…
…信号処理部、21……接続部、22、22′…
…ホルダ、23……センターチヤンバー、24…
…収納スペース。Figure 1 is an explanatory diagram of the main part configuration of the embodiment of the present invention, Figure 2
The figure is an explanatory diagram of the general configuration of a high frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, and FIG. 3 is an explanatory diagram of the main part configuration of a conventional example. 1... Plasma torch, 2... Flow rate control section, 3
...Argon gas supply source, 4...Sample cell, 6...
...High frequency induction coil, 7...High frequency inductively coupled plasma, 8...Nozzle, 9...Skimmer, 16...
Mass filter, 17... Rear chamber, 20...
...Signal processing section, 21... Connection section, 22, 22'...
...Holder, 23...Center chamber, 24...
...storage space.
補正 平4.6.11
考案の名称を次のように補正する。
考案の名称 高周波誘導結合プラズマ質量分
析計
Correction Heisei 4.6.11
The name of the invention is amended as follows. Name of invention: High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer
Claims (1)
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを
生じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイ
オンを生じさせ、該イオンをノズルとスキマーか
らなるインターフェイスを介して質量分析計に導
いて検出することにより、前記試料中の被測定元
素を分析する高周波誘導プラズマ質量分析計にお
いて、前記ノズルとスキマーに挟まれたフオアチ
ヤンバーに接続されるセンターチヤンバーと、該
センターチヤンバーの内部を減圧する第1油拡散
ポンプと、前記質量分析計の検出器を収容するリ
アチヤンバーと、該リアチヤンバーの内部を減圧
する第2油拡散ポンプとを具備し、前記センター
チヤンバーを逆Lの字形に形成し空間部に前記第
1油拡散ポンプを収容することを特徴とすること
を特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析
計。High frequency energy is supplied to a high frequency induction coil to form a high frequency magnetic field to generate a high frequency inductively coupled plasma, the plasma is used to excite the sample to generate ions, and the ions are transferred through an interface consisting of a nozzle and a skimmer. In a high-frequency induction plasma mass spectrometer that analyzes the analyte element in the sample by guiding it to a mass spectrometer and detecting it, the center chamber includes a center chamber connected to the fore chamber sandwiched between the nozzle and the skimmer; A first oil diffusion pump that depressurizes the inside of the bar, a rear chamber that houses the detector of the mass spectrometer, and a second oil diffusion pump that depressurizes the inside of the rear chamber, and the center chamber is turned into an inverted L. 1. A high-frequency inductively coupled plasma mass spectrometer, characterized in that the first oil diffusion pump is housed in a space formed in a square shape.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9045090U JPH04124746U (en) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9045090U JPH04124746U (en) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04124746U true JPH04124746U (en) | 1992-11-13 |
Family
ID=31930935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9045090U Pending JPH04124746U (en) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | High frequency inductively coupled plasma mass spectrometer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04124746U (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01311554A (en) * | 1988-06-10 | 1989-12-15 | Hitachi Ltd | Plasma ionization mass spectrometer |
-
1990
- 1990-08-29 JP JP9045090U patent/JPH04124746U/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01311554A (en) * | 1988-06-10 | 1989-12-15 | Hitachi Ltd | Plasma ionization mass spectrometer |
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